TWI625509B - 用於雷射源之線上校準的系統及方法 - Google Patents

用於雷射源之線上校準的系統及方法 Download PDF

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Abstract

本發明揭示依據操作雷射所處之重複率變化的雷射效能之線上校準。該校準可為週期性的且在一非曝光週期期間在一排程(schedule)期間進行。各種準則可用以自動地選擇產生可靠之符合規範之效能的該等重複率。接著使重複率之可靠值作為所允許之值可用於掃描器，且接著准許雷射/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。

Description

用於雷射源之線上校準的系統及方法
本發明係關於在電磁頻譜之深紫外線(「DUV」)部分中產生輻射的雷射源之線上校準。
用於半導體光微影之雷射輻射通常以指定重複率供應為一系列脈衝。為了達成處理均一性，需要雷射能夠在所有預期之操作條件下滿足諸如頻寬、波長及能量穩定性之效能規範的集合。此等雷射效能參數可受雷射執行所處之重複率影響。因為此情形，不可假設雷射將在其能夠操作所處之所有重複率下滿足效能規範。然而，可需要具有能夠以不同重複率操作之選項。舉例而言，改變雷射之輸出功率的常見方法為減小重複率而非減小每脈衝之輸出能量。
有可能藉由以固定重複率(例如，6kHz)操作雷射而工程設計重複率情況下之效能的未知變化。然而，此具有以下缺點：若需要使用較低的有效重複率，則與雷射源相關聯之掃描器必須阻擋或以其他方式衰減脈衝，此係因為源自雷射之脈衝的實際數目將保持相同。此意謂，在實際雷射重複率可在需要時經減小的情況下，相較於將為必需之雷射脈衝，更多雷射脈衝係用於晶圓產生。
因此，需要能夠提供一種可以多重可用重複率中之任一者操作的雷射源，而無需關注雷射源可能並非在可接受效能規範內操作。
下文呈現一或多個實施例之簡化概述以便提供對該等實施例之基本理解。此概述並非所有預期實施例之廣泛綜述，且既不意欲識別所有實施例之關鍵或決定性要素，亦不意欲描繪任何或所有實施例之範疇。其唯一目的為以簡化形式呈現一或多個實施例之一些概念作為稍後呈現之更詳細描述的序言。
根據一個態樣，揭示一種系統，其包含：一雷射，其能夠以多種重複率運轉；一雷射控制單元，其以操作方式連接至該雷射以用於控制該雷射操作所處之一重複率；一量測單元，其經配置以量測來自該雷射之一輸出以用於量測一重複率下之至少一個操作參數；一比較單元，其以操作方式連接至該量測單元以用於提供該操作參數之一量測值是否處於該操作參數之值的一預判範圍內的一指示；及一儲存單元，其以操作方式連接至該比較單元以用於儲存基於該指示且與該重複率相關聯之一值。該雷射控制單元以操作方式連接至該儲存單元且經組態以僅限於所儲存之與第一重複率相關聯的該值指示該操作參數已經量測為處於該預定範圍內，才准許該雷射以該重複率進行操作。操作參數可為能量穩定性、頻寬穩定性、波長穩定性、光束形狀穩定性、致動器狀態參數或此等參數中之一些或全部的某一組合。
根據另一態樣，揭示一種系統，其包含：一雷射，其能夠以多種重複率運轉；一雷射控制單元，其以操作方式連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序操作；一量測單元，其經配置以量測來自該雷射之 一輸出以用於針對該複數個重複率中之每一者量測該雷射之至少一個操作參數；一比較單元，其以操作方式連接至該量測單元以用於提供該操作參數之一量測值是否處於該複數個重複率中之每一者之值的一預定範圍內的一指示；及一儲存單元，其以操作方式連接至該比較單元以用於儲存基於該指示之一第一值及指示針對該複數個重複率中之每一者獲得之該值所處的該重複率的一第二值。該雷射控制單元以操作方式連接至該儲存單元且經組態以僅限於一經選定重複率係所儲存之與該重複率相關聯的該值指示該操作參數已量測為處於該預定範圍內所針對的該複數個重複率中之一者，才准許該雷射以該經選定重複率進行操作。操作參數可為能量穩定性、頻寬穩定性、波長穩定性、光束形狀穩定性參數或此等參數中之一些或全部的某一組合。以操作方式連接至雷射以用於驅動雷射以複數個重複率依序操作之雷射控制單元可經組態以經由一系列重複率而使雷射步進。步階之間的差可維持大體上恆定、可隨著重複率增大、可隨著重複率減小或可為非單調方法(例如，隨機掃描)。
根據另一態樣，揭示一種系統，其包含：一量測模組，其經組態以記錄關於一脈衝雷射之一脈衝重複率的至少一個效能特性之一相依性；一比較模組，其以操作方式連接至該量測模組且經組態以至少部分地基於該經記錄相依性及一規範準則而識別該脈衝雷射之脈衝重複率的一所允許集合；及一輸出端，其以操作方式連接至該比較模組且經組態以將脈衝重複率之該所允許集合傳達至一光微影工具的一掃描器。操作參數可為能量穩定性、頻寬穩定性、波長穩定性、光束形狀穩定性參數或此等參數中之一些或全部的某一組合。
根據另一態樣，揭示一種系統，其包含：一雷射，其能夠以多種重 複率運轉；一雷射控制單元，其以操作方式連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序操作；一量測單元，其經配置以量測來自該雷射之一輸出以用於針對該複數個重複率中之每一者量測該雷射的至少一個操作參數；及一計分單元，其以操作方式連接至該量測單元以用於至少部分地基於該經量測操作參數而判定該複數個重複率中之每一者的一計分；以及一儲存單元，其以操作方式連接至該計分單元以用於儲存基於該等計分之第一值及指示針對該複數個重複率中之每一者判定之該計分所針對之該重複率的各別第二值。該雷射控制單元以操作方式連接至該儲存單元且經組態以基於該重複率之該計分而判定操作該雷射所處之一重複率。
根據另一態樣，揭示一種方法，其包含如下步驟：在一非曝光週期期間針對一雷射執行之一系列步驟，該系列步驟包括以複數個重複率連續運轉該雷射之步驟、針對該複數個重複率中之每一者量測該雷射之至少一個操作參數之步驟、提供該操作參數之一量測值是否處於該複數個重複率中之每一者的值之一預定範圍內的一指示之步驟及儲存基於該指示之一第一值以及指示針對該複數個重複率中之每一者獲得之該值所處的該重複率之一第二值的步驟；及在一稍後曝光週期期間針對該雷射執行之一步驟，該步驟僅限於一經選定重複率係所儲存之與該重複率相關聯的該值指示該操作參數經量測處於該預定範圍內所針對的該複數個重複率中之一者，才准許該雷射以該經選定重複率進行操作。
根據另一態樣，揭示一種方法，其包含由包括一照明系統及一掃描器之一光微影工具進行的步驟，該方法包含由該照明系統執行之步驟的步驟：記錄至少一個效能特性關於一脈衝雷射之一脈衝重複率的一相依性；至少部分地基於該經記錄相依性及一規範準則而識別該脈衝雷射之脈衝重 複率的一所允許之集合；及將脈衝重複率之該所允許之集合傳達至該掃描器。
根據另一態樣，揭示一種在一非曝光週期期間針對一雷射進行之方法，其包含以下步驟：使該雷射以一第一重複率操作；當該雷射正以該第一重複率操作時，量測該雷射之一或多個操作效能變數；針對在該量測步驟中量測之該等值判定彼等值是否滿足效能準則；儲存指示該判定步驟之結果的與該第一重複率相關聯之一指示；使該雷射以一第二重複率操作；當該雷射正以該第二重複率操作時，量測該雷射之一或多個操作效能變數；針對在該量測步驟中量測之該等值判定彼等值是否滿足效能準則；及儲存指示該判定步驟之該等結果的與該第二重複率相關聯之一指示。
根據另一態樣，揭示一種方法，其包含：在一非曝光週期期間針對一雷射進行之一第一系列步驟，該第一系列步驟包含使操作該雷射以一第一重複率之步驟、當該雷射正以該第一重複率操作時量測該雷射之一或多個操作效能變數之步驟、針對在該量測步驟中量測之該等值判定彼等值是否滿足效能準則之步驟、儲存指示該判定步驟之該等結果的與該第一重複率相關聯之一指示的步驟、使該雷射以一第二重複率操作之步驟、當該雷射正以該第二重複率下操作時量測該雷射之一或多個操作效能變數的步驟、針對在該量測步驟中量測之該等值判定彼等值是否滿足效能準則之步驟及儲存指示該判定步驟之該等結果的與該第二重複率相關聯之一指示的步驟；及在一曝光週期期間針對一雷射進行之一步驟，該步驟僅限於用於該雷射之該經選定重複率係指示於該等儲存步驟中之一者中所儲存的指示所針對之一個重複率，才准許該雷射進行操作，該指示係指示該經選定重複率之該效能準則被滿足。
根據另一態樣，揭示一種包括一掃描器及一照明系統之光微影工具，其中該掃描器包括用於向該照明系統請求一重複率之一模組，且該照明系統包括經組態以向該掃描器指示是否允許該所請求之重複率的一模組，且其中該掃描器進一步包括經組態以進行以下操作的一模組：使得該照明系統在該照明系統指示允許該所請求之重複率的情況下以該所請求之重複率操作，且否則在該照明系統指示不允許該所請求之重複率的情況下請求另一重複率。
根據另一態樣，揭示一種由包括一照明系統及一掃描器之一光微影工具進行的方法，該方法包含以下步驟：由該掃描器執行之向該照明系統請求一重複率的一步驟；由該照明系統執行之向該掃描器提供該所請求之重複率是否為經允許作為產生符合規範之效能的重複率之一指示的一步驟；及由該掃描器執行之使得該照明系統在該照明系統指示允許該所請求之重複率的情況下以該所請求之重複率操作且否則在該照明系統指示不允許該所請求之重複率的情況下請求另一重複率的一步驟。
根據另一態樣，揭示一種包括一掃描器及一照明系統之光微影工具，其中該掃描器包括經組態以向該照明系統請求一重複率之一模組，且該照明系統包括維持識別該照明系統已判定會產生符合規範之效能的複數個重複率之資訊的一記憶體及經組態以向該掃描器提供來自該複數個重複率當中之最接近於該所請求之重複率的一重複率的一模組；且其中該掃描器進一步包括一模組，該模組經組態以使得該照明系統在該掃描器判定該經指示重複率足夠接近於該所請求之重複率的情況下以該所提供之重複率操作且否則在該掃描器判定該經指示重複率並非足夠接近於該所請求之重複率的情況下請求另一重複率。在此處且在其他處，「足夠接近」意謂掃 描器判定經指示重複率與所請求之重複率之間的差將不會對當時生產應用具有實質影響。
根據另一態樣，揭示一種由包括一照明系統及一掃描器之一光微影工具進行的方法，該方法包含以下步驟：由該掃描器執行之向該照明系統請求一重複率的一步驟；由該照明系統執行之維持識別該照明系統已判定會產生符合規範之效能的複數個重複率之資訊且向該掃描器提供來自該複數個重複率當中之最接近於該所請求之重複率的一重複率之一步驟；及由該掃描器執行之使得該照明系統在該掃描器判定該經指示重複率足夠接近於該所請求之重複率的情況下以該所提供之重複率操作且否則在該掃描器判定該經指示重複率並非足夠接近於該所請求之重複率的情況下請求另一重複率的一步驟。
100‧‧‧光微影系統
105‧‧‧光源
110‧‧‧光束/輸出光束
112‧‧‧光束製備系統
115‧‧‧掃描器
120‧‧‧晶圓
122‧‧‧晶圓台
130‧‧‧照明系統
140‧‧‧微影控制器
142‧‧‧記憶體
150‧‧‧光譜特徵選擇系統
160‧‧‧光束分離裝置
170‧‧‧量測系統/度量衡系統
185‧‧‧控制系統
300‧‧‧主控振盪器
310‧‧‧功率放大器
315‧‧‧輸出耦合器
320‧‧‧線中心分析模組
325‧‧‧光束修改光學系統
330‧‧‧光束反射器
450‧‧‧光譜特徵選擇系統
452‧‧‧光譜特徵控制模組
454‧‧‧光譜特徵致動系統/制動器
456‧‧‧光譜特徵致動系統/制動器
458‧‧‧光譜特徵致動系統/制動器
460‧‧‧光學特徵
462‧‧‧光學特徵
464‧‧‧光學特徵
466‧‧‧光學系統
S1‧‧‧步驟
S2‧‧‧步驟
S3‧‧‧步驟
S4‧‧‧步驟
S5‧‧‧步驟
S10‧‧‧步驟
S11‧‧‧步驟
S12‧‧‧步驟
S13‧‧‧步驟
S14‧‧‧步驟
S15‧‧‧步驟
S61‧‧‧步驟
S62‧‧‧步驟
S63‧‧‧步驟
S64‧‧‧步驟
S65‧‧‧步驟
S71‧‧‧步驟
S72‧‧‧步驟
S73‧‧‧步驟
S75‧‧‧步驟
圖1展示根據本發明之一態樣的整體寬泛概念光微影系統之未按比例的示意性視圖。
圖2為用於圖1之系統的根據本發明之一態樣之光源的功能方塊圖。
圖3為用於圖1之系統的根據本發明之一態樣之光學控制器的功能方塊圖。
圖4為描述根據本發明之一態樣之校準程序的流程圖。
圖5為描述根據本發明之另一態樣之另一校準程序的流程圖。
圖6為描述根據本發明之另一態樣之重複率選擇程序的流程圖。
圖7為描述根據本發明之另一態樣之另一重複率選擇程序的流程圖。
本申請案主張2015年12月21日申請且標題為「用於相依於重複率的 效能變數之線上校準(ONLINE CALIBRATION FOR REPETITION RATE DEPENDENT PERFORMANCE VARIABLES)」的美國實用申請案第14/976,829號的權益，該申請案以全文引用之方式併入本文中。
現參考圖式描述各種實施例，其中類似參考數字始終用以指類似元件。在以下描述中，出於解釋之目的，闡述眾多特定細節以便促進對一或多個實施例之透徹理解。然而，在一些或所有情況下可為明顯的是，可在不採用下文所描述之特定設計細節的情況下實踐下文所描述之任何實施例。在其他情況下，以方塊圖之形式展示熟知結構及裝置以便促進對一或多個實施例之描述。下文呈現一或多個實施例之簡化概述以便提供對該等實施例之基本理解。此概述並非所有所預期實施例之廣泛綜述，且既不意欲識別所有實施例之關鍵或決定性要素，亦不意欲描繪任何或所有實施例之範疇。
參看圖1，光微影系統100包括照明系統130。照明系統130包括光源105，其產生脈衝光束110且將其導向至光微影曝光設備或掃描器115，該光微影曝光設備或掃描器115在晶圓120上圖案化微電子特徵。晶圓120置放於晶圓台122上，晶圓台122經建構以固持晶圓120且連接至定位器，該定位器經組態以根據特定參數準確地定位晶圓120。光束110亦導向通過光束製備系統112，光束製備系統112可包括修改光束110之態樣的光學元件。舉例而言，光束製備系統112可包括反射光學元件或折射光學元件、光學脈衝伸展器及光學孔徑(包括自動化遮光片)。
光微影系統100使用具有在深紫外線(DUV)範圍內之波長(例如)具248奈米(nm)或193奈米之波長的光束110。晶圓120上經圖案化之微電子特徵的之大小取決於光束110之波長，其中較小波長導致較小最小特徵大 小。當光束110之波長為248nm或193nm時，微電子特徵之最小大小可為(例如)50nm或50nm以下。光束110之頻寬可為其光學光譜(或發射光譜)之實際瞬時頻寬，其含有關於光束110之光學能量或光學功率如何遍及不同波長分佈的資訊。微影系統100亦包括量測(或度量衡)系統170及控制系統185。度量衡系統170量測光束之一或多個光譜特徵(諸如頻寬及/或波長)。度量衡系統170較佳地包括複數個感測器。關於度量衡系統之可能實施的細節揭示於2015年5月22日申請且通常讓渡給本申請案之受讓人的標題為「脈衝光束之光譜特徵度量衡(Spectral Feature Metrology of a Pulsed Light Beam)」的美國專利申請案第14/720,207號(檔案號碼：2015P00027US/002-121001)中，該專利申請案之整個揭示內容以引用的方式併入本文中。
度量衡系統170接收自光束分離裝置160重新導向之光束110的部分，該光束分離裝置160置放於光源105與掃描器115之間的路徑中。光束分離裝置160將光束110之第一部分導向至度量衡系統170中且將光束110之第二部分朝向掃描器115導向。在一些實施中，大部分光束係以第二部分之形式朝向掃描器115導向。舉例而言，光束分離裝置160將光束110之小部分(例如，1%至2%)導向至度量衡系統170中。光束分離裝置160可為(例如)光束分光器。
掃描器115包括具有(例如)一或多個聚光透鏡、光罩及物鏡配置之光學配置。光罩可沿著一或多個方向諸如沿著光束110之光軸或在垂直於光軸之平面中移動。物鏡配置包括投影透鏡，且使得自光罩至晶圓120上之光阻的影像傳送能夠發生。照明器系統調整光束110撞擊於光罩上之角度的範圍。照明器系統亦使光束110跨越光罩的強度分佈均勻化(變得均 一)。
掃描器115可包括微影控制器140、空氣調節裝置及用於各種電組件之電源供應器，以及其他特徵。微影控制器140控制層如何印刷於晶圓120上。微影控制器140包括記憶體142，該記憶體142儲存諸如製程配方之資訊且亦可儲存關於可使用哪些重複率或哪些重複率如下文更充分描述係較佳之資訊。
晶圓120係由光束110輻照。製程程式或配方判定晶圓120上之曝光的長度、所使用之光罩以及影響曝光之其他因素。在微影期間，光束110之複數個脈衝照明晶圓120之相同區域以構成照明劑量。光束110之照明相同區域之脈衝的數目N可被稱作曝光窗口或狹縫，且此狹縫之大小可藉由在光罩之前置放之曝光狹縫控制。在一些實施中，N之值為數十，例如自10至100個脈衝。在其他實施中，N之值大於100個脈衝，例如自100至500個脈衝。
光罩、物鏡配置及晶圓120中之一或多者可在曝光期間相對於彼此移動以掃描跨越曝光場之曝光窗口。曝光場為晶圓120的在對曝光狹縫或窗口之一個掃描中經曝光之區域。
參看圖2，例示性光源105為將脈衝雷射光束產生為光束110之脈衝雷射源。如圖2之實例中所展示，光源105為兩級雷射系統，其包括將種子光束提供至功率放大器(PA)310之主控振盪器(MO)300。主控振盪器300通常包括放大發生之增益介質，及諸如光學諧振器之光學回饋機構。功率放大器310通常包括增益介質，在該增益介質中，放大在與來自主控振盪器300之種子雷射光束接種時發生。若功率放大器310經設計為再生環諧振器，則其描述為功率環放大器(PRA)，且在此狀況下，可自環設計提供 足夠光學回饋。主控振盪器300使得能夠在相對低的輸出脈衝能量下精細地調諧光譜參數，諸如中心波長及頻寬。功率放大器310自主控振盪器300接收輸出，且放大此輸出以達到以供輸出以在光微影中使用的必要功率。
主控振盪器300包括具有兩個細長電極之放電腔室、充當增益介質之雷射氣體、及使電極之間的氣體循環的風扇。雷射諧振器形成於在放電腔室之一側上的光譜特徵選擇系統150與在放電腔室之第二側上的輸出耦合器315之間。光源105亦可包括自輸出耦合器315接收輸出之線中心分析模組(LAM)320，及按需要修改雷射束之大小及/或形狀的一或多個光束修改光學系統325。線中心分析模組320為可用以量測種子光束之波長(例如，中心波長)的一種類型之量測系統的實例。用於放電腔室中之雷射氣體可為用於產生大約為所需波長及頻寬之雷射光束的任何合適氣體，例如，雷射氣體可為發射波長為約193nm之光的氟化氬(ArF)或發射波長為約248nm之光的氟化氪(KrF)。
功率放大器310包括功率放大器放電腔室，且若其為再生環形放大器，則功率放大器亦包括將光束反射回至放電腔室中以形成循環路徑之光束反射器330。功率放大器放電腔室包括一對細長電極、充當增益介質之雷射氣體及用於使電極之間的氣體循環的風扇。種子光束係藉由重複傳遞通過功率放大器310而被放大。光束修改光學系統325提供內耦合種子光束且外耦合來自功率放大器之經放大之輻射的一部分以形成輸出光束110的方式(例如，部分反射鏡面)。
線中心分析模組320監視主控振盪器300之輸出的波長。線中心分析模組可置放於光源105內之其他位置處，或其可置放於光源105之輸出端 處。
光譜特徵選擇系統150自光源105接收光束，且基於來自控制系統185之輸入而精細地調諧光源105之光譜輸出。參看圖3，展示耦合至來自光源105之光的例示性光譜特徵選擇系統450。在一些實施中，光譜特徵選擇系統450自主控振盪器300接收光以使得能夠精細地調諧光譜特徵，諸如主控振盪器300內之波長及頻寬。
光譜特徵選擇系統450可包括控制模組，諸如包括呈韌體與軟體之任何組合之形式的電子設備之光譜特徵控制模組452。模組452連接至一或多個致動系統，諸如光譜特徵致動系統454、456、458。致動系統454、456、458中之每一者可包括連接至光學系統466之各別光學特徵460、462、464的一或多個致動器。光學特徵460、462、464經組態以調整所產生之光束110的特定特性，以藉此調整光束110之光譜特徵。控制模組452自控制系統185接收控制信號，該控制信號包括操作或控制致動系統454、456、458中之一或多者的特定命令。致動系統454、456、458可經選定且經設計以合作性地工作。
每一光學特徵460、462、464以光學方式耦合至由光源105產生之光束110。在一些實施中，光學系統466為線窄化模組。線窄化模組包括分散光學元件作為光學特徵，諸如反射光柵及諸如稜鏡之折射光學元件，該等光學元件中之一或多者可為可旋轉的。可在標題為「用於選擇及控制光源頻寬之系統方法及設備(System Method and Apparatus for Selecting and Controlling Light Source Bandwidth)」且在2009年10月23日申請的美國專利申請案第12/605,306號('306申請案)中找到此線窄化模組之實例，該專利申請案之說明書以引用之方式併入本文中。在'306申請案中， 描述包括光束擴展器(其包括一或多個稜鏡)及諸如光柵之分散元件的線窄化模組。
致動系統454、456、458之致動器中的每一者為用於移動或控制光學系統466之各別光學特徵460、462、464的機械裝置。致動器自模組452接收能量，且將彼能量轉換成被賦予至光學系統之光學特徵460、462、464的某種運動。舉例而言，在'306申請案中，描述致動系統，諸如力裝置(施加力於光柵之區)及用於旋轉光束擴展器之稜鏡中之一或多者的旋轉載物台。致動系統454、456、458可包括(例如)諸如步進馬達的馬達、閥門、控壓式裝置、壓電式裝置、線性馬達、液壓致動器、音圈等等。
一般而言，控制系統185包括數位電子電路、電腦硬體、韌體及軟體中之一或多者。控制系統185亦包括記憶體，其可為唯讀記憶體及/或隨機存取記憶體。適合於有形地體現電腦程式指令及資料之儲存裝置包括所有形式之非揮發性記憶體，包括(作為實例)半導體記憶體裝置，諸如EPROM、EEPROM及快閃記憶體裝置；磁碟，諸如內部硬碟及抽取式磁碟；磁光碟；及CD-ROM磁碟。
控制系統185亦可包括一或多個輸入裝置(諸如，鍵盤、觸控式螢幕、麥克風、滑鼠、手持式輸入裝置等等)及一或多個輸出裝置(諸如，揚聲器或監視器)。控制系統185亦包括一或多個可程式化處理器，及有形地體現於機器可讀儲存裝置中以供一或多個可程式化處理器執行的一或多個電腦程式產品。一或多個可程式化處理器可各自執行指令程式以藉由對輸入資料進行操作且產生適當輸出來執行所要功能。一般而言，處理器自記憶體接收指令及資料。前述任一者可由經特殊設計之特殊應用積體電路(ASIC)補充，或併入於經特殊設計之特殊應用積體電路(ASIC)中。
控制系統185包括光譜特徵分析模組、微影分析模組、決策模組、光源致動模組、微影致動模組及光束製備致動模組。此等模組中之每一者可為由一或多個處理器執行之電腦程式產品的集合。光譜特徵分析模組自度量衡系統170接收輸出。微影分析模組自掃描器115之微影控制器140接收資訊。決策模組自分析模組接收輸出且基於來自分析模組之輸出而判定哪一或哪些致動模組需要被啟動。光源致動模組連接至光源105及光譜特徵選擇系統150中之一或多者。微影致動模組連接至掃描器115，且特定言之連接至微影控制器140。光束製備致動模組連接至光束製備系統112之一或多個組件。
對於控制系統185而言，有可能包括其他模組。另外，對於控制系統185而言，有可能由實體上彼此遠離之組件組成。舉例而言，光源致動模組可與光源105或光譜特徵選擇系統150實體地共置。
一般而言，控制系統185自度量衡系統170接收關於光束110之至少一些資訊，且光譜特徵分析模組對該資訊執行分析以判定如何調整供應至掃描器115之光束110的一或多個光譜特徵(例如，頻寬)。基於此判定，控制系統185將信號發送至光譜特徵選擇系統150及/或光源105以控制光源105之操作。
光源控制系統185使得光源以給定重複率操作。更特定言之，掃描器115針對每一雷射脈衝(亦即，在脈衝間基礎上)將觸發信號發送至光源105，且彼等觸發信號之間的時間間隔可為任意的，但當掃描器115以規則間隔發送觸發信號時，則彼等信號之速率為重複率。重複率可為掃描器115所請求之速率。較佳地，光微影系統100向使用者提供取決於特定應用之需要來選擇許多重複率中之任一者的能力。然而，因為效能特性可能 隨著重複率發生變化，所以需要限制掃描器115使用已知為會產生符合規範之效能的重複率(或相反地，防止操作者或掃描器115使用已知為會產生不符合規範之效能的重複率，或至少向掃描器115提供關於哪些速率更可能產生符合規範之效能的資訊)。亦需要能夠週期性地且在特定(就地針對每一雷射)基礎上判定可接受重複率，此係因為隨著重複率發生之效能變化可在雷射間發生變化，甚至對於具有相同類型之雷射發生變化，且亦可隨著系統之操作年限而發生變化，以使得一般而言，對接受重複率之憑經驗全域「包括區帶」(或禁止重複率之「排除區帶」)的定義在其整個壽命上對具有相同類型之所有雷射或甚至單一雷射不實用。即使重複率並未明確地被允許或不允許，該等重複率亦可基於其將產生可接受效能之可能性而被指派有一計分。
此等目標可藉由使用自動化校準系統而達成，自動化校準系統可識別「良好」重複率及/或對「良好」重複率計分。在速率基於速率是否會產生符合規範之效能或充分有可能產生符合規範之效能而被允許(且因此可供使用)抑或不被允許(且因此不可供使用)的意義上，對「良好」重複率之計分可為二進位的。替代地，自動化校準系統可對速率計分，其中在速率更可能產生符合規範之效能的情況下，速率獲得較高計分且因此係較佳的，且在速率較不可能產生符合規範之效能的情況下，速率被指派較低計分。在此實施例中，經指派較低計分之速率將會被絕對地允許，且掃描器115可在基於其他技術考慮因素而不使用具有較佳計分之速率係較佳的情況下使用經指派較低計分之速率。
在此系統中，照明系統130量測其自身在各種重複率下之效能且記錄依據重複率變化之效能。照明系統130接著將指示量測之結果的資訊傳達 至掃描器115。可根據經發射光之特性來量測效能。亦可根據上文所描述之致動器的操作特性(諸如其可用的動態範圍)來量測效能。亦可根據此等特性或其他參數之某一組合來量測效能。待用於選擇重複率/對重複率計分之特性可經預定義，或該等特性可為可選擇的或甚至經動態判定的。
基於在給定速率下採取之量測可直接地判定針對彼速率之計分，或該計分可進行推斷。舉例而言，照明系統130可針對包括於速率之系集中的速率之子集採取效能量測，且接著使用諸如內插法之數學運算來推斷在該系集中之其他速率下的效能。
較佳地，此照明系統130將對依據重複率變化之雷射效能進行週期性自動校準，且使用準則之集合來自動地選擇哪些重複率可供光微影系統100使用，同時維持所需效能。照明系統130接著可將所允許之重複率提供至微影控制器140中之掃描器劑量控制器以用作現存劑量配方計算之部分(包括關於晶圓之劑量、掃描速度、雷射能量輸出等等)。
根據一個實施例，控制系統180對經量測特性中之一或多者是否滿足預定規範準則(例如，經量測特性是否處於可接受範圍內)進行判定，且儲存此資訊。控制系統180可儲存與重複率R相關聯之經量測值，在該重複率R下，對該等值進行量測，且接著稍後進行彼等值是否係可接受的判定。對於控制系統180，亦有可能簡單地儲存針對每一重複率R的針對彼重複率量測之值是否係可接受的指示。
較佳地，可在氣體再填充過程期間週期性地執行此自動校準。舉例而言，由本申請案之受讓人製造的XLR 700ix源包括被稱為自動化氣體最佳化(AGO)之校準，該校準每一再填充執行一次且可經修改成包括重複率校準步驟。在通常與本申請案一起讓渡之公開的美國專利申請案第 2013/0003773號中描述AGO，所公開之美國專利申請案第2013/0003773號的說明書以引用之方式併入本文中。舉例而言，XLR 700ix源與由ASML Netherlands B.V.製造之NXT：1970掃描器及NXT：1980掃描器介接。
如所提及，當照明系統130正運轉時(亦即，線上)，但當照明系統130之光未由掃描器115使用時(亦即，在非曝光週期期間)，以各種重複率運轉照明系統130且在彼等速率下量測一或多個效能特性之過程發生。稍後，當掃描器115尋求使用特定重複率時，控制器180判定彼重複率是否會在線上校準期間產生符合規範之效能。若彼重複率會產生符合規範之效能，則控制器180可允許使用彼重複率。
替代地，控制器180可將所允許之重複率傳達至掃描器115，其中所允許之重複率儲存於記憶體142中之查找表中。掃描器115接著簡單地自所允許之重複率之此清單挑選待使用之重複率。換言之，照明系統130使得重複率之已知可靠值作為所允許之值可用於掃描器115。掃描器115將所允許之重複率儲存於查找表中以供掃描器115用作掃描器劑量配方之部分。接著准許照明系統130/掃描器系統使用彼等所允許之重複率。微影控制器140中之掃描器劑量控制器可接著使用所允許之速率作為劑量配方計算之部分(包括關於晶圓之劑量、掃描速度、雷射能量輸出等等)。
因此，源(照明系統130)以各種重複率執行對其效能之自我評估。源接著將彼評估之結果(或至少部分地基於彼評估之資訊)傳達至掃描器115。掃描器115可使用資訊來填充「良好」速率之查找表。亦有可能的是，在照明系統130正照明晶圓120的同時，該表可被更新。亦有可能的是，掃描器115可經組態以在使用給定重複率來確定是否可在該速率將產 生符合規範之效能的令人滿意之機率的情況下使用該速率之前查詢照明系統130。
在圖4中之流程圖中展示如可能由根據本發明之自動校準系統進行的例示性校準常式。應理解，一般而言，此等步驟中之大部分或全部將由照明系統130執行，但並非為必要的，且該等步驟可由光微影系統100之某一其他組件執行。於在照明系統130仍然在線上時而非在其輸出正由掃描器115使用(諸如在氣體再填充循環期間)時進行的第一步驟S1中，以重複率R操作照明系統130。在經排程停工時間期間執行校準過程防止必須針對校準程序排程額外停工時間，如將在存在獨佔地專用於校準之停工時間的情況下所需要。在步驟S2中，當照明系統130正以重複率R操作時，藉由照明系統130量測雷射之一或多個操作效能變數，諸如頻寬、波長、光束寬度穩定性及能量穩定性。在步驟S3中，針對如上文所描述由照明系統130之內部度量衡系統量測的彼等變數，判定在步驟S2中量測之該等值是否處於預定之可接受範圍內。在步驟S4中，儲存指示在步驟S3中進行之判定的結果之與重複率R相關聯的指示。在步驟S5中，重複率R改變成新重複率，且針對視需要一般多的R之值重複步驟S1至S4。可藉由使緊接之先前值遞增固定量而獲得R之新值，或可使用其他方法來改變R之值，包括使R減小固定量、使R增大或減小可變(包括隨機)量，或藉由僅測試經預期為所關注之R的彼等值，如下文更充分地解釋。
稍後，當照明系統130係處於操作模式時，掃描器115可檢查其想要使用之重複率是否為所准許之重複率，或自所允許之重複率的清單選擇一重複率。當照明系統130並未處於操作模式時，照明系統130亦可傳達「良好」重複率。舉例而言，可將支援符合規範之效能的重複率傳達至掃 描器115。掃描器115可接著將此等速率儲存於查找表中，且可針對給定的所要劑量選擇此等速率中之一者。若准許所要重複率，則系統在無任何警告或干擾的情況下以彼重複率運轉照明系統130。另一方面，若未准許所要重複率，則照明系統130可向掃描器115提供所請求之重複率可產生不符合規範之效能的指示，或其可禁止掃描器115以彼所請求之重複率操作照明系統130，或兩者皆可。
在圖5中之流程圖中展示圖4之程序的變化之實例。應再次理解，一般而言，此等步驟中之大部分或全部將由照明系統130執行，但並非為必要的，且該等步驟可由光微影系統100之某一其他組件執行。在圖5中，在步驟S10中，照明系統130以重複率R操作。在步驟S11中，針對彼重複率量測一或多個效能變數。在步驟S12中，在步驟S11中進行之量測的結果係與當前重複率相關聯。在步驟S13中，判定在步驟S10至S12中進行之程序已針對所有所要重複率完成。若在步驟S13中判定校準程序尚未針對所有所要重複率完成，則重複率在步驟S14中改變，且以新重複率進行步驟S10至步驟S12。若在步驟S13中判定程序已針對所有所要重複率完成，則接著判定哪些經量測效能變數處於可接受範圍內。替代地，在步驟S15中，照明系統130可將指示重複率R將產生符合規範之效能之可能性的計分指派至重複率R。
照明系統130亦可或替代地使用除了由照明系統130產生的光之特性以外的參數。舉例而言，系統可利用上文所描述之致動器454、456及458的狀態來判定選擇「良好」重複率時之雷射回饋控制器的可用動態範圍。
因此，照明系統130可在已量測一或多個效能變數之後的任何時間進行哪些重複率被准許或係較佳的判定。舉例而言，照明系統130可基本上 在進行量測同時進行判定，或照明系統130可儲存與獲得量測且稍後進行判定所處之重複率相關聯的量測。再者，照明系統130可儲存與重複率相關聯之實際量測，或儲存指示彼重複率是否會產生符合規範之效能之每一重複率的值。因此，在所有值已被儲存或在運行中(在進行量測同時)或該兩者之某一組合之後，可進行關於給定速率係良好(已產生或有可能產生符合規範之效能)抑或不良(已產生或有可能產生不符合規範之效能)的判定。當然，照明系統130可儲存不被允許之速率而非所允許之速率的表，或其可儲存該兩者。
掃描器115向照明系統130提供離散的所允許之「基礎」重複率的集合以作為介面規範之部分。掃描器115亦向照明系統130提供待在運轉時間期間使用之參考(或最大)重複率。參考重複率通常可能為約6kHz，但可使用其他參考重複率。自動化氣體最佳化將在彼參考重複率下最佳化。
在選擇重複率以用於操作時，掃描器115可向照明系統130查詢關於掃描器115可計劃請求之特定重複率的資訊。照明系統130用自校準掃描導出之資訊做出回應。在一個態樣中，照明系統130基於在重複率校準期間獲得之資訊用二進位「允許」或「不允許」(OK/NOK)做出回應。若重複率被允許，則掃描器115可在經選定重複率之±2Hz內操作。
根據另一態樣，掃描器115經組態以能夠使得照明系統130起始重複率校準。替代地或另外，照明系統130可請求掃描器115起始重複率校準。
較佳地，照明系統130可在相對短之時間段中(大約一分鐘)執行重複率校準。照明系統130亦可經組態以對變化的解析度執行重複率校準以便控制校準程序之整體持續時間。舉例而言，照明系統130可經組態以執行 「高解析度」校準，其中重複率在每一掃描步驟中遞增10Hz，此將導致量測以每叢發300個脈衝以約400個重複率進行。此掃描通常將耗費大約75秒。或照明系統130可經組態以執行「中等解析度」校準，其中重複率在每一掃描步驟中遞增15Hz，此將導致量測以每叢發300個脈衝以約270個重複率進行。此掃描通常將耗費大約50秒。或照明系統130可經組態以執行「中等解析度」校準，其中重複率在每一掃描步驟中遞增20Hz，其將導致量測以每叢發500個脈衝以約200個重複率進行。此掃描通常將耗費大約50秒。或照明系統130可經組態以執行「中等解析度」校準，其中重複率在每一掃描步驟中遞增20Hz，此將導致量測以每叢發300個脈衝以約200個重複率進行。此掃描通常將耗費大約40秒。或照明系統130可經組態以執行「低解析度」校準，其中重複率在每一掃描步驟中遞增100Hz，此將導致量測以每叢發300個脈衝以約40個重複率進行。此掃描通常將耗費大約8秒。
如應瞭解，每叢發之脈衝或叢發大小可自短(例如，每叢發100個脈衝)變化至中等(例如，每叢發300個脈衝)變化至長(例如，每叢發500個脈衝)。可使用其他數目個脈衝。
掃描圖案可為數個類型中之任一者。舉例而言，掃描圖案可為線性的，其中經取樣重複率之間具有恆定步長大小。或掃描圖案可為對數的，其中經取樣重複率之間的步長大小對數性地減小。此將導致以較高重複率進行更多取樣，此在隨重複率之效能變化預期為在較高重複率下較大的情形下將特別有用。或掃描圖案可為諧波的，其中經取樣之重複率之間的步長大小以諧波方式增大。此將導致以較低重複率進行更多取樣，此在隨重複率之效能變化經預期為在較低重複率下較大的情形下將特別有用。另一 可能掃描圖案係「襯墊」掃描圖案，在該掃描圖案中，對於每幾個經取樣重複率(例如，每兩個經取樣重複率)，照明系統130恢復回至參考重複率(例如，6kHz)且以該參考重複率進行量測。此掃描圖案在以下情形下可尤其有利：對重複率之效能相依性可漂移，因此，不時地返回至參考重複率以驗證在彼參考重複率下之效能仍為先前所量測之效能以及或相對於參考重複率調整或正規化每一重複率之效能係良好實踐。
對重複率之選擇/計分可係基於各種參數或量度。舉例而言，選擇/計分可係基於經發射光之光譜頻寬。替代地或另外，選擇/計分可係基於被稱作DtMopatarget的自雷射之第一級產生光束的時間至自雷射之第二級產生光束的時間之間的時間延遲。替代地或另外，選擇/計分可係基於經發射光之能量穩定性。替代地或另外，選擇/計分可係基於必須施加於雷射的電壓之量值。
選擇/計分可係基於滿足預定界限內之開放迴路量度的程度，或係基於滿足預定界限內之封閉迴路控制的程度。在一些情況下，可需要藉由使用經量測值之內插或藉由使用此等量度相對於重複率改變的改變速率(導數)來最小化此等量度之變化的影響。
作為一實例，量度可為致動器時序係在特定預設定限值內。作為另一實例，量度可為能量穩定性保持於預設限值內，或相對於在參考重複率(例如，6kHz)下之操作電壓的電壓偏移係在預設限值內。作為又一實例，相對於在參考重複率(例如，6kHz)下之能量增益的能量增益偏移係在預設限值內。替代地，可使用此等量度之某一組合。
照明系統130可經組態以將識別禁用重複率之資訊提供至掃描器115，亦即，照明系統130可濾出並非充分有可能導致符合規範之效能的 重複率；或將識別所允許之重複率的資訊提供至掃描器115，亦即，照明系統130可篩選充分有可能導致符合規範之效能的重複率。選擇/計分可為固定的(經由單一校準掃描進行判定)或為適應性的(經由多種校準掃描進行判定，其中結果經平均化、加權或不進行平均化、加權)。
在一個態樣中，掃描器115可向照明系統130指定其可請求之重複率的系集。照明系統130可經由整個系集或僅經由該系集之子集而進行校準。可使得經由整個系集進行校準可為不切實際的考慮因素為此校準可需要之時間量。可使得經由僅該系集之子集進行校準為非所要的考慮因素為照明系統130將不批准不包括於該子集中之可能「良好」的重複率之可能性。因此，存在潛在的折衷或時間對靈活性。是跨越系集之整個範圍進行校準或是替代地跨越僅系集之子集進行校準將大體取決於特定應用之需求。
關於重複率之選擇，參看圖6，在步驟S61中，掃描器115可(例如)藉由請求照明系統130以彼重複率進行操作而請求特定重複率之狀態。根據一個態樣，在步驟S62中，照明系統130可基於先前校準用二進位「OK/NOK」狀態指示來對掃描器115之請求作出回應。若照明系統130在步驟S62中向掃描器115供應「OK」狀態指示，則掃描器115可在步驟S63中使用所請求之速率。若照明系統130在步驟S62中向掃描器115供應「NOK」指示，則掃描器115可請求另一重複率。此程序可重複，直至照明系統130用「OK」指示做出回應為止。若此程序如在步驟S64中所判定相較於某預定持續時間或反覆之數目繼續歷時較大的一段時間或繼續達較大數目個反覆，則掃描器115/照明系統130可在步驟S65中後退至使用預設重複率。
參看圖7，根據另一態樣，當掃描器115在步驟S71中請求給定重複率時，照明系統130可用最接近之「良好」重複率的指示做出回應。在步驟S72中，掃描器115可接著接受或拒絕經指示重複率。若掃描器115在步驟S73中接受經指示重複率，則掃描器115使用彼重複率。在步驟S73中，若掃描器115拒絕經指示重複率，則掃描器115可請求另一重複率。此程序可繼續，直至照明系統130指示在步驟S73中掃描器115判定為可接受的重複率為止。若在步驟S75中已判定照明系統130在預定時間或嘗試次數內並未指示對於掃描器115可接受的重複率，則掃描器115及照明系統130可預設至步驟S64中已知的良好重複率。
根據另一態樣，掃描器115可請求給定重複率，且照明系統130可發射預定數目個叢發以判定彼重複率是否會導致符合規範之效能。照明系統130接著將對校準之結果的指示傳達至掃描器115。此具有實現相對快速校準之潛能。
根據另一態樣，照明系統130可連續地監視重複率，且當量度中之一或多者下降至由較高界限及較低界限界定之可接受窗口外部時選擇重複率/對重複率計分。
根據另一態樣，一旦已產生了展示對各種重複率之選擇/計分的基準重複率表，照明系統130便可「抖動」該表中之重複率(使該等重複率少量地發生變化)。此資訊可用以圍繞該表中之重複率判定給定量度對重複率之變化的敏感度，亦即，量度相對於重複率之局部導數。該表可接著經更新以包括局部量度變化經最小化所針對之重複率。
在另一態樣中，掃描器115可指定較大數目個基礎重複率。舉例而言，掃描器115可能針對總計約400個重複率遍及4kHz重複率範圍而指定 在10Hz解析度下之重複率。照明系統130可接著識別400個重複率當中之二十個最佳重複率。替代地，重複率範圍可被劃分成各自具有預設寬度之預定數目個位元子。舉例而言，可存在各自具有為約200Hz之寬度的二十個分格。每分格或區段之一個重複率可用OK/NOK旗標進行識別。
在另一態樣中，照明系統130可維持高解析度重複率表，其含有針對每一重複率之關於以下各者的資訊：彼重複率下之校準最近被執行之時間(年限)、用於彼重複率之量度(例如，DtMopa)及OK/NOK旗標。若已針對特定重複率量測了該表中之量度，則可使用預設值。照明系統130接著以參考重複率量測量度以獲得參考量度。接著使用參考量度，照明系統130基於量度臨限值識別來自每一分格之最佳重複率且將其標記為OK或NOK。對於被標記為NOK之二十個分格中之每一者，照明系統130接著掃描來自對應重複率分格之具有最大年限的十個重複率，且更新其年限。照明系統130相對於參考量度來選擇重複率/對重複率計分。若此最佳重複率處於針對量度之預設變化臨限值內，則照明系統130將其標記為OK。否則，照明系統130將其標記為NOK。
以上描述內容包括多個實施例之實例。當然，不可能出於描述前述實施例之目的而描述組件或方法之每一可想到的組合，但一般熟習此項技術者可認識到，各種實施例之許多另外組合及排列係可能的。因此，所描述之實施例意欲包涵屬於隨附申請專利範圍之精神及範疇內的所有此等更改、修改及變化。此外，就術語「包括」用於詳細描述或申請專利範圍中而言，此術語意欲以相似於術語「包含」在「包含」作為過渡詞用於一請求項中時所解譯之方式而為包括性的。此外，儘管所描述之態樣及/或實施例的元件可以單數形式來描述或主張，但除非明確陳述對單數之限制， 否則亦涵蓋複數。另外，除非另有陳述，否則任何態樣及/或實施例之全部或一部分可與任何其他態樣及/或實施例之全部或一部分一起利用。

Claims (20)

  1. 一種用於一雷射源之線上校準(online calibration)之系統，其包含：一雷射，其能夠以多種重複率(multiple repetition rates)運轉；一雷射控制單元，其可操作地連接至該雷射以用於控制該雷射操作所處之一重複率；一量測單元，其經配置以量測來自該雷射之一輸出以用於量測該雷射在一重複率下之至少一個操作參數；一比較單元，其可操作地連接至該量測單元以用於提供該操作參數之一所量測值是否處於該操作參數之值的一預定範圍內的一指示；及一儲存單元，其可操作地連接至該比較單元以用於儲存基於該指示且與該重複率相關聯之一值；該雷射控制單元可操作地連接至該儲存單元且經組態以僅限於所儲存之與第一重複率相關聯的該值指示該操作參數已經量測為處於該預定範圍內，才准許(permit)該雷射以該重複率進行操作。
  2. 如請求項1之系統，其中該至少一個操作參數為能量穩定性。
  3. 如請求項1之系統，其中該至少一個操作參數為頻寬穩定性。
  4. 如請求項1之系統，其中該至少一個操作參數為波長穩定性。
  5. 如請求項1之系統，其中該至少一個操作參數為光束形狀穩定性。
  6. 如請求項1之系統，其中該至少一個操作參數為一致動器輸出。
  7. 一種用於一雷射源之線上校準之系統，其包含：一雷射，其能夠以多種重複率運轉；一雷射控制單元，其可操作地連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序(sequentially)操作；一量測單元，其經配置以量測來自該雷射之一輸出以用於針對該複數個重複率中之每一者量測該雷射的至少一個操作參數；一比較單元，其可操作地連接至該量測單元以用於提供該操作參數之一所量測值是否處於該複數個重複率中之每一者之值的一預定範圍內的一指示；及一儲存單元，其可操作地連接至該比較單元以用於儲存基於該指示之一第一值及指示針對該複數個重複率中之每一者獲得之該值所處的該重複率之一第二值；且該雷射控制單元可操作地連接至該儲存單元且經組態以僅限於一經選定重複率係所儲存之與該重複率相關聯的該值指示該操作參數經量測為處於該預定範圍內針對的該複數個重複率中之一者，才准許該雷射以該經選定重複率進行操作。
  8. 如請求項7之系統，其中該至少一個操作參數為能量穩定性。
  9. 如請求項7之系統，其中該至少一個操作參數為頻寬穩定性。
  10. 如請求項7之系統，其中該至少一個操作參數為波長穩定性。
  11. 如請求項7之系統，其中該至少一個操作參數為光束形狀穩定性。
  12. 如請求項7之系統，其中該至少一個操作參數為一致動器輸出。
  13. 如請求項7之系統，其中可操作地連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序操作之該雷射控制單元經組態以經由一系列重複率而使該雷射步進。
  14. 如請求項13之系統，其中可操作地連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序操作之該雷射控制單元經組態以經由一系列重複率而使該雷射步進，其中步階之間的重複率之差維持大體上恆定。
  15. 如請求項13之系統，其中可操作地連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序操作之該雷射控制單元經組態以經由一系列重複率而使該雷射步進，其中步階之間的重複率之差隨著重複率而增大。
  16. 如請求項13之系統，其中可操作地連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序操作之該雷射控制單元經組態以經由一系列重複率而使該雷射步進，其中步階之間的重複率之差隨著重複率減小。
  17. 一種用於一雷射源之線上校準之系統，其包含：一雷射，其能夠以多種重複率運轉；一雷射控制單元，其可操作地連接至該雷射以用於驅動該雷射以複數個重複率依序操作；一量測單元，其經配置以量測來自該雷射之一輸出以用於針對該複數個重複率中之每一者量測該雷射的至少一個操作參數；一計分(scoring)單元，其可操作地連接至該量測單元以用於至少部分地基於該經量測操作參數而判定該複數個重複率中之每一者的一計分；及一儲存單元，其可操作地連接至該計分單元以用於儲存基於該等計分之第一值及指示針對該複數個重複率中之每一者判定該計分針對之該重複率的各別第二值，該雷射控制單元可操作地連接至該儲存單元且經組態以基於該重複率之該計分而判定操作該雷射所處之一重複率。
  18. 一種用於一雷射源之線上校準之方法，其包含以下步驟：在一非曝光週期(nonexposure period)期間針對一雷射執行之一系列步驟，該系列步驟包括以下步驟以複數個重複率連續(serially)運轉該雷射；針對該複數個重複率中之每一者量測該雷射之至少一個操作參數；提供該操作參數之一所量測值是否處於該複數個重複率中之每一者的值之一預定範圍內的一指示；及儲存基於該指示之一第一值及指示針對該複數個重複率中之每一者獲得該值所處的該重複率之一第二值；及在一稍後(later)曝光週期期間針對該雷射執行之一步驟，該步驟僅限於一經選定(selected)重複率係所儲存之與該重複率相關聯的該值指示該操作參數經量測為處於該預定範圍內所針對的該複數個重複率中之一者，才准許該雷射以該經選定重複率進行操作。
  19. 一種在一非曝光週期期間針對一雷射進行之方法，該方法包含以下步驟：使該雷射以一第一重複率操作；當該雷射正以該第一重複率操作時，量測該雷射之一或多個操作效能變數；針對在該量測步驟中量測之值判定彼等值是否滿足效能準則(performance criteria)；儲存指示該判定步驟之結果與該第一重複率相關聯之一指示；使該雷射以一第二重複率操作；當該雷射正以該第二重複率操作時，量測該雷射之一或多個操作效能變數；針對在該量測步驟中量測之該等值判定彼等值是否滿足效能準則(performance criteria)；及儲存指示該判定步驟之該等結果與該第二重複率相關聯之一指示。
  20. 一種用於一雷射源之線上校準之方法，其包含：在一非曝光週期期間針對一雷射進行之一第一系列步驟，該第一系列步驟包含以下步驟：使該雷射以一第一重複率操作；當該雷射正以該第一重複率操作時，量測該雷射之一或多個操作效能變數；針對在該量測步驟中量測之值判定彼等值是否滿足效能準則；儲存指示該判定步驟之結果與該第一重複率相關聯之一指示；使該雷射以一第二重複率操作；當該雷射正以該第二重複率操作時，量測該雷射之一或多個操作效能變數；針對在該量測步驟中量測之該等值判定彼等值是否滿足效能準則；及儲存指示該判定步驟之該等結果與該第二重複率相關聯之一指示；及在一曝光週期期間針對一雷射進行之一步驟，該步驟僅限於用於該雷射之一經選定重複率係一指示於該等儲存步驟中之一者中所儲存的一指示所針對之一重複率，才准許該雷射進行操作，該指示係指示對於該經選定重複率而言該效能準則被滿足。
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