TWI620702B - Vacuum floater control system - Google Patents

Abstract

本創作係一種真空浮吸器控制系統，其包含一限位裝置、一感測件及一閥件，該限位裝置包含一進氣口、複數個限位件及複數個刻度線，該感測件包含三個感測器及一控制單元，該閥件包含一控制閥及一進氣管，根據待吸附工件的尺寸大小，該限位裝置可參考該些刻度線調整該些限位件以輔助該工件於水平移動時的穩定性，該感測件透過該些感測器感測該真空浮吸器控制系統與該工件的距離，並將訊息傳遞給該控制單元，由該控制單元控制該閥件的控制閥，可適度調整氣壓大小而讓被吸附的工件維持在預設的距離，並讓被吸附的工件保持良好的平穩度。

Description

真空浮吸器控制系統

本創作係一種真空浮吸器控制系統，尤指一種可提供真空浮吸器裝設的真空浮吸器控制系統。

現有的非接觸式真空浮吸器，概如我國申請號數第102224083號新型專利案所揭示的「非接觸式多孔真空浮吸器」，該非接觸式多孔真空浮吸器包含一頂蓋及一底盤，該頂蓋包含一開口朝下的氣槽及一進氣口，該進氣口連通該氣槽，該底盤設該頂蓋下方並且與該頂蓋的氣槽組合，該底盤的頂部與該頂蓋的氣槽之間形成一連通進氣口的氣道，該底盤的底面設有複數個圓錐氣孔，每個圓錐氣孔上部形成一圓形的氣流渦室，以及自每一氣流渦室切線延伸連通該底盤頂部與該頂蓋氣槽之間的氣道，當一加壓氣體由該進氣口進入經過該氣道並切線進入該些氣流渦室時，該加壓氣體會在該些氣流渦室裡旋轉並且於該些氣流渦室中央形成真空狀態，該些氣流渦室中央的真空狀態形成一吸附力吸附該底盤下方一工件，該加壓氣體於該些氣流渦室旋轉並經過該些圓錐氣孔向底盤下流出，該加壓氣體流出時形成一排斥力將該工件推離該底盤，該吸附力及該排斥力相抵消而形成非接觸式的真空浮吸器。

然而，現有的非接觸式多孔真空浮吸器於吸附的過程中，往往進入該進氣口的加壓氣體壓力固定，沒辦法因應吸附該工件的情況調整進入該進氣口的加壓氣體壓力，造成該非接觸式多孔真空浮吸器吸附該工件之間的距離保持固定，使得實際在使用時有吸附距離的限制，以及沒辦法配合需求調整非接觸式多孔真空浮吸器吸附該工件之間的距離。

本創作之主要目的在於提供一種真空浮吸器控制系統，解決無法調整現有真空浮吸器跟該工件之間的距離的問題。

為達成前揭目的，本創作之真空浮吸器控制系統，其係提供一真空浮吸器設置並包含： 一限位裝置，該限位裝置包含一板體、一進氣口、複數個調整長槽、複數個限位件及複數個刻度線，該板體係提供該真空浮吸器設置，該進氣口設於該板體正中央並貫穿該板體，且該進氣口連通該真空浮吸器，該些調整長槽貫穿該板體並以該進氣口為圓心呈放射狀排列於該板體上，該些限位件設於該些調整長槽中，該些刻度線設於該板體頂面並以該進氣口為圓心成同心圓間隔排列，該些刻度線皆與所述調整長槽相交； 一感測件，該感測件設於該限位裝置，該感測件包含一電路板、一控制單元、複數個傳導器及三個感測器，該電路板設於該限位裝置的該板體的頂面上，該控制單元設於該電路板上，該些傳導器設於該電路板上並電性連接該控制單元該些感測器設於該板體的底面，且該些感測器分別電性連接該些傳導器； 一閥件，該閥件設於該限位裝置，該閥件包含一控制閥及一進氣管，該控制閥係電性連接該控制單元，該進氣管的一端連接該控制閥，該進氣管的另一端連通該進氣口。

本創作真空浮吸器控制系統於進行吸附作業前，先調整好該限位裝置的該些限位件，並且設定該感測件上的該控制單元保持該真空浮吸器控制系統及待吸附工件之間的距離，本創作真空浮吸器控制系統進行吸附作業時，該限位裝置提供輔助該真空浮吸器控制系統吸附該工件時能更穩固地水平移動，該真空浮吸器控制系統及該工件的距離可由該些感測器感測，該控制單元配合原先設定好的距離來控制該控制閥的閥開度，進而調整進入該真空浮吸器的氣壓大小，將欲吸附的工件吸附在該控制單元設定的距離，也可依照需求調整氣壓大小，改變吸附工件吸附的距離，提供良好的操作靈活性並保持良好的平穩度。

如圖1至圖3所示，為本創作真空浮吸器控制系統之較佳實施例，該真空浮吸器控制系統係提供一真空浮吸器40設置並包含一限位裝置10、一感測件20及一閥件30。

該限位裝置10包含一板體11、一進氣口12、複數個調整長槽13、複數個限位件14及複數個刻度線15，該板體11係提供該真空浮吸器40設置，該進氣口12設於該板體11正中央並貫穿該板體11，且該進氣口12連通該真空浮吸器40，該些調整長槽13貫穿該板體11並以該進氣口12為圓心呈放射狀排列於該板體11上，該些限位件14設於該些調整長槽13中，該些刻度線15設於該板體11頂面並以該進氣口12為圓心成同心圓間隔排列，該些刻度線15皆與所述調整長槽13相交。

該感測件20設於該限位裝置10，該感測件20包含一電路板21、一控制單元22、複數個傳導器23及三個感測器24，該電路板21設於該限位裝置10的該板體11的頂面上，該控制單元22設於該電路板21上，該些傳導器23設於該電路板21上並電性連接該控制單元22，該些感測器24設於該板體11的底面，且該些感測器24分別電性連接該些傳導器23，另外，所述感測器24係為紅外線感測器。

該閥件30設於該限位裝置10，該閥件30包含一控制閥31及一進氣管32，該控制閥31係電性連接該控制單元22，該進氣管32的一端連接該控制閥31，該進氣管32的另一端連通該進氣口12。

請參閱圖4，本創作真空浮吸器控制系統於進行吸附作業前，該限位裝置10下方安裝該真空浮吸器40，該真空浮吸器40可以為單孔式或多孔式真空浮吸器，參考待吸附之工件的尺寸大小調整該些限位件14，該些限位件14的調整移動量可參考該板體11上的所述刻度線15，該些限位件14可於所述調整長槽13裡移動，並且調整後的該些限位件14位於同一個刻度線15上，調整完畢之後可開始進行吸附作業，本創作真空浮吸器控制系統進行吸附作業時，調整該限位裝置10的該些限位件14，當該工件被吸附之後可以將該限位裝置10的該些限位件14調整抵靠該工件，該些限位件14透過抵靠該工件以輔助該真空浮吸器控制系統於浮吸該工件水平移動時更穩固。

請參閱圖1、圖5，本創作真空浮吸器控制系統於進行吸附作業前，先設定該感測件20上的該控制單元22控制該真空浮吸器控制系統及待吸附工件所要保持的距離，本創作真空浮吸器控制系統於進行吸附作業中，該感測件20的該些感測器24會感測該工件之距離，該些感測器24將感測到的數據透過該些傳導器23、該電路板21傳送給該控制單元22，該控制單元22配合先前設定好的距離來控制該閥件30的該控制閥31的閥開度，進而控制該真空浮吸器40的氣壓大小，調整該真空浮吸器40的吸附力以及排斥力，使被吸附的工件保持在預設的距離將欲吸附的工件吸附在該控制單元22設定的距離。

另外，請參閱圖4，該感測件20的該些感測器24至少要三個，該些感測器24能感測出一個面的各點保持同一距離，該些感測器24可以確保被吸附之工件的平穩度。

綜上所述，本創作真空浮吸器控制系統於進行吸附作業前，可先調整好該限位裝置10的該些限位件14於該些刻度線15上，設定該感測件20上的該控制單元22控制該真空浮吸器控制系統及待吸附工件所要保持的距離，本創作真空浮吸器控制系統的限位裝置10可提供輔助，可更穩固地吸附該工件因應水平移動等變動的情況，藉由該感測件20配合該閥件30，可適度調整氣壓大小而讓被吸附的工件維持在預設的距離，也可因應需求調整氣壓大小改變被吸附的工件的距離，具有良好的操作靈活性又讓被吸附的工件保持良好的平穩度。

10‧‧‧限位裝置
11‧‧‧板體
12‧‧‧進氣口
13‧‧‧調整長槽
14‧‧‧限位件
15‧‧‧刻度線
20‧‧‧感測件
21‧‧‧電路板
22‧‧‧控制單元
23‧‧‧傳導器
24‧‧‧感測器
30‧‧‧閥件
31‧‧‧控制閥
32‧‧‧進氣管
40‧‧‧真空浮吸器

圖1：本創作真空浮吸器控制系統之一較佳實施例之俯視外觀立體示意圖。 圖2：本創作真空浮吸器控制系統之一較佳實施例之局部俯視外觀立體示意圖。 圖3：本創作真空浮吸器控制系統之一較佳實施例之局部仰視外觀立體示意圖。 圖4：本創作真空浮吸器控制系統之一較佳實施例之局部組合側視示意圖。 圖5：本創作真空浮吸器控制系統之一較佳實施例之局部組合仰視示意圖。

Claims (3)

1. 一種真空浮吸器控制系統，其係提供一真空浮吸器設置並包含： 一限位裝置，該限位裝置包含一板體、一進氣口、複數個調整長槽、複數個限位件及複數個刻度線，該板體係提供該真空浮吸器設置，該進氣口設於該板體正中央並貫穿該板體，且該進氣口連通該真空浮吸器，該些調整長槽貫穿該板體並以該進氣口為圓心呈放射狀排列於該板體上，該些限位件設於該些調整長槽中，該些刻度線設於該板體頂面並以該進氣口為圓心成同心圓間隔排列，該些刻度線皆與所述調整長槽相交； 一感測件，該感測件設於該限位裝置，該感測件包含一電路板、一控制單元、複數個傳導器及三個感測器，該電路板設於該限位裝置的該板體的頂面上，該控制單元設於該電路板上，該些傳導器設於該電路板上並電性連接該控制單元，該些感測器設於該板體的底面，且該些感測器分別電性連接該些傳導器； 一閥件，該閥件設於該限位裝置，該閥件包含一控制閥及一進氣管，該控制閥係電性連接該控制單元，該進氣管的一端連接該控制閥，該進氣管的另一端連通該進氣口。
2. 如請求項1所述之真空浮吸器控制系統，其中，所述感測器為紅外線感測器。
3. 如請求項1或2所述之真空浮吸器控制系統，其中，所述閥件係為控制壓力的比例閥。