TWI603805B - 內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台 - Google Patents

Description

內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台

本發明係有關於一種揮發性有機物質量測機台，更詳而言之，本發明係有關於一種內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台。

按，目前工業中所使用具有高溫模組的工業機台，常會發生內部電路模組受到高溫模組的高溫影響而無法正常運作，舉例而言，用於對氣體中揮發性有機物質的組成進行量測的工業機台，內部會設置以烘箱為主的高溫模組，以對樣品氣體提供高溫的量測環境，使得火焰離子氣相層析儀(簡稱GC-FID)，可以透過火焰將揮發性有機物質離子化，而利用離子的可導電特性偵測電子訊號，經放大電路元件輸出信號，而可換算得到例如氣體環境中揮發性有機物質的濃度等參數，藉以判斷氣體環境中的氣體是否符合排放標準。然，烘箱運行時的熱量會逸散在工業機台中，使得工業機台內部的電路模組會處於高溫環境，而無法正常運作甚至損壞，因此，如何降低工業機台內高溫模組的高溫對電路模組的影響，遂為現在業者所關注的技術議題。

再者，當前工業機台並無設計專屬空間，以進行各項目的操作與維護，隨著土地取得成本居高不下，導致目前工業機台的裝設空間有限，使得 工業機台各項目的操作與維護出現困難，是以，如何調整工業機台的結構設計，使工業機台各項目的操作或維護容易，為現在業者所關注的另一技術議題。

鑒於上述先前技術之缺點，本發明係提供一種內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，係包括機台本體、送氣模組、上蓋體以及控制模組。機台本體具有電路模組、高溫模組、操作介面、維護介面、第一擋牆與第二擋牆。第一擋牆與第二擋牆係將機台本體的內部空間區隔成第一空間、第二空間與第三空間。電路模組係位於第一空間。高溫模組係位於第二空間。操作介面與維護介面係位於第三空間。操作介面係用於操作電路模組或高溫模組的運作。維護介面係供維護電路模組或高溫模組。送氣模組運行時係對第一空間送氣。上蓋體係於機台本體的上方遮蔽第一空間與第二空間，且具有出氣口，出氣口係位於第二空間的高溫模組的上方。側壁體係於機台本體的側邊遮蔽或開放第三空間，以遮蔽或外露操作介面與維護介面。控制模組係令送氣模組運行，使第一空間的氣壓大於第二空間的氣壓，而產生由第一空間進入第二空間朝出氣口流動的氣流，以藉由出氣口的出氣，而逸散電路模組與高溫模組運行時所產生的熱量。

可選擇性地，第一擋牆背離送氣模組的一側係具有氣流流動通道，俾提供第一空間的氣流流動到第二空間的通道。側壁體具有顯示面板，顯示面板係於該側壁體遮蔽該第三空間時，顯示該電路模組或該高溫模組的運行狀態。高溫模組係具有烘箱，烘箱運行時係用於對標準氣體與樣品氣體提供高溫量測環境。機台本體還具有標氣導入管路、樣氣導入管路與標氣流量感測器。 樣氣導入管路係引導樣品氣體進入烘箱。標氣導入管路係引導標準氣體進入烘箱。標氣流量感測器係感測標氣導入管路的標準氣體流量。當標氣導入管路感測到的標準氣體流量實質為零時，控制模組係令烘箱停止運行。

可選擇性地，樣氣導入管路係具有至少一S形狀的彎曲段。樣氣導入管路係具有加溫模組。加溫模組係對樣氣導入管路所引導的樣品氣體提供加溫，以避免樣品氣體凝結於樣氣導入管路的內壁面。烘箱係包括箱體、箱門、烘熱模組以及溫控模組。箱體係具有箱體本體、箱體電連接器、箱體內壁、箱體導軌、第一箱體口與第二箱體口。第一箱體口與第二箱體口係相連通，且分別形成於箱體本體的第一側面與第二側面。第一側面係與第二側面相鄰接。箱門係具有箱門本體、箱門電連接器、箱門內壁、箱門外壁、隔熱件與箱門口。隔熱件係位於箱門內壁與箱門外壁之間，以阻隔箱門內壁與箱門外壁之間的熱量傳導。箱門外壁具有箱門導軌。箱門導軌係與箱體導軌結構配合，俾引導箱門本體進入箱體本體中，直到箱門本體抵靠箱體內壁，而透過箱門本體封閉第一箱體口與第二箱體口，以在箱體本體與箱門本體間形成烘熱腔室，並達成箱體電連接器與箱門電連接器的電性連接。烘熱模組係設置於箱門內壁，係用於烘熱以對烘熱腔室提供高溫量測環境，並可在箱門本體離開箱體本體後透過箱門口而外露。溫控模組係於箱體電連接器與箱門電連接器電性連接時，控制烘熱模組的運行，使烘熱腔室提供高溫量測環境，並可在箱門本體離開箱體本體後透過第一箱體口與第二箱體口而外露。

可選擇性地，箱門外壁還設置有箱門把手，箱門把手係位於第三空間，俾於側壁體側向開放第三空間時，提供施力使箱門本體離開或進入箱體本體。還包括溫度安全模組，溫度安全模組係設置於箱門本體上，當烘熱腔室 的高溫環境溫度高於安全溫度時，溫度安全模組係令烘熱模組停止烘熱。箱體還具有彈性模組，彈性模組係得對箱體本體提供彈力，使箱體內壁緊密抵靠箱門本體，以減少箱體內壁與箱門本體間的間隙，而減少烘熱腔室的熱能逸散。還具有限制模組，當箱門本體進入箱體本體而抵靠箱體內壁，且箱體電連接器與箱門電連接器電性連接時，限制模組係得限制箱體本體與箱門本體的相對移動。

相較於先前技術，本發明的揮發性有機物質量測機台係透過隔板，隔開高溫模組與電路模組，並在機台內部提供由電路模組流向高溫模組的氣流，以解決揮發性有機物質量測機台內高溫模組的高溫對電路模組所造成的影響，並在揮發性有機物質量測機台的內部隔出用於操作或維護的專屬空間，且在該專屬空間中設置操作介面與維護介面，使得揮發性有機物質量測機台能裝設於空間狹小的環境中。另外，本發明還對揮發性有機物質量測機台內高溫模組的結構進行設計，以藉由減小高溫模組的體積，而達成縮小揮發性有機物質量測機台體積的目的。

1‧‧‧揮發性有機物質量測機台

11‧‧‧機台本體

111‧‧‧電路模組

112‧‧‧高溫模組

1121‧‧‧箱體

11211‧‧‧箱體本體

11212‧‧‧箱體電連接器

11213‧‧‧箱體內壁

11214‧‧‧箱體導軌

11215‧‧‧第一箱體口

11216‧‧‧第二箱體口

1122‧‧‧箱門

11221‧‧‧箱門本體

11222‧‧‧箱門電連接器

11223‧‧‧箱門內壁

11224‧‧‧箱門外壁

112241‧‧‧箱門導軌

112242‧‧‧箱門把手

11225‧‧‧隔熱件

11226‧‧‧箱門口

1123‧‧‧烘熱模組

1125‧‧‧溫度安全模組

1126‧‧‧彈性模組

1127‧‧‧限制模組

1128‧‧‧指示模組

113‧‧‧操作介面

114‧‧‧維護介面

115‧‧‧第一擋牆

1151‧‧‧氣流流動通道

116‧‧‧第二擋牆

117‧‧‧標氣導入管路

118‧‧‧標氣流量感測器

119‧‧‧樣氣導入管路

1191‧‧‧彎曲段

1192‧‧‧加溫模組

12‧‧‧送氣模組

13‧‧‧上蓋體

131‧‧‧出氣口

14‧‧‧側壁體

141‧‧‧顯示面板

15‧‧‧控制模組

S1‧‧‧第一空間

S2‧‧‧第二空間

S3‧‧‧第三空間

S4‧‧‧烘熱腔室

圖1，係本發明內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台一實施例的外觀圖。

圖2，係圖1所示內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台部分構件的分解圖。

圖3，係圖1所示內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台卸除上蓋體後的上視圖。

圖4，係圖1所示內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台在一空間中外露操作介面與維護介面的示意圖。

圖5，係圖1所示內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台的高溫模組的外觀圖。

圖6-1，係圖5所示高溫模組的截面圖。

圖6-2，係圖6-1中A區域的放大圖。

圖7，係圖5所示高溫模組在一視角的部分構件的分解圖。

圖8，係圖5所示高溫模組在另一視角的部分構件的分解圖。

圖9，係圖5所示高溫模組之箱體的側視圖。

圖10，係圖5所示高溫模組之箱門在一視角的外觀圖。

圖11，係圖5所示高溫模組之箱門在另一視角的外觀圖。

圖12，係圖5所示高溫模組之箱門的截面圖。

以下內容將搭配圖式，藉由特定的具體實施例說明本發明之技術內容，熟悉此技術之人士可由本說明書所揭示之內容輕易地了解本發明之其他優點與功效。本發明亦可藉由其他不同的具體實施例加以施行或應用。本說明書中的各項細節亦可基於不同觀點與應用，在不背離本發明之精神下，進行各種修飾與變更。尤其是，於圖式中各個元件的比例關係及相對位置僅具示範性用途，並非代表本發明實施的實際狀況。

本發明係針對揮發性有機物質量測機台進行結構設計，以解決揮發性有機物質量測機台內高溫模組的高溫對電路模組所造成的影響，並為揮發 性有機物質量測機台的操作或維護設置專屬空間，且在該專屬空間中設置操作介面與維護介面，使得揮發性有機物質量測機台能裝設於空間狹小的環境中。另外，本發明還對揮發性有機物質量測機台內高溫模組的結構進行設計，藉由縮小高溫模組的體積，而達成縮小揮發性有機物質量測機台體積的目的。

針對本發明揮發性有機物質量測機台的特徵揭露，以下係以用於對氣體中揮發性有機物質的組成進行量測的揮發性有機物質量測機台為實施例進行說明，請一併參閱圖1至圖12，如各圖所示，本發明的揮發性有機物質量測機台1係包括有機台本體11、送氣模組12、上蓋體13、側壁體14以及控制模組15。機台本體11具有電路模組111、高溫模組112、操作介面113、維護介面114、第一擋牆115與第二擋牆116。第一擋牆115與第二擋牆116係可垂直相交，而將機台本體11的內部空間區隔出第一空間S1、第二空間S2與第三空間S3。

如圖3所示，電路模組111係位於第一空間S1。高溫模組112係位於第二空間S2。第一擋牆115係隔開電路模組111與高溫模組112，而避免高溫模組112運行時的高溫，影響電路模組111的正常運行。如圖3所示的一實施例中，高溫模組112係包含有烘箱，所述烘箱運行時係用於對樣品氣體提供高溫量測環境，使得火焰離子氣相層析儀，可以透過火焰將揮發性有機物質離子化，相應地，機台本體11設置有標氣導入管路117與標氣流量感測器118。標氣導入管路117係引導標準氣體進入烘箱。標氣流量感測器118係感測標氣導入管路117的標準氣體流量，當標氣流量感測器118感測到的標準氣體流量實質為零時，控制模組15係令烘箱停止運行，進而避免烘箱發生乾燒的狀況。

可選擇性地，機台本體11還設置有樣氣導入管路119，其中，樣氣導入管路119係用於引導樣品氣體進入烘箱，如圖2所示，樣氣導入管路119包 含至少一彎曲段1191與加溫模組1192。加溫模組1192係對樣氣導入管路119所引導的樣品氣體提供加溫，而避免樣品氣體凝結於樣氣導入管路119的內壁面，而影響揮發性有機物質量測機台1的正常運行，而彎曲段1191係例如具有S形狀，以在受力時提供彎曲變形，而補償樣氣導入管路119的高溫變形量。於本發明的一實施例中，加溫模組1192係為包覆在樣氣導入管119管壁上的加熱構件。

如圖2所示，操作介面113係用於操作電路模組111或高溫模組112的各項運作，舉例而言，操作介面113可對電路模組111或高溫模組112的各項運作輸入操作指令。維護介面114係供維護電路模組111或高溫模組112，以確保電路模組111與高溫模組112運行正常。操作介面113與維護介面114係設置於第二擋牆116並位於專屬的第三空間S3，而有助於對電路模組111或高溫模組112進行各項目的操作與維護。上蓋體13係於機台本體11的上方遮蔽第一空間S1與第二空間S2，以對電路模組111與高溫模組112提供遮蔽與保護。

如圖1所示，側壁體14係設置於機台本體11的一側邊，以遮蔽機台本體11內部的第三空間S3，然，如圖2所示，側壁體14亦可開放機台本體11內部的第三空間S3。於圖2所示的實施例中，側壁體14具有顯示面板141。當側壁體14遮蔽第三空間S3時，係遮蔽第三空間S3的操作介面113與維護介面114，而對操作介面113與維護介面114提供保護，並可透過顯示面板141顯示電路模組111或高溫模組112的運行狀態。如圖2、圖4所示，當側壁體14開放第三空間S3時，係開放操作介面113與維護介面114，且使電路模組111與高溫模組112外露，而讓操作者可在機台本體11的單一側，通過開放的第三空間S3，藉由操作介面113操作電路模組111或高溫模組112的運作，藉由維護介面114維護電路模組111或高溫模組112。

送氣模組12係可選擇由風扇所構成，在運行時係對第一空間S1送氣，以提高第一空間S1的氣壓並帶走熱量。如圖4所示，上蓋體13具有出氣口131，出氣口131係位於第二空間S2的高溫模組112的上方。於本發明中，控制模組15係令送氣模組12運行，使第一空間S1的氣壓大於第二空間S2的氣壓，而產生由第一空間S1進入第二空間S2朝出氣口131流動的氣流(氣流的流動方向係於圖3中以箭頭示意)，以在機台內部提供由電路模組111流向高溫模組112的氣流，並藉由出氣口131的出氣，而逸散電路模組111與高溫模組112運行時所產生的熱量。可選擇性地，如圖2所示，第一擋牆115背離送氣模組12的一側係具有氣流流動通道1151，俾提供第一空間S1的氣流流動到第二空間S2的通道。

於圖7、圖8所示的實施例中，高溫模組112的烘箱係包括箱體1121、箱門1122、烘熱模組1123與溫控模組。箱體1121具有箱體本體11211、箱體電連接器11212、箱體內壁11213、箱體導軌11214、第一箱體口11215與第二箱體口11216。箱體導軌11214係可為板狀體。如圖7所示，虛線表示的第一箱體口11215與第二箱體口11216係相連通，而使第一箱體口11215與第二箱體口11216合併，成為口徑大於第一箱體口11215與第二箱體口11216的入口，而讓操作者可經由該入口對箱體本體11211內的構件進行維護、更新、調整或操作。因此，本發明烘箱即便設置的箱體口不大，亦能對箱體本體11211內的構件進行維護、更新、調整或操作，使得本發明烘箱的體積可有效縮小。

如圖6-1所示，箱門1122係用於跟箱體1121搭配而形成可提供高溫環境的烘熱腔室S4，以對待烘物進行烘熱。於本發明中，如圖6-1、圖7、圖8所示，箱門1122具有箱門本體11221、箱門電連接器11222、箱門內壁11223、箱門外壁11224、隔熱件11225與箱門口11226。隔熱件11225係位於箱門內壁11223與 箱門外壁11224之間，以阻隔箱門內壁11223與箱門外壁11224間的熱傳導，如此，可避免箱門內壁11223的熱能經由箱門外壁11224而逸散，俾節約烘箱的能耗。

再者，本實施例的隔熱件11225可由例如鐵氟龍(即聚四氟乙烯)的隔熱材料製成，且如圖6-1所示，本實施例的隔熱件11225係為柱狀體。本實施例的箱門1122還可設置箱門把手112242，箱門把手112242係外露於箱門外壁11224，俾提供施力而使箱門本體11221離開或進入箱體本體11211，以進行烘箱的各種操作。

如圖7與圖11所示，箱門外壁11224具有箱門導軌112241。箱門導軌112241可為板狀體。箱門導軌112241係與箱體導軌11214結構配合，俾引導箱門本體11221如圖6-1進入箱體本體11211中，直到箱門本體11221抵靠箱體內壁11213，而透過箱門本體11221封閉第一箱體口11215與第二箱體口11216，以在箱體本體11211與箱門本體11221間形成烘熱腔室S4，並同時達成箱體電連接器11212與箱門電連接器11222的電性連接，以為烘箱的運作提供電能。於圖7與圖11所示的實施例中，箱體導軌11214可設置箱體引導斜面，箱門導軌112241可設置箱門引導斜面，俾藉由斜面引導箱體導軌11214與箱門導軌112241的結構配合，但不以此為限。

如圖6-1與圖6-2所示，本實施例高溫模組112烘箱的箱體1121還可具有分別連接箱體本體11211與箱體內壁11213的彈性模組1126，其中，彈性模組1126可得到箱體本體11211的支撐而對箱體內壁11213提供彈力，使箱體內壁11213朝箱門本體11221的方向移動，而使箱體內壁11213緊密抵靠箱門本體11221，藉以減少箱體內壁11213與箱門本體11221間的間隙，而減少烘熱腔室S4 的熱能逸散，以符合節能的環保要求。可選擇性地，彈性模組1126係可由多個例如為螺旋彈簧的彈性體所構成，以分別在隔開的不同位置對箱體內壁11213提供彈力。

烘熱模組1123係用於提供熱能以對烘熱腔室S4提供高溫環境，於圖8所示的一實施例中，烘熱模組1123係設置於箱門內壁11223，而可在箱門本體11221離開箱體本體11211後透過箱門口11226而外露，使可經由箱門口11226進行維護、更新、調整或操作。因此，本實施例的箱體1121毋須為烘熱模組1123的維護、更新、調整或操作預留空間，而造成本發明烘箱的體積可大幅減少而便於使用，並造成烘熱腔室的尺寸縮小而降低烘熱模組1123運行時的能耗。

溫控模組係於箱體電連接器11212與箱門電連接器11222電性連接時，控制烘熱模組1123的運行，使烘熱腔室S4提供高溫環境。於圖6-1所示的實施例中，烘箱還在箱門本體11221上設置例如由溫度保險絲構成的溫度安全模組1125，當烘熱腔室S4的高溫環境溫度高於一安全溫度時，溫度安全模組1125係令烘熱模組1123停止烘熱，而避免烘熱腔室S4的高溫環境溫度過高而發生危險或造成機台的運作異常。

另外，如圖5所示的實施例的烘箱還可設置例如為扣具的限制模組1127與例如為燈具的指示模組1128。所述的限制模組1127與指示模組1128係設置於機箱本體11211的操作介面113，而使操作者便於透過第三空間S3進行操作。關於限制模組1127，當箱門本體11221抵靠箱體內壁11213，且箱體電連接器11212與箱門電連接器11222電性連接時，限制模組1127係得受致動而限制箱體本體11211與箱門本體11221的相對移動，而避免烘箱在運行時箱體本體11211與箱門本體11221分開，而發生危險或造成機台的運作異常。關於指示模組 1128，係於限制模組1127限制箱體本體11211與箱門本體11221的相對移動時，且於側壁體14開放第三空間S3時，對外提供限制模組1127處於限制狀態的指示，而供操作者確認烘箱的運行狀態。

可選擇性地，限制模組1127具有例如為位移感測器的觸發構件，以於限制模組1127限制箱體本體11211與箱門本體11221的相對移動時接受觸發，以令溫控模組1124控制烘熱模組1123運行，並令指示模組1128對外提供限制狀態指示。

上述實施例僅例示性說明本發明之原理及功效，而非用於限制本發明。任何熟習此項技術之人士均可在不違背本發明之精神及範疇下，對上述實施例進行修飾與改變。因此，本發明之權利保護範圍，應如本發明申請專利範圍所列。

111‧‧‧電路模組

112‧‧‧高溫模組

113‧‧‧操作介面

114‧‧‧維護介面

12‧‧‧送氣模組

14‧‧‧側壁體

15‧‧‧控制模組

S1‧‧‧第一空間

S2‧‧‧第二空間

S3‧‧‧第三空間

Claims (10)

1. 一種內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，係包括：一機台本體，具有一電路模組、一高溫模組、一操作介面、一維護介面、一第一擋牆與一第二擋牆，該第一擋牆與該第二擋牆係將該機台本體的內部空間區隔成一第一空間、一第二空間與一第三空間，該電路模組係位於該第一空間，該高溫模組係位於該第二空間，該操作介面與該維護介面係位於該第三空間，該操作介面係用於操作該電路模組或該高溫模組的運作，該維護介面係供維護該電路模組或該高溫模組；一送氣模組，運行時係對該第一空間送氣；一上蓋體，係於該機台本體的上方遮蔽該第一空間與該第二空間，且具有一出氣口，該出氣口係位於該第二空間的高溫模組的上方；一側壁體，係於該機台本體的側邊遮蔽或開放該第三空間，以遮蔽或外露該操作介面與該維護介面；以及一控制模組，係令該送氣模組運行，使該第一空間的氣壓大於該第二空間的氣壓，而產生由該第一空間進入該第二空間朝出氣口流動的氣流，以藉由該出氣口的出氣，而逸散該電路模組與該高溫模組運行時所產生的熱量，其中，該第一擋牆係隔開該電路模組與該高溫模組，而避免該高溫模組運行時的高溫，影響該電路模組的正常運行。
2. 如申請專利範圍第1項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，該第一擋牆背離該送氣模組的一側係具有一氣流流動通道，俾提供該第一空間的氣流流動到該第二空間的通道。
3. 如申請專利範圍第1項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，該側壁體具有一顯示面板，該顯示面板係於該側壁體遮蔽該第三空間時，顯示該電路模組或該高溫模組的運行狀態。
4. 如申請專利範圍第1項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，該高溫模組係具有一烘箱，該烘箱運行時係用於對一標準氣體與一樣品氣體提供一高溫量測環境，該機台本體還具有一標氣導入管路、一樣氣導入管路與一標氣流量感測器，該樣氣導入管路係引導該樣品氣體進入該烘箱，該標氣導入管路係引導該標準氣體進入該烘箱，該標氣流量感測器係感測該標氣導入管路的標準氣體流量，當該標氣導入管路感測到的標準氣體流量實質為零時，該控制模組係令該烘箱停止運行。
5. 如申請專利範圍第4項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，該樣氣導入管路係具有至少一彎曲段。
6. 如申請專利範圍第5項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，該彎曲段係具有S形狀。
7. 如申請專利範圍第4項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，該樣氣導入管路係具有一加溫模組，該加溫模組係對該樣氣導入管路所引導的樣品氣體提供加溫，以避免該樣品氣體凝結於該樣氣導入管路的內壁面。
8. 如申請專利範圍第4項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，該烘箱係包括：一箱體，該箱體係具有一箱體本體、一箱體電連接器、一箱體內壁、一箱體導軌、一第一箱體口與一第二箱體口，該第一箱體口與該第二箱體口係相 連通，且分別形成於該箱體本體的第一側面與第二側面，該第一側面係與該第二側面相鄰接；一箱門，該箱門係具有一箱門本體、一箱門電連接器、一箱門內壁、一箱門外壁、一隔熱件與一箱門口，該隔熱件係位於該箱門內壁與該箱門外壁之間，以阻隔該箱門內壁與該箱門外壁之間的熱量傳導；該箱門外壁具有一箱門導軌，該箱門導軌係與該箱體導軌結構配合，俾引導該箱門本體進入該箱體本體中，直到該箱門本體抵靠該箱體內壁，而透過該箱門本體封閉該第一箱體口與該第二箱體口，以在該箱體本體與該箱門本體間形成一烘熱腔室，並達成該箱體電連接器與該箱門電連接器的電性連接；一烘熱模組，該烘熱模組係設置於該箱門內壁，係用於烘熱以對該烘熱腔室提供該高溫量測環境，並可在該箱門本體離開該箱體本體後透過該箱門口而外露；以及一溫控模組，該溫控模組係於該箱體電連接器與該箱門電連接器電性連接時，控制該烘熱模組的運行，使該烘熱腔室提供該高溫量測環境，並可在該箱門本體離開該箱體本體後透過該第一箱體口與該第二箱體口而外露。
9. 如申請專利範圍第8項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，還包括一溫度安全模組，且該箱門外壁還設置有一箱門把手，該箱門把手係位於該第三空間，俾於該側壁體側向開放該第三空間時，提供施力使該箱門本體離開或進入該箱體本體；該溫度安全模組係設置於該箱門本體上，當該烘熱腔室的高溫環境溫度高於一安全溫度時，該溫度安全模組係令該烘熱模組停止烘熱。
10. 如申請專利範圍第8項所述之內部具操作暨維護介面的揮發性有機物質量測機台，其中，還具有一限制模組，且該箱體還具有一彈性模組，係得對該箱體本體提供彈力，使該箱體內壁緊密抵靠該箱門本體，以減少該箱體內壁與該箱門本體間的間隙，而減少該烘熱腔室的熱能逸散，且當該箱門本體進入該箱體本體而抵靠該箱體內壁，且該箱體電連接器與該箱門電連接器電性連接時，該限制模組係得限制該箱體本體與該箱門本體的相對移動。