TWI602212B - 用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之系統及方法及用於具有資料壓縮及傳輸能力之電子束微影的系統 - Google Patents

用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之系統及方法及用於具有資料壓縮及傳輸能力之電子束微影的系統 Download PDF

Info

Publication number
TWI602212B
TWI602212B TW102135586A TW102135586A TWI602212B TW I602212 B TWI602212 B TW I602212B TW 102135586 A TW102135586 A TW 102135586A TW 102135586 A TW102135586 A TW 102135586A TW I602212 B TWI602212 B TW I602212B
Authority
TW
Taiwan
Prior art keywords
zero
pass
lines
electron beam
beam lithography
Prior art date
Application number
TW102135586A
Other languages
English (en)
Other versions
TW201432771A (zh
Inventor
艾倫Ｍ 凱洛
Original Assignee
克萊譚克公司
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 克萊譚克公司 filed Critical 克萊譚克公司
Publication of TW201432771A publication Critical patent/TW201432771A/zh
Application granted granted Critical
Publication of TWI602212B publication Critical patent/TWI602212B/zh

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H01J37/3175—Projection methods, i.e. transfer substantially complete pattern to substrate
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y10/00—Nanotechnology for information processing, storage or transmission, e.g. quantum computing or single electron logic
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82—NANOTECHNOLOGY
    • B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
    • G01F23/00—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm
    • G01F23/22—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water
    • G01F23/28—Indicating or measuring liquid level or level of fluent solid material, e.g. indicating in terms of volume or indicating by means of an alarm by measuring physical variables, other than linear dimensions, pressure or weight, dependent on the level to be measured, e.g. by difference of heat transfer of steam or water by measuring the variations of parameters of electromagnetic or acoustic waves applied directly to the liquid or fluent solid material
    • G01F23/284—Electromagnetic waves
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/302—Controlling tubes by external information, e.g. programme control
    • H01J37/3023—Programme control
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3174—Particle-beam lithography, e.g. electron beam lithography
    • H01J37/3177—Multi-beam, e.g. fly's eye, comb probe
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317—Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175—Lithography
    • H01J2237/31761—Patterning strategy
    • H01J2237/31762—Computer and memory organisation
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
    • H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
    • H01J2237/317—Processing objects on a microscale
    • H01J2237/3175—Lithography
    • H01J2237/31777—Lithography by projection
    • H01J2237/31789—Reflection mask

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Theoretical Computer Science (AREA)
  • Thermal Sciences (AREA)
  • Fluid Mechanics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Description

用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之系統及方法及用於具有資料壓縮及傳輸能力之電子束微影的系統 [相關申請案之交叉參考]
美國政府具有在本發明中之一支付授權及在有限環境中要求專利所有者在合理條件下授權給其他者之權利，如藉由由國防高等研究計劃署授予之合約第HR0011-07-9-0007之條款所提供。
本發明係關於且主張自以下所列之(若干)申請案(「相關申請案」)之最早可用有效申請(若干)日期(例如，申請對於除了臨時專利申請案之最早可用優先權日期或根據35 USC§119(e)規定主張臨時專利申請案之(若干)相關申請案之任何及所有前案、前前案、前前前案等申請案之權利)之權利。
相關申請案：為了USPTO額外法定要求之目的，本申請案構成2012年10月1日申請之名為GRAY-SCALE RASTER DATA COMPRESSION FOR MASKLESS LITHOGRAPHY(Allen Carroll為發明人)申請案第61/708,163號之美國臨時專利申請案之一正規(非臨時)專利申請案。
本發明大體上係關於影像資料之壓縮、傳輸及解壓縮，且特定言之係關於一反射電子束微影系統中之灰色調影像資料之壓縮、傳輸及解壓縮。
一微影程序包含一抗蝕劑之圖案化曝光，其容許選擇性移除抗蝕劑之部分，藉此曝光下伏區域用於諸如蝕刻、材料沈積、離子注入及相似者之選擇性處理。通常言之，微影程序利用紫外線用於抗蝕劑之選擇性曝光。此外，帶電粒子束(例如電子束)已用於高解析度微影抗蝕劑曝光。基於電子束之微影系統之使用容許在相對低電力及相對高速度下之電子束之相對精確控制。
電子束微影已歸因於諸如在射束電流之實際限制而通常侷限於不需要高生產量之應用。無掩模之反射電子束微影系統利用部分克服此等限制且實現比在先前系統中可用之更高總電流及潛在更高生產量之一獨特圖案化傳感器。歸因於高系統生產量現在存在對於圖案資料串流之一高速率之一需要，因為幾何資料必須傳送至電子束工具之印刷頭，其隨著生產量增大變得有問題。反射電子束微影(REBL)之一額外特徵係圖案化傳感器維持於升高電位勢，需要透過光纖鏈路將圖案資料傳輸至圖案化傳感器。
在光柵類型電子束微影系統中，圖案資料傳輸通常已不採用資料壓縮，因為一位元流(在二進制束消隱之情況中)或一位元組流(在灰色調消隱之情況中)已足夠以所要速率提供圖案資料。然而，在REBL系統中，各個數位圖案裝置(DPG)可以高至~0.5太位元組/秒鐘之速率消耗圖案資料，此速率甚至藉由如今之商業電信系統之標準係一高速率。無資料壓縮，REBL之資料系統將需要大量光纖及光纖組件，此使系統之此等部件之封裝笨拙且複雜。
當前存在許多通用壓縮方法。然而，通用方法涉及解壓縮演算法，其相對複雜且結果可能不適合像REBL之一系統中之「晶片上」實施，該系統之圖案化傳感器(動態圖案產生器)由其中必須同時解壓縮許多資料串流且因此必須容納解壓縮電路之多個複本之一CMOS晶片組成。因此，可期望提供適合解決先前技術之缺點之一方法及系 統。
本發明揭示一種用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之方法。在一態樣中，該方法包含(但不限於)：接收適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一灰色調影像；將該灰色調影像之線組聚合成三線；藉由一或多個編碼器之操作而循序編碼該灰色調影像之該等三線之各者，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本；及經由建立於該一或多個編碼器與解碼器之各者之間之一組資料路徑而傳輸該灰色調影像之該等編碼三線至該數位圖案產生器之一組解碼器。
在另一態樣中，該方法包含(但不限於)：接收適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一灰色調影像；將該灰色調影像之一組區域之各者之線組聚合成三線，該灰色調影像之各個區域對應於電子束微影系統之一數位圖案產生器之一組片段之一者；藉由一或多個編碼器之操作而循序編碼該灰色調影像之該組區域之各者之一組三線之各者，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本；及傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至該數位圖案產生器之一組解碼器，該組解碼器之各者對應於該數位圖案產生器之該組片段之一者，其中傳輸一區域之該等編碼三線至對應於該區域之一片段之一解碼器。
本發明揭示一種用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之系統。在一態樣中，該系統包含(但不限於)：一影像源，其經組態以儲存適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一或多個灰色調影像；及一資料壓縮系統，其包含：一或多個三線聚合器，其等經組態以：自該影像源接收一灰色調影像；且將該灰色調影像之一組區域之各者之線組聚合成三線，該灰色調影 像之各個區域對應於該電子束微影系統之一數位圖案產生器之一組片段之一者；及一或多個編碼器，其等經組態以：循序編碼該灰色調影像之該組區域之各者之一組三線之各者，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本；且經由一組資料路徑傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至該數位圖案產生器之一組解碼器，該組解碼器之各者對應於該數位圖案產生器之該組片段之一者，其中傳輸一區域之該等編碼三線至對應於該區域之一片段之一解碼器。
本發明揭示一種用於電子束微影之具有資料壓縮及傳輸能力之系統。在一態樣中，該系統包含(但不限於)：一電子束微影光學子系統，其包含一電子源、一組照明光學器件、一數位圖案產生器、經組態以投影自該數位圖案產生器反射之電子至安置於一基板臺上之一或多個基板之一或多個部分上之一組投影光學器件；一影像源，其經組態以儲存適合於藉由電子束微影光學子系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一或多個灰色調影像；及一資料壓縮系統，其包含：一或多個三線聚合器，其等經組態以自該影像源接收一灰色調影像，且將該灰色調影像之一組區域之各者之線組聚合成三線，該灰色調影像之各個區域對應於該電子束光學子系統系統之該數位圖案產生器之一組片段之一者；及一或多個編碼器，其等經組態以循序編碼該灰色調影像之該組區域之各者之一組三線之各者，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本，且經由一組資料路徑傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至該數位圖案產生器之一組解碼器，該組解碼器之各者對應於該數位圖案產生器之該組片段之一者，其中傳輸一區域之該等編碼三線至對應於該區域之一片段之一解碼器。
應瞭解，前述一般描述及以下詳細描述僅係例示性及闡釋性且 不必須如所申請之限制本發明。併入至說明書中且構成說明書之一部分之隨附圖式繪示本發明之實施例且與一般描述一起用於解釋本發明之原理。
100‧‧‧灰色調影像
102‧‧‧影像
104‧‧‧影像
112a‧‧‧資料路徑
112b‧‧‧資料路徑
112c‧‧‧資料路徑
200‧‧‧系統
202‧‧‧壓縮系統
203‧‧‧三線聚合器
204‧‧‧編碼器
204a‧‧‧編碼器
204b‧‧‧編碼器
204c‧‧‧編碼器
205‧‧‧影像源
206‧‧‧數位圖案產生器(DPG)
208‧‧‧解壓縮系統
208a‧‧‧解壓縮系統
208b‧‧‧解壓縮系統
208c‧‧‧解壓縮系統
210‧‧‧解碼器
210a‧‧‧解碼器
210b‧‧‧解碼器
210c‧‧‧解碼器
212‧‧‧資料路徑
302‧‧‧片段
304‧‧‧區域
306‧‧‧區域
400‧‧‧影像
402‧‧‧矩形
500‧‧‧編碼程序
600‧‧‧反射電子束微影系統
604‧‧‧電子槍
606‧‧‧照明光學器件
608‧‧‧投影光學器件
610‧‧‧濾波器
612‧‧‧電子束彎曲器
614‧‧‧晶圓
616‧‧‧微影臺
700‧‧‧流程圖
750‧‧‧流程圖
熟習此項技術者可藉由參考隨附圖式而更好瞭解本發明之許多優勢，其中：圖1A繪示根據本發明之一實施例之由一無掩模之反射電子束微影系統使用以印刷一積體電路圖案至一或多個基板上之一灰色調影像之一部分之一簡化視圖。
圖1B繪示根據本發明之一實施例之一灰色調影像之一部分之一組像素之一簡化視圖。
圖1C繪示根據本發明之一實施例之具有用於突出像素邊界及像素之灰階值之一重疊網格之一灰色調影像之一部分之一組像素之一簡化視圖。
圖2A繪示根據本發明之一實施例之用於自一編碼器至一數位圖案產生器之一解碼器之壓縮資料傳輸之一系統之一方塊圖。
圖2B繪示根據本發明之一實施例之用於自一組編碼器至一數位圖案產生器之一組解碼器之壓縮資料傳輸之一系統之一方塊圖。
圖3A繪示根據本發明之一實施例之一反射電子束微影系統之一整個數位圖案產生器之一簡化示意圖。
圖3B繪示根據本發明之一實施例之一反射電子束微影系統之數位圖案產生器之一單一片段之一簡化示意圖。
圖4繪示根據本發明之一實施例之適合用於壓縮、傳輸及解壓縮之一積體電路圖案之一簡化示意圖。
圖5繪示根據本發明之一實施例之一三線編碼程序之一流程圖。
圖6繪示根據本發明之一實施例之配備有資料壓縮、傳輸及解壓 縮能力之反射電子束微影系統之一簡化示意圖。
圖7A繪示根據本發明之一實施例之用於壓縮資料傳輸之一方法之一流程圖。
圖7B繪示根據本發明之一實施例之用於壓縮資料傳輸之一方法之一流程圖。
應瞭解，前述一般描述及以下詳細描述僅係例示性及闡釋性且不必須如所申請之限制本發明。併入至說明書中且構成說明書之一部分之隨附圖式繪示本發明之實施例且與一般描述一起用於解釋本發明之原理。將詳細參考在隨附圖示中繪示之所揭示之標的。
大體上參考圖1A至圖6，描述根據本發明之用於在一微影系統中之資料壓縮及傳輸之一系統。
本發明係針對一種適合於幫助減小資料傳輸限制之與諸如無掩模之反射電子束微影(REBL)之無掩模之電子束微影相關聯之資料壓縮、傳輸及解壓縮技術。在積體電路資料之情況中，特定重要性之特徵包含：(i)執行「無損失」壓縮之能力(即在解壓縮之後恢復之資料與壓縮之前之資料相同)；(ii)解壓縮方法應足夠簡單，使得可在高速度下使用相對簡單電子器件完成該方法；(iii)解壓縮方法應具有低風險「過量延時」(即其中資料解壓縮落後對於資料之要求之情況)；及(iv)壓縮資料組應係「串流導向式」。在此情況中，應能夠以一連續方式解壓縮串流導定式壓縮資料組，而非經常適用於諸如檔案壓縮/解壓縮之其他壓縮/解壓縮之一「批次處理」方式。如此一來，對於一給定系統之壓縮方法之適當選擇不必須為提供最高可用壓縮比率之壓縮方法。確切而言，本發明之壓縮方法係促進整個系統之設計之方法。
在本文中注意，一REBL系統利用一光柵灰色調影像以印刷一積 體電路圖案資料至一或多個晶圓上。在一實施例中，灰階係五個位元，包含0至31之間之一範圍。此實現大約一像素直徑之1/20之特徵邊緣位置解析度。此外，因為在其上印刷灰階圖案之抗蝕劑係一非線性記錄媒體，所以抗蝕劑之顯影通常產生在其中吸收能量等於一臨限值之輪廓附近之清晰特徵邊緣。在REBL中之一經驗方法係印刷一給定寬度(或臨界尺寸(CD))之一線，曝光系統之像素之直徑應不超過約該CD的0.4倍。
積體電路圖案係固有二維，不同於通常被考慮為一維之大多數資料串流(例如，文字)。然而，為了傳輸之目的，灰色調資料必須轉換至一維時間序列。如此一來，將一給定積體電路圖案中之二維結構固有之一部分折疊至對應一維傳輸資料串流係有利的，因為此導致碼效率之一改良。因此，利用大小為大約3x3像素之字元之壓縮方案非常適合於在一灰色調積體電路圖案中表達資訊。本發明之資料壓縮方法及系統併入此原理。
圖1A至圖1C繪示適合用於藉由本發明之方法及系統之壓縮之一灰色調影像100之簡化視圖。圖1A繪示以一灰色調格式呈現之一積體電路圖案之一小部分。在一實施例中，分配影像100之像素在一所選數值範圍內之灰度值。舉例而言，可分配影像100之像素在0與31之間之一灰色調值，其中一較高數值對應於一較深灰色調。圖1B繪示對應於影像100之一部分之影像102。在此意義上，影像102係影像100之一小部分102之一放大視圖。另外，圖1C繪示對應於影像102之一部分(及影像100之甚至一更小部分)之影像104。另外，在影像102上疊加一網格以繪示與一網格單元內之各個像素相關聯之像素邊界及灰色調值(編號為0至31之間)。應注意，此可針對整個影像100執行。
圖2A及2B根據本發明之實施例之用於在一微影系統中之壓縮資料傳輸之一系統200之一方塊圖。在Lordi等人在2010年4月27日發佈 之美國專利第7,704,653號中詳細描述使用一數位圖案產生器之反射電子束微影及相關聯之資料壓縮技術，該案之全文以引用之方式併入本文中。申請人強調Lordi等人將數位圖案產生器稱為一「動態圖案產生器」。為了本發明之目的，應將此等術語解釋為等效物。另外，由Gubiotti等人在「Reflective electron beam lithography：lithography results using CMOS controlled digital pattern generator chip,」Proc.SPIE 8680，Alternative Lithographic Technologies V，86800H(2013年3月26日)中詳細描述使用CMOS控制數位圖案產生器晶片之反射電子束微影，該文之全文以引用之方式併入本文中。
現在參考圖2A，在一實施例中，系統200包含用於壓縮由一電子束微影系統(例如無掩模之REBL)使用以印刷一圖案至一所選基板(例如矽晶圓)上之一或多個灰色調影像之壓縮系統202。在另一實施例中，壓縮系統202包含用於聚合一或多個灰色調影像之線至三線之一三線聚合器203。在另一實施例中，壓縮系統202包含經組態以在聚合之後循序編碼灰色調影像之三線之一或多個三線編碼器。
在另一實施例中，系統200包含一數位圖案產生器(DPG)206。舉例而言，系統200之DPG 206可由一反射電子束微影系統之一DPG組成(例如，見圖6)。在另一實施例中，系統200之DPG包含一或多個解壓縮系統208。在一進一步實施例中，該一或多個解壓縮系統208包含用於解壓縮經由資料路徑212自一或多個編碼器204傳輸之壓縮資料之一或多個解碼器210。
在另一實施例中，系統200包含(但未要求包含)通信耦合至壓縮系統202之一影像源205。在此方面，壓縮系統202可自影像源205檢索一或多個灰色調影像。在一實施例中，三線聚合器203可自影像源205接收一或多個灰色調影像且聚合一或多個灰色調影像之線至三線組。
在本文中認知，可以此技術中已知之任何方式通信耦合影像源 205及壓縮系統202。舉例而言，可經由一有線或無線連接通信耦合影像源205及壓縮系統202。在另一實施例中，接近於壓縮系統202定位影像源205。在另一實施例中，在壓縮系統202之相同外殼內安置影像源205。在另一實施例中，相對於壓縮系統202遠端定位影像源205。在此方面，影像源205及壓縮系統202可經由一共同網路(例如，網際網路、內部網路及相似者)而處於相通信。
影像源205可包含適合於儲存灰色調影像資料之任何已知記憶體裝置。舉例而言，影像源205可包含(但不限於)隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)或諸如一大容量儲存裝置、硬碟機、CDROM、DVDROM、磁帶、可擦除可程式化唯讀記憶體(EPROM或快閃記憶體)、任何磁性、電磁、紅外線、光或電系統、用於儲存資訊之設備或裝置或適合於儲存電子資料且能夠耦合至壓縮系統202之任何其他類型之媒體之一持久性儲存器。
在另一實施例中，壓縮系統202之一或多個編碼器204可傳輸編碼/壓縮灰色調影像資料至DPG 206之一或多個解碼器。在另一實施例中，壓縮灰色調影像資料可經由一資料路徑212傳輸至DPG 206之一或多個解碼器。舉例而言，壓縮灰色調影像資料可經由建立於壓縮系統202之編碼電路與DPG 206之解碼電路之間之一或多個光纖鏈路傳輸至DPG 206之一或多個解碼器。
現在參考圖2B，繪示用於由一REBL系統使用之一或多個灰色調影像之壓縮及解壓縮之系統200之一較佳實施例。申請人強調實施例之描述及與圖2A相關聯之功能應經解釋以擴展至圖2B，除非另有指明。同樣，與圖2B相關聯之實施例及功能應經解釋以擴展至圖2A，除非另有指明。
在一實施例中，壓縮系統202包含用於自影像源205接收一灰色調影像之一或多個聚合器203。在另一實施例中，一或多個聚合器用 於將灰色調影像之一組區域之各者之一組線聚合成三線。再參考圖1A至圖1C，且藉由實例，可以類似於以下程序執行線至三線之聚合。首先，在最左行之三個「0」可逐位元串接至(以上-中-下順序)儲存為一16位元十六進制表達0x0000之一15位元值。第二，在下一行中，重複「12」可逐位元串接至儲存為一16位元十六進制值0x318C之一15位元值。第三，重複「25」可逐位元串接至儲存為一16位元十六進制值0x6739之一15位元值。最後，在第四行中之非重複值(7、8、8)可逐位元串接且儲存為一16位元十六進制值0x1D08。在本文中注意，上述聚合程序及上文中列出之值無限制且僅為了繪示性目的提供。
在另一實施例中，壓縮系統202包含多個編碼器。舉例而言，壓縮系統202可包含一第一編碼器204a、一第二編碼器204b及高至且包含一第N個編碼器204c。在另一實施例中，接著影像線至三線之聚合，編碼器204a至204c循序編碼灰色調影像之該組區域之三線。舉例而言，一給定編碼器(例如，204a至204c)可接著自灰色調影像之一給定區域循序編碼一或多個三線。雖然在圖2B中呈現為一單一聚合器203，但在本文中應注意，在另一實施例中，壓縮系統202可包含多個聚合器203。在此意義上，多個聚合器之各者可對應於一給定編碼器(例如，204a至204c)。
在一實施例中，壓縮系統202之編碼器204a至204c配備有經組態以儲存三線片段及一寫入位置之一或多個碼本。在一進一步實施例中，與編碼器204a至204c相關聯之一或多個碼本由能夠儲存三線片段之一適度數量之一聯合記憶體組成。舉例而言，一或多個碼本能夠儲存高至1024個三線片段，各者由1、2或3十六進制值組成。在另一實施例中，一或多個碼本包含可初始化為0之一寫入位置。
在另一實施例中，系統200包含一或多個解壓縮系統208a至 208c。在一實施例中，系統200可包含多個解壓縮系統208a至208c，其等之各者具有一解碼器210a、210b或210c，如圖1B中所示。舉例而言，解壓縮系統208a至208c可由一DPG 206之一解壓縮電路之多個複本組成，其中各個解壓縮電路包含至少一解碼器。雖然未展示，在本文中進一步認知，在另一實施例中，DPG可包含一單一解壓縮系統，該系統包含一解壓縮電路之多個複本，其中各個解壓縮電路包含至少一解碼器。
在一實施例中，系統200之DPG 206經設計為「片段」之一集合。圖3A及3B描繪根據本發明之一實施例之一整個DPG 206及組成DPG 206之片段302之一簡化視圖。在一實施例中，圖3A之DPG由64個片段(例如片段302)構成。在另一實施例中，各個片段302係64像素-列高。如此一來，整個DPG 206可係4096像素-列高。在另一實施例中，各個片段302提供有一單獨資料串流。圖3B描繪表示提供至一個別片段302之資料串流之總結構之一概念圖。另外，區域304代表灰色資料之一單一64像素線，藉此區域306表示由64像素值之三個聚合線組成之三線。
在另一實施例中，該組解碼器210a至210c之各者對應於數位圖案產生器206之片段之一者。在此方面，各個片段302可功能性表現為一微型DPG，藉此各個片段302具有一專用資料串流(例如，112a至112c)及解碼器(例如210a至210c)。在此意義上，圖2B之解壓縮系統208a至208c之各者可考慮為對應於DPG 206之一組片段之一者。藉由實例，在其中各個片段係64像素高且經編碼之灰色調影像係N像素寬乘M像素高之情況中，一給定編碼器210a至210c將在係N像素寬x64像素高之灰色調影像之一部分上操作。在此方面，各個編碼器210a至210c對應於解碼器210a至210c之一者。
在另一實施例中，壓縮系統202之編碼器204a至204c可傳輸編碼/ 壓縮灰色調影像資料至DPG 206之解碼器210a至210c。舉例而言，一第一編碼器204a可傳輸灰色調影像之一第一區域之編碼三線之各者至數位圖案產生器206之一第一片段之一第一解碼器210a。此外，一第二編碼器204b可傳輸灰色調影像之一第二區域之編碼三線之各者至數位圖案產生器206之一第二片段之一第二解碼器210b。另外，一第N編碼器204c可傳輸灰色調影像之一第N區域之編碼三線之各者至數位圖案產生器206之一第N片段之一第N解碼器210c。
在另一實施例中，壓縮灰色調影像資料可經由一組資料路徑112a至112c傳輸至DPG 206之解碼器之各者。舉例而言，壓縮灰色調影像資料可經由建立於壓縮系統202之編碼電路之編碼器204a至204c之各者與DPG 206之解碼電路之解碼器210a至210c之間之一組光纖鏈路傳輸至DPG 206之解碼器210a至210c，如圖2B中所示。
在另一實施例中，灰色調影像之各個區域對應於或可映射至DPG(例如，REBL系統之DPG)之片段302之一者。在另一實施例中，接著聚合，編碼器204a至204c之各者傳輸影像之一給定區域之編碼三線至對應於該區域之一片段之一解碼器。舉例而言，來自灰色調影像之一區域之待映射至DPG 206之一給定片段302之影像資料可藉由聚合器203聚合且接著藉由經由一給定資料路徑(例如，112a、112b或112c)與給定片段相通信之一編碼器(例如，204a、204b或204c)編碼，如圖2B中所示。
在一實施例中，雖然未展示，本文中所述之(若干)壓縮/解壓縮系統可進一步包含一非暫時性儲存媒體(即，記憶體媒體)，該媒體含有經組態以導致(若干)解壓縮/解碼系統之一或多個處理元件實施貫穿本發明所描述之多種步驟之一或多者之程式指令。記憶體媒體可包含在本技術中已知之記憶體媒體，諸如隨機存取記憶體(RAM)、唯讀記憶體(ROM)或諸如一大容量儲存裝置、硬碟、CDROM、DVDROM、 磁帶、可擦除可程式化唯讀記憶體(EPROM或快閃記憶體)、任何磁性、電磁、紅外線、光或電系統、用於儲存資訊之設備或裝置或適合於儲存電子資料之任何其他類型之媒體之一持久性儲存器。一般而言，術語「處理元件」可經廣泛界定以包含具有執行來自一記憶體媒體之指令之處理或邏輯能力之任何裝置。舉例而言，(若干)壓縮/解壓縮系統之一或多個處理元件可包含經組態以執行軟體演算法及/或指令之任何微處理器類型裝置。在一實施例中，一或多個處理元件可由一台式電腦或經組態以執行經組態以操作(若干)壓縮/解壓縮系統之一或多個組件之一程式之其他電腦系統(例如，網路電腦)組成，如貫穿本發明所描述。應認知，貫穿本發明所描述之步驟可藉由一單一電腦系統或另外，多個電腦系統而實施。在另一實施例中，(若干)處理元件可包含一單一或多核心處理器。
在另一實施例中，DPG之(若干)壓縮/解壓縮系統之處理能力可藉由在DPG致能之反射電子束微影之技術中已知之任何方法而實施。舉例而言，DPG可包含一或多個邏輯元件(例如，CMOS裝置)。舉例而言，DPG 206之一些或所有處理要求可採用一或多個CMOS裝置實施。
在本文中注意，雖然如圖2A至2B中所示之本發明之系統200描繪編碼器與解碼器之間之一對一對應性，但此不應理解為一必要限制。在本文中認知，在一些實施例中，壓縮系統202之一單一編碼器可編碼灰色調資料且傳輸編碼資料至DPG 206之多個解碼器。
更一般而言，邏輯、模組、組件、系統及功能至不同單元之分離可反映一實際實體分組及軟體、韌體及/或硬體之分配或可對應於藉由一單一軟體程式、韌體程式及/或硬體單元執行之不同任務之一概念分配。所繪示之邏輯、模組、組件、系統及功能可位於一單一位點(例如，如由一處理裝置所實施)或可分配於複數個位置之上方。
在另一實施例中，雖然未展示，本發明之多種組件(諸如壓縮及解壓縮系統)可包含為了簡潔之目的已自本發明排除之多個其他組件及子系統。舉例而言，在本文中認知，貫穿本發明所描述之壓縮及解壓縮系統可包含用於信號傳輸、接收且處理本發明之多種信號(例如，光信號及RF信號)所需之多種信號傳輸及處理元件(例如，傳輸器、接收器或類似者)。
圖4呈現適合於藉由本發明之壓縮/解壓縮系統而處理之一灰色調。影像。在一第一步驟中，一或多個聚合器203可應用三線組合程序(如上文所述)至影像400之最高64列。申請人強調此程序類似於相對於圖1A所實施之程序。然而，申請人指出，圖1A之列水平運行，然而圖4之列垂直運行，如圖4之矩形402所指示。接著此三線聚合程序，一或多個聚合器203輸出N/3三線，各者含有64個十六進制三值組(triple)(即自三個5位元像素串接之16位元值)。在一進一步步驟中，編碼器204a至204c可循序編碼三線之各者(例如，圖4中從右至左)。在另一步驟中，編碼器204a至204c可在影像400之三線之各者上執行一循序編碼程序。經利用以循序編碼各個三線之編碼程序可包含編碼器204a至204c之一或多者之操作以執行一給定三線在灰色調影像之一區域中之一第一遍次。編碼程序可進一步包含藉由編碼器204a至204c之一或多者之操作而執行給定三線之一第二遍次。另外，完全經處理之第一遍次之輸出字串可作為第二遍次輸出之輸入字串。
圖5繪示根據本發明之一實施例之適合用於編碼三線之三線編碼程序。在一實施例中，編碼程序包含使用編碼器(例如204a至204c)之一者執行三線之一第一遍次。在遍次1之一第一步驟502中，提供一空遍次1輸出字串。在遍次1之一第二步驟(504)中，自三線之開頭至末端量測三線之值。假使遇到n個重複0之一序列(506)中，則系統200附加指示n個重複0之一序列之一零重複文字指示符表達至第一遍次輸出 字串。舉例而言，零重複文字指示符表達可由「(0,n)」組成。假使遇到n個重複0非零三值組之一序列(508)中，則系統200附加指示一n個重複0非零三值組之一序列之一非零三值組重複文字指示符至第一遍次輸出字串。舉例而言，非零重複文字指示符表達可由「(T,n)」組成，其中T表示三值組值。
申請人強調，在所呈現之實例中已利用圓括弧以指示值之一重複。應注意，本發明不限於此文字裝置且可利用任何符號表達以呈現零或非零值或表達之重複值。
假使量測到在n個非重複非零三值組之一序列(510)中，則將三值組分成(516)長度為1、2或3之群組。從而，系統200附加(518)指示1、2或3大小三值組組之一組合之一非重複非零文字指示符至第一遍次輸出字串。在此方面，可使用非重複非零文字指示符表示三線之各個群組。舉例而言，具有1、2或3個三值組之各個群組可藉由諸如各自{Ti}、{Ti,Tj}及{Ti,Tj,Tk}表達而在大括弧中呈現。如此一來，群組之一組合可藉由{Ti}、{Ti,Tj}及{Ti,Tj,Tk}之任何組合而呈現。舉例而言，假使遇到八個非零三值組(T0,T1,,...,T7)之一字串，則系統200可附加文字指示符「{T0,T1,T2}{T3,T4,T5}{T6,T7}」至遍次1輸出字串。申請人強調，在所呈現之實例中已利用大括弧以指示非重複非零值之群組。然而，應注意，本發明不限於此文字裝置且可利用任何符號表達以呈現非重複非零值或表達。
在一實施例中，編碼程序500包含執行三線之一第二遍次。在本文中注意，遍次1輸出等效於起始三線，在於其可經反向轉錄以精確複製起始三線。可丟棄起始三線，藉此利用遍次1輸出作為至第二遍次之輸入。吾等現在丟棄起始三線且使用遍次1輸出作為至遍次2之輸入。
在三線之遍次2之一第一步驟520中，提供一空第二遍次輸出字 串。在此方面，一完全經處理第一輸出字串作為至第二遍次之一輸入。假使遇到(步驟516至518之)非重複非零文字指示符之一或多個分量(524)中，系統200檢查與給定編碼器(例如，204a至204c)相關聯之碼本(526)。一旦判定非重複非零文字指示符之至少一分量係在碼本中在寫入位置I處，系統200旋即附加(528)一碼本參考指示符至第二遍次輸出字串，其中碼本參考指示符指示在寫入位置I處包含非重複非零文字指示符之至少一分量。
一旦判定非重複非零文字指示符之至少一分量不在碼本中，系統200可添加非重複非零文字指示符之至少一分量至碼本於寫入位置I處(530)。此外，系統200可使寫入位置累加1(532)，若其超過1023(最大可用寫入位置)則回繞(返回至0)，且附加非重複非零之至少一分量自第一遍次輸出至第二遍次輸出(534)。
舉例而言，在其中使用大括弧(例如，{T...})呈現非重複非零文字指示之至少一分量之情況中，當在大括弧中之一表達{T...}遇到時(524)，系統200可針對此一表達檢查碼本(526)。當在大括弧中之表達係在碼本中在寫入位置I處之情況中，系統200可附加「(R,I)」至遍次2輸出字串。假使在大括弧中之表達不在碼本中，則系統200可添加大括弧中之表達{T...}至碼本在寫入位置I(530)。此外，系統200可使寫入位置累加1(532)，若其超過1023則回繞(返回至0)，且自第一遍次輸出至第二遍次輸出附加表達{T...}。
假使遇到一零重複文字指示符(例如，(0,n))或一非零重複文字指示符(例如，(T,n))(536)，系統200附加經遇到之零重複文字指示符或非零重複文字指示符至第二遍次輸出字串。
在本文中注意，作為所需資訊之部分已放置於碼本中之一結果不再可以僅使用遍次2輸出重建構遍次1輸出。然而，一適當設計之解碼器，依如由特定編碼器(例如，204a至204c)使用之相同序列建構碼 本之解碼器將重建構三線之原始序列。如此一來，在另一實施例中，一給定解碼器(例如，210a至210c)經組態以依如由對應編碼器(例如，204a至204c)利用之相同序列建構碼本。
在另一實施例中，零重複文字指示符、非零三值組T重複文字指示符及非重複非零文字指示符之至少一分量可由一很少的位元操作碼替換以完成代碼定義。在文字指示符由圓括弧及大括弧組成之情況中，表達(R,...)、{T,...}等可由幾位操作碼替換以完成代碼定義。舉例而言，可實施一3位元操作碼。
在本文中注意，執行上文所述之程序所需之碼係大體上有效的。此係因為(a)相關聯之碼本含有對三值組之常用序列之參考，所以短位址(例如，10位元)可用於複製相對長序列(例如，45位元)；(b)使用其中可應用之運行長度編碼有效編碼重複符號；及(c)代碼經調適至整合式圖案之結構。申請人強調，在4至20之範圍內已達成壓縮比率。
圖6繪示配備有本發明之壓縮資料傳輸能力之一反射電子束微影系統之一簡化示意圖。
REBL系統600可包含一電子槍604、一組照明光學器件606及一電子束彎曲器612，其等一起作用以引導一電子照明束至數位圖案產生器206上。DPG用於產生圖案在晶圓上，藉此DPG之圖案205可程式化。在此方面，DPG之一或多個解碼器210a至210c可自壓縮系統202之一或多個編碼器204a至204c接收壓縮資料，如貫穿本發明所描述。從而，可程式化反射圖案表面205產生一反射圖案相應於來自解碼器210a至210c(與DPG之片段(未展示)相關聯)之解碼影像灰色調影像資料。利用投影光學器件608以自DPG晶片206之表面205引導一投影電子束至安置於一微影臺616上之一或多個晶圓614之表面上。投影光學器件608可包含由交叉靜電及適合於自照明束分離投影束之磁偏轉場 組成之一ExB濾波器610(例如，維恩濾波器)。
雖然本發明討論在一REBL系統中之積體電路圖案資料之傳輸之情況下之用於資料壓縮之方法及系統，但在本文中注意，壓縮及解壓縮技術可擴展至涉及灰色調資料至一數位圖案產生器或等效物之傳輸之任何環境，如貫穿本發明所討論。
在圖2A至2B中繪示之系統200之實施例可如本文中所述之經進一步組態。此外，系統200可經組態以執行本文中討論之任何(若干)方法實施例之任何(若干)其他步驟。
圖7A繪示根據本發明之一實施例之用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之一流程圖700。在步驟702中，接收適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一灰色調影像。在步驟704中，將該灰色調影像之線組聚合成三線。在步驟706中，藉由一或多個編碼器(例如，204a至204c)之操作而循序編碼灰色調影像之三線之各者。此外，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本。在步驟708中，經由建立於一或多個編碼器與各個解碼器之間之一組資料路徑(例如，光纖鏈路)而傳輸該灰色調影像之該等編碼三線至數位圖案產生器之一組解碼器。
申請人強調，上文中步驟之順序不應解釋為限制性。預期可以一不同順序實施程序700之步驟之至少一部分。
圖7B繪示根據本發明之一實施例之用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之一流程圖750。在步驟752中，接收適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一灰色調影像。在步驟754中，將該灰色調影像之一組區域之各者之線組聚合成三線。此外，該灰色調影像之各個區域對應於該電子束微影系統之一數位圖案產生器之一組片段之一者。在步驟756中，藉由一或多 個編碼器(例如，編碼器204a至204c)之操作而循序編碼灰色調影像之該組區域之各者之一組三線之各者。此外，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本。在步驟758中，傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至數位圖案產生器之一組解碼器(例如，解碼器210a至210c)。此外，該組解碼器之各者對應於數位圖案產生器之該組片段之一者。在此方面，一區域之編碼三線可傳輸至對應於給定區域之一片段之一解碼器。
申請人強調，上文中步驟之順序不應解釋為限制性。預期可以一不同順序實施程序750之步驟之至少一部分。
熟習此項技術者將認知，習知技術已進步至其中系統之態樣之硬體與軟體實施之間存在極少區別；硬體或軟體之使用大體上係(但非經常，在於在某些環境中硬體與軟體之選擇可變得重要的)表示成本相對效率權衡之一設計選擇之點。熟習此項技術者將瞭解，存在多種運載工具，可藉由此等運載工具影響本文中所述之程序及/或系統及/或其他技術(例如，硬體、軟體及/或韌體)，且較佳運載工具將與其中部署程序及/或系統及/或其他技術之背景一起變動。
熟習此項技術者將認知，以本文中提到之方式描述裝置及/或程序且其後使用工程實踐以整合此等描述之裝置及/或程序至資料處理系統中在該技術內係常見的。即，可經由一合理數量之試驗將本文中描述之裝置及/或程序之至少一部分整合至一資料處理系統中。熟習此項技術者將認知，一典型資料處理系統通常包含一系統單元外殼、一視訊顯示裝置、諸如揮發性或非揮發性記憶體之一記憶體、諸如微處理器及數位信號處理器之處理器、諸如操作系統、驅動器、圖形使用者介面及應用程式之計算實體、諸如一觸控墊或螢幕之一或多個互動裝置及/或包含回饋迴路之控制系統之一或多者。可利用任何適合市場可購組件(諸如在資料計算/通訊及/或網路計算/通訊系統中通常 找到之組件)實施一典型資料處理系統。
本文中所述之標的有時繪示在不同其他組件中含有或與該等組件相連之不同組件。應瞭解，此等經描繪之架構僅係例示性，且事實上可實施達成相同功能之許多其他架構。在一概念意義上，為達成相同功能之任何組件之安排經有效「關聯」使得達成所要功能。因此，為達成一特定功能在本文中組合之任何兩個組件可看作彼此「相關聯」使得達成所要功能，不管架構或中間組件。同樣，如此相關聯之任何兩個組件亦可視為彼此「可操作連接」或「可操作耦合」以達成所要功能，且能夠如此相關聯之任何兩個組件亦可視為彼此「可操作可耦合」以達成所要功能。可操作可耦合之具體實例包含(但不限於)實體可匹配及/或實體互動組件及/或無線可互動及/或無線互動組件及/或邏輯互動及/或邏輯可互動組件。
雖然已展示及描述在本文中所述之本標的之特定態樣，熟習此項技術者將瞭解，基於本文中之教示，可做出改變及修改而不脫離本文中所述之標的及其更廣態樣且因此，隨附申請專利範圍在其等之範疇內包含所有此等改變及變動如同在本文中所述之標的之真實精神及範疇內。此外，應瞭解，由隨附申請專利範圍界定本發明。
202‧‧‧壓縮系統
203‧‧‧三線聚合器
204‧‧‧編碼器
205‧‧‧影像源
206‧‧‧數位圖案產生器(DPG)
208‧‧‧解壓縮系統
210‧‧‧解碼器
212‧‧‧資料路徑

Claims (34)

  1. 一種用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之方法，其包括：接收適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一灰色調影像；將該灰色調影像之一組區域之各者之線組聚合成三線，該灰色調影像之各個區域對應於該電子束微影系統之一數位圖案產生器之一組片段之一者；根據一編碼程序藉由編碼電路之操作而循序編碼該灰色調影像之該組區域之各者之一組三線之各者，該編碼電路具有一或多個編碼器，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本；及傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至該數位圖案產生器之一組解碼器，該組解碼器之各者對應於該數位圖案產生器之該組片段之一者，其中一區域之經編碼三線係經傳輸至對應於該區域之一片段之一解碼器。
  2. 如請求項1之方法，其進一步包括：在將該灰色調影像之一組區域之各者之線組聚合成三線之前，分配灰度值至該經接收之灰色調影像之像素之各者，其中該等經分配之灰度值係在一所選範圍內。
  3. 如請求項1之方法，其中該編碼程序進一步包括：執行一三線之一第一遍次；及執行該三線之一第二遍次，其中一完全經處理第一遍次輸出字串作為至該第二遍次之一輸入。
  4. 如請求項3之方法，其中該編碼程序進一步包括： 執行一三線之一第一遍次，其中該第一遍次包含：提供一空第一遍次輸出字串；自該三線之開頭至該三線之末端量測該三線之各個值；一旦量測n個重複0之一序列，旋即附加一零重複文字指示符至該第一遍次輸出字串；一旦量測一非零三值組T之一序列，旋即附加一非零三值組重複文字指示符至該第一遍次輸出字串；一旦量測n個非重複非零三值組之一序列，則將該非重複非零三值組分成含1、2或3個三值組之群組且附加指示含1、2或3個三值組之該等群組之一組合之一非重複非零文字指示符至該第一遍次輸出字串；及執行該三線之一第二遍次，其中該第二遍次包含：提供一空第二遍次輸出字串，其中一完全經處理第一遍次輸出字串作為至該第二遍次輸出字串之一輸入；一旦遇到該非重複非零文字指示符之至少一分量，旋即在該碼本中檢查該非重複非零文字指示符之該至少一分量；一旦判定該非重複非零文字指示符之該至少一分量係在碼本中在寫入位置I處，旋即附加一碼本參考指示符至該第二遍次輸出字串，其中該碼本參考指示符指示在該寫入位置I處包含該非重複非零文字指示符之該至少一分量；一旦判定該非重複非零文字指示符之該至少一分量不在該碼本中，旋即添加該非重複非零文字指示符之該至少一分量至該碼本於該寫入位置I處，使該寫入位置累加1且自該第一遍次輸出字串至該第二遍次輸出字串附加該非重複非零文字指示符之該至少一分量；及一旦遇到一零重複文字指示符或一非零重複文字指示符， 旋即附加未經改變之該經遇到零重複文字指示符或該非零重複文字指示符至該第二遍次輸出字串。
  5. 如請求項1之方法，其中該傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至該數位圖案產生器之一組解碼器包括：傳輸該灰色調影像之該組區域之一第一區域之該等編碼三線之各者至該數位圖案產生器之一第一片段之一第一解碼器；及傳輸該灰色調影像之該組區域之至少一第二區域之該等編碼三線之各者至該數位圖案產生器之至少一第二片段之至少一第二解碼器。
  6. 如請求項1之方法，其中該一或多個編碼器包括：一組編碼器，其中該組編碼器之各者經組態以傳輸一組循序編碼三線至該電子束微影系統之該數位圖案產生器之該組解碼器之一者。
  7. 如請求項6之方法，其中該組編碼器係經由一組光纖通信鏈路而通信耦合至該數位圖案產生器之該組解碼器。
  8. 如請求項1之方法，其中該組解碼器之各者經組態以藉由依由一對應編碼器利用之相同序列建構一碼本而解碼自該組編碼器之該對應編碼器接收之一或多個信號。
  9. 如請求項1之方法，其中該電子束微影系統包括：一無掩模之電子束微影系統。
  10. 如請求項9之方法，其中該無掩模之電子束微影系統包括：一無掩模之反射電子束微影系統。
  11. 如請求項1之方法，其中該基板包括：一半導體晶圓。
  12. 如請求項1之方法，其中該編碼程序進一步包含執行一三線之至少一遍次並附加至少一文字指示符至該三線。
  13. 一種用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之方法，其包括：接收適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一灰色調影像；將該灰色調影像之線組聚合成三線；藉由經組態以使用一編碼程序之一編碼電路之操作而循序編碼該灰色調影像之該等三線之各者，該編碼電路具有一或多個編碼器，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本；及傳輸該灰色調影像之該等編碼三線至一解碼電路，該解碼電路具有一數位圖案產生器之一組解碼器，該傳輸係經由建立於該一或多個編碼器與該組解碼器之各者之間之一組資料路徑。
  14. 如請求項13之方法，其進一步包括：在聚合該灰色調影像之線組至三線之前，分配灰度值至該經接收灰色調影像之像素之各者，其中該等經分配之灰度值係在一所選範圍內。
  15. 如請求項13之方法，其中該組解碼器之各者經組態以藉由依由該一或多個編碼器利用之相同序列建構一或多個碼本而解碼自該一或多個編碼器接收之一或多個信號。
  16. 如請求項13之方法，其中該編碼程序進一步包括：執行一三線之一第一遍次；及執行該三線之一第二遍次，其中一完全經處理第一遍次輸出字串作為至該第二遍次之一輸入。
  17. 如請求項16之方法，其中該編碼程序進一步包括：執行一三線之一第一遍次，其中該第一遍次包含：提供一空第一遍次輸出字串； 自一三線之開頭至該三線之末端量測該三線之各個值；一旦量測n個重複0之一序列，旋即附加一零重複文字指示符至該第一遍次輸出字串；一旦量測一非零三值組T之一序列，旋即附加一非零三值組重複文字指示符至該第一遍次輸出字串；一旦量測n個非重複非零三值組之一序列，則將該非重複非零三值組分成含1、2或3個三值組之群組且附加指示含1、2或3個三值組之該等群組之一組合之一非重複非零文字指示符至該第一遍次輸出字串；及執行該三線之一第二遍次，其中該第二遍次包含：提供一空第二遍次輸出字串，其中一完全經處理第一遍次輸出字串作為至該第二遍次輸出字串之一輸入；一旦遇到該非重複非零文字指示符之至少一分量，旋即在該碼本中檢查該非重複非零文字指示符之該至少一分量；一旦判定該非重複非零文字指示符之該至少一分量係在碼本中在寫入位置I處，旋即附加一碼本參考指示符至該第二遍次輸出字串，其中該碼本參考指示符指示在該寫入位置I處包含該非重複非零文字指示符之該至少一分量；一旦判定該非重複非零文字指示符之該至少一分量不在該碼本中，旋即添加該非重複非零文字指示符之該至少一分量至該碼本於該寫入位置I處，使該寫入位置I累加1且自該第一遍次輸出字串至該第二遍次輸出字串附加該非重複非零之該至少一分量；及一旦遇到一零重複文字指示符或一非零重複文字指示符，旋即附加未經改變之該經遇到零重複文字指示符或該非零重複文字指示符至該第二遍次輸出字串。
  18. 如請求項13之方法，其中該組解碼器之各者經組態以藉由依由一對應編碼器利用之相同序列建構一碼本而解碼自該組編碼器之該對應編碼器接收之一或多個信號。
  19. 如請求項13之方法，其中該電子束微影系統包括：一無掩模之電子束微影系統。
  20. 如請求項19之方法，其中該無掩模之電子束微影系統包括：一無掩模之反射電子束微影系統。
  21. 如請求項13之方法，其中該組資料路徑包括：一組光纖通信鏈路。
  22. 一種用於在一電子束微影系統中壓縮資料傳輸之系統，其包括：一影像源，其經組態以儲存適合於藉由一電子束微影系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上之一或多個灰色調影像；及一資料壓縮系統，其包含：一或多個三線聚合器，其等經組態以：自該影像源接收一灰色調影像；且將該灰色調影像之一組區域之各者之線組聚合成三線，該灰色調影像之各個區域對應於電子束微影系統之一數位圖案產生器之一組片段之一者；及執行一編碼程序之編碼電路，該編碼電路包括一或多個編碼器，其等經組態以：循序編碼該灰色調影像之該組區域之各者之一組三線之各者，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本；且傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至一解碼電路，該解碼電路具有該數位圖案產生器之一或多組解碼器，其中該等編碼三線係經由一組資料路徑傳輸，該組解碼器之各者對應於該 數位圖案產生器之該組片段之一者，且其中一區域之經編碼三線係經傳輸至對應於該區域之一片段之一解碼器。
  23. 如請求項22之系統，其中該編碼程序進一步包括：執行一三線之一第一遍次；及執行該三線之一第二遍次，其中一完全經處理第一遍次輸出字串作為至該第二遍次之一輸入。
  24. 如請求項22之系統，其中該編碼程序進一步包括：執行一三線之一第一遍次，其中該第一遍次包含：提供一空第一遍次輸出字串；自一三線之開頭至該三線之末端量測該三線之各個值；一旦量測n個重複0之一序列，旋即附加一零重複文字指示符至該第一遍次輸出字串；一旦量測一非零三值組T之一序列，旋即附加一非零三值組重複文字指示符至該第一遍次輸出字串；一旦量測n個非重複非零三值組之一序列，則將該非重複非零三值組分成含1、2或3個三值組之群組且附加指示含1、2或3個三值組之該等群組之一組合之一非重複非零文字指示符至該第一遍次輸出字串；及執行該三線之一第二遍次，其中該第二遍次包含：提供一空第二遍次輸出字串，其中一完全經處理第一遍次輸出字串作為至該第二遍次輸出字串之一輸入；一旦遇到該非重複非零文字指示符之至少一分量，旋即在該碼本中檢查該非重複非零文字指示符之該至少一分量；一旦判定該非重複非零文字指示符之該至少一分量係在碼本中在寫入位置I處，旋即附加一碼本參考指示符至該第二遍次輸出字串，其中該碼本參考指示符指示在該寫入位置I處包 含該非重複非零文字指示符之該至少一分量；一旦判定該非重複非零文字指示符之該至少一分量不在該碼本中，旋即添加該非重複非零文字指示符之該至少一分量至該碼本於該寫入位置I處，使該寫入位置I累加1且自該第一遍次輸出字串至該第二遍次輸出字串附加該非重複非零之該至少一分量；及一旦遇到一零重複文字指示符或一非零重複文字指示符，旋即附加未經改變之該經遇到零重複文字指示符或該非零重複文字指示符至該第二遍次輸出字串。
  25. 如請求項22之系統，其中該傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至該數位圖案產生器之一組解碼器包括：傳輸該灰色調影像之該組區域之一第一區域之該等編碼三線之各者至該數位圖案產生器之一第一片段之一第一解碼器；及傳輸該灰色調影像之該組區域之至少一第二區域之該等編碼三線之各者至該數位圖案產生器之至少一第二片段之至少一第二解碼器。
  26. 如請求項22之系統，其中該一或多個編碼器包括：一組編碼器，其中該組編碼器之各者經組態以傳輸一組循序編碼三線至該電子束微影系統之該數位圖案產生器之該組解碼器之一者。
  27. 如請求項22之系統，其中該組資料路徑包括：一組光纖通信鏈路。
  28. 如請求項22之系統，其中該電子束微影系統包括：一無掩模之電子束微影系統。
  29. 如請求項28之系統，其中該無掩模之電子束微影系統包括：一無掩模之反射電子束微影系統。
  30. 如請求項28之系統，其中該基板包括：一半導體晶圓。
  31. 一種用於具有資料壓縮及傳輸能力之電子束微影的系統，其包括：一電子束微影光學子系統，其包含：一電子源；一組照明光學器件；一數位圖案產生器；一組投影光學器件，其等經組態以投影自該數位圖案產生器反射之電子至安置於一基板臺上之一或多個基板之一或多個部分上；一影像源，其經組態以儲存一或多個灰色調影像，其適合於藉由該電子束微影光學子系統之操作而印刷一圖案之至少一部分至一基板上；及一資料壓縮系統，其包含：一或多個三線聚合器，其等經組態以自該影像源接收一灰色調影像；且將該灰色調影像之一組區域之各者之多個線組聚合成三線，該灰色調影像之各個區域對應於該電子束光學子系統系統之該數位圖案產生器之一組片段之一者；及執行一編碼程序之編碼電路，該編碼電路包括一或多個編碼器，其等經組態以循序編碼該灰色調影像之該組區域之各者之一組三線之各者，該一或多個編碼器配備有經組態以儲存複數個三線片段及一寫入位置之一碼本；且傳輸該灰色調影像之該組區域之該等編碼三線至一解碼電路，該解碼電路包括一或多個解壓縮系統，該一或多個解壓縮系統具有該數位圖案產生器之一組解碼器，其中該等編碼三線係經由一組 資料路徑傳輸，該組解碼器之各者對應於該數位圖案產生器之該組片段之一者，其中一區域之經編碼三線係經傳輸至對應於該區域之一片段之一解碼器。
  32. 如請求項31之系統，其中該電子束微影系統包括：一無掩模之電子束微影系統。
  33. 如請求項32之系統，其中該無掩模之電子束微影系統包括：一無掩模之反射電子束微影系統。
  34. 如請求項31之系統，其中該基板包括：一半導體晶圓。
TW102135586A 2012-10-01 2013-10-01 用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之系統及方法及用於具有資料壓縮及傳輸能力之電子束微影的系統 TWI602212B (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US201261708163P 2012-10-01 2012-10-01
US14/040,056 US9245714B2 (en) 2012-10-01 2013-09-27 System and method for compressed data transmission in a maskless lithography system

Publications (2)

Publication Number Publication Date
TW201432771A TW201432771A (zh) 2014-08-16
TWI602212B true TWI602212B (zh) 2017-10-11

Family

ID=50432012

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
TW102135586A TWI602212B (zh) 2012-10-01 2013-10-01 用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之系統及方法及用於具有資料壓縮及傳輸能力之電子束微影的系統

Country Status (3)

Country Link
US (1) US9245714B2 (zh)
TW (1) TWI602212B (zh)
WO (1) WO2014055484A1 (zh)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9502315B2 (en) * 2013-12-04 2016-11-22 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Limited Electrical component testing in stacked semiconductor arrangement
US9336993B2 (en) * 2014-02-26 2016-05-10 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Digital pattern generator (DPG) for E-beam lithography
JP6567843B2 (ja) * 2014-07-02 2019-08-28 株式会社ニューフレアテクノロジー 荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法
US9887707B2 (en) * 2016-06-30 2018-02-06 Mapper Lithography Ip B.V. Method and device for generating a decoded and synchronized output
US20180068047A1 (en) * 2016-09-08 2018-03-08 Mapper Lithography Ip B.V. Method and system for fabricating unique chips using a charged particle multi-beamlet lithography system
JP6724267B1 (ja) * 2018-09-03 2020-07-15 株式会社Ｐｒｅｆｅｒｒｅｄ Ｎｅｔｗｏｒｋｓ 学習装置、推論装置、学習モデルの生成方法及び推論方法
CN112640038A (zh) 2018-09-03 2021-04-09 首选网络株式会社 学习装置、推断装置及学习完成模型
CN110991002B (zh) * 2019-11-01 2021-08-31 浙江大学 一种高压缩比的双向反射材质压缩表示模型、方法及装置
CN113903366A (zh) * 2021-10-08 2022-01-07 安徽国芯智能装备有限公司 一种适用于直写光刻机的高速数据传输系统

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6453073B2 (en) * 1994-07-14 2002-09-17 America Online, Inc. Method for transferring and displaying compressed images
US20030081846A1 (en) * 2001-10-26 2003-05-01 Whitehead Jeffrey A. Digital image transmission with compression and decompression
CN1620094A (zh) * 2003-11-20 2005-05-25 佳能株式会社 用于将图像转换为预定格式的图像处理设备及方法
US7704653B2 (en) * 2006-10-25 2010-04-27 Kla-Tencor Corporation Method of data encoding, compression, and transmission enabling maskless lithography
US20100296141A1 (en) * 2009-05-25 2010-11-25 Pfu Limited Image reading apparatus

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3552811B2 (ja) * 1995-09-29 2004-08-11 三菱電機株式会社 ディジタル映像信号符号化装置および復号化装置
US5909658A (en) 1996-06-18 1999-06-01 International Business Machines Corporation High speed electron beam lithography pattern processing system
JP3739604B2 (ja) * 1999-07-19 2006-01-25 シャープ株式会社 画像処理装置
US6924493B1 (en) 1999-08-17 2005-08-02 The Regents Of The University Of California Ion beam lithography system
US6828542B2 (en) 2002-06-07 2004-12-07 Brion Technologies, Inc. System and method for lithography process monitoring and control
US7189498B2 (en) 2004-01-08 2007-03-13 Lsi Logic Corporation Process and apparatus for generating a strong phase shift optical pattern for use in an optical direct write lithography process
EP1719018A1 (en) 2004-02-25 2006-11-08 Micronic Laser Systems Ab Methods for exposing patterns and emulating masks in optical maskless lithography
US7145636B2 (en) 2004-12-28 2006-12-05 Asml Netherlands Bv System and method for determining maximum operational parameters used in maskless applications
KR101359562B1 (ko) 2005-07-08 2014-02-07 넥스젠 세미 홀딩 인코포레이티드 제어 입자 빔 제조를 위한 장치 및 방법
US7606430B2 (en) 2005-08-30 2009-10-20 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method utilizing a multiple dictionary compression method for FPD
US7567338B2 (en) 2006-08-30 2009-07-28 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus and device manufacturing method
US8245162B2 (en) 2007-09-14 2012-08-14 Abrams Daniel S Write-pattern determination for maskless lithography
US8326051B1 (en) * 2008-02-22 2012-12-04 Teradici Corporation Method and apparatus for progressive encoding for text transmission
KR101614460B1 (ko) 2009-05-20 2016-04-21 마퍼 리쏘그라피 아이피 비.브이. 리소그래피 시스템을 위한 패턴 데이터 전환

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6453073B2 (en) * 1994-07-14 2002-09-17 America Online, Inc. Method for transferring and displaying compressed images
US20030081846A1 (en) * 2001-10-26 2003-05-01 Whitehead Jeffrey A. Digital image transmission with compression and decompression
CN1620094A (zh) * 2003-11-20 2005-05-25 佳能株式会社 用于将图像转换为预定格式的图像处理设备及方法
US7704653B2 (en) * 2006-10-25 2010-04-27 Kla-Tencor Corporation Method of data encoding, compression, and transmission enabling maskless lithography
US20100296141A1 (en) * 2009-05-25 2010-11-25 Pfu Limited Image reading apparatus

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
"Lossless Compression Algorithms for the REBL Direct-Write E-Beam Lithography System", George Cramer; Hsin-I Liu; Avideh Zakhor, Proc. SPIE 7637, Alternative Lithographic Technologies II, 3 April 2010 *

Also Published As

Publication number Publication date
US20140097362A1 (en) 2014-04-10
WO2014055484A1 (en) 2014-04-10
TW201432771A (zh) 2014-08-16
US9245714B2 (en) 2016-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI602212B (zh) 用於在一電子束微影系統中之壓縮資料傳輸之系統及方法及用於具有資料壓縮及傳輸能力之電子束微影的系統
CN109952708B (zh) 无损数据压缩
US7492290B1 (en) Alternative encoding for LZSS output
CN105451027B (zh) 空间解相关方法及设备、空间重相关方法及设备以及数据压缩装置
US5272478A (en) Method and apparatus for entropy coding
US6535642B1 (en) Approximate string matching system and process for lossless data compression
KR930008683B1 (ko) 리드-솔로몬 에러 보정 코드 엔코더
EP3734973B1 (en) Method and encoder relating to encoding of pixel values to accomplish lossless compression of a digital image
CN104704825B (zh) 分段图像数据的无损压缩
Fitriya et al. A review of data compression techniques
US7907068B2 (en) FIFO radix coder for electrical computers and digital data processing systems
US7671767B2 (en) LIFO radix coder for electrical computers and digital data processing systems
Bandyopadhyay et al. Image compression using approximate matching and run length
KR102326070B1 (ko) 계단 코드의 디코딩 방법, 장치 및 기억매체
CN104811209A (zh) 一种抗最长匹配检测的压缩文件数据嵌入方法及装置
US9088297B2 (en) High throughput decoding of variable length data symbols
Banerjee et al. A robust reversible data hiding scheme for color image using reed-solomon code
Al-Hashemi et al. A new lossless image compression technique based on Bose, Chandhuri and Hocquengham (BCH) codes
Al-Bahadili A novel lossless data compression scheme based on the error correcting Hamming codes
CN112449191B (zh) 压缩多个图像的方法、解压缩图像的方法和装置
CN105809720A (zh) 用于无掩模直写光刻的系统和方法
Gupta et al. Image Compression Using Lossless Compression Techniques
US7612692B2 (en) Bidirectional context model for adaptive compression
CN111431538B (zh) 一种嵌入式系统的数据压缩方法、系统及存储介质
JP2005277932A (ja) データ圧縮装置およびデータ圧縮プログラム