TWI591320B - 估計由一光源所產生的一脈衝光束之一頻譜特徵之方法 - Google Patents

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Description

估計由一光源所產生的一脈衝光束之一頻譜特徵之方法 發明領域
本文揭示之主旨係有關於供應光給光刻術曝光裝置之一光源的主動頻譜控制技術。
發明背景
光源諸如雷射的頻譜性質(例如頻寬)的準確知曉在許多科學及工業應用上皆相當重要。舉例言之，需要準確知曉光源頻寬以許可控制深紫外光(DUV)光刻術中的最小特徵尺寸或臨界維度(CD)。臨界維度乃需要印在半導體基體(又稱晶圓)上的特徵尺寸，因此，臨界維度CD可能要求緊密大小控制。於光刻術中，基體係藉光源產生的光束照射。經常，光源為雷射源，及光束為雷射束。
發明概要
於若干一般面向中，揭示一種估計由一光源所產生的脈衝光束之頻譜特徵之方法。該方法係包括根據具有 包含複數個階的一圖樣週期的一預先界定的重複圖樣，修正該脈衝光束的波長，該修正係包括針對在該圖樣週期內的各階，偏移該脈衝光束的波長達距一基準線波長的一波長偏位；當橫跨該圖樣修正該波長時，針對在該圖樣週期內的各階量測該光束之波長；及至少部分根據針對在該圖樣週期內的各階量測得的該光束之波長，透過包括圖樣週期內的全部各階之一評估窗，估計該脈衝光束之一頻譜特徵。
體現可包括下列特徵中之一或多者。舉例言之，該方法也可包括當該光束之波長為該基準線波長時，量測從該光源輸出的該光束之一未經移位的基準線頻譜形狀。該頻譜特徵至少部分可藉使用該量測得的未經移位的基準線頻譜形狀估計。該方法可包括根據該量測得的光束之波長，施加一波形至該未經移位的基準線頻譜形狀以產生一已移位的頻譜形狀；在該光源的輸出決定該光束之一能量(energy)；及根據所決定的能量而定標該已移位的頻譜形狀以產生一已定標的頻譜形狀。
該頻譜特徵可經估計，藉分析該所產生的已定標頻譜形狀以於該評估窗上估計該脈衝光束之頻寬。該所產生的已定標頻譜形狀可經分析，藉於該評估窗上決定該所產生的已定標頻譜形狀之一寬度而估計於該評估窗上該脈衝光束之頻寬。
該所產生的已定標頻譜形狀可經分析以估計於該評估窗上之脈衝光束之頻寬，分析方式係藉以該所產生 的已定標頻譜形狀卷積一散度，及於該形狀之一特定高度測量該經卷積的頻譜形狀之一寬度。
藉移位該基準線頻譜形狀達基於該波形之一量，該波形可施加至該未經移位的基準線頻譜形狀。
針對於該評估窗內的各個波長階，該方法可包括估計已定標頻譜形狀之一下方面積。
該脈衝光束的頻譜特徵可根據該量測得的該未經移位的基準線頻譜形狀估計，係藉由使用一或多個量表而量測該量測得的該未經移位的基準線頻譜形狀之一頻寬。該脈衝光束的頻譜特徵可根據針對在圖樣週期內的各個脈衝測得的光束之波長而估計，係藉決定於各個脈衝測得的光束之波長之一標準差。
該脈衝光束的頻譜特徵可被估計之方式係藉估計該脈衝光束的頻譜特徵而不於該評估窗上估計該脈衝光束的一頻譜形狀，該窗係包括圖樣週期內的全部波長階。
針對在該圖樣週期內的各個脈衝，根據該量測得的光束之波長可估計該脈衝光束之頻譜特徵，估計方式係藉決定在各個脈衝之該量測得的光束之波長之一標準差。以及，該方法也可包括根據該所決定的標準差，藉使用橫跨該評估窗評估的該頻譜特徵與該標準差間之一實驗上預先決定的函數關係，計算該頻譜特徵而估計該頻譜特徵。藉由使用橫跨評估窗測得的脈衝光束之經估計的頻寬與該標準差間之一實驗上預先決定的多項式關係，計算該頻譜特徵而可估計該頻譜特徵。橫跨評估窗測得的脈衝光束之 經估計的頻寬與該標準差間之該實驗上預先決定的多項式關係可被使用，其使用方式係經由針對一標準差集合估計該頻寬，各次估計係包含使得橫跨評估窗測得的頻譜形狀卷積一散度以形成一卷積頻譜形狀，及量測該卷積頻譜形狀於該形狀之一特定高度的一寬度。
該方法可包括當該光束之波長係為該基準線波長時，量測從該光源輸出之該光束的一未經移位的基準線頻譜形狀，其中該實驗上預先決定的函數關係係為橫跨該評估窗評估的該頻譜特徵與該標準差及測得的未經移位基準線頻譜形狀二者間之函數關係。
該脈衝光束的頻譜特徵可於該評估窗估計而不決定一頻譜的解卷積。
於該評估窗上該脈衝光束的頻譜特徵可經估計而不量測該脈衝光束之一瞬時頻寬。
該方法也可包括決定該所估計的頻譜特徵是否匹配該目標頻譜特徵；及若該估計的頻譜特徵不匹配該目標頻譜特徵，則調整該經預先界定的重複圖樣以藉此調整該波長的修正。
該方法可包括根據一校準資料集合而決定對該預先界定的重複圖樣的調整。於該評估窗上該脈衝光束的頻譜特徵之估計方式可藉估計於該評估窗上該脈衝光束的頻譜特徵，該窗係包括於複數個圖樣週期內的全部各階。
該評估窗可由由在該脈衝光束的該路徑中提供一發光劑量給一晶圓的該脈衝光束之一脈衝數目界定。
各個圖樣週期階可與該脈衝光束之一個脈衝交互相關。
於其它概略面向中，執行一種估計由一光源所產生的一脈衝光束之一表觀頻譜特徵之方法。該方法包括量測由該光源所產生的該光束之一基準線頻譜形狀；決定該光束之一波長；根據該所決定的波長，施加一波形至該光束之該測得的基準線頻譜形狀以產生一移位的頻譜形狀；決定在該光源之該輸出的該光束之一能量；依據所決定的能量而定標該已移位的頻譜形狀以產生一已定標的頻譜形狀；及分析該所產生的已定標頻譜形狀以估計該脈衝光束之該表觀頻譜特徵。
體現可包括下列特徵中之一或多者。舉例言之，所產生的已定標頻譜形狀可藉下述方式分析，藉由於一評估窗上積分該已定標的頻譜形狀以形成一經製備的頻譜形狀；及決定該所製備的頻譜形狀之一頻寬。該所製備的頻譜形狀之該頻寬可藉量測該所製備的頻譜形狀之一寬度決定。
所決定的該所製備的頻譜形狀之頻寬可為該脈衝光束的估計表觀頻寬。
該頻寬可藉下述方式決定，經由使用該所製備的頻譜形狀卷積一散度，及量測該已卷積的頻譜形狀在一特定值之一寬度。
藉移位該測得的基準線頻譜形狀達等於該所決定的波長之一波長偏位，可施用該波形。
該方法也可包括根據具有一圖樣週期的一預先界定的重複圖樣，修正該光束的波長。該光束之波長可藉針對圖樣週期內的各階決定該光束之波長而予決定。針對在該圖樣週期內的各階，藉移位該頻譜形狀達一波長，該波形可施用至該光束之頻譜形狀。該光束之能量的決定方式可經由針對在該圖樣週期內的各階決定該能量；及藉定標該已移位的頻譜形狀包含針對在該圖樣週期內的各階調整該頻譜形狀。
於其它概略面向中，執行用以估計由一光源所產生的一脈衝光束的一頻譜特徵之方法。該方法包括當該光束係在一基準線波長時，量測從該光源輸出的光束之一基準線頻譜形狀；根據一預先界定的重複圖樣具有一圖樣週期，量測相對於該基準線波長偏位的該光束之一波長集合；及根據橫跨含括整個預先界定的重複圖樣之一評估窗測得的該波長集合及測得的基準線頻譜形狀，估計該脈衝光束的一表觀頻寬。
體現可包括下列特徵中之一或多者。舉例言之，該方法也可包括決定該測得的光束之波長的一標準差；及使用一或多個量表，計算該測得的未經移位的基準線頻譜形狀之一基準線頻寬。該測得的未經移位的基準線頻譜形狀之該基準線頻寬可藉使用一第一量表量測該測得的未經移位的基準線頻譜形狀之該頻寬；及使用一第二量表量測該測得的未經移位的基準線頻譜形狀之該頻寬計算。
該表觀頻寬可使用一或多個量表，根據該測得的 波長之所決定的標準差及該測得的未經移位的基準線頻譜形狀之經計算得的基準線波長估算。
於其它概略面向中，一種裝置包括於一脈衝光束的路徑中之一或多個光學元件，且係經組配來與該脈衝光束產生光學互動；一致動系統、一度量系統、及一控制系統。該致動系統係附接至一或多個光學元件，且係經組配來調整一或多個光學元件，藉此根據具有一圖樣週期包括複數個階級的一預先界定的重複圖樣，修正該脈衝光束的波長，該修正係包括偏移該脈衝光束的波長達針對在該圖樣週期內的各階偏離一基準線波長的一波長偏位。該度量系統係經組配來當橫跨圖樣的波長經修正時，針對在該圖樣週期內的各階量測光束之一波長。該控制系統係附接至該致動系統及該度量系統，且係經組配來針對在該圖樣週期內的各階，至少部分根據所測得的光束之波長而估計於一評估窗的脈衝光束的一頻譜特徵，該窗係包括在該圖樣週期內的全部各階。
使用頻譜形狀合成可獲得若干效益。針對系統效能，多項光學參數的可預測之且受控之表現可藉極為穩定且受控的合成頻譜形狀改良。可信度改良原因在於頻譜形狀合成比較其它用以控制頻譜形狀的方法使用遠更簡單的硬體，頻寬、能量、發散度、時間、與氣體控制間之先前耦合係在雷射端移除。由於寬廣頻寬微調範圍，及合成頻寬的快速控制，故該系統提供彈性。部署上簡單原因在於由於只有演算法及軟體經修正，故發展、維持、及部署成 本減低。成本下降原因在於光源內部的線縮窄模組(LNM)及射束分析模組(BAM)的設計較為簡單。以及，目前可取得的硬體模組及技術仍可繼續使用；無需額外發展硬體。系統服務能力、偵錯、及故障排除改良，原因在於由於雷射操作參數間的耦合減少，及系統硬體與控制架構的簡化、及氣體最佳化的簡化，故偵錯變簡單。
100‧‧‧光刻術系統、微影術系統
105‧‧‧光源
107‧‧‧干擾
110‧‧‧光束
112‧‧‧光束製備系統
115‧‧‧光刻術曝光裝置
120‧‧‧晶圓
130‧‧‧發光器系統
132‧‧‧物鏡配置
134‧‧‧遮罩
138‧‧‧光軸
140‧‧‧光刻術控制器
142‧‧‧晶圓平台
144‧‧‧浸沒介質
150、350‧‧‧頻譜特徵選擇系統
180、180A-C‧‧‧量測系統
185‧‧‧控制系統
200‧‧‧主控振盪器
205‧‧‧種子光束
210‧‧‧功率放大器(PA)
215‧‧‧輸出耦合器
220‧‧‧線中心分析模組(LAM)
225‧‧‧射束修正光學系統
230‧‧‧射束反射器
352‧‧‧控制模組
354、356、358‧‧‧致動系統
360、362、364‧‧‧光學特徵
366‧‧‧光學系統
380‧‧‧反射光柵
382-388‧‧‧稜鏡
402‧‧‧度量資料
405‧‧‧頻譜特徵效能估計器
407‧‧‧估值
410‧‧‧比較方塊
415‧‧‧頻譜特徵目標值
420‧‧‧頻譜特徵誤差值
425‧‧‧頻譜特徵致動裝置
430‧‧‧致動器指令
435‧‧‧估計器
440、445‧‧‧頻譜特徵控制器
500、1115‧‧‧處理程序
505-525、910、920、1010、1012、1020、1105-1113、1121、1123‧‧‧步驟
600、650‧‧‧正弦調變圖樣
610、660‧‧‧合成頻譜形狀
700、710、720‧‧‧頻譜形狀
800、1200‧‧‧波形
900、1000‧‧‧中心波長
905、1005‧‧‧決定的波長差值
915、1015‧‧‧預定函數關係
925、1025、1225‧‧‧頻譜特徵
1002‧‧‧基準線頻譜形狀
1202‧‧‧未經移位的頻譜形狀
1208‧‧‧已移位的頻譜形狀
1210‧‧‧能量
1212‧‧‧已定標的頻譜形狀
1214‧‧‧已製備的頻譜形狀
1250‧‧‧評估窗
圖1為包括光刻術曝光裝置之一種微影術系統的方塊圖；圖2為產生朝向圖1之該光刻術曝光裝置取向的一光束之光源實例的方塊圖；圖3A為頻譜特徵選擇系統之一實例的方塊圖；圖3B為圖3A之該頻譜特徵選擇系統的光學組件實例的方塊圖；圖4A為於圖1之微影術系統內部的控制系統之一實例的方塊圖；圖4B為用在圖4A的控制系統之頻譜特徵致動裝置之一實例的方塊圖；圖5為藉圖1之微影術系統執行的一處理元件之流程圖；圖6A及6B為施加至圖1之該光束之一頻譜形狀的波形圖樣之線圖；圖6C及6D為分別地藉施加圖6A及6B之線圖至圖1的光束的所得合成頻譜形狀之線圖； 圖7A-7C為圖1光束之合成頻譜形狀之實例之線圖；圖8為接收自圖1的該微影術系統之一量測系統的一中心波長度量的波形實例之線圖；圖9A為於圖5之處理程序期間用以估計一頻譜特徵之處理程序實例的流程圖；圖9B為一方塊圖顯示圖9A之處理程序實例的體現；圖10A為於圖5之處理程序期間用以估計一頻譜特徵之處理程序實例的流程圖；圖10B為一方塊圖顯示圖10A之處理程序實例的體現；圖11A為於圖5之處理程序期間用以估計一頻譜特徵之處理程序實例的流程圖；圖11B為於圖11A之處理程序期間用以分析所產生的定標頻譜特徵之處理程序實例的流程圖；及圖12為一方塊圖顯示圖10A之處理程序實例的體現。
較佳實施例之詳細說明
參考圖1，由光源105所產生的光束110之光譜(或射譜)含有有關光能或光功率如何分散於不同波長的資訊。於圖1中，光束110乃微影術系統100的一部分，因此光束110被導向光刻術曝光裝置115而在一晶圓120上形成圖樣。光束110也被導向穿過光束製備系統112，該系統可包括修正光束110的面向之光學元件。舉例言之，光束製備系統112可包括反射性或折射性光學元件、光脈衝展寬器、及光學孔徑(包括自動快門)。
通常，光束110的光譜係以圖解形式闡釋，於該處頻譜強度(非必要具有絕對校準)係以波長或光頻的函數作圖。光譜可稱作為光束的頻譜形狀或強度頻譜。光束110的頻譜性質包括強度頻譜的任何面向或表示型態。舉例言之，頻寬乃一項頻譜特徵。光束的頻寬乃此一頻譜形狀的寬度度量，此種寬度可以雷射光之波長或頻率表示而給定。與光源頻譜的細節有關的任何適當數學建模(亦即量表)可用以估計光束的頻寬。舉例言之，在該頻譜形狀的最大峰強度之一分量(X)該頻譜的全寬(稱作為FWXM)可用以估計光束的頻寬。舉另一個實例，含有積分頻譜強度之一分量(Y)的該頻譜寬度(稱作為EY)可用以估計光束的頻寬。
光束110的頻寬可為一頻譜形狀的實際瞬時頻寬。但若該光束110的頻譜形狀係經合成(換言之，人為變更或擾動)以形成一合成形狀，則該合成形狀具有可視為該光束的表觀頻寬之一頻寬，該表觀頻寬顯然係來自不同的瞬時頻寬。如此，例如，若該光束的合成頻譜形狀具有比較未經擾動的或未經合成的頻譜形狀更寬的形狀，則該表觀頻寬可能比該光束的瞬時頻寬更寬。
各種干擾107(諸如溫度梯度、壓力梯度、光失真等)作用在光源105及光束110上以修正光束110的性質及頻譜特徵。如此，微影術系統100包括其它組件，諸如頻譜特徵選擇系統150、一或多個量測系統180(例如180A、180B、180C)、及控制系統185係用以決定干擾對光束110的影響。頻譜特徵選擇系統150從光源105接收一光束，及微調該光 源105的頻譜輸出。該等一或多個量測系統180量測光束110的性質，諸如頻寬、波長、或能量。
由於此等干擾故，此種合成形狀的頻寬須經量測或估算，讓操作員或自動化系統(例如回授控制器)可運用該資訊以調整光源105的性質，及調整光束110的頻譜形狀，頻譜形狀可能因干擾故而改變。描述一種方法其許可估算合成頻譜形狀的頻寬。
但初步，參考圖1光刻術系統100的概略討論。
光刻術曝光裝置115包括光學配置，其包括具有一或多個聚光透鏡、一遮罩134、及一物鏡配置132的發光器系統130。該遮罩134係沿一或多個方向可移動，諸如沿光束110的光軸138，或於垂直該光軸138的一平面可移動。光刻術曝光裝置115係含在一密封隔間內部，該隔間可維持於恆溫及恆壓以減少印在該晶圓120上的圖樣失真。此外，光刻術裝置115可包括光刻術控制器140、空調裝置、及各種電氣組件的電源供應器等其它特徵特徵。
光刻術控制器140控制各層係如何印在晶圓120上。發光器系統130調整光束110撞擊在遮罩134上的角度範圍。發光器系統130也均化(使其變一致)光束110橫跨遮罩134的強度分布。物鏡配置132包括一投射透鏡且使得從遮罩134至晶圓120上的光阻的影像出現移轉。
於若干體現中，晶圓120可攜載於晶圓平台142上，及可供給浸沒介質144以覆蓋晶圓120用於浸沒光刻術。於其它體現中，晶圓120係不被浸沒介質144所覆蓋。 晶圓120係由光束110所照射。於光刻術期間，該光束110的複數個脈衝照明該晶圓120的同一區以形成一發光劑量。以及，照明該同一區的光束110之脈衝數目可稱作為一評估窗。
藉沈積一層射線敏感性光阻材料於該晶圓上，然後將已製作圖樣的遮罩134設置於該光阻層上，及然後將該經遮罩的光阻層曝光於該所擇定的射線(亦即光束110)，可在該晶圓120上形成微電子特徵。然後晶圓120暴露於顯影劑，諸如水性鹼或溶劑。以及，對該顯影劑具有抗蝕性的光阻層部分留在晶圓120上，及光阻層之其餘部分係藉顯影劑去除而暴露出晶圓120的下方材料。
然後晶圓120使用額外製程步驟處理，可為製程步驟之一組合中之一或多者，諸如蝕刻、沈積、及光刻術製程，使用不同遮罩134以在晶圓120的材料中或在沈積於晶圓120上的材料中產生開口(諸如溝槽、槽道、或孔口)的圖樣。此等開口可以絕緣材料、傳導材料、或半導材料填補，以在晶圓120上建立微電子特徵層。然後將晶圓120單顆化以形成個別晶片，該等晶片可結合入寬廣多種電子產品，諸如電腦及其它消費性或工業電子裝置。
隨著形成於晶圓120內的微電子特徵尺寸的縮小(例如以縮小由晶圓120所形成的晶片大小)，形成於光阻層的特徵尺寸也須縮小。縮小臨界尺寸CD之一種方式係增加於物鏡配置132中的投射透鏡的數值孔徑(NA)。但隨著投射透鏡的數值孔徑NA的增加，遮罩134在晶圓120上投射的影 像喪失在分開特徵的焦深(DOF)。需要焦深DOF來達成經處理晶圓的較高良率，原因在於製程要求焦點的變化。由於焦深DOF較低的結果，經處理的晶圓120的良率可能低至無法接受。
解決前述問題的一個辦法係在光束110上使用頻譜形狀合成，讓光束110在晶圓120顯示具有較寬的頻寬頻譜。大部分投射透鏡(使用於物鏡配置132)具有色差，若光源105有波長誤差，則在晶圓120上產生成像誤差。由色差所引起的最主要誤差乃焦點誤差，其它誤差傾向於遠較小。舉例言之，若光束110的波長係偏離目標波長，則晶圓120上的影像將具有顯著焦面誤差。但此等特性可用於焦深DOF改良，而此乃頻譜形狀合成的基礎。
一般而言，頻譜形狀合成仰賴不同頻譜成分的時間性解多工。光束110的波長係根據一預先界定的重複圖樣，具有圖樣週期以產生一合成頻譜，以脈衝至脈衝為基準，使用頻譜形狀合成修正。更明確言之，在此預先界定的重複圖樣中，光束110的各個脈衝之中心波長係從一基準線波長移位或偏離，而此波長移位導致在晶圓120的光阻層上影像平面的垂直移位(亦即沿光軸138)。因晶圓120上的每一點係以許多脈衝照射，故焦點的聚合深度改良。但各個雷射脈衝具有窄瞬時頻寬，各個雷射脈衝的中心波長係以預定圖樣偏離目標波長或基準線波長，使得橫跨該圖樣週期所取的表觀頻寬為較大。
此種辦法的一個實例係描述於美國專利案第 7,088,758號，「弛張氣體放電雷射光刻術光源」，核發日期2006年8月8日；及美國專利案第7,154,928號，「用於頻寬頻譜控制的雷射輸出射束波前分束器」，核發日期2006年12月26日，二案全文皆係爰引於此並融入本說明書的揭示。
就圖2描述光源105實例說明之後，有關頻譜形狀合成的進一步細節將討論如下。於圖2中，光源105係為脈衝雷射源，產生脈衝雷射束作為光束110。如圖2實例所示，光源105為二階段式雷射系統，包括一主控振盪器(MO)200其提供一種子光束205給功率放大器(PA)210。主控振盪器200典型地包括一增益介質其中出現放大，及一光學回授機構諸如光學諧振器。功率放大器210典型地包括一增益介質其中當使用來自主控振盪器的種子雷射束泵送時出現放大。若該功率放大器係設計為再生環形諧振器，則被描述為功率環形放大器(PRA)，於此種情況下，從環形設計可提供足夠光學回授。主控振盪器200許可參數諸如中心波長及頻寬於相對低輸出脈衝能量的微調。功率放大器210接收來自主控振盪器200的輸出，及放大此一輸出以達成用在微影術的需要的輸出功率。
主控振盪器200包括具有二細長電極的一放電腔、用作為增益介質的一雷射氣體、及用以在該等電極間循環氣體之一風扇，及在該放電腔的一側上的頻譜特徵選擇系統150與在該放電腔的第二側上的一輸出耦合器215間所形成的一雷射諧振器。光源105也可包括一線中心分析模組(LAM)220，其接收來自該輸出耦合器215的一輸出，及 一或多個射束修正光學系統225，其視需要修正雷射的尺寸及/或形狀。線中心分析模組(或LAM)220乃可用以量測種子光束205的波長之一型量測系統180A的一實例。用在放電腔的雷射氣體可為產生環繞所要求的波長及頻寬的雷射束之任何適當氣體，舉例言之，雷射氣體可為氟化氬(ArF)其發光波長約193奈米，或氟化氪(KrF)其發光波長約248奈米。
功率放大器210包括功率放大器放電腔，若屬再生環形放大器，則該功率放大器也包括射束反射器230，其將光束反射入放電腔內而形成一循環路徑。功率放大器放電腔包括一對細長電極，用作為增益介質的雷射氣體，及用在在電極間循環氣體的風扇。種子光束205係藉重複通過功率放大器放大。射束修正光學系統225提供一種方式(例如部分反射鏡)以入光耦合種子光束，及出光耦合來自該功率放大器已放大的射線之一部分以形成輸出光束110。
從光源輸出的光束之頻譜性質包括光束之強度頻譜的任何面向或表示型態。舉例言之，光束之頻寬(或線寬，其為強度頻譜的寬度估值)為一頻譜特徵。
一般而言，控制系統185接收有關來自光源105及量測系統180A、180B、180C的光束110之資訊，及有關來自光刻術曝光裝置115或在該裝置115的一使用者或一控制器的光學成像條件之資訊，及對該資訊進行分析以決定如何調整供給光刻術曝光裝置115的光束110之一或多個頻譜性質(例如頻寬)。基於此項決定，控制系統185發送信號給頻譜特徵選擇系統150以控制光源105的操作。有關控制 系統185的更多細節提供如下在有關量測系統180A、180B、180C及頻譜特徵選擇系統150的型別與設計後方。
參考圖3A，顯示耦接至來自光源105的光之頻譜特徵選擇系統350之一實例。於若干體現中，頻譜特徵選擇系統150接收來自主控振盪器200的光以許可在主控振盪器200內部之參數諸如波長及頻寬的微調。
頻譜特徵選擇系統350可包括控制模組，諸如頻譜特徵控制模組352，其包括呈韌體與軟體之任一種組合形式的電子電路。模組352係連結至一或多個致動系統，諸如頻譜特徵致動系統354、356、358。致動系統354、356、358各自可包括一或多個致動器，其係連結至光學系統366的個別光學特徵360、362、364。光學特徵360、362、364係經組配來調整所產生的光束110之特定特性以藉此調整光束110的頻譜特徵。控制模組352接收來自控制系統185的一控制信號，該控制信號包括特定指令以操作或控制致動系統354、356、358中之一或多者。致動系統354、356、358可經選擇與設計成一起工作，亦即串接。此外，致動系統354、356、358各自可經最佳化以應答特定類別的干擾107。此種協調與協作一起可由控制系統185運用來保有或維持在期望的設定點或至少在環繞一設定點的期望範圍內部的頻譜特徵(諸如波長或頻寬)，即便光源105可能遭遇寬廣陣列的干擾107亦復如此。或者，協調與協作可由控制系統185運用來修正頻譜特徵(諸如波長)以合成光束110的頻譜形狀而形成一合成頻譜形狀，容後詳述。舉例言之，光學特徵360、 362、364中之一或多者可經調諧以改變從光源105輸出的光束110波長，此種修正係根據預定圖樣，每個圖樣週期重複該圖樣且具有一週期。
各個光學特徵360、362、364係光耦合至由光源105所產生的光束110。於若干體現中，光學系統366為線縮窄模組，諸如圖3B所示。線縮窄模組包括色散光學元件諸如反射光柵380及折射光學元件諸如稜鏡382、384、386、388作為光學特徵360、362、364，稜鏡中之一或多者係可旋轉。此種線縮窄模組之一實例可參考美國申請案第12/605,306號，名稱「用於光源頻寬之選擇與控制之系統方法及裝置」，申請日2009年10月23日(‘306申請案)，全文爰引於此並融入本說明書的揭示。於‘306申請案中，描述線縮窄模組，其包括射束擴展器(包括一或多個稜鏡382、384、386、388)及該色散元件諸如光柵380。可致動光學特徵諸如光柵380及稜鏡382、384、386、388中之一或多者的個別致動系統係未顯示於圖3B。
致動系統354、356、358的各個致動器為用以移動或控制光學系統的個別光學特徵360、362、364之一機械裝置。致動器接收來自模組352的能量，及將該能量轉換成某種移動提供給光學系統的個別光學特徵360、362、364。舉例言之，於’306申請案中，描述致動系統諸如力學裝置(以施力至光柵區域)及旋轉平台用以旋轉該射束擴展器的稜鏡中之一或多者。致動系統354、356、358可包括例如馬達，諸如步進器馬達、閥門、壓力控制裝置、壓電裝置、線性 馬達、液壓致動器、語音線圈等。
頻譜特徵選擇系統350可能只包括耦接至光學系統的一個光學特徵之致動系統，而該光學系統的其它光學特徵維持未被致動。舉例言之，於圖3B中，線縮窄模組可設定為只有稜鏡中之一者(諸如稜鏡382)藉耦合其致動系統而被致動，及稜鏡382可在壓電裝置之控制之下移動。舉例言之，稜鏡382可安裝在平台上，該平台在壓電裝置之控制之下可移動，該壓電裝置係受模組352控制。
量測系統180A中之一者可為線中心分析模組(或LAM)220，其監測主控振盪器200的輸出之波長。線中心分析模組可設置於光源105內的其它位置，或若光源105為單一階段光源(缺乏功率放大器)，則可設置於光源105的輸出。
量測系統180B中之另一者係設置於光源105的輸出，及此量測系統180B係用以產生光束110的基準線頻譜。如此，量測系統180B可為光柵光譜儀，諸如LTB雷射技術柏林公司(LTB Lasertechnik Berlin GmbH)，德國柏林製造的ELIAS階梯光譜儀。於光柵光譜儀中，光束110係導向階梯光柵，該階梯光柵依據光的波長而分開或色散光，及從光柵反射的光束110係被導向照相機，諸如電荷耦合裝置照相機，其可解析光束110的波長分布。
當回溯該領域的現行系統時，量測系統180B可為頻寬分析模組(或BAM)的一部分。
另一個量測系統180C可為能量監視器，其在光束110進入光刻術曝光裝置115之前量測該光束110的脈衝 能量。能量監視器180C可為光二極體模組。
參考圖4A及4B，提供有關控制系統185的細節。控制系統185通常可包括數位電子電路、電腦硬體、韌體、及軟體中之一或多者。控制系統185也可包括在機器可讀取儲存裝置內用以藉可規劃處理器執行的具體有形實施的適當輸出入裝置、電腦處理器、及電腦程式產品。圖4A及4B闡釋控制方塊，表示存在於控制系統185中的各個程式或控制方塊。
控制系統185包括一頻譜特徵效能估計器405，其接收來自一或多個量測系統180A、180B、180C的度量資料402。一般而言，頻譜特徵效能估計器405執行估計該合成頻譜形狀的頻譜特徵(例如頻寬)需要的全部計算。於此種情況下，所估計的頻譜特徵為合成頻譜形狀的表觀頻寬，而非未經合成頻譜形狀的瞬時頻寬。頻譜特徵效能估計器405的輸出為該頻譜特徵的估值407。
控制系統185包括一比較方塊410連結至從頻譜特徵效能估計器405輸出的估值407，及連結至接收自光刻術曝光裝置115或在光刻術曝光裝置115的使用者之一頻譜特徵目標值415。概略言之，比較方塊410輸出一頻譜特徵誤差值420，該誤差值表示該頻譜特徵目標值415與該估值407間之差，及該頻譜特徵誤差值420係導向一頻譜特徵致動裝置425。概略言之，頻譜特徵致動裝置425決定如何根據頻譜特徵誤差值420而調整頻譜特徵選擇系統150，及該頻譜特徵致動裝置425的輸出係包括發送給頻譜特徵選擇 系統150的致動器指令430之一集合。
頻譜特徵致動裝置425可包括一估計器435，針對在該頻譜特徵選擇系統150內部的各個致動器，該估計器儲存或存取校準資料。舉例言之，針對頻寬控制裝置、壓電裝置、或差分時間系統的校準資料可由估計器435儲存及/或存取。估計器接收頻譜特徵誤差值420及決定致動器指令430中之一或多者。
頻譜特徵致動裝置425包括一或多個頻譜特徵控制器440、445，其接收該等一或多個致動器指令430，及決定致動器指令如何可施用至頻譜特徵選擇系統150的各個致動器。舉例言之，控制器445可為波長控制器445，決定如何調整光束波長，如此，決定如何致動與圖3A及3B所示頻譜特徵選擇系統350內的稜鏡382相聯結的壓電裝置，容後詳述。
參考圖5，藉控制系統185執行處理程序500以估計已經被合成的，換言之，經人為變更或擾動的脈衝光束之表觀頻譜特徵(諸如表觀頻寬ABW)。如此，處理程序500包括藉根據於一圖樣週期中具有多個階的一預先界定的重複圖樣而調變脈衝光束的波長以合成脈衝光束(505)。該圖樣可為頻域的差函數，其係相對應於時域的正弦調變。更明確言之，控制系統185發送致動器指令430給頻譜特徵選擇系統150以藉此合成脈衝光束(505)。舉例言之，控制系統185可經組配以發送致動器指令給圖3B之該線縮窄模組的一控制模組352，藉此抖動或旋轉稜鏡382，使得光入射在 光柵380上的入射角係經調變以對從光源105輸出的光束110選定一獨特中心波長，及此種調變係取決於該預先界定的重複圖樣。
適當正弦調變圖樣600、650的實例係顯示於圖6A及6B。於圖6A中，圖樣600包括六階，及抖動相偏位(反映該圖樣於該光束頻譜上的相對位置之一值)為零。圖樣600產生光束的相對應三峰頻譜形狀610，如圖6C所示。如圖所示，針對圖樣裡的各階，該波長係從基準線波長偏移。於圖6B中，圖樣650包括六階，及抖動相偏位為非零，例如(27×π)÷256。圖樣650產生光束的相對應六峰頻譜形狀660，如圖6D所示。如圖所示，合成頻譜形狀610、660係由在波長波形的單一圖樣週期內部的波長階之散度決定(此乃相位偏位)。此種散度係由正弦波與取樣函數間之相位偏位界定。其係保留為脈衝重複率(取樣週期)變化。
針對在圖樣週期內具有5、6、及10階的調變圖樣，頻譜形狀700、710、720之其它實例係分別顯示於圖7A、7B及7C。
該經預先界定的重複圖樣之圖樣週期的階數可與光源105的脈衝重複率交互相關。如此，於該預先界定的重複圖樣中的各階可匹配光束110的單一脈衝。於若干體現中，該最高可能波長調變率(最小圖樣週期)係用以確保在不同波長的標線片影像係良好平均。最高調變率可等於雷射脈衝重複率的1/2，或約每個圖樣週期2光束脈衝。實際波長調變率可受致動器之機械特徵(例如與稜鏡382相聯結的 PZT平台、PZT驅動的驅動電路、及波長控制演算法)所限。
由調變圖樣所產生的頻譜形狀可為對稱或非對稱，及在一圖樣週期內的階數可決定頻譜形狀的對稱性。舉例言之，每個圖樣週期具有偶數階的調變圖樣可獲得對稱性頻譜形狀，而其它圖樣週期可獲得對稱或非對稱性頻譜形狀。又，如上所示，相位偏位也決定輸出頻譜形狀。相位偏位可經調諧，使得具有任意頻率的正弦調變導致對稱性頻譜形狀。
再度參考圖5，當波長係橫跨圖樣調變時，針對圖樣週期內的各階，控制系統185接收光束110的中心波長之度量資料402(510)。控制系統185從量測系統180中之任一者接收光束110的中心波長之度量資料402。舉例言之，控制系統185可接收來自線中心分析模組(或LAM)220的中心波長之度量，其監視主控振盪器200的輸出之波長。來自LAM 220之中心波長度量的波形800之實例係顯示於圖8。
其次，透過頻譜特徵效能估計器405的操作，針對圖樣週期內的各階，至少部分根據測得的光束波長(如於510所接收)，控制系統185在包括圖樣週期內的全部階級的一評估窗，估計脈衝光束110的頻譜特徵(515)。估計的頻譜特徵可為合成光束110的表觀頻寬。藉此方式，控制系統185估計合成光束110的表觀頻寬，該表觀頻寬係與光束110的瞬時頻寬不同，原因在於實際上光束110的波長係經調變(505)。
控制系統185決定估計的頻譜特徵407是否匹配 目標頻譜特徵415(520)。因各種干擾107(諸如溫度梯度、壓力梯度、光學失真等)作用在光束110的光源105上，估計的頻譜特徵407可能不匹配目標頻譜特徵415。
更明確言之，比較方塊410決定估計的頻譜特徵407與目標頻譜特徵415間的頻譜特徵誤差420。若頻譜特徵致動裝置425決定頻譜特徵誤差420係在可接受的數值範圍以外，則控制系統185(透過頻譜特徵致動裝置425的操作)決定如何調整預先界定的重複圖樣，及輸出已調整的致動器指令430集合給頻譜特徵選擇系統150(525)。頻譜特徵致動裝置425可決定根據校準資料之一集合，如何調整預先界定的重複圖樣。在離線處理程序中測試當對頻譜特徵選擇系統150作調整時，光束之波長係如何修正，可決定校準資料，此項資料係儲存作為頻譜特徵致動裝置425可存取的校準資料。
若頻譜特徵致動裝置425決定頻譜特徵誤差420係落入可接受的數值範圍內(520)，則控制系統185維持發送給圖3B的線縮窄模組以調變光束110之波長之現行致動器指令集合(505)。
於515，有數種不同方法其中控制系統185可估計頻譜特徵。其次將描述此等不同方法。
參考圖9A及9B，於若干體現中，於515，控制系統185藉決定在各個脈衝測得的光束之波長與基準線波長間之波長差值905(諸如標準差)而估計頻譜特徵925(910)。波長差值905係從接收自LAM 220的中心波長900之值決 定。其次，控制系統185利用橫跨評估窗評估的頻譜特徵與決定的波長差值905間之一預定函數關係915而估計頻譜特徵925(920)。
預定函數關係915可為橫跨評估窗量測得脈衝光束的估計表觀頻寬(ABW)與標準差σ(WL)間之多項式關係。例如函數關係915可實驗性決定最佳近似該標準差的八階多項式如下：ABW=p0+p1×[σ(WL)]+p2×[σ(WL)]2+p3×[σ(WL)]3+p4×[σ(WL)]4+p5×[σ(WL)]5+p6×[σ(WL)]6+p7×[σ(WL)]7，其中若該解係以固定頻譜形狀展開，及光束的表觀頻寬ABW係決定為藉波長調變合成的雷射頻譜形狀之卷積頻寬，則p0、p1、p2、p3、p4、p5、p6、及p7為固定係數。如藉抖動的振幅決定，該等係數可具有頻譜形狀的相依性，及可含括頻譜形狀相依性之校正。為了展開函數關係915，針對一標準差集合估計ABW，及ABW的各個估計包括橫跨評估窗測得的頻譜形狀之散度卷積以形成卷積的頻譜形狀，及然後量測在特定形狀值的卷積頻譜形狀之寬度。於若干體現中，若頻寬係在0-2000飛米(fm)之範圍，則前文詳示的多項式可提供準確度至使用卷積測得的實際表觀頻寬之25fm以內。
於其它體現中，參考圖10A及10B，於步驟515，藉由決定在各個脈衝測得的光束之波長與基準線波長間之波長差值1005(諸如標準差)，控制系統185決定頻譜特徵1025(1010)。波長差值1005係從接收自LAM 220的中心波長 1000之值決定。
當光束110的波長為基準線波長時，控制系統185也量測從光源105輸出的光束之未經移位的基準線頻譜形狀1002(1012)。更明確言之，控制系統185接收由光柵光譜儀180B所產生的基準線頻譜形狀1002。
其次，利用橫跨評估窗評估的頻譜特徵與所決定的波長差值1005及測得的基準線頻譜形狀1002間之預定函數關係1015，控制系統185估計頻譜特徵1025(1020)。於若干體現中，關係1015取決於基準線頻譜形狀1002的一或多個寬度。舉例言之，關係1015可取決於在頻譜形狀1002的最大強度的一百分比X所取的基準線頻譜形狀1002的全寬BW1(FWXM)，及基準線頻譜形狀1002包括完整頻譜能量的一百分比Y之一寬度BW2(EY)。此等基準線寬度BW1、BW2係乃雷射頻譜形狀的寬度而未施加波長調變。
預定函數關係1015可為根據標準量表(諸如如前文定義的EY或FWXM)橫跨評估窗量測得脈衝光束的估計表觀頻寬(頻譜特徵)ABW與標準差σ(WL)，及一或多個基準線寬度BW1、BW2間之函數關係。例如函數關係1015可實驗性決定如下：ABW=q1×[σ(WL)]+{q2×BW1×[σ(WL)]}/{BW1+[σ(WL)]}+{BW2×BW1}/{BW1+[σ(WL)]}，其中q1及q2例如分別為2及0.5之係數；於若干體現中，ABW為包括合成頻譜形狀之完整頻譜能量的一百分比Y之合成頻譜形狀寬度(例如ABW可為E95)。
於其它體現中，估計頻寬ABW可為在該頻譜形狀的最大強度之百分比X所取合成頻譜形狀之全寬(FWXM)。
參考圖11A及12，於其它體現中，頻譜形狀可經評估以藉此使用處理程序1115估計於評估窗上脈衝光束110的頻譜特徵1225。處理程序1115可離線進行作為與處理程序500的分開程序或作為步驟515的一部分，容後詳述。
如前記，在步驟515之前，於步驟510，當波長係橫跨圖樣修正時，控制系統針對圖樣週期內的各階接收光束110的中心波長之度量資料402。控制系統185從量測系統180中之任一者接收光束110的中心波長之度量資料402。舉例言之，控制系統185可從線中心分析模組(或LAM)220接收中心波長之度量資料402，該模組監視主控振盪器200的輸出波長。得自LAM 220的中心波長度量之波形1200之實例係顯示於圖12。
於該處理程序1115中，當光束110的波長為基準線波長時，控制系統185量測從光源105輸出的光束之未經移位的基準線頻譜形狀1202(1105)。更明確言之，控制系統185接收由光柵光譜儀180B所產生的基準線頻譜形狀1202。
控制系統185根據測得的波長施加波形1200給未經移位的頻譜形狀1202以產生已經移位的頻譜形狀1208(1107)。可藉移位基準線頻譜形狀1202達根據在波形1200的東步驟測得的波長之(例如一分量)的數量而施用波形1200。
其次，控制系統185接收在光源105輸出光束110的能量1210之決定或度量(1109)。更明確言之，藉量測系統180諸如能量監視器180C可針對圖樣週期內的各階決定能量1210。控制系統185根據所決定的能量1210定標已移位的頻譜形狀1208以產生已定標的頻譜形狀1212(1111)。所產生的已定標的頻譜形狀1212經分析(1113)以估計表觀頻寬ABW 1225。
參考圖11B，所產生的已定標的頻譜形狀1212可於1113分析，分析方式係藉首先於評估窗1250上積分已定標的頻譜形狀1212而形成已製備的頻譜形狀1214(1121)，及然後例如藉使用任何適當量表，諸如FWXM或EY或卷積BW決定已製備的頻譜形狀1214的頻寬(1123)。藉在評估窗內的各個波長階，估計已定標的頻譜形狀1212下方面積，而於1121積分已定標的頻譜形狀1212。
於該處理程序1115期間，可假設光束110的頻譜形狀為恆定。
要言之，合成頻譜形狀係在處理程序1115期間根據量測的雷射輸出之確切頻譜形狀，無波長調變而量測；即時波長方法資料；及即時脈衝能量資料估計。本技術之優點包括與外部方法大為吻合；輸出頻譜形狀及合成頻譜形狀之量表的最佳可得估值；軟硬體介面的複雜度減低；及脈衝-脈衝能力。
要言之，根據基準線頻譜量表(諸如BW1或FHWM、及BW2或E95)及即時波長方法資料(σ(WL))，頻寬 量表估計提供輸出頻譜形狀量表ABW的一模型，例如可為卷積BW或EY。此種技術之優點為直捷運算(可在雷射控制處理器或發射控制處理器上體現)；具有軟硬體介面的複雜度減低；及具有即時脈衝-脈衝能力。
光束110的典型起始或瞬時頻寬範圍(使用E95量測)可為約150-500fm。波長調變範圍可為±1500fm。以及，所得合成頻譜頻寬E95範圍可為約150-2500fm。取決於應用用途，波長階可控制於約0.1fm精度，及波長移位的階級大小可為約0至500fm。
於控制系統185中，因頻寬控制係使用頻譜形狀合成方法體現，故頻寬控制可在內部與系統效率及射束參數解耦。頻寬控制仍可經由掃描器能量控制器回路耦合。
實施該等技術之處理程序(如前文討論)可藉可規劃處理器執行指令程式，藉在輸入資料上操作與產生適當輸出以從事期望的功能而予執行。大致言之，一處理器接收指令及資料來自唯讀記憶體及/或隨機存取記憶體。適合具體有形地實施電腦程式指令及資料的儲存裝置包括各型非依電性記憶體，例如包括半導體記憶體裝置，諸如EPROM、EEPROM、及快閃記憶體裝置；磁碟諸如內部硬碟及活動碟片；磁光碟；及CD-ROM碟。前述中之任一者皆可由特別設計的特定應用積體電路(ASIC)補充或結合入其中。
500‧‧‧處理程序
505-525‧‧‧步驟

Claims (20)

  1. 一種估計由一光源所產生的一脈衝光束之一頻譜特徵之方法，該方法係包含：根據具有包含複數個階(steps)的一圖樣週期的一預先界定的重複圖樣，修正該脈衝光束的波長，該修正係包括針對在該圖樣週期內的各階，偏移該脈衝光束的波長達距一基準線(baseline)波長的一波長偏位(offset)；當橫跨該圖樣修正該波長時，針對在該圖樣週期內的各階量測該光束之波長；及至少部分根據針對在該圖樣週期內的各階量測得的該光束之波長，透過包括圖樣週期內的全部各階之一評估窗(evaluation window)，估計該脈衝光束之一頻譜特徵，其包括決定在各階處之該脈衝光束之該所量測波長之一差值及基於該所決定差值估計該頻譜特徵。
  2. 如申請專利範圍第1項之方法，其係進一步包含當該光束之波長為該基準線波長時，量測從該光源輸出的該光束之一未經移位的基準線頻譜形狀。
  3. 如申請專利範圍第2項之方法，其中估計該頻譜特徵也係至少部分根據該量測得的未經移位的基準線頻譜形狀。
  4. 如申請專利範圍第3項之方法，其係進一步包含：根據該量測得的光束之波長，施加一波形至該未經移位的基準線頻譜形狀以產生一已移位的頻譜形狀； 在該光源的輸出決定該光束之一能量；及根據所決定的能量而定標該已移位的頻譜形狀以產生一已定標的頻譜形狀。
  5. 如申請專利範圍第4項之方法，其中估計該頻譜特徵係包含：分析該所產生的已定標頻譜形狀以於該評估窗上估計該脈衝光束之頻譜特徵。
  6. 如申請專利範圍第4項之方法，其中施加該波形至該未經移位的基準線頻譜形狀係包含移位該基準線頻譜形狀達基於該波形的一量(an amount)。
  7. 如申請專利範圍第4項之方法，其係進一步包含針對在該評估窗內的各個波長階，估計一已定標的頻譜形狀下方面積。
  8. 如申請專利範圍第3項之方法，其中根據該量測得的該未經移位的基準線頻譜形狀估計該脈衝光束的頻譜特徵係包含使用一或多個量表而量測該量測得的該未經移位的基準線頻譜形狀之一頻寬。
  9. 如申請專利範圍第8項之方法，其中針對該圖樣週期內的各個脈衝，根據該量測得的光束之波長而估計該脈衝光束之頻譜特徵係包含決定在各個脈衝之該量測得的光束之波長之一標準差。
  10. 如申請專利範圍第1項之方法，其中估計該脈衝光束的頻譜特徵係包含估計該脈衝光束的頻譜特徵而不於該評估窗上估計該脈衝光束的一頻譜形狀，該窗係包括圖 樣週期內的全部波長階。
  11. 如申請專利範圍第1項之方法，其中：決定在各階處之該脈衝光束之該所量測波長之該差值係包含決定在各個階之該量測得的光束之波長之一標準差，及根據該所決定的標準差估計該頻譜特徵包含藉使用橫跨該評估窗評估的該頻譜特徵與該標準差間之一實驗上預先決定的函數關係，計算該頻譜特徵而估計該頻譜特徵。
  12. 如申請專利範圍第11項之方法，其係進一步包含當該光束之波長係為該基準線波長時，量測從該光源輸出之該光束的一未經移位的基準線頻譜形狀，其中該實驗上預先決定的函數關係係為橫跨該評估窗評估的該頻譜特徵與該標準差及測得的未經移位基準線頻譜形狀二者間之函數關係。
  13. 如申請專利範圍第1項之方法，其中於該評估窗上估計該脈衝光束的頻譜特徵係包含於該評估窗上估計該脈衝光束的頻譜特徵而不量測該脈衝光束之一瞬時頻譜特徵。
  14. 如申請專利範圍第1項之方法，其係進一步包含：決定該所估計的頻譜特徵是否匹配該目標頻譜特徵；及若該估計的頻譜特徵不匹配該目標頻譜特徵，則調整該經預先界定的重複圖樣以藉此調整該波長的修正。
  15. 如申請專利範圍第1項之方法，其中： 該評估窗係由在該脈衝光束的該路徑中提供一發光劑量給一晶圓的該脈衝光束之一脈衝數目界定；及各個圖樣週期階係與該脈衝光束之一個脈衝相關。
  16. 如申請專利範圍第1項之方法，其中該脈衝光束之該頻譜特徵係為該脈衝光束之該頻寬。
  17. 一種估計由一光源所產生的一脈衝光束之一表觀(apparent)頻譜特徵之方法，該方法係包含：量測由該光源所產生的該光束之一基準線頻譜形狀；當橫跨該圖樣修正該波長時，針對在一圖樣週期內之複數階之每一者決定該光束之一波長；施加該等所決定波長之一波形至該光束之該測得的基準線頻譜形狀以產生一移位的頻譜形狀；針對在該圖樣週期內之每一階決定在該光源之該輸出的該光束之一能量；依據該等所決定的能量而定標(scaling)該已移位的頻譜形狀以產生一已定標的頻譜形狀；及分析該所產生的已定標頻譜形狀以估計該脈衝光束之該表觀頻譜特徵。
  18. 如申請專利範圍第17項之方法，其中分析該所產生的定標頻譜形狀係包含：於一評估窗上積分該已定標的頻譜形狀以形成一經製備的頻譜形狀；及決定該所製備的頻譜形狀之該表觀頻譜特徵。
  19. 如申請專利範圍第17項之方法，其中決定該所製備的頻譜形狀之該表觀頻譜特徵係包含量測該所製備的頻譜形狀之一表觀頻寬。
  20. 如申請專利範圍第17項之方法，其係進一步包含：根據具有包含該複數個階的該圖樣週期的一預先界定的重複圖樣，修正該光束的波長，該修正係包括針對在該圖樣週期內的各階，偏移該脈衝光束的波長達距一基準線波長的一波長偏位。
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