TWI556232B - 在一全像碟片中記錄資料之方法及系統 - Google Patents

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Description

在一全像碟片中記錄資料之方法及系統
本發明之技術大體而言係關於按位元(bit-wise)的全像資料儲存技術。更具體而言，該等技術係關於在全像儲存系統中使用伺服機械組件。
隨著計算能力進步，計算技術已進入新應用領域，諸如消費型視訊、資料封存、文件儲存、成像及電影製作以及其他。此等應用已對發展具有增加的儲存容量及增加的資料速率之資料儲存技術提供持續之推動力。
資料儲存技術中的發展之一實例可為光學儲存系統之日益增高的儲存容量。舉例而言，20世紀80年代早期開發之光碟(compact disc)具有如下容量：約650 MB至700 MB的資料或約74分鐘至80分鐘的二聲道音訊節目。相比之下，20世紀90年代早期開發之數位影音光碟(DVD)格式具有約4.7 GB(單層)或8.5 GB(雙層)之容量。另外，已開發出甚至更高容量之儲存技術來滿足增長之需求，諸如對於更高解析度視訊格式之需求。舉例而言，諸如Blu-ray DiscTM格式之高容量記錄格式能夠在單層碟片中保存約25 GB，或在雙層碟片中保存50 GB。隨著計算技術繼續發展，可能需要具有甚至更高容量之儲存媒體。全像儲存系統及微全像(micro-holographic)儲存系統為可達成儲存器業界中增加之容量要求的其他正在發展之儲存技術之實例。
全像儲存係以全像(hologram)形式對資料之儲存，全像係在光敏儲存媒體中由兩個光束相交所產生之三維干涉圖案之影像。已研究基於頁的全像技術及按位元的全像技術。在基於頁的全像資料儲存中，在儲存媒體的容量內將含有經數位編碼的資料(例如，複數個位元)之信號光束疊加於參考光束上，從而造成化學反應，該化學反應調變在該容量內的媒體之折射率。因此大體上將每一位元儲存為干涉圖案之一部分。在按位元的全像或微全像資料儲存中，將每個位元寫入為微全像或布拉格(Bragg)反射光柵(通常由兩個反向傳播的聚焦記錄光束產生)。接著藉由使用讀取光束反射掉微全像以重新建構記錄光束來擷取該資料。
按位元的全像系統可使得能夠記錄更緊密間隔且層聚焦的微全像，因而提供比先前光學系統高得多之儲存容量。然而，若讀取及/或記錄光束發生偏離而未照射在光學媒體中的所要微全像或位置上，則在較高儲存容量中的微全像之緊密組態可能造成讀取及/或複寫(replication)誤差。另外，通常需要較高資料傳送速率，但較快的速率可能對應於較快的碟片旋轉速度，此情形進一步增加了讀取及/或複寫誤差之機率。誤差有所減少之按位元的微全像讀取及/或記錄技術可為有利的。
本發明之技術之實施例提供一種在一複寫系統中在一全像碟片中記錄資料之方法。該方法包括使該全像碟片旋轉，循軌該全像碟片中的一參考軌道以判定一移動量測，基於該移動量測在該全像碟片之一第一表面上致動一第一光學頭，及朝向該全像碟片中的一資料位置聚焦來自該第一光學頭之一第一光束。該方法進一步包括聚焦來自一第二光學頭之一第二光束以使其與該第一光束反向傳播且與該第一光束重疊以在該全像碟片中的該資料位置中記錄資料，判定在第一光束與第二光束之間的一重疊未對準(misalignment)，及基於該重疊未對準在該全像碟片的第二表面(與該第一表面對置)上致動第二光學頭。
另一實施例提供一種用於在一全像碟片上記錄微全像之系統。該系統包括至少一伺服機械系統及兩個光學頭。該伺服機械系統包括一第一致動器及一第二致動器。該第一致動器經組態以相對於該全像碟片的一第一側在軸向方向及徑向方向中之一或多者中致動一第一光學頭，其中該第一光學頭經組態以將來自該全像碟片之第一側的一參考光束聚焦於一資料位置中。該第二致動器經組態以基於該第一致動器之該致動而相對於該全像碟片的一第二側(與該第一側對置)在軸向方向、徑向方向及切向方向中之一或多者中致動一第二光學頭，其中該第二光學頭經組態以聚焦來自該全像碟片的該第二側之一記錄光束以使其在該資料位置中與該參考光束干涉。
另一實施例提供一種用於預先格式化一全像碟片之系統。該系統包括一第一光學頭，該第一光學頭經組態以將一參考光束聚焦至該全像碟片中之一資料位置，將一循軌光束聚焦至該全像碟片中之一參考軌道(其中該循軌光束之反射指示該參考光束聚焦於該資料位置上)，及接收該循軌光束自該參考軌道之該反射。該系統亦包括一第二光學讀取頭，該第二光學讀取頭經組態以聚焦一信號光束以使其在該資料位置處與該參考光束重疊且干涉，其中該信號光束與該參考光束反向傳播。該系統包括一第一伺服機械系統，該第一伺服機械系統經組態以基於該循軌光束之該反射來致動該第一光學頭中之光學組件。另外，該系統包括一第二伺服機械系統，該第二伺服機械系統經組態以基於該參考光束及該信號光束中之一或多者的傳輸來致動該第二光學頭中之光學組件。
在參考隨附圖式閱讀以下詳細描述時，本發明之此等及其他特徵、態樣及優點將得到更好地理解，其中貫穿該等圖式相同字符表示相同部分。
下文描述本發明之技術之一或多項實施例。為了提供此等實施例之簡明描述，在說明書中並未描述實際實施之所有特徵。應瞭解，在任何此實際實施之開發中，如在任何工程或設計項目中，必須做出諸多對於實施為特定之決策以達成開發者之特定目的，諸如遵循與系統有關及與商務有關之約束條件，該等約束條件可隨實施不同而改變。另外，應瞭解，此開發努力可能複雜且耗時，但對於受益於本發明的一般技術者而言，此開發努力將為設計、生產及製造之常規任務。
按位元的全像資料儲存系統通常涉及藉由在記錄媒體(例如，全像碟片)內部發射兩個重疊且干涉之光束來記錄。由顯微大小的局部化全像圖案(被稱為微全像)之存在或不存在來表示資料位元，該等全像圖案在由聚焦光束照射時充當體積光反射器。舉例而言，圖1中所說明之全像碟片10表示在碟片10之一層中可如何組織資料位元。通常，全像碟片10為圓的、實質上平坦的碟片，其具有嵌入於一透明塑膠膜中的一或多個資料儲存層。該等資料層可包括可反射光的在深度上實質上局部化之材料之任何數目個修改區，諸如用於按位元的全像資料儲存之微全像。在一些實施例中，該等資料層可嵌入於可對照射在碟片10上之光束的照度作出回應之全像可記錄材料中。舉例而言，在不同的實施例中，碟片10之材料可為臨限回應式或線性回應式。該等資料層之厚度可在大致0.05 μm至5 μm之間且可具有在大致0.5 μm至250 μm之間的間距。
通常可將呈微全像形式之資料儲存於自碟片10之外邊緣至內界限之循序螺旋軌道12中，但可使用同心圓軌道或其他組態。轉軸孔14可經設定大小以圍繞全像系統中的轉軸嚙合，使得可使碟片10旋轉以用於資料記錄及/或讀取。碟片10可進一步包括不同的功能區域，諸如引入區域、使用者資料區域及引出區域。轉軸之旋轉可受回饋系統控制以在記錄及/或讀取處理程序期間維持恆定的線速度或恆定的角速度。另外，可藉由平移台或滑板使碟片轉軸、記錄光學器件及/或讀取光學器件在碟片的徑向方向中移動以允許光學系統跨越碟片之整個半徑而記錄或讀取。
在圖2A之方塊圖中提供將微全像記錄至複寫碟片10之一般系統。全像系統16包括光源18，可將光源18分成信號光束20及參考光束22。可將信號光束20傳輸至信號調變電路24，信號調變電路24調變信號光束20，從而產生資料光束26。在一些實施例中，處理器40可基於待記錄於複寫碟片10上之資料來控制信號調變。另外，在一些實施例中，信號調變可直接在光源18處發生，使得自光源18發射之光經直接調變以包括待記錄於複寫碟片10上之資料(例如，呈資料光束26之形式)。
可使資料光束26傳遞通過另一光學及伺服機械系統28，該光學及伺服機械系統28可包括經組態以將記錄光束30聚焦於碟片10的特定位置上之各種光學及伺服機械裝置。舉例而言，光學及伺服機械系統28可將記錄光束30聚焦於碟片10中的特定資料層或資料軌道12。
亦可使參考光束22傳遞通過光學及伺服機械系統32，該光學及伺服機械系統32包括經設計以將聚焦參考光束34聚焦至碟片10中之特定資料層或資料軌道12以使得聚焦參考光束34與記錄光束30重疊的各種光學及伺服機械裝置。可在由兩個重疊的反向傳播之聚焦雷射光束30及34所形成之干涉(例如，照射光點)中將微全像記錄於全像碟片10中。在一些實施例中，可使用聚焦參考光束34自碟片10擷取所記錄之微全像。可在用於信號偵測之偵測器38處接收聚焦參考光束34之反射(被稱為資料反射36)。
另外，如圖2B中所提供，複寫系統之一或多項實施例涉及光源18之直接調變。舉例而言，光源18可耦接至適宜於直接調變光源18之調變器24。調變器24可受處理器40控制且可調變光源18以使得由光源18發射之調變信號光束26包括待記錄於複寫碟片10上之資訊。
在讀取及複寫處理程序期間，可使複寫碟片10在全像系統中之轉軸上旋轉。可直接調變(例如，圖2B)抑或藉由適宜信號調變電路24調變(例如，圖2A)記錄於複寫碟片10上之信號光束。另外，可藉由母版碟片上之資料來調變信號光束，且接著將調變信號光束導向至複寫碟片10且與反向傳播的光束重疊以將微全像記錄於所選擇之軌道12上。複寫碟片10在記錄期間的旋轉速度及記錄至複寫碟片10上的微全像之緊密接近度可增加讀取及/或複寫誤差之機率。舉例而言，若聚焦雷射光束30及34中之任一者或兩者未對準且未照射複寫碟片10之正確位置(例如，資料軌道12及層)，則可能將資料記錄至錯誤位置，或可能不形成聚焦雷射光束30及34之任何干涉，從而不產生任何所記錄之資料。
複寫處理程序之準確性及精確性可受碟片10相對於讀取及複寫系統之搖擺(wobbling)或傾斜(tilting)影響，該搖擺或傾斜係由全像碟片10中之缺陷或由使碟片10的位置偏離預期位置之任何其他因素造成。如在圖3中所說明，全像碟片10可能傾斜，搖擺或具有缺陷，其降低了微全像記錄處理程序中的準確性。舉例而言，碟片10可能具有不平的表面，從而導致光束不準確地照射碟片10。舉例而言，若碟片10相對於預期位置42傾斜，則亦可造成不準確性。舉例而言，碟片10可具有不平行之頂部及底部表面，或碟片10可比完美碟片42厚，使得當碟片10裝在複寫系統中的轉軸上時，碟片10之位置或碟片10之一層偏離預期位置42。另外，碟片10可能會翹曲，如碟片10相對於預期位置42的彎曲形狀所表示。此類不準確的定位或缺陷可能造成複寫碟片10上之微全像記錄誤差。
圖4提供比較碟片10中的資料軌道12之預期位置與實際位置之圖50。圖50之x軸及y軸分別提供碟片10之徑向距離及軸向距離(兩者均以微米為單位)。碟片10之徑向中心可在x=0μm處，而預期碟片之頂部及底部表面在y=0μm至y=-1200μm之範圍中。如y=0μm處所表示，碟片10之頂部表面52相對於碟片10的頂部表面之預期位置54傾斜。此傾斜可歸因於在讀取及/或記錄期間碟片10相對於全像記錄系統16(圖2A及圖2B)之傾斜或搖擺，或歸因於碟片10之缺陷，如在圖3中所論述。碟片傾斜或缺陷可能造成在碟片10之表面54與讀取或寫入頭的前透鏡之間的變化距離。因而，若不作出任何調整來補償在碟片表面54與前透鏡之間的變化距離，則照射在複寫碟片10上之記錄光束可造成照射不同的資料層及/或不同的資料軌道12，進而讀取及/或記錄錯誤資料(例如，相較於照射於所要之軌道12，若光束照射於不相同的另一軌道12)或根本不讀取或不記錄資料(例如，若光束未與任何軌道12對齊)。
舉例而言，箭頭56表示待記錄至複寫碟片10之預期資料位置。該等資料位置可在資料層之所要軌道12上且可在距碟片10的頂部表面54大致-600 μm與-602 μm之間的範圍中。歸因於碟片10之傾斜，實際照射光點58可在軸向及徑向上偏離預期照射光點56，從而可能取決於碟片傾斜或缺陷之嚴重性而造成聚焦於錯誤軌道12上，未聚焦於任何軌道12上，及/或聚焦於錯誤資料層中。此等偏離可造成不正確地將資料記錄於複寫碟片10上，從而增加全像記錄系統之位元錯誤率。
本發明之實施例涉及用以減少複寫碟片10中的誤差之聚焦及對準技術。此等聚焦及對準技術可涉及使用伺服機械系統來致動光學組件以校正在於複寫碟片10上記錄時的聚焦及/或對準誤差。如關於圖2A及圖2B所論述，伺服機械裝置可耦接至光學組件(例如，光學及伺服機械系統28及32)，記錄光束自該等光學組件傳輸至複寫碟片10。在其他實施例中，不同的複寫系統可涉及在同時自一母版碟片讀取時複寫一複寫碟片10。此等實施例亦可涉及使用耦接至母版碟片讀取器的光學組件之伺服機械裝置來準確讀取母版碟片。
圖5提供全像複寫系統60之一例示性組態的更詳細說明。全像複寫系統60可包括光源62，光源62發射具有適合於微全像記錄及/或讀取之波長(例如，405 nm、532 nm等)的源光束64。光源62可將源光束64傳輸通過各種光學裝置(例如，鏡66)且在電光調變器(EOM)68處調變源光束64，EOM 68以電光方式調變源光束64以產生包括待寫入至複寫碟片10的資料之調變光束70。舉例而言，此資料可包括諸如碼、位址、循軌資料及/或其他輔助資訊之預先記錄資料及/或待記錄於碟片10中之其他資料。資料光束70可傳遞通過諸如透鏡72及空間濾波器74之其他光學元件，該等其他光學元件可適宜於貫穿複寫處理程序以不同強度來調變射至複寫碟片10的資料光束70之功率及/或強度。在一些實施例中，資料光束70可自諸如鏡76之其他元件反射，然後傳輸至偏光光束分光器78，偏光光束分光器78將資料光束78分成記錄光束80及反向傳播的參考光束104，記錄光束80及反向傳播的參考光束104可對置地照射在碟片10上以記錄微全像。或者，在一些實施例中，分離的光源可各提供記錄光束80及反向傳播的參考光束104中之每一者。
記錄光束80可傳輸通過讀取/寫入光閘，該讀取/寫入光閘在記錄期間敞開且在碟片10讀出期間關上。在一些實施例中，記錄光束80可被反射(例如，由鏡84)且傳輸通過偏光光束分光器86及透鏡94且由檢流計鏡96反射。如將論述，檢流計鏡96可由伺服系統140控制(且特定而言，由切向隨動組件146控制)且可經致動以影響記錄光束80在碟片10上之照射。記錄光束80可傳遞通過四分之一波片98及透鏡100，到達光學頭102。光學頭102可包括將記錄光束80聚焦至複寫碟片10之所要資料層及所要資料軌道12之光學組件。光學頭102亦可耦接至伺服機械系統140，伺服機械系統140可包括伺服機械組件，該等伺服機械組件調整光學頭102中之組件以補償碟片10之傾斜或搖擺及/或碟片10之缺陷。
參考光束104可傳輸通過偏光光束分光器106及透鏡114以由二向色鏡(dichroic mirror)118反射。參考光束104可接著傳遞通過四分之一波片120及透鏡122，到達光學頭124。光學頭124可包括將參考光束104聚焦至與記錄光束80所聚焦之層及軌道12相同的所要層及軌道12之光學組件，使得參考光束104與記錄光束80相長干涉以在碟片10中的所要位置上形成照射光點。該照射光點可在碟片10中形成微全像。在一些實施例中，光學頭124可讀取參考光束104之反射，且經反射之參考光束可傳遞通過四分之一波片120及各種其他光學元件以由偏光光束分光器106反射(在兩次通過四分之一波片120後偏光已旋轉90°之後)。經反射之參考光束可傳遞通過透鏡108及濾光器110以在共焦偵測器112處被偵測到。因而，參考光束104可在複寫系統60的記錄處理程序中與記錄光束80反向傳播以記錄微全像，且參考光束104可在複寫系統60的讀取處理程序中由碟片10反射且在偵測器112處被讀取以讀取微全像。
在一些實施例中，額外光源136可傳輸循軌光束116，循軌光束116可與參考光束104一起照射在複寫碟片10上以追蹤參考光束104之聚焦及對準。循軌光束116可為與記錄光束80及參考光束104不同之波長。舉例而言，循軌光束116可為658 nm或另一適宜波長。循軌光束116可由鏡134反射且傳輸通過偏光光束分光器128及透鏡126。循軌光束116可具有偏光性，此使得其能夠傳遞通過二向色鏡118，到達四分之一波片120，且通過透鏡122，到達光學頭124。光學頭124可將循軌光束116聚焦至碟片10中之循軌位置。
循軌光束116可用以追蹤參考光束104在碟片10上的位置，此係由於循軌光束116及參考光束104各自係自相同光學頭124照射在碟片10上。舉例而言，作為循軌光束116之目標的循軌位置可對應於參考光束104之所要位置(或目標資料位置)。在一些實施例中，循軌位置可為碟片10中的經編碼循軌資料軌道或碟片10中的參考層中之特定凹軌。循軌光束116可自碟片10反射且可傳遞通過四分之一波片120且通過二向色鏡118且由偏光光束分光器128反射(在兩次通過四分之一波片120後偏光已旋轉90°之後)。經反射之循軌光束傳遞通過其他光學元件130，其他光學元件130可將經反射的循軌光束聚焦於象限偵測器132上。象限偵測器132可經組態以量測經反射的循軌光束之強度或其他品質。舉例而言，該量測可指示循軌光束116是否恰當地聚焦於目標循軌位置上(對應於參考光束104在目標資料位置上之恰當聚焦)。此量測(亦被稱為誤差信號)可指示碟片10相對於系統60之傾斜、移動及/或缺陷。
類似地，參考光束104之傳輸亦可用以判定在參考光束與記錄光束之間的未對準。參考光束傳輸可傳遞通過四分之一波片98且可經反射或傳輸通過其他光學元件以由偏光光束分光器86反射(在兩次通過四分之一波片98後偏光已旋轉90°之後)。經傳輸之參考光束可傳遞通過其他光學元件88，其他光學元件88可將經傳輸的參考光束聚焦於象限偵測器90上。與象限偵測器132類似，象限偵測器90可經組態以量測經傳輸的參考光束之強度或其他品質。此量測(亦被稱為誤差信號)可指示在參考光束與記錄光束之間的未對準。
在一些實施例中，來自象限偵測器132及90之量測或所產生的誤差信號可各自分別被傳輸至濾波器系統138及92(例如，低通濾波器)，濾波器系統138及92可濾除高於臨限值之量測，該等高於臨限值之量測可指示碟片10具有傾斜、移動及/或缺陷，為繼續準確複寫，必須對其加以補償。若誤差信號超過臨限值，則濾波器系統138及92可各自分別基於經反射的循軌光束及經傳輸的參考光束而將誤差信號提供至伺服機械系統140。伺服系統140可包括軸向及徑向伺服機械組件142，該等軸向及徑向伺服機械組件142經組態以在軸向上及在徑向上致動光學頭124中的光學組件，使得光學頭124可補償碟片10之任何移動及/或缺陷以使參考光束104照射在碟片10中的所要位置(例如，資料層及資料軌道12)上。
伺服系統140亦可經組態以致動光學頭102中之組件以跟隨光學頭124中的組件之致動。如所論述，參考光束在碟片10中的目標資料位置處與記錄光束80干涉以恰當地記錄微全像。一些實施例可使用伺服系統140中的隨動伺服機械組件144來致動光學頭102以跟隨光學頭124之軸向及徑向致動。因此，光學頭124可在碟片10的表面上在軸向及/或徑向方向中致動，且光學頭102可在碟片10之對置表面上在軸向及/或徑向及/或切向方向中對應地致動，使得記錄光束80與參考光束104反向傳播且與參考光束104干涉，且光束80及光束104均與碟片10中的目標資料位置對齊。在一些實施例中，光學頭102之軸向及徑向致動可基於象限偵測器132之前饋聚焦及循軌資料，如在圖6中進一步論述。
在一些實施例中，伺服系統140亦可包括切向隨動組件146。切向隨動組件146可包括伺服機械組件，該等伺服機械組件經組態以致動檢流計鏡96以在切向方向中影響記錄光束80在碟片10中的照射。在一些實施例中，在切向方向中致動光學頭102可進一步補償碟片10之搖擺及傾斜或碟片10之缺陷，上述各者可能導致目標資料位置(例如，待記錄資料之特定資料層)相對於光學頭102在切向方向中改變。在一些實施例中，可基於來自象限偵測器132之前饋資訊來致動切向隨動組件146。
圖6中之方塊圖為在伺服系統140與象限偵測器132及90的量測之間的前饋關係之一實例。軸向及徑向致動組件142(來自圖5)可包括一控制器150及一或多個致動器152。控制器150可適宜於控制光學頭124之定位，且致動器152可由控制器150控制以致動光學頭124。藉由軸向及徑向組件142對光學頭124的定位可影響在象限偵測器132處偵測到之光的強度。貫穿複寫處理程序，且貫穿致動器152之動態定位，偵測器132可產生量測154，量測154可包括對應於經聚焦記錄光點在目標資料位置上之未對準的資料，該未對準可由碟片10之傾斜、搖擺及/或缺陷導致。量測154可包括包含所要位置(用於記錄微全像)相對於預期位置之位置的任何資訊。可持續地(亦即，動態地)將量測154回饋至控制器150，控制器150可判定(例如，藉由計算)致動之類型及/或量，且與致動器152通信以回應於最新接收的量測154而增加或降低光學頭之徑向或軸向位置。
類似地，隨動組件144及147亦可包括一控制器156及一或多個致動器158。控制器156可適宜於控制光學頭102之定位，且致動器158可由控制器156控制以致動光學頭102。藉由隨動組件144及147對光學頭102的定位可影響在象限偵測器90處偵測到之光的強度。貫穿該複寫處理程序，且貫穿致動器158之動態定位，偵測器90可產生量測160，量測160可包括對應於在參考光束的聚焦與記錄光束的聚焦之間的未對準之資料。量測160可包括包含所要位置(用於記錄微全像)相對於預期位置之位置的任何資訊。可持續地(亦即，動態地)將量測160回饋至控制器156，控制器156可計算致動，且與致動器158通信以回應於最新接收的量測160而增加或降低光學頭102之徑向或軸向位置。
在一些實施例中，亦可前饋(區塊162)由控制器150控制之致動以將其添加至由控制器156基於量測160計算出之致動。因而，致動器158可致動光學頭102之位置以跟隨光學頭124之位置，使得記錄光束80與參考光束104可在碟片10的所要位置(例如，目標資料軌道12及資料層)處干涉。
盡雖然本文僅說明及描述本發明之某些特徵，但熟習此項技術者將想到許多修改及改變。因此，應理解，所附申請專利範圍意欲涵蓋落入本發明之真正精神內的所有此等修改及改變。
10．．．全像碟片/複寫碟片
12．．．資料軌道
14．．．轉軸孔
16．．．全像系統/全像記錄系統
18．．．光源
20．．．信號光束
22．．．參考光束
24．．．信號調變電路/調變器
26．．．資料光束/調變信號光束
28．．．光學及伺服機械系統
30．．．記錄光束/聚焦雷射光束
32．．．光學及伺服機械系統
34．．．參考光束/聚焦雷射光束
36．．．資料反射
38．．．用於信號偵測之偵測器
40．．．處理器
42．．．預期位置/完美碟片
52．．．碟片頂部表面
54．．．碟片頂部表面之預期位置
56．．．預期照射光點
58．．．實際照射光點
60．．．全像複寫系統
62．．．光源
64．．．源光束
66．．．鏡
68．．．電光調變器(EOM)
70．．．調變光束/資料光束
72．．．透鏡
74．．．空間濾波器
76．．．鏡
78．．．偏光光束分光器
80．．．記錄光束
84．．．鏡
86．．．偏光光束分光器
88．．．光學元件
90．．．象限偵測器
92．．．濾波器系統
94．．．透鏡
96．．．檢流計鏡
98．．．四分之一波片
100．．．透鏡
102．．．光學頭
104．．．參考光束
106．．．偏光光束分光器
108．．．透鏡
110．．．濾光器
112．．．共焦偵測器
114．．．透鏡
116．．．循軌光束
118．．．二向色鏡
120．．．四分之一波片
122．．．透鏡
124．．．光學頭
126．．．透鏡
128．．．偏光光束分光器
130．．．光學元件
132．．．象限偵測器
134．．．鏡
136．．．額外光源
138．．．濾波器系統
140．．．伺服機械系統
142．．．軸向及徑向伺服機械組件/軸向及徑向致動組件
144．．．隨動伺服機械組件
146．．．切向隨動組件
147．．．隨動組件
150．．．控制器
152．．．致動器
154．．．量測
156．．．控制器
158．．．致動器
160．．．量測
162．．．前饋
圖1說明根據實施例之具有資料軌道的光學碟片；
圖2A及圖2B為根據實施例之微全像複寫系統的方塊圖；
圖3為根據實施例之若干類型之碟片傾斜或碟片缺陷的示意性側視圖；
圖4為表示根據實施例之碟片傾斜對形成於全像碟片中照射光點的影響之圖；
圖5為根據實施例之全像記錄系統之示意圖；且
圖6為根據實施例之在全像記錄系統中的前饋控制系統之關係的示意圖。
10．．．全像碟片/複寫碟片
60．．．全像複寫系統
62．．．光源
64．．．源光束
66．．．鏡
68．．．電光調變器(EOM)
70．．．調變光束/資料光束
72．．．透鏡
74．．．空間濾波器
76．．．鏡
78．．．偏光光束分光器
80．．．記錄光束
84．．．鏡
86．．．偏光光束分光器
88．．．光學元件
90．．．象限偵測器
92．．．濾波器系統
94．．．透鏡
96．．．檢流計鏡
98．．．四分之一波片
100．．．透鏡
102．．．光學頭
104．．．參考光束
106．．．偏光光束分光器
108．．．透鏡
110．．．濾光器
112．．．共焦偵測器
114．．．透鏡
116．．．循軌光束
118．．．二向色鏡
120．．．四分之一波片
122．．．透鏡
124．．．光學頭
126．．．透鏡
128．．．偏光光束分光器
130．．．光學元件
132．．．象限偵測器
134．．．鏡
136．．．額外光源
138．．．濾波器系統
140．．．伺服機械系統
142．．．軸向及徑向伺服機械組件/軸向及徑向致動組件
144．．．隨動伺服機械組件
146．．．切向隨動組件

Claims (15)

  1. 一種在一複寫系統中在一全像碟片中記錄資料之方法，該方法包含：使該全像碟片旋轉；循軌該全像碟片中之一參考軌道以判定一移動量測；基於該移動量測在該全像碟片之一第一表面上致動一第一光學頭；朝向該全像碟片中之一資料位置聚焦來自該第一光學頭之一第一光束；聚焦來自一第二光學頭之一第二光束以使其與該第一光束反向傳播且與該第一光束重疊以在該全像碟片中之該資料位置中記錄資料；判定在該第一光束與該第二光束之間的一重疊未對準；及基於該重疊未對準在該全像碟片上之第二表面上致動該第二光學頭，其中該第二表面與該第一表面對置。
  2. 如請求項1之方法，其中循軌該全像碟片中之該參考軌道包含：將來自該第一光學頭之一循軌光束聚焦於該全像碟片之該參考軌道上；偵測該循軌光束自該參考軌道的一反射以判定該移動量測。
  3. 如請求項1或2之方法，其中判定該重疊未對準係基於由該複寫系統中的一象限偵測器量測到之該第一光束或該 第二光束通過該全像碟片的一傳輸。
  4. 如請求項1或2之方法，其中該移動量測包含聚焦誤差及循軌誤差中之一或多者。
  5. 如請求項1或2之方法，其中該移動量測由以下各者中之一或多者引起：該全像碟片在該複寫系統的一轉軸上的一搖擺、該全像碟片相對於一預期位置之一傾斜及該全像碟片之一缺陷。
  6. 如請求項1或2之方法，其包含將該移動量測傳達至該複寫系統之一伺服機械系統。
  7. 如請求項1或2之方法，其中在該全像碟片之該第一表面上致動該第一光學頭包含：使該第一光學頭中之一透鏡相對於該全像碟片的該表面在徑向方向及軸向方向中之一或多者中平移。
  8. 如請求項1或2之方法，其中該資料位置包含用於記錄資料之在該全像碟片的一資料層中之一資料軌道。
  9. 如請求項1或2之方法，其中調整第二組光學組件進一步係基於該移動量測。
  10. 如請求項1或2之方法，其中在該全像碟片之該第二表面上致動該第二光學頭包含：使該第二光學頭中之一透鏡相對於該全像碟片的該表面在一徑向方向、一軸向方向及一切向方向中之一或多者中平移。
  11. 如請求項1或2之方法，其包含相對於該全像碟片的該表面在切向方向中調整該複寫系統中之一光學元件以影響該第二光束之該傳輸。
  12. 如請求項11之方法，其中該光學元件包含一檢流計鏡。
  13. 如請求項1或2之方法，其中該第二光束包含以下各者中之一或多者：碼、位址、循軌資料、輔助資訊及待記錄於該全像碟片中之其他資料。
  14. 一種用於在一全像碟片上記錄微全像之系統，該系統包含：一伺服機械系統，其包含：一第一致動器，其經組態以相對於該全像碟片之一第一側在一軸向方向及一徑向方向中之一或多者中致動一第一光學頭；及一第二致動器，其經組態以相對於該全像碟片的一第二側在一軸向方向、一徑向方向及一切向方向中之一或多者中致動一第二光學頭，其中藉由該第二致動器對該第二光學頭的該致動係基於藉由該第一致動器對該第一光學頭的該致動；其中該第一光學頭經組態以將來自該全像碟片的該第一側之一第一光束聚焦於一資料位置中；且其中該第二光學頭經組態以聚焦來自該全像碟片之該第二側的一第二光束以使其在該資料位置中與該第一光束干涉，其中該第二側與該第一側對置。
  15. 如請求項14之系統，其中該伺服機械系統包含一第三致動器，該第三致動器經組態以致動一鏡，該鏡在一切向方向及一徑向方向中之一或多者中影響該第二光束之該聚焦。
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