TWI538890B - A manufacturing method of a glass plate and a manufacturing apparatus for a glass plate - Google Patents

Description

玻璃板之製造方法及玻璃板之製造裝置

本發明係關於一種玻璃板之製造方法、及玻璃板之製造裝置。

液晶顯示器及電漿顯示器等平板顯示器(FPD，flat panel display)中所使用之玻璃板要求表面具有較高之平坦度。通常，如此之玻璃板由溢流下拉(overflow down draw)法製造。溢流下拉法中，如專利文獻1(美國專利第3,338,696號)所記載，流入成形體並溢出之熔融玻璃沿著成形體之外表面流下，於成形體之下端合流，一面被向下方拉伸一面成形為帶狀之玻璃。

溢流下拉法中，成形體設置於成形爐內之高溫之環境下。又，成形體中施加有由自重及玻璃之重量所引起之荷重。因此，成形體之長度方向之中央部容易因熱蠕變特性而向下方垂下。尤其，近年來，玻璃之大型化進展，成形體具有於長度方向變長之傾向，因此，由熱蠕變特性引起之垂下變得更為顯著。

為了解決該問題，如專利文獻2(日本專利特開昭46-34437號公報)所記載，使用於從成形體之長度方向之兩端，將長度方向之力施加於成形體之狀態下，支撐成形體之方法。該方法中，成形體係於由支撐塊及耐火絕緣磚支撐之狀態下，被賦予長度方向之壓縮力，因此起因於熱蠕變特性之變形得到抑制。

又，溢流下拉法中，成形體之溫度分佈對從成形體之下端連續成形之玻璃板之品質帶來較大影響。較佳為成形體尤其於其之長度方 向不具有較高之溫度差。此處，於對成形體施加長度方向之壓縮力而支撐成形體之上述方法中，若經由成形體之支撐構件而向爐外釋放之成形體之熱量較大，則成形體之長度方向之溫度差擴大，對玻璃之品質帶來影響。具體而言，成形體之溫度差使沿著成形體之表面流下之熔融玻璃之溫度差產生，熔融玻璃之溫度差使成形之玻璃板之厚度差產生。即，成形體之溫度差對玻璃板之板厚偏差帶來影響。又，成形體之溫度分佈亦對成形爐內之環境之溫度分佈帶來影響。成形爐內之溫度分佈亦與成形體之溫度差同樣地，對玻璃板之板厚偏差帶來影響。又，為了補償向爐外釋放之成形體之熱量，必須從成形爐之外部向成形體供給熱。為了解決該問題，專利文獻2中，成形體由耐火絕緣磚而支撐。

[先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]美國專利第3,338,696號

[專利文獻2]日本專利特開昭46-34437號公報

此處，為了施加長度方向之壓縮力而支撐成形體之構件必須具有充分之壓縮強度。然而，一般而言，具有較高之壓縮強度之磚由於熱傳導率較大，而容易釋放爐內之熱。相反，專利文獻2所記載之耐火絕緣磚雖然熱傳導率較小，但不具有充分之壓縮強度，因此無法對成形體施加充分之壓縮力。於對成形體施加必要充分之壓縮力時，產生耐火絕緣磚被破壞之較高之危險。

本發明之目的在於提供一種可抑制經由成形體之支撐構件而釋放之成形體之熱量，且抑制由成形體之熱蠕變特性所引起之變形之玻璃板之製造方法、及玻璃板之製造裝置。

本發明之玻璃板之製造方法係使熔融玻璃從成形體之上端面溢出並分流，於成形體之下端合流而連續成形玻璃板之玻璃板之製造方法。成形體係於介隔支撐構件及隔熱構件，對成形體之長度方向之兩端面施加長度方向之力之狀態下設置。支撐構件與成形體接觸。隔熱構件不與成形體接觸，而與支撐構件接觸。隔熱構件具有較支撐構件小之熱傳導率，且，具有50MPa以上之壓縮強度。

本發明之玻璃板之製造方法中，溢流下拉法中所使用之成形體於從成形體之長度方向之兩端施加長度方向之力之狀態下，設置於成形爐內。成形體之長度方向之中央部具有起因於熱蠕變特性而容易向下方垂下之傾向。因此，藉由對成形體施加長度方向之壓縮力，而抑制成形體之變形。又，成形體介隔支撐構件及隔熱構件而設置於成形爐內。具體而言，成形體由一對支撐構件，於長度方向之兩端夾著。一對支撐構件進而由一對隔熱構件，於長度方向之兩端夾著。成形體介隔一對支撐構件及一對隔熱構件，由設置於成形爐外之壓縮機構而施加長度方向之壓縮力。由於隔熱構件之熱傳導率較小，所以成形爐內之環境之熱及成形體之熱不易沿著隔熱構件而向成形爐之外部釋放。因此，利用隔熱構件，而良好地保持成形體及成形爐內之環境之溫度分佈。又，因從成形爐之內部釋放之熱而成形體之壓縮機構之溫度過度上升而超過壓縮機構之耐熱溫度，壓縮機構破損之情況可由隔熱構件來避免。又，隔熱構件具有50MPa以上之壓縮強度，可充分耐受對成形體施加之長度方向之壓縮力。因此，起因於熱蠕變特性之成形體之變形得到充分抑制。此外，較佳為隔熱構件包含雲母。

又，本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為隔熱構件具有2W/(m．K)以下之熱傳導率。此時，隔熱構件具有充分低之熱傳導率，因此可更有效地抑制成形體及成形爐內之熱向爐外釋放。

又，本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為隔熱構件具有550℃(JIS C 2116：1982)以上之耐熱溫度。隔熱構件之耐熱溫度越高，隔熱構件之設置場所之制約越少，因此可使隔熱構件與更高溫之支撐構件接觸而設置。由此，可藉由使接近成形體之高溫側之隔熱構件之厚度增加等，而提高隔熱性能。

隔熱構件由與支撐構件不同種類之材料而成形。隔熱構件之壓縮強度為50MPa~1000MPa時，隔熱構件可充分耐受對成形體施加之長度方向之壓縮力，因此起因於熱蠕變特性之成形體之變形充分得到抑制。隔熱構件之壓縮強度更佳為100MPa~1000MPa，進而較佳為200MPa~1000MPa。隔熱構件之壓縮強度之測定方法為JIS K 6911：2006。

又，隔熱構件之熱傳導率較佳為0W/(m．K)~2W/(m．K)。此時，由於隔熱構件具有充分低之熱傳導率，因此可更有效地抑制成形體及成形爐內之熱向爐外釋放之情況。隔熱構件之熱傳導率更佳為0W/(m．K)~1W/(m．K)，進而較佳為0W/(m．K)~0.5W/(m．K)。隔熱構件之熱傳導率之測定方法為常溫下之雷射閃光法。

另一方面，較佳為支撐構件為具有較高之耐火性能與較大之壓縮強度之磚塊。用作支撐構件之磚塊之壓縮強度為300MPa左右(JIS R 2206-1：2007)，磚塊之熱傳導率為4.0W/(m．K)左右(JIS R 2616：2001)。又，具有較高之隔熱性之隔熱磚之壓縮強度為4MPa左右(JIS R 2206-1：2007)，隔熱磚之熱傳導率為0.35W/(m．K)左右(JIS R 2616：2001)。即，隔熱構件具有較支撐構件更小之熱傳導率。又，隔熱構件具有較隔熱磚更大之壓縮強度。

再者，隔熱構件必須設置於不超過其之耐熱溫度之場所。例如，可藉由增加支撐構件之厚度，或者將支撐構件於厚度方向分割為多個而於其等之間夾著陶瓷纖維紙，來阻礙各接觸面之熱傳導，而實 現所述情況。

本發明之玻璃板之製造方法係使熔融玻璃從成形體之上端面溢出並分流，於成形體之下端合流而連續成形玻璃板之玻璃板之製造方法。成形體係於介隔支撐構件及隔熱構件，對成形體之長度方向之兩端面施加長度方向之力之狀態下設置。支撐構件與成形體接觸。隔熱構件不與成形體接觸，而與支撐構件接觸。隔熱構件包含雲母。

本發明之玻璃板之製造方法中，為了將成形體及成形爐內之熱不易向爐外釋放而使用之隔熱構件包含雲母。例如，包含雲母之陶瓷具有較高之耐熱性、較低之熱傳導率及較高之壓縮強度，作為隔熱構件具有優異之性質。因此，藉由使用包含雲母之隔熱構件，可更有效地達成不易將成形爐內之熱向爐外釋放之效果、及抑制起因於熱蠕變特性之成形體之變形之效果。

本發明之玻璃板之製造方法中，較佳為玻璃板為平板顯示器用玻璃基板，又，較佳為低溫多晶矽用玻璃基板。

本發明之玻璃板之製造裝置包括成形體、支撐構件、及隔熱構件。成形體係用以使熔融玻璃溢出並分流，於下方合流而連續成形玻璃板之構件。支撐構件與成形體接觸。隔熱構件不與成形體接觸，而與支撐構件接觸。成形體係於介隔支撐構件及隔熱構件，對成形體之長度方向之兩端面施加長度方向之力之狀態下設置。隔熱構件具有較支撐構件小之熱傳導率，且，具有50MPa以上之壓縮強度。

本發明之玻璃板之製造方法、及玻璃板之製造裝置可抑制經由成形體之支撐構件而釋放之成形體之熱量，且抑制由成形體之熱蠕變特性所引起之變形。

40‧‧‧熔解槽

41‧‧‧澄清槽

42‧‧‧成形裝置

43a、43b、43c‧‧‧導管

50‧‧‧成形爐

50a‧‧‧爐壁

52‧‧‧成形體

52a‧‧‧主體

52b‧‧‧上表面槽

52c‧‧‧端面

54a‧‧‧左支撐構件(支撐構件)

54b‧‧‧右支撐構件(支撐構件)

56a‧‧‧左隔熱構件(隔熱構件)

56b‧‧‧右隔熱構件(隔熱構件)

58a‧‧‧左端板

58b‧‧‧右端板

60‧‧‧位置調節機構

62‧‧‧成形體壓縮機構

62a‧‧‧氣缸

62b‧‧‧活塞

100‧‧‧攪拌裝置

200‧‧‧玻璃板製造裝置

F‧‧‧壓縮力

圖1係實施形態之玻璃板製造裝置之整體構成圖。

圖2係表示設置於成形爐內之成形體之圖。

圖3係成形體之剖面圖。

(1)玻璃板製造裝置之整體構成

一面參照圖式，一面對本發明之玻璃板之製造方法、及玻璃板之製造裝置之實施形態進行說明。圖1係表示本實施形態之玻璃板製造裝置200之構成之一例之模式圖。玻璃板製造裝置200包括：熔解槽40、澄清槽41、攪拌裝置100、成形裝置42、及導管43a、43b、43c。導管43a將熔解槽40與澄清槽41連接。導管43b將澄清槽41與攪拌裝置100連接。導管43c將攪拌裝置100與成形裝置42連接。

熔解槽40中產生之熔融玻璃通過導管43a流入至澄清槽41。澄清槽41中澄清之熔融玻璃通過導管43b流入至攪拌裝置100。攪拌裝置100中攪拌之熔融玻璃通過導管43c流入至成形裝置42。成形裝置42中，利用溢流下拉法而由熔融玻璃成形玻璃帶。玻璃帶於之後之步驟中被切斷為特定之大小，而製造玻璃板。玻璃板之寬度方向之尺寸例如為500mm~3500mm。玻璃板之長度方向之尺寸例如為500mm~3500mm。

由本發明之玻璃板之製造方法、及玻璃板之製造裝置而製造之玻璃板作為液晶顯示器、電漿顯示器、有機EL(Electroluminescence，電致發光)顯示器等之平板顯示器(FPD)用之玻璃基板特別適合。作為FPD用之玻璃基板，可使用無鹼玻璃、或含有微量鹼之玻璃。FPD用之玻璃基板之高溫黏性較高。具體而言，具有10^2.5泊之黏性之熔融玻璃之溫度為1500℃以上。高溫黏性較高之玻璃必須提高成形時之溫度，因此下述由熱蠕變特性所引起之變形更為顯著。

熔解槽40中雖未圖示，但具備燃燒器等加熱機構。熔解槽40中，由加熱機構將玻璃原料熔解，而產生熔融玻璃。玻璃原料係以實 質上可獲得所期望之組成之玻璃之方式而製備。作為玻璃之組成之一例，作為FPD用之玻璃基板而較好之無鹼玻璃含有：SiO₂：50質量%~70質量%，Al₂O₃：0質量%~25質量%，B₂O₃：1質量%~15質量%，MgO：0質量%~10質量%，CaO：0質量%~20質量%，SrO：0質量%~20質量%，BaO：0質量%~10質量%。此處，MgO、CaO、SrO及BaO之合計之含量為5質量%~30質量%。

又，作為FPD用之玻璃基板，亦可使用包含微量鹼金屬之含有微量鹼之玻璃。含有微量鹼之玻璃中，作為成分，包含0.1質量%~0.5質量%之R'₂O，較佳為包含0.2質量%~0.5質量%之R'₂O。此處，R'為選自Li、Na及K中之至少1種。此外，R'₂O之含量之合計亦可為未達0.1質量%。

又，由本發明製造之玻璃除了包含上述成分以外，亦可進而含有SnO₂：0.01質量%~1質量%(較佳為0.01質量%~0.5質量%)，Fe₂O₃：0質量%~0.2質量%(較佳為0.01質量%~0.08質量%)，考慮環境負荷，亦可實質上不含有As₂O₃、Sb₂O₃及PbO。

將以上述方式製備之玻璃原料投入至熔解槽40中。熔解槽40中，玻璃原料以對應於其之組成等之溫度而熔解。由此，熔解槽40中，例如，獲得1500℃~1600℃之高溫之熔融玻璃。

熔解槽40中所獲得之熔融玻璃從熔解槽40通過導管43a流入至澄清槽41。澄清槽41中雖未圖示，但與熔解槽40同樣地設置有加熱機構。澄清槽41中，藉由使熔融玻璃進一步升溫而澄清。例如，澄清槽41中，熔融玻璃之溫度為1550℃以上，進而上升至1600℃以上。熔融玻璃藉由升溫而澄清，且熔融玻璃中所包含之微小之泡被去除。

澄清槽41中被澄清之熔融玻璃從澄清槽41通過導管43b流入至攪拌裝置100。熔融玻璃通過導管43b時被冷卻。攪拌裝置100中，以較澄清槽41中之溫度更低之溫度，來攪拌熔融玻璃。例如，攪拌裝置 100中，熔融玻璃之溫度冷卻至1250℃~1450℃為止。此外，攪拌裝置100中，熔融玻璃之黏度例如為500泊~1300泊。熔融玻璃於攪拌裝置100中被攪拌並均質化。

攪拌裝置100中被均質化之熔融玻璃從攪拌裝置100通過導管43c流入至成形裝置42。熔融玻璃通過導管43c時進一步被冷卻，且冷卻至適合成形之黏度為止。熔融玻璃被冷卻至例如1200℃附近。成形裝置42中，由溢流下拉法而成形熔融玻璃。具體而言，流入至成形裝置42中之熔融玻璃被供給至設置於成形爐50內之成形體52。成形體52由耐火磚而成形，且具有楔狀之剖面形狀。於成形體52之上表面，沿著成形體52之長度方向而形成著槽。熔融玻璃被供給至成形體52之上表面之槽。從槽溢出之熔融玻璃沿著成形體52之一對側面向下方流下。沿著成形體52之側面流下之一對熔融玻璃於成形體52之下端合流，連續地成形玻璃帶。玻璃帶隨著朝向下方而逐漸被冷卻，然後，被切斷為所期望之大小之玻璃板。

(2)成形體之構成

圖2係表示設置於成形爐50內之成形體52之概略圖。於圖2中，成形體52之長度方向為左右方向。以下，「長度方向」係指成形體52之長度方向。成形體52具有主體52a、供給熔融玻璃之上表面槽52b、及成形體52之長度方向之端面52c。圖3係圖2之III-III線之成形體52之剖面圖。圖3中表示著從成形體52之上表面槽52b溢出並流下之一對熔融玻璃於成形體52之下端合流，而成形玻璃帶之狀況。

如圖2所示，成形體52介隔一對支撐構件54a、54b、及一對隔熱構件56a、56b，而固定於成形爐50之爐壁50a。以下，將圖2中左側所示之支撐構件稱為左支撐構件54a，將圖2中右側所示之支撐構件稱為右支撐構件54b。又，將圖2中左側所示之隔熱構件稱為左隔熱構件56a，將圖2中右側所示之隔熱構件稱為右隔熱構件56b。

左支撐構件54a與成形體52及左隔熱構件56a接觸。左隔熱構件56a與左支撐構件54a接觸，但不與成形體52接觸。左支撐構件54a於成形體52之端面52c中，與成形體52接觸。左支撐構件54a於與成形體52之端面52c接觸之面所對向之面中，與左隔熱構件56a接觸。以上之說明亦同樣地適用於右支撐構件54b及右隔熱構件56b。

成形體52於對長度方向之兩側之端面52c施加長度方向之力之狀態下，設置於成形爐50內。即，如圖2所示，成形體52中施加著於長度方向壓縮成形體52之壓縮力F。

右支撐構件54b及右隔熱構件56b由右端板58b而固定於長度方向。右隔熱構件56b於與右支撐構件54b接觸之面所對向之面中，與右端板58b接觸。右端板58b連結於位置調節機構60。位置調節機構60可根據成形體52及成形爐50之尺寸之微小之變化，而將右端板58b之位置於長度方向進行微調整。右支撐構件54b、右隔熱構件56b及右端板58b由成形爐50之爐壁50a而支撐。右支撐構件54b插入至形成於爐壁50a之孔中。

左支撐構件54a及左隔熱構件56a由左端板58a支撐於長度方向上。左隔熱構件56a於與左支撐構件54a接觸之面所對向之面中，與左端板58a接觸。左端板58a連結於成形體壓縮機構62。左支撐構件54a、左隔熱構件56a及左端板58a由成形爐50之爐壁50a而支撐。左支撐構件54a插入至形成於爐壁50a之孔中。

成形體壓縮機構62沿著長度方向將左端板58a朝向成形體52按壓，由此可對成形體52施加壓縮力F。本實施形態中，成形體壓縮機構62設置於成形爐50之外部，且具有氣缸62a與活塞62b。利用氣缸62a內部之空氣壓力，而活塞62b可朝向成形體52於長度方向上移動。成形體壓縮機構62可藉由使氣缸62a內部之空氣壓力變化，而調節對成形體52所施加之壓縮力F。

支撐構件54a、54b係具有較高之耐熱性與較高之壓縮強度之磚塊。隔熱構件56a、56b係具有較支撐構件54a、54b低之熱傳導率，且具有較高之壓縮強度及較高之耐熱性之構件。具體而言，隔熱構件56a、56b具有2W/(m．K)以下之熱傳導率，且具有50MPa以上之壓縮強度，且具有550℃以上之耐熱溫度。

隔熱構件56a、56b之較佳例為包含雲母之隔熱材料。例如，由達馬550L(岡部雲母工業所股份有限公司製)、達馬700L(岡部雲母工業所股份有限公司製)、或雲母陶瓷TMC-110(日本特殊陶業股份有限公司製)而成形之塊體，從熱傳導率、耐熱性及壓縮強度之觀點考慮，適合作為隔熱構件56a、56b。

(3)特徵

(3-1)

本實施形態之玻璃板製造裝置200中，由溢流下拉法所形成之玻璃帶之成形所使用之成形體52，如圖2所示，於對長度方向之兩側之端面52c施加長度方向之壓縮力F之狀態下，設置於成形爐50之內部。

成形體52設置於成形爐50內之高溫之環境下，且於成形體52中，施加由自重及玻璃帶之重量所引起之荷重。因此，成形體52之長度方向之中央部具有因熱蠕變特性而容易向下方垂下之傾向。由於成形體52之下端為連續地成形玻璃帶之點，因此起因於熱蠕變特性之成形體52之變形可能會對所製造之玻璃板之品質帶來影響。

又，成形體52之溫度分佈對從成形體52之下端連續成形之玻璃板之品質帶來較大之影響。具體而言，成形體52之長度方向之溫度差使沿著成形體52之表面流下之熔融玻璃之長度方向之溫度差產生。熔融玻璃之長度方向之溫度差使所成形之玻璃板之長度方向之厚度差產生。即，成形體52之長度方向之溫度差對玻璃板之板厚偏差帶來影響。又，成形體52之溫度分佈亦對成形爐50內之環境之溫度分佈帶來 影響。成形爐50內之環境之長度方向之溫度差亦與成形體52之長度方向之溫度差同樣地，對玻璃板之板厚偏差帶來影響。

本實施形態中，藉由對成形體52施加長度方向之壓縮力F，而抑制起因於熱蠕變特性之成形體52之變形。壓縮力F為將成形體52於長度方向壓縮之力，可抑制成形體52之長度方向之中央部向下方垂下之變形。

又，成形體52介隔支撐構件54a、54b及隔熱構件56a、56b，被支撐於成形爐50之內部。如圖2所示，成形體52於長度方向之兩側，由一對支撐構件54a、54b夾著，進而，由一對隔熱構件56a、56b夾著。隔熱構件56a、56b具有2W/(m．K)以下之較低之熱傳導率，因此，成形爐50內之環境之熱、及成形體50之熱不易沿著隔熱構件56a、56b而向成形爐50之外部釋放。因此，利用隔熱構件56a、56b，可防止成形體52及成形爐50內之溫度分佈之惡化。具體而言，利用隔熱構件56a、56b可降低成形體52之長度方向之溫度差，由此，亦降低成形爐50內之環境之長度方向之溫度差。因此，隔熱構件56a、56b具有減少從成形體52之下端成形之玻璃板之長度方向之厚度差之效果。

又，利用隔熱構件56a、56b，可避免因從成形爐50之內部釋放之熱而設置於成形爐50之外部之成形體壓縮機構62破損。具體而言，可避免成形體壓縮機構62之氣缸62a之襯墊因熱而劣化，無法維持密封性能之情況。

又，隔熱構件56a、56b具有50MPa以上之壓縮強度，因此，可充分耐受由成形體壓縮機構62對成形體50所施加之長度方向之壓縮力F。因此，亦可使用隔熱構件56a、56b，充分抑制起因於熱蠕變特性之成形體50之變形。

(3-2)

於FPD用之玻璃基板之表面形成TFT(thin film transistor，薄膜電 晶體)等之半導體元件。近年來，為了實現顯示器裝置之進一步之高精細化，要求代替以往之α-Si．TFT，將低溫p-Si(多晶矽)．TFT、及氧化物半導體形成於玻璃基板之表面之技術。

然而，將低溫p-Si．TFT、及氧化物半導體形成於玻璃基板之表面之步驟與將α-Si．TFT形成於玻璃基板之表面之步驟相比，需要更高溫之熱處理。因此，將低溫p-Si．TFT、及氧化物半導體形成於表面之玻璃板，要求熱收縮率較小之性質。為了使熱收縮率減小，較佳為提高玻璃之應變點。然而，應變點高之玻璃具有液相溫度變高，液相溫度下之黏度即液相黏度變低之傾向。又，為了防止玻璃之失透，必須使成形時之熔融玻璃之溫度較α-Si．TFT用玻璃基板之成形時之熔融玻璃之溫度更高，因此，必須使成形爐內部之環境更高溫。因此，於將低溫p-Si．TFT、及氧化物半導體形成於表面之玻璃基板之製造步驟中，起因於成形體之熱蠕變特性之變形變得更為顯著。

本實施形態之玻璃板製造裝置200藉由使用具有上述特徵之隔熱構件56a、56b來支撐成形體52，而特別適合於採用低溫p-Si．TFT之平板顯示器、及採用氧化物半導體之平板顯示器用之玻璃基板之製造。具體而言，特別適合於採用低溫p-Si．TFT之液晶顯示器、及採用氧化物半導體之液晶顯示器用之玻璃基板之製造。

將低溫p-Si．TFT、及氧化物半導體形成於表面之玻璃板例如具有655℃以上之應變點，或，具有45000泊以上之液相黏度。又，該玻璃板之組成較佳為SiO₂：52質量%~78質量%，Al₂O₃：3質量%~25質量%，B₂O₃：1質量%~15質量%，RO：3質量%~20質量%。此處，R為玻璃板中含有之選自Mg、Ca、Sr及Ba中之至少1種之成分。該玻璃板較佳為以(SiO₂+Al₂O₃)/B₂O₃所表示之質量比為7~20之無鹼玻璃或含有微量鹼之玻璃。

將低溫p-Si．TFT、及氧化物半導體形成於表面之玻璃板為了具 有較高之應變點，而以(SiO₂+Al₂O₃)/RO所表示之質量比為5以上，較佳為6以上，進而較佳為7.5以上。又，該玻璃板若β-OH值過小，則高溫區域中之黏性變高而熔解性降低，又，亦需要特殊之環境控制而成本變高。另一方面，該玻璃板若β-OH值過大，則應變點變低。因此，該玻璃板較佳為具有0.05/mm~0.3/mm之β-OH值。又，該玻璃板為了具有較高之應變點且防止液相黏度之降低，而以CaO/RO表示之質量比為0.3以上，較佳為0.5以上，更佳為0.65以上。又，考慮環境負荷，該玻璃板較佳為實質上不含有As₂O₃、Sb₂O₃及PbO。

50‧‧‧成形爐

50a‧‧‧爐壁

52‧‧‧成形體

52a‧‧‧主體

52c‧‧‧端面

54a‧‧‧左支撐構件(支撐構件)

54b‧‧‧右支撐構件(支撐構件)

56a‧‧‧左隔熱構件(隔熱構件)

56b‧‧‧右隔熱構件(隔熱構件)

58a‧‧‧左端板

58b‧‧‧右端板

60‧‧‧位置調節機構

62‧‧‧成形體壓縮機構

62a‧‧‧氣缸

62b‧‧‧活塞

F‧‧‧壓縮力

Claims (9)

1. 一種玻璃板之製造方法，係使熔融玻璃從成形體之上端面溢出並分流，於上述成形體之下端合流而連續成形玻璃板者，上述成形體係於介隔與上述成形體接觸之支撐構件、及不與上述成形體接觸而與上述支撐構件接觸之隔熱構件，對上述成形體之長度方向之兩端面施加上述長度方向之力之狀態下設置，上述隔熱構件具有較上述支撐構件小之熱傳導率，且具有可充分耐受對上述成形體施加之上述長度方向之壓縮力之壓縮強度。
2. 如請求項1之玻璃板之製造方法，其中上述隔熱構件具有2W/(m．K)以下之熱傳導率。
3. 如請求項1之玻璃板之製造方法，其中上述隔熱構件具有550℃以上之耐熱溫度。
4. 如請求項2之玻璃板之製造方法，其中上述隔熱構件具有550℃以上之耐熱溫度。
5. 一種玻璃板之製造方法，係使熔融玻璃從成形體之上端面溢出並分流，於上述成形體之下端合流而連續成形玻璃板者，上述成形體係於介隔與上述成形體接觸之支撐構件、及不與上述成形體接觸而與上述支撐構件接觸之隔熱構件，對上述成形體之長度方向之兩端面施加上述長度方向之力之狀態下設置，上述隔熱構件包含雲母。
6. 如請求項1至5中任一項之玻璃板之製造方法，其中 上述玻璃板為平板顯示器用玻璃基板。
7. 如請求項1至5中任一項之玻璃板之製造方法，其中上述玻璃板為低溫多晶矽用玻璃基板。
8. 如請求項6之玻璃板之製造方法，其中上述玻璃板為低溫多晶矽用玻璃基板。
9. 一種玻璃板之製造裝置，其包括：成形體，其用以使熔融玻璃溢出並分流，於下方合流而連續成形玻璃板；支撐構件，其與上述成形體接觸；及隔熱構件，其不與上述成形體接觸而與上述支撐構件接觸；上述成形體係於介隔上述支撐構件及上述隔熱構件，對上述成形體之長度方向之兩端面施加上述長度方向之力之狀態下設置，上述隔熱構件具有較上述支撐構件小之熱傳導率，且具有可充分耐受對上述成形體施加之上述長度方向之壓縮力之壓縮強度。