TWI507779B

TWI507779B - 液晶顯示器

Info

Publication number: TWI507779B
Application number: TW100136501A
Authority: TW
Inventors: Young Jae Lee; Jin Su Kim; Jun Lee; Kyoung Jong Yoo
Original assignee: Lg Innotek Co Ltd
Priority date: 2010-10-20
Filing date: 2011-10-07
Publication date: 2015-11-11
Also published as: TW201222085A; WO2012053756A2; KR20120040868A; WO2012053756A3; KR101319444B1

Description

液晶顯示器

本發明係主張關於2010年10月20日申請之韓國專利案號10-2010-0102357之優先權。藉以引用的方式併入本文用作參考。

本發明係關於一種包含有一線柵偏光板(wire grid polarizer)之液晶顯示器(liquid crystal display，LCD)結構。

一LCD係為一平面面板顯示器，被廣泛地使用於各種應用中，如行動電話、筆電、螢幕、及電視。一LCD係指可在一電子訊號被施於設置在兩偏光板之間的一液晶面板時，由其中液晶之排列來傳輸或阻隔光之一裝置。因此，需要一獨立的光源來使一LCD運作。一背光單元係被提供作為該光源。

圖1係繪示有一傳統LCD結構。參閱圖1，該LCD係包括：一液晶面板A；以及設置於該液晶面板A之下方的一背光單元B。液晶面板A係包括：一頂基板9；一底基板6；設置於頂基板9與底基板6之間的一液晶LC；以及透明導電膜(氧化銦錫(ITO))7、8，以驅動該液晶面板。特別是，一彩色濾波器(color filter)係被排列於液晶面板A之一上部分，且一薄膜電晶體(thin film transistor，TFT)陣列係被排列於液晶面板A之一下部分。背光單元B係被設置於液晶面板A之下方，且係包括：一導光板2(light guide plate)，以將自一光源發出之光導引向上；一反射片1(reflection sheet)；一擴散片3(diffusion plate)；以及一增亮片4(brightness enhancement film，BEF)。

為了增加光的穿透性，一偏光膜5(polarizing film)係被提供於組成液晶面板之TFT陣列之底基板6之底面上，且一偏光膜10係被提供於組成TFT陣列之頂基板9之頂面上。

然而。因為一傳統LCD係使用一昂貴的偏光膜，故其製造成本會增加，且偏光膜的厚度使得輕薄LCD的製造變得困難。另外，因為一偏光膜在使用壽命(durability)與耐熱性(heat resistance)方面的表現較差，因而嚴重地限制了LCD製造流程的適用性。一光吸收偏光膜(absorptive polarizing film)的使用，造成光增亮的弱化。

本發明之一方面係在於提供一種LCD，其中一線柵偏光板係直接形成於有一薄膜電晶體與液晶形成之一玻璃底基板之上，藉此經由去除一習知偏光膜來降低生產成本、縮小LCD之整體厚度，並達到增亮效果。

根據本發明一實施例，一LCD係包括：一液晶面板；以及一線柵偏光板，其係具有複數個格柵圖案直接形成於該液晶面板之一底基板之頂面或底面之上。

尤其，該線柵偏光板係進一步包含有一第二格柵圖案形成於形成在該底基板上之一第一格柵圖案之上。

本發明實施例之方面、功效、與優點將配合所附圖示說明之。

在以下參考所附圖示，將詳細說明本發明之實施例。相同參考的數字將會指定到圖示解說中的相同元件，重複解說的部分將予省略。應理解的是，「第一」、「第二」以及類似的用詞在此是用來描述不同的元件；這些元件並不限制於此些用詞。這些用詞係用以區分各項元件者。

本發明之實施例係在於提供一技術，其係使整體液晶面板變得輕薄，以使一線柵偏光板直接形成於組成一LCD之一底基板之上，且一TFT再形成於其上，進而達到光的增亮，並降低生產成本。

為達此目的，本發明實施例係在於提供一種線柵偏光板，其係包括一液晶面板以及複數個格柵圖案直接形成於該液晶面板之一底基板之頂面或底面之上。特別是，可藉由調整格柵圖案之週期(period)、高度、及寬度，來改善偏光效率(polarization efficiency)。另外，可經由各種表面處理(surface treatments)或是保護層來改善LCD之可靠度。

圖2係根據本發明一實施例，繪示有包含一線柵偏光板之一LCD結構之剖面圖。

參閱圖2，根據本發明一實施例之一LCD可包括一液晶面板A以及一線柵偏光板100。該線柵偏光板100係包括複數個格柵圖案直接形成於液晶面板A之一底基板之一表面之上，或於相對於該底基板表面之另一表面上。該LCD進一步包含有一背光單元B，以將來自一光源之光向上發射。

也就是說，根據本發明實施例之液晶面板A，其重點在於該線柵偏光板係由直接地形成複數個格柵圖案一玻璃底基板上來實施。一包含有透明導電膜(氧化銦錫(ITO))之TFT陣列7可被設置於該線柵偏光板之上。一彩色濾波器8以及一液晶LC係被設置於一玻璃頂基板9之下方。一偏光膜可進一步地被提供於玻璃頂基板9之上。用語『直接地』係指格柵圖案係形成為與該玻璃底基板之表面有緊密接觸。

另外，設置於液晶面板A之下方的背光單元B可包含一一般的背光單元，其中包括一導光板2以將來自光源的光導引向上；一擴散片3；以及各種增亮片4。

圖3係繪示有直接地被提供於液晶面板A之玻璃底基板110之上的線柵偏光板100結構。

參閱圖3，根據本發明實施例之線柵偏光板100可包括：一第一格柵層120，其係具有至少一第一格柵圖案121直接地形成於液晶面板A之基板110之上；以及至少一第二格柵圖案130，使用一金屬形成於第一格柵圖案121之上。

線柵偏光板100可進一步包括：一保護層C於第二格柵圖案130之上。保護層C可形成以包覆第二格柵圖案130之側面及頂面，保護層C為單層結構。

當保護層C被提供時，一TFT陣列7可被提供於保護層C之上。

基板110可為用於一LCD之一玻璃基板。堆疊於基板110頂面上之第一格柵層120係使用一聚合物來形成。且較佳地，第一格柵圖案121為一具有一恆定週期(constant period)之突起圖案(protrusion pattern)，其係使用一聚合物來形成於第一格柵層120之表面上。

也就是說，第一格柵層120係被定義為包括複數個第一格柵圖案121之一層，其中該些第一格柵圖案121係為突起圖案，且係以一恆定週期形成於以一聚合物形成之樹脂層上。尤其，根據本發明實施例之第一格柵層120較佳地係由使用一材料來形成，該材料之折射率係等於基板110之折射率。若有需要，第一格柵層120可使用折射率小於或大於基板110之折射率之材料來形成。

另外，根據本發明實施例之第一格柵圖案121之一寬高比可落在1：0.2至1：5之範圍內。較佳地，第一格柵圖案121之寬w係落在10nm至200nm之範圍內，而第一格柵圖案121之高h1係落在10nm至 500nm之範圍內。另外，第一格柵圖案之週期可落在100nm至250nm之範圍內。

第二格柵圖案130係包括以一恆定週期排列之微細金屬突起圖案(fine metallic protrusion patterns)。尤其，第二格柵圖案130係為一突起結構，以一沉積方法(deposition process)等等形成於第一格柵圖案121之頂面上。第二格柵圖案130可使用包括選自由鋁(Al)、鉻(Cr)、銀(Ag)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鈷(Co)其中任一者、或上述之一合金來形成。『週期』一詞係指一金屬格柵圖案(如第二格柵圖案)與一相鄰之金屬格柵圖案(如第二格柵圖案)之間的距離。

另外，第二格柵圖案130之截面可具有各種不同的形狀如矩形、三角形、半圓形等等，且可具有一金屬線形，局部地形成於一印刷為三角形、矩形、或正弦波形(sinusoidal shape)之基板上。也就是說，第二格柵圖案130可使用任何以一恆定週期排列於一單一方向之金屬線柵來形成，而不需考慮其截面結構。

在此情況下，第二格柵圖案130之週期可等於或小於其使用的光波長之一半。據此，第二格柵圖案130之週期可落在100rm至250nm之範圍內，以確保一可見光區之平衡並維持白平衡。若第二格柵圖案130之週期大於250nm，則紅光、綠光、及白光會產生不平衡。

另外，根據本發明實施例之線柵偏光板可根據兩格柵(該第一及第二格柵圖案)之高度及寬度來調整透光率。若格柵寬度以相同間距增加，則透光率減弱，而極化消光比(polarization extinction ratio)增加。因此，為了確保最大的偏光效率，偏光性質係在間距縮小時改善。若格柵圖案係以相同的格柵間距離以及相同的格柵寬度形成，則偏光性質係隨著格柵高度增加而改善。若格柵圖案係以相同的格柵間距離以及相同的格柵高度形成，偏光性質係隨著格柵寬度增加而改善。因此，較佳地，第一格柵圖案之寬係被調整為第二格柵圖案之寬的0.2至1.5倍。另外，第二格柵圖案130之寬高比率可落在1：0.5至1：1.5之範圍內。特別是，第一格柵圖案與第二格柵圖案之寬之比率可落在1：0.2至1：1.5之範圍內。尤其，第二格柵圖案之寬度可落在2nm至300nm之範圍內。在此情況下時，偏光性質可為最大者。

在根據本發明實施例之上述線柵偏光板中，特殊線柵偏光板結構係直接地被實施於組成LCD之液晶面板之玻璃底基板之上，進而由去除習知偏光膜來降低LCD之生產成本。另外，因為格柵圖案係直接地被實施於液晶面板之底基板之上，故相較於使用習知偏光膜之情況，LCD之整體厚度係被縮小，光之亮度係被增強。

在下文中，將說明根據本發明之形成於玻璃底基板上之上述線柵偏光板的各種修改例。

(1)黑化層(blackening layer)

在下文中，將配合圖示4A至4C，詳細說明根據本發明另一實施例之線柵偏光板。該線柵偏光板係包括：一第二格柵圖案130，其係為一金屬格柵圖案，形成於一玻璃底基板110之一表面或兩表面上；以及一黑化層E，其係形成於第二格柵圖案130之局部或整體部分。該黑化層E係可顯著地降低來自外界之光於表面重新反射(re-reflection)之比例，進而改善一對比率(contrast ratio)以及辨識度(readability)。另外，根據本發明實施例之該線柵偏光板可進一步包括一聚合物層120(polymer layer)於基板110與第二格柵圖案130之間。該聚合物層120係使用一聚合物形成，且係用以增強基板110與金屬格柵圖案130之間的接合力，進而改善使用壽命。

如圖4C所示，根據本發明實施例之黑化層E亦可被應用於圖3中之結構，其中第一格柵圖案121係形成於該聚合物層之上，而第二格柵圖案130係形成於第一格柵圖案121之上。

黑化層E可由使用一有機材料或一無機材料，將第二格柵圖案130之局部或整體部分黑化來形成。也就是說，根據本發明實施例之黑化係指一包覆層(cover layer)的形成，其係使用一有機材料或一無機材料，且包覆第二格柵圖案130之表面。較佳地，因黑化層E之故，該基板之表面反射率可等於或小於40%。

該用於黑化之有機材料之例子係包括一鉻氧化物(chromium oxide)或一含碳材料(carbon-containing material)；而該無機材料可由在銅上進行一氧化製程來處理。也就是說，當使用無機材料時，銅係被沉積於上述金屬格柵圖案之上，且係被蝕刻，以使僅有銅會局部地或整體地形成於該金屬格柵圖案之上。然後，進行一濕或乾金屬氧化(黑化)製程，以將該銅黑化。或者，黑化層E可由將鉻沉積於金屬格柵圖案之上，然後蝕刻之，以使鉻局部地或整體地形成於該金屬格柵圖案之上。

(2)基板下方奈米光學圖案(Nano Optical Pattern)結構

圖5係根據本發明另一實施例，繪示有一線柵偏光板。該線柵偏光板係包括：一第一格柵層120，其係具有至少一第一格柵圖案121於基板110之上；以及至少一第二格柵圖案130，形成於第一格柵圖案121之上。特別是，該線柵偏光板係進一步包括：一聚合物層140，其係具有複數個光學圖案141形成於玻璃底基板110之後表面上。『後表面』係指一表面相對於有第一格柵圖案及第二格柵圖案形成之表面者。聚合物層140係包括複數個光學圖案141在形成有金屬格柵圖案之基板的相對表面上。因此，聚合物層140的存在得以在光入射時降低光損失。因此，穿透光的量係被提升，進而穩定色彩座標(color coordinates)。

在此情況下，形成於有第二格柵圖案130形成之基板的相對表面上之聚合物層140係較佳地形成，且包括複數個奈米大小的光學圖案141。在此情況下，該聚合物層可使用一紫外線樹脂(UV resin)或一熱固型樹脂(thermosetting resin)，但本發明並不限制於此。具有高透光率之一聚合物樹脂亦可被使用。

至於形成在聚合物層140表面上之光學圖案141，其係為突起圖案，自聚合物層表面向上突伸，且其可以規則或不規則的方式排列。該突起圖案之寬度可落在10nm至200nm之範圍內。該作為突起圖案之光學圖案可具有各種立體形狀。舉例而言，該光學圖案之垂直剖面可具有各種形狀如矩形、三角形、半圓形等，用於一圓錐型(conical type)、一圓柱型(cylindrical type)、一稜鏡型(prism type)、以及一光柵型(grating type)。

另外，當聚合物層形成於該基板上時，該光學圖案可由使用一形成圖案之模具來加壓形成。又，較佳地，根據本發明實施例之聚合物層係使用一折射率低於該基板折射率之材料來形成。因此，入射光L1之臨界角(critical angle)係變大，藉此降低入射平面上之表面反射，進而提高透光率。該奈米大小光學圖案存在於入射平面上，以使光入射面積增加，進而提高透光率。另，聚合物層140亦被用作為一保護層，以保護基板110，提升基板抗刮的能力。

(3)保護層結構

在另一方式中，如圖6所示，一表面處理層Y可形成於第一格柵圖案121或第二格柵圖案130之上。

表面處理層Y可形成於第一格柵圖案或第二格柵圖案之上。表面處理層Y之結構係可由使用一大氣電漿處理(atmospheric plasma treatment)、一真空電漿處理(vacuum plasma treatment)、一含氧水處理(oxygenated water treatment)、一前-抗氧化物處理(pro-oxidant treatment)、一抗腐蝕處理(anticorrosive treatment)、以及一自組裝單分子層塗覆(self-assembly monolayer(SAM)coating)其中任一表面處理方法來形成。

特別是，如圖6所示，當表面處理層Y係形成以環繞整個第二格柵圖案以及第一格柵圖案121與第二格柵圖案130之間的緊密接觸區域Z時，能夠提升耐久性而不會在各格柵圖案表面上造成形變之一氧化膜或一相似表面處理膜係被提供。因此，可達到能夠改善第一及第二格柵圖案與聚合物層間緊密接觸的物理性質，而不會使光學特性弱化。

(4)光吸收層的多層結構

根據本發明實施例之線柵偏光板係包括：一第一格柵層120，其係具有至少一第一格柵圖案121於一基板110之上；一第二格柵圖案130，使用一金屬形成於第一格柵圖案121之上；以及一光吸收層Q，堆疊於第二格柵圖案130之上，以吸收自外界入射之光。

第二格柵圖案130係使用具有高反射性之金屬來形成，故可提升光反射效率，得以達到光的再使用。光吸收層Q係用作為吸收自外界入射之光，進而達成光的增亮。

光吸收層Q係形成於第二格柵圖案130之上，以用作為吸收自外界入射之光的功能，且其可形成為多種不同形狀。

如圖7所示，光吸收層Q可形成為一堆疊結構，其係包括：一第一光吸收格柵圖案151形成於第二格柵圖案130之上；一第三格柵圖案152，使用一金屬形成於第一光吸收格柵圖案151之上；以及一第二光吸收格柵圖案153，形成於第三格柵圖案152之上。經由此結構，光吸收層Q可吸收自外界入射之光。特別是，第一及第二光吸收格柵圖案151、153可使用一透明金屬氧化物如SiO₂ 、MgO₂ 、CeO₂ 、ZrO₂ 、ZnO、indium tin oxide(ITO)等來形成。為增加光吸收效率，第二光吸收格柵圖案153可使用一金屬來形成。第三格柵圖案152可使用選自由鋁(Al)、鉻(Cr)、銀silver(Ag)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鈷(Co)、及鉬(Mo)其中任一者、或上述之一合金來形成。在此情況下，第一光吸收格柵圖案151之厚度h1係落在50nm至300nm之範圍內；第三格柵圖案152之厚度係落在1nm至20nm之範圍內；而第二光吸收格柵圖案153之厚度h2係落在50nm至500nm之範圍內。

如圖8至12所示，光吸收層Q之結構可被修正為各種形狀。

如圖8所示，光吸收層Q可被修正為：其中一第二光吸收格柵層154係以一單層結構，而非一圖案結構，形成於第二格柵圖案130之上。第二光吸收格柵層154，取代了獨立設置的第二光吸收格柵圖案153，係藉由沉積方法來整體地覆蓋第三格柵圖案152。第二光吸收格柵層154可用作為吸光的功能，且亦可作為一保護層來使用，以保護整個線柵偏光板。

如圖9所示，一機能性薄膜160(functional film)可被進一步地提供於圖7所示之線柵偏光板之第二光吸收格柵圖案153之上。而如圖10所示，一機能性薄膜160可被進一步地提供於圖8所示之線柵偏光板之第二光吸收格柵層154之上。該機能性薄膜160係被設置於光吸收層Q之上，以補償一觀視角度(viewing angle)，或穩定特殊色彩座標(color coordinates)。為達此目的，一補償薄膜(compensation film)(COP、TAC、PC基板)可由一層壓製程(lamination process)來形成。

另外，線柵偏光板可形成以具有圖11、12中所示之結構。

參閱圖11，該線柵偏光板係包括：一第一格柵層120，其係具有至少一第一格柵圖案121於一基板110之上；以及一光吸收層Q，其係具有一光吸收格柵圖案於第一格柵圖案121之上。另外，該線柵偏光板可進一步包括：一第二格柵圖案130，其係具有至少一第二格柵圖案，以一金屬形成於光吸收層Q之上。也就是說，圖7或8所示之第二格柵圖案130結構亦可被設置於該線柵偏光板之最頂部。

光吸收層Q可形成為一堆疊結構，該堆疊結構係包括：一第一光吸收格柵圖案151形成於第一格柵圖案121之上；一第三格柵圖案152，使用一金屬形成於第一光吸收格柵圖案151之上；以及一第二光吸收格柵圖案153，形成於第三格柵圖案152之上。經由此結構，光吸收層Q可吸收自外界入射之光。特別是，第一及第二光吸收格柵圖案151、153可使用一透明金屬氧化物如SiO₂ 來形成。為增加光吸收效率，第二光吸收格柵圖案153可使用一金屬來形成。

也就是說，第三格柵圖案152可使用選自由鋁(Al)、鉻(Cr)、銀(Ag)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鈷(Co)、及鉬(Mo)其中任一者、或上述之一合金來形成。在此情況下，如上所述，第一光吸收格柵圖案151之厚度係落在50nm至300nm之範圍內；第三格柵圖案152之厚度係落在1nm至20nm之範圍內；而第二光吸收格柵圖案153之厚度係落在50nm至500nm之範圍內。顯而易見的是，與圖2所述中相同的材料與大小亦可適用於其他的結構，包括第一及第二格柵圖案之大小的調整。

如圖12所示，一保護層170可進一步地被提供於圖10所示之結構中，以保護作為一金屬圖案之第二格柵圖案130。尤其，該保護層170可使用一氧化物或一聚合物樹脂來形成於第二格柵圖案130之上。

根據本發明實施例，線柵偏光板係直接地形成於有一薄膜電晶體與液晶形成之一玻璃底基板之上，藉此經由去除一習知偏光膜來降低生產成本、縮小LCD之整體厚度，並達到增亮效果。

雖然參考實施例之許多說明性實施例來描述實施例，但應理解，熱習此項技術者可想出將落入本發明之原理的精神及範疇內的眾多其他修改及實施例。因此，本發明之範疇應由所附之專利範圍之範疇，而非本參考書之說明內文，來定義，且所有落入本發明範疇之修改均應被理解為被包括於本發明申請範疇之內。

A‧‧‧液晶面板

B‧‧‧背光單元

1‧‧‧反射片

2‧‧‧導光板

3‧‧‧擴散片

4‧‧‧增亮片

5‧‧‧偏光膜

6、9‧‧‧基板

7、8‧‧‧透明導電膜

10‧‧‧偏光膜

100‧‧‧線柵偏光板

LC‧‧‧液晶

110‧‧‧玻璃底基板

120‧‧‧第一格柵層

121、130、152‧‧‧格柵圖案

C、170‧‧‧保護層

E‧‧‧黑化層

140‧‧‧聚合物層

141‧‧‧光學圖案

L1‧‧‧入射光

Z‧‧‧區域

Y‧‧‧表面處理層

151、153‧‧‧光吸收格柵圖案

P波‧‧‧平行極化波

S波‧‧‧垂直極化波

P‧‧‧間距

W‧‧‧寬度

H1、H2‧‧‧高度

154‧‧‧光吸收格柵層

160‧‧‧薄膜

Q‧‧‧光吸收層

圖1係繪示有一傳統LCD結構及功能；圖2係根據本發明一實施例，繪示有包含一線柵偏光板之一LCD結構之剖面圖；圖3係根據本發明一實施例，繪示有直接地一線柵偏光板之一主要部分；圖4A至4C係根據本發明一實施例，繪示有線柵偏光板中一黑化層之剖面圖圖5係根據本發明另一實施例，繪示有一線柵偏光板結構；圖6係根據本發明另一實施例，繪示有一線柵偏光板結構；圖7係根據本發明另一實施例，繪示有一線柵偏光板結構之剖面圖；以及圖8至圖12係根據本發明另一實施例，繪示有一線柵偏光板結構之剖面圖。

A．．．液晶面板

B．．．背光單元

1．．．反射片

2．．．導光板

3．．．擴散片

4．．．增亮片

7、8．．．透明導電膜

9．．．頂基板

10．．．偏光膜

100．．．線柵偏光板

LC．．．液晶

Claims

一種液晶顯示器包括：一液晶面板；一線柵偏光板，包含一第一格柵圖案形成於該液晶面板之一底基板上，及一第二格柵圖案形成在該第一格柵圖案上；以及一保護層，為一單層結構，且形成在該第二格柵圖案的一上部份；一第一光吸收格柵圖案，其形成於該第二格柵圖案的該上部份；一第三格柵圖案，其使用一金屬形成於該第一光吸收格柵圖案之上；其中該保護層為一第二光吸收格柵層且形成於該第三格柵圖案上。
如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器，其中該保護層整體地覆蓋於該第二格柵圖案的一上表面。
如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器，其進一步包括：一機能性薄膜形成於該第二光吸收格柵層之上。
如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器，其中該第一格柵圖案係使用一聚合物形成，該聚合物之一折射率係等於該基板之一折射率。
如申請專利範圍第4項所述之液晶顯示器，其中該第二格柵圖案係使用包括選自由鋁(Al)、鉻(Cr)、銀(Ag)、銅(Cu)、鎳(Ni)、鈷(Co)其中任一者、或上述之一合金來形成。
如申請專利範圍第4項所述之液晶顯示器，其中該第一格柵圖案之一寬高比係落在1：0.2至1：5之範圍內。
如申請專利範圍第6項所述之液晶顯示器，其中該第一格柵圖案之高與該第二格柵圖案之高的一比率係落在1：0.2至1：1.5之範圍內。
如申請專利範圍第6項所述之液晶顯示器，其中該第一格柵圖案之寬度係落在10nm至200nm之範圍內，而該第一格柵圖案之高度係落在10nm至500nm之範圍內。
如申請專利範圍第8項所述之液晶顯示器，其中該第二格柵圖案之寬度係落在2nm至300nm之範圍內。
如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器，其進一步包括：一聚合物層，其係具有複數個光學圖案形成於底基板上有該第一及第二格柵圖案形成之表面的一相對表面上。
如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器，其進一步包括：一光吸收層設置於該線柵偏光板及該保護層之間，用以吸收自外界入射之光。
如申請專利範圍第11項所述之液晶顯示器，其中該光吸收層進一步包括：一第一光吸收格柵圖案，其形成於該第二格柵圖案的該上部份；一第三格柵圖案，使用一金屬形成於該第一光吸收格柵圖案之上；一第二光吸收格柵圖案，形成於該第三格柵圖案之上，其中該保護層形成於該第二光吸收格柵圖案之上。
如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器，其中該保護層係以一有機材料或一無機材料進行黑化，且被黑化之該基板之表面反射率等於或小於40%。
如申請專利範圍第1項所述之液晶顯示器，其進一步包括：一光吸收層，其形成於該第一格柵圖案及該第二格柵圖案之間，用以吸收自外界入射之光；其中該光吸收層進一步包括：一第一光吸收格柵圖案形成於該第二格柵圖案的該上部份；一第三格柵圖案，使用一金屬形成於該第一光吸收格柵圖案之上；以及一第二光吸收格柵圖案，形成於該第三格柵圖案之上。