TWI500514B - 低輻射絕熱塗敷膜與包括該低輻射絕熱塗敷膜的建築材料及低輻射絕熱塗敷膜的製備方法 - Google Patents

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Description

低輻射絕熱塗敷膜與包括該低輻射絕熱塗敷膜的建築材料及低輻射絕熱塗敷膜的製備方法
本發明涉及一種低輻射絕熱塗敷膜、建築材料及低輻射絕熱塗敷膜的製備方法。
低輻射玻璃(Low-Emissivity glass)是包含如銀(Ag)一樣在紅外線範圍中的反射率高的金屬的低輻射層蒸鍍成薄膜的玻璃。如上所述的低輻射玻璃在夏天反射太陽輻射熱，並在冬天保存室內供暖器中所產生的紅外線，以此用作帶來建築物的節能效果的功能性材料。
現有的電介質層由金屬氧化物形成，採用鋅(Zn)、鈦(Ti)及錫(Sn)等的氧化物，或者採用鋅和錫的複合金屬(SnZn)等。但是，就以往的形成電介質層的金屬氧化物而言，由於進行熱處理之後，在與氧化物相鄰的金屬層之間容易發生介面反應，因而存在進行熱處理前後的可見光透射率容易變化的缺點。
本發明一實施例提供一種不僅確保絕熱性能，而且外部表面的可見光反射率高，並且內部表面的可見光反射率低，從而能夠同時實現視野確保及隱私確保效果的低輻射絕熱塗敷膜。
本發明一實施例提供一種包括該低輻射絕熱塗敷膜的建築材料。
本發明一實施例提供一種製備該低輻射絕熱塗敷膜的方法。
本發明一實施例中，提供一種低輻射絕熱塗敷膜，該低輻射絕熱塗敷膜包括基材及塗敷層，該塗敷層是從該基材起依次包括低輻射導電層、電介質層及吸光金屬層的多層結構。
該基材一側的一面與該吸光金屬層一側的另一面的對於可見光的反射率之差可以為約30%至約75%。
該低輻射導電層的輻射率可以為約0.01至約0.3。
該低輻射導電層可包含表面電阻為約0.78Ω/sq至約6.42Ω/sq的金屬。
該低輻射導電層可包含選自包含銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)、鉑(Pt)、離子摻雜金屬氧化物及它們的組合的組中的至少一種。
該吸光金屬層的可視光範圍的消光係數可以為約1.5至約3。
該吸光金屬層可包含選自包含鎳(Ni)、鉻(Cr)、鎳(Ni) 與鉻(Cr)的合金、鈦(Ti)及它們的組合的組中的至少一種。
該電介質層包含選自包含金屬氧化物、金屬氮化物及它們的組合的組中的至少一種，或者在該至少一種物質可摻雜選自包含鉍(Bi)、硼(B)、鋁(Al)、矽(Si)、鎂(Mg)、銻(Sb)、鈹(Be)及它們的組合的組中的至少一種元素。
該電介質層可包含選自包含鈦氧化物、錫鋅氧化物、鋅氧化物、鋅鋁氧化物、錫氧化物、鉍氧化物、矽氮化物、矽鋁氮化物及它們的組合的組中的至少一種。
該基材可以是具有約90%至約100%的可見光透射率的透明基材。
該基材可以是玻璃或透明塑膠基板。
該低輻射導電層的厚度可以為約10nm至約25nm。
該吸光金屬層的厚度可以為約5nm至約25nm。
該電介質層的厚度可以為約5nm至約50nm。
該塗敷層在該塗敷層的最外廓的單面或雙面還可包括至少一個電介質層。
該低輻射絕熱塗敷膜包括：第一電介質層，其介於該基材與該低輻射導電層之間；第二電介質層，其為該電介質層；第三電介質層，其相對於該第二電介質層位於與該吸光金屬層對置的一面的上部。
本發明一實施例中，提供一種包括該低輻射絕熱塗敷膜的建築材料。
本發明一實施例中，提供一種低輻射絕熱塗敷膜的製備方 法，該低輻射絕熱塗敷膜的製備方法包括如下步驟：在基材上蒸鍍低輻射導電性金屬或金屬氧化物來形成低輻射導電層的步驟；在該低輻射導電層的上部形成電介質層的步驟；以及在該電介質層的上部蒸鍍吸光性金屬來形成吸光金屬層的步驟。
該低輻射絕熱塗敷膜不僅確保絕熱性能，而且外部表面的可見光反射率高，並且內部表面的可見光反射率低，從而能夠同時實現視野確保及隱私確保效果。
100、200‧‧‧低輻射絕熱塗敷膜
110、210‧‧‧基材
130、230‧‧‧低輻射導電層
150、220、250、280‧‧‧電介質層
170、270‧‧‧吸光金屬層
190、290‧‧‧塗敷層
A‧‧‧該吸光金屬層一側的一面
B‧‧‧該基材一側的一面
第1圖是簡要表示本發明一實施例的低輻射絕熱塗敷膜的剖視圖。
第2圖是簡要表示本發明一實施例的低輻射絕熱塗敷膜的剖視圖。
第3圖是在實施例1至實施例7的低輻射絕熱塗敷膜的雙面分別測定對於可見光的反射率的結果。
下面，參照附圖對本發明的實施例進行詳細說明，以使本發明所屬技術領域的普通技術人員能夠容易實施。本發明能夠以多種不同的形態來體現，並不局限於在此所說明的實施例。
本發明中省略了與說明無關的部分，以明確說明本發明，在說明書全文中，相同的附圖標記表示相同的結構部件。
附圖中擴大了厚度，以明確地表現出多個層及區域。並且，附圖中放大表示一部分層及區域的厚度，以便於說明。
下面，在基材的“上部(或下部)”或者基材的“上(或下)”形成任意結構，這將表示任意結構與該基材的上表面(或下表面)相接而形成，並且，不局限于在形成於該基材和基材上的(或下)的任意結構之間不包括其他結構。
下面，參照第1圖對本發明一實施例的低輻射絕熱塗敷膜進行說明。
第1圖是本發明一實施例的包括基材110及塗敷層190的低輻射絕熱塗敷膜100的剖視圖。該塗敷層190是在該基材110的上部依次包括低輻射導電層130、電介質層150及吸光金屬層170的多層結構。
對該低輻射絕熱塗敷膜100而言，該吸光金屬層170一側的一面(第1圖中顯示為“A”)與作為其的相反面的該基材110一側的一面(第1圖中顯示為“B”’)的相對於可見光的反射率之差可以為約30%至約75%。例如，相對於可見光的反射率之差為約50%至約75%時的該低輻射絕熱塗敷膜100，當使玻璃基材一側的一面朝向室外一側時，在外部因高反射率而將窗戶識別為鏡面，相反，由於室內一側的反射率低，可充分確保朝向外部的視野，以此能夠使隱私效果最大化。
該塗敷層190作為基於在太陽光中選擇性地反射遠紅外線的低輻射導電層130的多層薄膜結構，通過降低輻射率來向該低輻射絕熱塗敷膜100賦予基於低輻射(Low-e：low emissivity)效果的絕熱性能。該低輻射絕熱塗敷膜100形成如上所述的結構，在夏天使太陽輻射熱反射，並在冬天保存室內供暖器中所產生的紅外線，以此用作帶來建築物的節能效果的功能性材料。
“輻射率(Emissivity)”是指物體吸收、透射及反射具有任意特定波長的能量的比率。即，本說明書中，輻射率是指在紅外線波長範圍的紅外線能量的吸收程度，具體地，在施加相當於呈現較強的熱作用的約5μm至約50μm的波長範圍的遠紅外線時，相對於所施加的紅外線能量而所吸收的紅外線能量的比率。
根據基爾霍夫(Kirchhoffs law)的規律，被物質所吸收的紅外線能量與再次輻射而釋放出來的能量相同，因而，吸收率與輻射率相同。
並且，由於未吸收的紅外線能量在物質的表面反射，因而，紅外線能量反射越高則輻射率的值越低。如果將其以數值形態表示，則具有(輻射率=1-紅外線反射率)的關係。
如上所述的輻射率可通過在該領域中通常公知的多種方法來測定而得，則不受特別的限制，例如，根據KSL2514標準，可利用傅立葉紅外分析儀(FT-IR)等的設備進行測定。
對於呈現如上所述的較強的熱作用的遠紅外線的吸收率即輻射率，在測定絕熱性能的程度的方面，具有非常重要的意義。
該低輻射絕熱塗敷膜100在如玻璃等的透明的基材110上形成如上所述的塗敷層190，以此能夠用作節能型功能性建築材料，該節能型功能性建築材料在可視光範圍中維持規定的透射特性，並降低輻射率，可提供優秀的絕熱效果。
該低輻射導電層130作為可具有低輻射率的導電性材料，例如是由金屬形成的層，即，具有低表面電阻，從而具有低輻射率。例如，該低輻射導電層130的輻射率為約0.01至約0.3，具體地，可以為約0.01至約 0.2，更加具體地，可以為約0.01至約0.1，進而具體地，可以為約0.01至約0.08。在該低輻射導電層130具有該範圍的輻射率的情況下，由於同時考慮到低輻射絕熱塗敷膜100的絕熱效果及可見光透射率方面，因而這將是適當的。具有如上所述的輻射率的該低輻射導電層130的由薄膜形成的材料的表面電阻可以為約0.78Ω/sq至約6.42Ω/sq。
該低輻射導電層130執行選擇性地透射及反射太陽輻射的功能。該低輻射導電層130可包含選自包含銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)、鉑(Pt)、離子摻雜金屬氧化物及它們的組合的組中的一種以上，但不局限於此。例如，該離子摻雜金屬氧化物包含銦錫氧化物(ITO)、氟摻雜錫氧化物(FTO)、鋁摻雜的鋅氧化物(AZO)及鎵鋅氧化物(GZO)等。在一實施例中，該低輻射導電層130可以是銀(Ag)，由此，該低輻射絕熱塗敷膜100能夠實現高導電度、可視光範圍中的低吸收率以及優秀的耐久性等。
例如，該低輻射導電層130的厚度為約10nm至約25nm。具有該範圍的厚度的低輻射導電層130適合同時實現低輻射率及高可見光透射率。
該吸光金屬層170可以由吸光性能優秀的金屬形成，由於該低輻射絕熱塗敷膜100包含有該吸光金屬層170，因而能夠增大對於該塗敷層190一側的一面和該基材110一側的另一面的可見光的反射率之差。
在一實施例中，該吸光金屬層170在可視光範圍中的消光係數(extinction coefficient)可以是1.5至3。該消光係數是由作為光學材料的物質固有的特性而具有的光學常數匯出的值，該光學常數的公式由n-ik表 示。此時，實數部分n為折射率，虛數部分k為消光係數(也可命名為吸收係數、吸光係數及消光係數等)。消光係數為波長(λ)的函數，一般而言，金屬的消光係數大於0。消光係數k與吸收係數α具有如下關係，α=(4 π k)/λ，在使光通過的介質的厚度為d時，吸收係數α根據I=I0exp(-α d)的關係，因基於介質的光的吸收，已通過的光的強度(I)比入射的光的強度(I0)減少。
由於該吸光金屬層170使用具有該範圍的可視光範圍的消光係數的金屬來吸收可見光的規定的部分，因而發生該低輻射絕熱塗敷膜100的塗敷有該吸光金屬層170的一面(第1圖中表示為“A”)與相反面(第1圖中表示為“B”，該低輻射絕熱塗敷膜的該基材110一側的一面)的可見光反射率之差。
如果該吸光金屬層170的消光係數變小，可見光吸收率則變低，從而使該A面與該B面的反射率之差變小，如果消光係數變大，被吸光金屬層所吸收的光的量則變多，致使可見光透射率變小，由此，會難以確保清楚的可視性。如果該吸光金屬層170具有該範圍的消光係數範圍，則既能夠確保該A面和該B面的規定的水準以上的反射率之差，也能夠確保規定水準的可見光透射率。
例如，該吸光金屬層170可包含選自包含鎳(Ni)、鉻(Cr)、鎳(Ni)與鉻(Cr)的合金、鈦(Ti)及它們的組合的組中的一種以上，但不局限於此。
例如，該吸光金屬層170的厚度可以為約5nm至約25nm，具體地，可以為約15nm至約25nm。就具有該厚度範圍的該吸光金屬層170而 言，由於低輻射絕熱塗敷膜的兩面的反射率之差，即(該基材110一側的一面(A)的反射率)-(塗敷有該吸光金屬層170的一側的另一面(B)的反射率)的值為30%以上，因而能夠實現充分的隱私效果，並通過適當地維持塗敷玻璃的透射率來能夠確保朝向外部的視野，且能夠將該基材110一側的一面(A)的反射顏色，來實現使用人員首選的舒適的顏色，例如藍色。
該電介質層150以介於該低輻射導電層130及該吸光金屬層170之間的方式層壓，從而使該低輻射導電層130和該吸光金屬層170分離，以使該低輻射導電層130和該吸光金屬層170不連續層壓，由此，該低輻射絕熱塗敷膜100能夠使該基材110一側的一面和該吸光金屬層170一側的另一面的相對於可見光的反射率之差最大化，據此，由於該低輻射絕熱塗敷膜100的一表面在外部的反射率高，而顯現為鏡子，因此，不能確認內部，並且，由於另一個表面的可見光反射率低，因而能夠確保視野。如上所述的該低輻射絕熱塗敷膜100能夠實現隱私確保效果。因此，該低輻射絕熱塗敷膜100應用為建築材料，從而可有用地用作如建築物的底層部的個人的私生活保護及要求安全的範圍的外部視線遮擋用材料。
該電介質層150可由折射率為約1.5至約2.3的電介質物質形成，並且可根據折射率的值來調節電介質層150的厚度，以將透射率、反射率、透射顏色及反射顏色體現為所需的目標水準。並且，該電介質層150可由消光係數接近於0的物質形成，消光係數大於0的物質表示在入射光到達吸光金屬層之前被電介質層吸收的物質，這將成為阻礙確保清楚的視野的原因，而不優選。因而，電介質層150的消光係數可在可視光範圍(在約380nm至約780nm波長的範圍)中小於0.1。
一般，由於使用於低輻射導電層130的金屬容易進行氧化，因而，該電介質層150能夠起到該低輻射導電層130的抗氧化膜的作用，並且，這種電介質層150還起到提高可見光透射率的作用。
該電介質層150可包含多種的金屬氧化物、金屬氮化物等，例如，可包含選自包含鈦氧化物、錫鋅氧化物、鋅氧化物、鋅鋁氧化物、錫氧化物、鉍氧化物、矽氮化物、矽鋁氮化物及它們的組合的組中的一種以上，但並不局限於此。在這種金屬氧化物和/或金屬氮化物中可摻雜選自包含鉍(Bi)、硼(B)、鋁(Al)、矽(Si)、鎂(Mg)、銻(Sb)、鈹(Be)及它們的組合的組中的一種以上。
可通過適當地調節該電介質層150的材料和物性來調節該低輻射絕熱塗敷膜100的光學性能。並且，該電介質層150還可以由兩層以上的多層構成。
例如，該電介質層150的厚度可以為約5nm至約50nm。電介質層的厚度可根據形成的位置及物質進行各種調節，以能夠將整個多層薄膜的光學性能(透射率、反射率及顯色指數)達到目標性能的標準，由於包括具有該厚度範圍的該電介質層150，因而基於電介質層150可有效地控制光學性能，並且，還可在生產速度方面優選採用。
該基材110可以是可見光透射率高的透明基材，例如，可使用具有約90%至約100%的可見光透射率的玻璃或透明塑膠基板。例如，該基材110可無限制地使用建築用玻璃，根據使用目的，例如，該玻璃的厚度可以為約2mm至約12mm。
為了體現出適合於使用目的的光譜，該低輻射絕熱塗敷膜 100通過調節用於形成該塗敷層190的各層的材料及厚度，從而可控制隨著波段而改變的透射率和反射率。例如，對於該低輻射絕熱塗敷膜100來說，如果可見光透射率高，則通過高透射率來確保舒適的視野，相反，由於可見光反射率低，可能存在因外部視線而導致侵犯個人私生活的問題，與此相反，如果可見光反射率高，雖然對外部視線的阻擋效果得到提高，但與此同時，由於不能圓滿確保從室內向室外的視野，因而不利於起到透明玻璃窗的作用。
該低輻射絕熱塗敷膜100通過調節用於形成該塗敷層190的各層的材料及厚度，由此可對從外部可視的該低輻射絕熱塗敷膜100的高反射面的顏色、反射率及透射率等的光學性能進行微細的控制。
如上所述，該塗敷層190以介入方式還可包括除了如上所述的結構以外的其它追加的層，以體現出規定的光學性能。一實施例中，該塗敷層190在該塗敷層190的最外廓的單面或雙面還可包括至少一個電介質層。
對於該還可包括的電介質層的仔細說明如同該電介質層150的說明。
第2圖是簡要表示本發明一實施例的包括基材210及塗敷層290的低輻射絕熱塗敷膜的剖視圖。該塗敷層290是從該基材210的上部起依次包括第一電介質層220、低輻射導電層230、第二電介質層250、吸光金屬層270及第三電介質層280的多層結構。
本發明一實施例中，提供一種包括該低輻射絕熱塗敷膜的建築材料。該建築材料應用於該低輻射絕熱塗敷膜，從而不僅確保基於低輻 射效果的絕熱性能，而且如上所述地由於外部表面的可見光反射率高，並且內部表面的可見光反射率低，因而能夠同時實現視野確保效果及隱私確保效果。
本發明的還一實施例中，提供一種低輻射絕熱塗敷膜的製備方法，該低輻射絕熱塗敷膜的製備方法包括如下步驟：在基材上對低輻射導電性金屬或金屬氧化物進行蒸鍍來形成低輻射導電層的步驟；在該低輻射導電層的上部形成電介質層的步驟；以及在該電介質層的上部對吸光性金屬進行蒸鍍來形成吸光金屬層的步驟。
可根據該絕熱塗敷膜的製備方法來製備該低輻射絕熱塗敷膜100、200。
該絕熱塗敷膜的製備方法中，對於低輻射導電層、電介質層及吸光金屬層的詳細說明如上所述。
該蒸鍍方法不受特別的限制，可根據公知的方法執行。
該電介質層的形成方法例如可根據蒸鍍方法執行，並且可根據公知的方法執行，並不受特別的限制，例如可利用磁控濺射蒸鍍機進行蒸鍍。
下面，對本發明的實施例及比較例進行說明。但是，下面的實施例只是本發明一實施例，而本發明並不局限於以下實施例。
實施例
實施例1
使用磁控(C-Mag)濺射蒸鍍機(Selcos，Cetus-S)來製備出具有多層結構的低輻射絕熱塗敷膜，該多層結構具有如表1所示的組成及 厚度。
首先，在厚度為6mm的透明玻璃基材上將TiO2陶瓷作為靶，並利用無線電變頻電源裝置來蒸鍍厚度為37.0nm的TiO2薄膜。工序氣體為氬100sccm，工序壓力維持為3mTorr。工序電力應用了1.5kW。接著，將鋅中含有10wt%鋁的合金的氧化物作為靶，在無線電頻率工序電力為1.2kW、工序氬為100sccm、工序壓力為3mTorr的條件下，蒸鍍厚度為6.4nm的ZnAlOx層。其次，將銀(Ag)金屬作為靶，在直流電流電力為0.5kW、工序氬為100sccm、工序壓力為3mTorr的條件下，蒸鍍厚度為14.0nm的銀(Ag)薄膜。利用與該ZnAlOx層相同的方法，在該銀(Ag)薄膜的上部蒸鍍了厚度為13.1nm的ZnAlOx層。然後，將50wt%的錫(Sn)及50wt%的鋅(Zn)作為合金金屬靶，並維持1kW的無線電頻率工序電力、30sccm的工序氬、30sccm的氧以及3mTorr的工序壓力，並根據濺射工序中的反應，來使氧化物薄膜蒸鍍，從而蒸鍍厚度為35.2nm的SnZnOx層。在該SnZnOx層的上部將80wt%的鎳(Ni)及20 wt%的鉻(Cr)的合金金屬作為靶，並在直流電流電力為0.5kW、工序氬100sccm及工序壓力為5mTorr的條件下，蒸鍍厚度為6.0nm的鎳鉻(NiCr)薄膜。在該鎳鉻(NiCr)薄膜的上部，再次利用與該SnZnOx相同的方法來蒸鍍厚度為44.5nm的SnZnOx層。
由此，製備出具有如下列表1所示的組成及厚度的塗敷層形成在玻璃基材上的低輻射絕熱塗敷膜。
實施例2至實施例6
實施例2至實施例6中，除了將該鎳鉻(NiCr)薄膜的厚度分別蒸鍍成9.0nm、12.0nm、15.0nm、18.0nm及21.0nm之外，利用與實施例1 中的相同的方法製備出具有如表1所示的組成及厚度的塗敷層形成在玻璃基材上的低輻射絕熱塗敷膜。
實施例7
利用與該實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度為32.0nm的二氧化鈦(TiO2)薄膜、厚度為5.2nm的ZnAlOx層、厚度為21.3nm的銀(Ag)薄膜、厚度為5.0nm的ZnAlOx層、厚度為32.0nm的ZnAlOx層、厚度為21.6nm的鎳鉻(NiCr)薄膜以及厚度為41.7nm的ZnAlOx層，從而製備出具有如下列表1所示的組成及厚度的塗敷層形成在玻璃基材上的低輻射絕熱塗敷膜。
比較例1
利用與該實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度為37.0nm的二氧化鈦(TiO2)薄膜、厚度為6.4nm的ZnAlOx層、厚度為14.0nm的銀(Ag)薄膜、厚度為13.1nm的ZnAlOx層及厚度為79.7nm的ZnAlOx層，從而製備出具有如下列表1所示的組成及厚度的塗敷層形成在玻璃基材上的低輻射絕熱塗敷膜。
比較例2
利用與該實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度為37.0nm的二氧化鈦(TiO2)薄膜、厚度為6.4nm的ZnAlOx層、厚度為14.0nm的銀(Ag)薄膜、厚度為15.0nm的鎳鉻(NiCr)薄膜以及厚度為44.5nm的ZnAlOx層，從而製備出具有如下列表1所示的組成及厚度的塗敷層形成在玻璃基材上的低輻射絕熱塗敷膜。
比較例3
利用與該實施例1相同的方法，在厚度為6mm的透明玻璃基材上依次蒸鍍厚度為37.0nm的二氧化鈦(TiO2)薄膜、厚度為19.5nm的ZnAlOx層、厚度為35.2nm的ZnAlOx層、厚度為15.0nm的鎳鉻(NiCr)薄膜以及厚度為44.5nm的ZnAlOx層，從而製備出具有如下列表1所示的組成及厚度的塗敷層形成在玻璃基材上的低輻射絕熱塗敷膜。
評價
根據下面不同的專案，對實施例1至實施例7及比較例1至比較例3中製備出的低輻射絕熱塗敷膜實施了性能分析。
計算透射率及反射率
利用UV-Vis-NIR紫外可見分光光度計(島津公司：Shimadzu，型號：Solidspec-3700)，以1nm為區間幅度，測定250nm至2500nm 範圍的光譜之後，結果值以KSL2514為基準，計算了可見光透射率、低輻射絕熱塗敷膜的塗敷層一側的一面的反射率以及低輻射絕熱塗敷膜的玻璃基材一側的一面的反射率。
第3圖是在實施例1至實施例6的低輻射絕熱塗敷膜的兩面分別測定相對於可見光的反射率的結果。
輻射率
利用作為紅外光譜儀的FT-IR(弗蘭蒂爾：Frontier，鉑金埃爾默公司：Perkin Elmer)來測定低輻射絕熱塗敷膜的塗敷有吸光金屬層的一面的遠紅外線反射率波譜，根據其結果，計算出遠紅外線平均反射率來達到KS2514標準之後，通過100%-(遠紅外線平均反射率)的公式評價了輻射率。
顯色指數
利用分光測色儀(柯尼卡美能達公司：KONICA MINOLTA SENSING,InC.，型號：CM-700d)來測定了以CIE1931為基準的L*、a*及b*的值。此時，應用了KS標準的D65光源。
由實施例1至實施例6的結果可知，隨著鎳鉻(NiCr)層的厚度增加，可見光的反射率也逐漸增大，但是，塗敷層一側的一面的反射率更加急速地減少，從而使玻璃基材一側的一面與塗敷層一側的一面的反射率之差增大。但是，由於隨著鎳鉻(NiCr)層的厚度增加，則塗敷玻璃的透射率減小，因而朝向外部的視野變得模糊，可確認出，在如上所述的方面，該實施例1至實施例6的鎳鉻(NiCr)層的厚度為適當的水準。
下列表2是表示測定實施例4、實施例7及比較例1至比較例3 的對低輻射絕熱塗敷膜的光學性能的結果。
該實施例4的低輻射絕熱塗敷膜的透射率為18.1%，透射一側的一面、塗敷層一側的一面、反射一側的一面及玻璃基材一側的一面的反射的顯色指數a*、b*均位於0至-10之間，在中性(NeutrAl)顏色顯示淺藍色，從而體現出使用人員感到視野舒適的顏色。一般，如果低輻射絕熱塗敷膜的顏色呈現紅色及紫色，則屬於使用人員不喜歡的顏色。遠紅外線輻射率為3.14%，也相對於一般的低輻射塗敷玻璃能夠確保優勢水準的絕熱性能。
實施例7的低輻射絕熱塗敷膜的玻璃基材一側的一面與塗敷層一側的一面的反射率之差達到69%。
比較例1的低輻射絕熱塗敷膜處於不具有作為吸光金屬層的鎳鉻(NiCr)的情況，塗敷層一側的一面的可見光反射率增加為51.4%，玻璃基材一側的一面的可見光反射率減少為48.9%，因此，根據反射率之差的隱私效果極差。
比較例2的低輻射絕熱塗敷膜處於在銀層與鎳鉻(NiCr)層之間無電介質層的情況，雖然可將塗敷層一側的一面與玻璃基材一側的一面的反射率之差確保為29%水準，但是，塗敷層一側的一面的反射顯色指數為a*=23.36、b*=-22.21呈現深紫色，從而存在向室內的使用人員顯示非首選顏色的問題。
比較例3的低輻射絕熱塗敷膜處於不具有作為低輻射導電層的銀層的情況，雖然可將塗敷面與玻璃面的反射率之差確保為29%水準，但是，由於塗敷層一側的一面的輻射率為86.7%，而且其與無塗敷的一般玻璃基材一側的一面的輻射率相同，從而存在不能確保作為具有低輻射效果的低輻射絕熱塗敷膜的絕熱性能的問題。
100‧‧‧低輻射絕熱塗敷膜
110‧‧‧基材
130‧‧‧低輻射導電層
150‧‧‧電介質層
170‧‧‧吸光金屬層
190‧‧‧塗敷層
A‧‧‧該吸光金屬層一側的一面
B‧‧‧該基材一側的一面

Claims (16)

  1. 一種低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，包括基材及塗敷層；該塗敷層是從該基材起依次包括低輻射導電層、電介質層及吸光金屬層的多層結構，其中該吸光金屬層的厚度為5nm至25nm，對於該基材一側的一面與該吸光金屬層一側的另一面的可見光的反射率之差為30%至75%。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該低輻射導電層的輻射率為0.01至0.3。
  3. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該低輻射導電層包含表面電阻為0.78Ω/sq至6.42Ω/sq的金屬。
  4. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該低輻射導電層包含選自包含銀(Ag)、金(Au)、銅(Cu)、鋁(Al)、鉑(Pt)、離子摻雜金屬氧化物及它們的組合的組中的至少一種。
  5. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該吸光金屬層的可視光範圍的消光係數為1.5至3。
  6. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該吸光金屬層包含選自包含鎳(Ni)、鉻(Cr)、鎳(Ni)與鉻(Cr)的合金、鈦(Ti)及它們的組合的組中的至少一種。
  7. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該電介質層包含選自包含金屬氧化物、金屬氮化物及它們的組合的組中的至少一種；或者 在該至少一種物質摻雜有選自包含鉍(Bi)、硼(B)、鋁(Al)、矽(Si)、鎂(Mg)、銻(Sb)、鈹(Be)及它們的組合的組中的至少一種元素。
  8. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該電介質層包含選自包含鈦氧化物、錫鋅氧化物、鋅氧化物、鋅鋁氧化物、錫氧化物、鉍氧化物、矽氮化物、矽鋁氮化物及它們的組合的組中的至少一種。
  9. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該基材是具有90%至100%的可見光透射率的透明基材。
  10. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該基材是玻璃或透明塑膠基板。
  11. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該低輻射導電層的厚度為10nm至25nm。
  12. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該電介質層的厚度為5nm至50nm。
  13. 如申請專利範圍第1項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，該塗敷層在該塗敷層的最外廓的單面或雙面還包括至少一個電介質層。
  14. 如申請專利範圍第13項所述的低輻射絕熱塗敷膜，其特徵在於，包括：第一電介質層，其介於該基材與該低輻射導電層之間；第二電介質層，其為該電介質層；其射導電層之間的少一種，或者在該至少一種元素及該元素第三電介質層，其相對於該第二電介質層位於與該吸光金屬層對置的一 面的上部。
  15. 一種建築材料，其特徵在於，包括根據如申請專利範圍第1至14項中的任一項所述的低輻射絕熱塗敷膜。
  16. 一種低輻射絕熱塗敷膜的製備方法，其特徵在於，包括如下步驟：在基材上蒸鍍低輻射導電性金屬或金屬氧化物來形成低輻射導電層的步驟；在該低輻射導電層的上部形成電介質層的步驟；以及在該電介質層的上部蒸鍍吸光性金屬來形成吸光金屬層的步驟，其中該吸光金屬層的厚度為5nm至25nm，對於該基材一側的一面與該吸光金屬層一側的另一面的可見光的反射率之差為30%至75%。
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