TWI496604B - 包括多種凹坑形式及/或不同硬度之多數層的高爾夫球(五) - Google Patents
包括多種凹坑形式及/或不同硬度之多數層的高爾夫球(五) Download PDFInfo
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Description
本發明係大致有關於高爾夫球,其包括具有多數不同種凹坑及/或不同材料及/或硬度之多數層。
高爾夫球深受多種球員-具有不同性別及極大年齡差距及/或技術水準之球員喜愛,而高爾夫球在運動世界中之獨特性多少在於即使在互相直接競爭(例如,使用差點計分、不同發球區、以組隊型態等)時,這些各種不同的球員們亦可在高爾夫球比賽中一起打球,且仍喜愛這高爾夫球敘或競爭。這些因素與在電視上存在許多高爾夫球節目(例如,高爾夫球錦標賽、高爾夫球新聞、高爾夫球歷史、及/或其他高爾夫球節目)及聞名高爾夫球超級明星之竄起,已至少部份地使高爾夫球人口在美國與全世界均於近年來增加許多。
在高爾夫球比賽中,高爾夫球以多種不同方式被推進(例如,以便移動長或最大距離;以便移動較短、受控制距離;用以切球(chipping)或劈起球(pitching);或用以推球(putting)等),且該球之不同物理性質或特性將更佳地有助於完成該球之所需功能。不幸地,該球之許多所需功能需要對比物理性質或特性。例如,某些硬度及旋轉特性對於當,例如,藉一1號木桿(driver)以一高揮桿速度打擊時使一高爾夫球可飛行長距離是有用的。但是,對於如鐵桿打擊、劈起(pitch)打擊及切球(chip)打擊之較靠近需要更準確距離控制及在與地面接觸時更一致球反應之果嶺的較精巧打擊而言,比較不需要這些相同之硬度及旋轉特性。
以另一例而言,在使用一球時之個人“傳感”或舒適感對於球員會是重要的。不同硬度及/或由不同材料製成之球在以不同球桿打擊時會不同地反應(例如,產生一不同硬度“傳感”,產生不同聲音等)。一形成為離開該1號木桿移動長或最大距離之球會對於至少某些球員之偏好而言感覺太硬及/或產生一不必要之聲音(如,一大喀嚦聲(click)或乒聲(ping)。一產生較多旋轉(且通常移動較短距離)之較軟球亦會產生對於至少某些球員之偏好而言不必要之聲音(即,它會在被球桿打擊時產生一較“重擊聲”型聲音),且它不會在較長打擊時移動所需距離。因此,選擇一球會需要球員平衡他們的表現及“傳感”要求及需求。球構造及傳感特性絕對不是一“一種尺寸適用全部”之主題。
高爾夫球之凹坑圖案亦不是一“一種尺寸適用全部”之情形。例如,具有較低揮桿速度之球員會需要有助於該球在被該1號木桿打擊時得到較佳升力以使這球員達到較佳驅動距離之一凹坑圖案。但是,如果由具有一高揮桿速度之一球員使用,則這相同凹坑圖案會使該球在其開始飛行時“急劇上升(balloon)”,導致離開該1號木桿之距離減少。另一方面,對於控制球軌跡及以較高揮桿速度提供最佳距離(即,離開1號木桿)有用之凹坑圖案會使該球在被1號木桿以較低揮桿速度打擊時飛行較短距離。
雖然近年來已對高爾夫球進行技術改良,但是用以影響球飛行、球傳感、及球性能之另外的其他高爾夫球選項在此項技術中仍將是受歡迎的。
以下提出本發明之多數形態之一般概要以便提供本發明之一基本了解。這概要不是要作為本發明之一廣泛概述。它不是要辨識本發明之主要或重要元件或界限本發明之範疇。以下概要僅以一上位形式提出本發明之某些觀念作為以下提供之更詳細說明的一序言。
一般而言,本發明之多數形態有關於高爾夫球。依據本發明之至少某些例子之高爾夫球可包括以下一或多個:(a)一第一極,(b)一第二極,及(c)一位在該等第一與第二極之間的接縫或赤道。多數凹坑形成在該球之一表面上,其中多數凹坑係配置成一圖案,該圖案包括:
(a)一第一凹坑圖案半部,其包括N個扇形區,其中N是一在由2至10之範圍內之整數,其中一第一凹坑圖案扇形區係配置在該第一凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區中使得以由該第一極至該接縫之一方向延伸之一對稱線存在該第一凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區內,且其中該第一凹坑圖案扇形區環繞該第一極重覆N次,且
(b)一第二凹坑圖案半部,其包括N個扇形區,其中該第一凹坑圖案扇形區係配置在該第二凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區中使得以由該第二極至該接縫之一方向延伸之一對稱線存在該第二凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區內,其中該第一凹坑圖案扇形區環繞該第二極重覆N次,且其中在該第一凹坑圖案半部中之該等對稱線未對齊該第二凹坑圖案半部之該等對稱線且由該第二凹坑圖案半部之該等對稱線旋轉地偏移,例如,在2°至90°之一範圍內的一偏移量(且在某些例子,在5°至60°或甚至由5°至45°之範圍)。在某些球中,該旋轉偏移將在2°至(360/2N)°之範圍內,其中N是在具有一對稱線之各凹坑圖案半部中之扇形區的數目(如有需要,一球可包括沒有對稱線之一或多個扇形區)。
這些高爾夫球可包括:(a)一第一凹坑形式,其具有一第一直徑;(b)一第二凹坑形式,其具有一大於該第一直徑之第二直徑;(c)一第三凹坑形式,其具有一大於該第二直徑之第三直徑;(d)一第四凹坑形式,其具有一大於該第三直徑之第四直徑;(e)一第五凹坑形式,其具有一大於該第四直徑之第五直徑;及,(f)至少一第六凹坑形式,其具有一大於該第五直徑之第六直徑。
依據本發明之另一形態例之高爾夫球可包括:(a)一第一極,(b)一第二極,及(c)一位在該等第一與第二極之間的接縫。多數凹坑形成在這球之表面上,其中該等凹坑包括:(i)一第一凹坑形式,其具有一第一直徑;(ii)一第二凹坑形式,其具有該第一直徑,其中該第二凹坑形式比該第一凹坑形式深,且其中該第二凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第一凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;(iii)一第三凹坑形式,其具有一大於該第一直徑之第二直徑;(iv)一第四凹坑形式,其具有該第二直徑,其中該第四凹坑形式比該第三凹坑形式深,且其中該第四凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第三凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;(v)一第五凹坑形式,其具有一大於該第二直徑之第三直徑;(vi)一第六凹坑形式,其具有一大於該第三直徑之第四直徑;(vii)一第七凹坑形式,其具有一大於該第四直徑之第五直徑;(viii)一第八凹坑形式,其具有該第五直徑,其中該第八凹坑形式比該第七凹坑形式深,且其中該第八凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第七凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;(ix)一第九凹坑形式,其具有一大於該第五直徑之第六直徑;及(x)一第十凹坑形式,其具有該第六直徑,其中該第十凹坑形式比該第九凹坑形式深,且其中該第十凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第九凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫。
作為這高爾夫球結構例之另外的可能特徵,該第一凹坑形式可具有一至少0.175mm之深度及/或該第二凹坑形式可具有一至少0.185mm之深度。另外地或替代地,該第一凹坑形式之凹坑可具有一等於或小於15之直徑對深度比及/或該第二凹坑形式之凹坑可具有一等於或小於14之直徑對深度。作為另一選項,如有需要,該等第一與第二凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有一等於或小於14之直徑對深度比,而該等第三至第十凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有等於或大於16之直徑對深度比(且,如有需要,該等第三至第十凹坑形式之至少某些凹坑形式可具有一等於或大於20之直徑對深度比)。作為其他可能例,該等第一與第二凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有一等於或小於5mm之凹坑半徑,而該等第三至第十凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有等於或大於8mm之凹坑半徑(且,如有需要,該等第三至第十凹坑形式之至少某些凹坑形式具有一等於或大於10mm之凹坑半徑)。
本發明之其他形態例包括具有一表面之多數高爾夫球,該表面具有多數形成在其中之凹坑,其中該等凹坑係配置成一圖案,該圖案包括:一第一扇形區,其包含一在該表面上之第一球形三角區域,其中該第一球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第一扇形區中使得在該第一扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第一扇形區之第二半部中之凹坑位置;(b)一第二扇形區,其包含一在該表面上之第二球形三角區域,其中該第二球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第二扇形區中使得在該第二扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第二扇形區之第二半部中之凹坑位置;(c)一第三扇形區,其包含一在該表面上之第三球形三角區域,其中該第三球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第三扇形區中使得在該第三扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第三扇形區之第二半部中之凹坑位置;及(d)一第四扇形區,其包含一在該表面上之第四球形三角區域,其中該第四球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第四扇形區中使得在該第四扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第四扇形區之第二半部中之凹坑位置。某些該等扇形區可共用至少一共同點及/或在至少某些扇形區內之凹坑圖案可相同。
本發明之其他形態係有關於多件式高爾夫球之構造及/或層特徵。依據本發明之至少某些例子,這些多件式高爾夫球可包括:(a)一球心,其由一或多個構件製成,該球心具有在53至61肖氏D之一範圍內的一最外表面硬度,其中該球心具有在18至40mm之一範圍內的一直徑;(b)一外殼層,其包圍且緊臨該球心之最外表面,該外殼層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該外殼層具有在64至72肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該外殼層具有在0.4至1.6mm之一範圍內的一厚度;及(c)一覆蓋層,其包圍該外殼層,該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該覆蓋層具有在50至58肖氏D之一範圍內的一表面硬度,且該覆蓋層具有在0.6至1.6mm之一範圍內的一公稱厚度。該外殼層之肖氏D硬度可高於該球心之肖氏D最外表面硬度及該覆蓋層之肖氏D表面硬度。這構造之球可具有任何所需凹坑特徵,包括上述凹坑尺寸、圖案、及配置(及在以下更詳細說明者)。
依據本發明之至少某些例子,可以是其他球構造。作為某些更特定例子,依據本發明之至少某些例子之多件式高爾夫球可包括:(a)一實心內球心,其包括一熱塑性樹脂材料(例如,一離子聚合材料),該實心內球心具有在42至54肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該實心內球心具有在18至36mm之一範圍內之一直徑;(b)一外球心層,其包圍該實心內球心,該外球心層包括一含聚丁二烯橡膠材料或一含熱塑性樹脂材料(例如,一離子聚合材料),該外球心層具有在50至64肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該外球心層具有在4至10mm之一範圍內之一厚度;(c)一外殼層,其包圍該外球心層,該外殼層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該外殼層具有在60至72肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該外殼層具有在0.4至1.6mm之一範圍內之一厚度;及(d)一覆蓋層,其包圍該外殼層,該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該覆蓋層具有在44至60肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該覆蓋層具有在0.6至1.6mm之一範圍內之一公稱厚度。在這些球中,該外殼層之肖氏D表面硬度可高於該實心內球心、該外球心層及該覆蓋層之肖氏D表面硬度。任選地,依據本發明之某些例子之球可包括另外的層,例如在該外殼層與該外球心層之間之另一層及/或在該外殼層與該覆蓋層之間之另一層。這構造之球可具有任何所需凹坑特徵,包括上述凹坑尺寸、圖案、及配置(及以下更詳細說明者)。
本發明之其他形態係有關於製造,例如,具有如上述凹坑特徵及/或構造特徵或層特徵(以及以下更詳細說明之特徵)之高爾夫球的方法。這些方法將在以下更詳細地說明。
藉在考慮添附圖式之情形下參照以下詳細說明可更完整了解本發明及其某些優點,其中相同符號表示相同或類似特徵,且其中:
第1A至1D圖顯示可依據本發明之至少某些形態例使用之各種多件式高爾夫球構造例;
第2A至2F圖顯示可包括在依據本發明之至少某些形態例之高爾夫球中之各種凹坑特徵,且這些圖亦協助說明在這說明中使用之各種凹坑用語;
第3A與3B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之一高爾夫球凹坑圖案例的俯視與前視圖;
第4A與4B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之另一高爾夫球凹坑圖案例的俯視與前視圖;
第5A與5B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之一高爾夫球凹坑安排配置例的俯視與前視圖;及
第6A與6B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之另一高爾夫球凹坑圖案例的俯視與前視圖。
在本發明各種高爾夫球例及其他形態之以下說明中,參照構成其一部份之添附圖式,且其中藉舉例說明顯示本發明之形態可實施之各種高爾夫球結構及高爾夫球形成步驟例。在此應了解的是可使用其他特定配置之零件、結構及步驟,且可在不偏離本發明範疇之情形下進行結構性與功能性修改。同時,雖然在這說明書可使用“頂”、“底”、“前”、“背”、“側邊”、“後”等來說明本發明之各種特徵與元件例,但是這些用語在此事實上只是由於方便,例如依據在圖中所示之例子方位或在典型使用時之方位使用而已。在這說明書中沒有任何應被視為需要一特定立體方位之結構以便落在本發明之範疇內。
該用語“接縫”,當在這說明書中使用時,對應於用以形成該高爾夫球之模具之兩半部接合之在該球上的一位置。該“接縫”可對應或不對應於延伸環繞該高爾夫球赤道之一大圓。對於具有藉不包括將兩模具半部在一接縫接合在一起之製程製成之覆蓋層或凹坑而言,該“接縫”對應於分開兩相等凹坑圖案半部之在該球上的任何大圓(該等凹坑圖案半部可在該球上互相旋轉地偏移),例如該球之赤道。
本發明之至少某些形態例係有關於高爾夫球,以及製造該等球之方法。隨後有本發明之特定例子之一更詳細說明之本發明形態之一般性說明如下。
A.依據本發明之形態之高爾夫球的一般性說明
1.凹坑形態
大致而言,本發明之多數形態係有關於高爾夫球。依據本發明之至少某些例子的高爾夫球可包括以下一或多個:(a)一第一極,(b)一第二極,及(c)一位在該等第一與第二極之間的接縫(該接縫可以是一對應於該球之赤道的連續圓、一波形(例如,以該球之赤道為中心)、階狀線段等)。多數凹坑形成在該球之一表面上,其中該等多數凹坑係配置成一圖案,該圖案包括:
(a)一第一凹坑圖案半部,其包括N個扇形區,其中N是一在由2至10之範圍內之整數,其中一第一凹坑圖案扇形區係配置在該第一凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區中使得以由該第一極至該接縫之一方向延伸之一對稱線存在該第一凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區內,且其中該第一凹坑圖案扇形區環繞該第一極重覆N次,且
(b)一第二凹坑圖案半部,其包括N個扇形區,其中該第一凹坑圖案扇形區係配置在該第二凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區中使得以由該第二極至該接縫之一方向延伸之一對稱線存在該第二凹坑圖案半部之N個扇形區之各扇形區內,其中該第一凹坑圖案扇形區環繞該第二極重覆N次,且其中在該第一凹坑圖案半部中之該等對稱線未對齊該第二凹坑圖案半部之該等對稱線且由該第二凹坑圖案半部之該等對稱線旋轉地偏移,例如,在2°至90°之一範圍內的一偏移量,且在某些例子,在5°至60°或甚至由5°至45°之範圍內。
在依據本發明之某些結構例中,該偏移量將在10°至45°、10°至30°、或甚至15°至30°之範圍。在某些球中,該旋轉偏移將在2°至(360/2N)°之範圍內,其中N是在具有一對稱線之各凹坑圖案半部中之扇形區的數目。此外,在本發明之某特定例子中,表示在具有一對稱線之各凹坑圖案半部中之扇形區數目的整數“N”將在由2至8或甚至由3至6之範圍內。如有需要,各凹坑圖案半部可包含不包括對稱線之一或多個扇形區(例如,分散在具有對稱線之N個扇形區之間)。
依據本發明之例子的高爾夫球可具有任何所需數目之凹坑,包括,例如,由320至432個全部凹坑,且在某些例子中,由330至392個全部凹坑。在依據如上述之本發明之例子之高爾夫球結構中的凹坑尺寸可更作成包括至少四種不同凹坑形式,且在某些例子中,由4至16種不同凹坑形式,或甚至5至12種不同凹坑形式。如以下將更詳細地說明者,如果一凹坑與另一凹坑以任何明顯方式,在例如,以凹坑深度、凹坑半徑、凹坑直徑、凹坑橫截面形狀(例如,單一半徑、雙半徑、多邊形狀、多數面內表面等)、凹坑體積、凹坑表面積等中之至少一者方面不同,則一凹坑具有一與另一凹坑不同之“形式”。
作為某些更特定例子,依據本發明之至少某些例子之高爾夫球可包括:(a)一第一凹坑形式,其具有一第一直徑(例如,在2至3mm之一範圍內);(b)一第二凹坑形式,其具有一大於該第一直徑之第二直徑(例如,在3至3.6mm之一範圍內);(c)一第三凹坑形式,其具有一大於該第二直徑之第三直徑(例如,在3.2至3.8mm之一範圍內);(d)一第四凹坑形式,其具有一大於該第三直徑之第四直徑(例如,在3.4至4mm之一範圍內);及(e)一第五凹坑形式,其具有一大於該第四直徑之第五直徑(例如,在3.6至4.4mm之一範圍內)。此外,更多凹坑形式可在該凹坑圖案中提供,包括至少一第六凹坑形式,其具有一大於該第五直徑之第六直徑(例如,在4至6mm之一範圍內)。在依據本發明之存在五種凹坑形式之某些球例子中,這些球例子可包括:至少36個第一凹坑形式之凹坑;至少24個第二凹坑形式之凹坑;至少54個第三凹坑形式之凹坑;至少30個第四凹坑形式之凹坑;及至少246個第五凹坑形式之凹坑。在依據本發明之存在六種凹坑形式之某些球例子中,該等球可包括:至少18個第一凹坑形式之凹坑;至少12個第二凹坑形式之凹坑;至少6個第三凹坑形式之凹坑;至少36個第四凹坑形式之凹坑;至少270個第五凹坑形式之凹坑;及至少18個第六凹坑形式之凹坑。
在依據本發明之某些高爾夫球結構中,在該高爾夫球表面上之多數凹坑包括:(a)一第一凹坑形式,其具有一第一深度,一第一半徑及一第一直徑;(b)一第二凹坑形式,其具有一第二深度,一第二半徑及該第一直徑;(c)一第三凹坑形式,其具有一第三深度,一第三半徑及一第二直徑;(d)一第四凹坑形式,其具有一第四深度,一第四半徑及該第二直徑;(e)一第五凹坑形式,其具有一第五深度,一第五半徑及一第三直徑;(f)一第六凹坑形式,其具有該第五深度,一第六半徑及一第四直徑;(g)一第七凹坑形式,其具有一第六深度,一第七半徑及一第五直徑;(h)一第八凹坑形式,其具有一第七深度,一第八半徑及該第五直徑;(i)一第九凹坑形式,其具有該第二深度,一第九半徑及一第六直徑;及(j)一第十凹坑形式,其具有一第八深度,一第十半徑及該第六直徑。
依據本發明之另一形態例之高爾夫球可包括:(a)一第一極,(b)一第二極,及(c)一位在該等第一與第二極之間的接縫(該接縫可以是一在該球之赤道的連續圓、一波形(例如,以該球之赤道為中心)、階狀線段、或任何其他所需形狀)。多數凹坑形成在該球之表面上,其中該等凹坑包括:(i)一第一凹坑形式,其具有一第一直徑;(ii)一第二凹坑形式,其具有該第一直徑,其中該第二凹坑形式比該第一凹坑形式深,且其中該第二凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第一凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;(iii)一第三凹坑形式,其具有一大於該第一直徑之第二直徑;(iv)一第四凹坑形式,其具有該第二直徑,其中該第四凹坑形式比該第三凹坑形式深,且其中該第四凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第三凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;(v)一第五凹坑形式,其具有一大於該第二直徑之第三直徑;(vi)一第六凹坑形式,其具有一大於該第三直徑之第四直徑;(vii)一第七凹坑形式,其具有一大於該第四直徑之第五直徑;(viii)一第八凹坑形式,其具有該第五直徑,其中該第八凹坑形式比該第七凹坑形式深,且其中該第八凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第七凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;(ix)一第九凹坑形式,其具有一大於該第五直徑之第六直徑;及(x)一第十凹坑形式,其具有該第六直徑,其中該第十凹坑形式比該第九凹坑形式深,且其中該第十凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第九凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫。如有需要,在某些球例子中,該第二凹坑形式之所有凹坑將設置成比該第一凹坑形式之所有凹坑更遠離該接縫;該第四凹坑形式之所有凹坑將設置成比該第三凹坑形式之所有凹坑更遠離該接縫;該第八凹坑形式之所有凹坑將設置成比該第七凹坑形式之所有凹坑更遠離該接縫;且該第十凹坑形式之所有凹坑將設置成比該第九凹坑形式之所有凹坑更遠離該接縫。
在這些高爾夫球結構之某些例子中,該第一直徑將在2至3mm之一範圍內;該第二直徑將在3至3.6mm之一範圍內;該第三直徑將在3.2至3.8mm之一範圍內;該第四直徑將在3.4至4mm之一範圍內;該第五直徑將在3.6至4.4mm之一範圍內;且該第六直徑將在4至6mm之一範圍內。它們可以是至少12個第一凹坑形式之凹坑;至少6個第二凹坑形式之凹坑;至少24個第三凹坑形式之凹坑;至少12個第四凹坑形式之凹坑;至少6個第五凹坑形式之凹坑;至少24個第六凹坑形式之凹坑;至少96個第七凹坑形式之凹坑;至少90個第八凹坑形式之凹坑;至少78個第九凹坑形式之凹坑;且至少12個第十凹坑形式之凹坑。
作為這高爾夫球結構例之另外的可能特徵,該第一凹坑形式可具有至少0.175mm之一深度及/或該第二凹坑形式可具有至少0.185mm之一深度。另外地或替代地,該第一凹坑形式之凹坑具有一等於或小於15之直徑對深度比及/或該第二凹坑形式之凹坑可具有一等於或小於14之直徑對深度。作為另一選項,如有需要,該等第一與第二凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有一等於或小於14之直徑對深度比,而該等第三至第十凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有等於或大於16之直徑對深度比(且,如有需要,該等第三至第十凹坑形式之至少某些凹坑形式可具有一等於或大於20之直徑對深度比)。作為其他可能例,該等第一與第二凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有一等於或小於5mm之凹坑半徑,而該等第三至第十凹坑形式之各凹坑形式的凹坑可具有等於或大於8mm之凹坑半徑(且,如有需要,該等第三至第十凹坑形式之至少某些凹坑形式具有一等於或大於10mm之凹坑半徑)。
依據本發明之其他形態例之高爾夫球可包括一表面,該表面具有多數形成在其中之凹坑,其中該等凹坑係配置成一圖案,該圖案包括:一第一扇形區,其包含一在該表面上之第一球形三角區域,其中該第一球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第一扇形區中使得在該第一扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第一扇形區之第二半部中之凹坑位置;(b)一第二扇形區,其包含一在該表面上之第二球形三角區域,其中該第二球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第二扇形區中使得在該第二扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第二扇形區之第二半部中之凹坑位置;(c)一第三扇形區,其包含一在該表面上之第三球形三角區域,其中該第三球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第三扇形區中使得在該第三扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第三扇形區之第二半部中之凹坑位置;及(d)一第四扇形區,其包含一在該表面上之第四球形三角區域,其中該第四球形三角區域被分成一第一半部及一第二半部,其中多數凹坑係配置在該第四扇形區中使得在該第四扇形區之第一半部中的凹坑位置反映在該第四扇形區之第二半部中之凹坑位置。在依據本發明之至少某些例之某些球,該等第一與第二扇形區將共用至少一第一共同點(例如,在該球之一極)及/或該等第三與第四扇形區將共用至少一第二共同點(例如,在該球之一相反極),其中該第二共同點與該第一共同點不同(例如,該球之一直徑的相對端)。另外地或替代地,依據本發明之至少某例子之某些球將在某些或全部在存在該球上之各種扇形區中的一共用凹坑圖案。該高爾夫球亦可具有上述各種特徵(以及以下所述各種特徵)之任一特徵。
依據本發明之至少某些例子之高爾夫球將具有至少320mm3
之一總凹坑體積,且在某些例子中,至少360mm3
。在某些更特定例子中,該總凹坑體積將在由360mm3
至560mm3
且甚至由360mm3
至480mm3
之範圍內。
該等凹坑亦可覆蓋該高爾夫球表面積之任何所需比例,例如至少70%,且在某些例子中,在72%至78%之範圍內。作為某些更特定例子,依據本發明至少某些例子之高爾夫球將具有至少70%之一比Ad
/Ab
,其中Ad
是如由式(I)所決定之一總凹坑表面覆蓋面積:
其中“M”是在該高爾夫球上之一凹坑總數,且“d”是一獨立凹坑直徑,且其中Ab
是如由式(II)所決定之假設沒有凹坑存在該球上之一總高爾夫球表面積:
Ab
=4πx(D/2)2
式(II),
其中“D”是該高爾夫球之一最外直徑(在該等凹坑外側測量)。
2.多件式球構造形態
本發明之其他形態例係有關於多件式高爾夫球之構造及/或層特徵。依據本發明之至少某些例子,這些多件式高爾夫球可包括:(a)一球心,其由一或多個構件製成,該球心具有在53至61肖氏D之一範圍內的一最外表面硬度,其中該球心具有在18至40mm之一範圍內的一直徑;(b)一外殼層,其包圍且緊臨該球心之最外表面,該外殼層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該外殼層具有在64至72肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該外殼層具有在0.4至1.6mm之一範圍內的一厚度;及(c)一覆蓋層,其包圍該外殼層,該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該覆蓋層具有在50至58肖氏D之一範圍內的一表面硬度,且該覆蓋層具有在0.6至1.6mm之一範圍內的一公稱厚度。該外殼層之肖氏D硬度可高於該球心之肖氏D最外表面硬度及該覆蓋層之肖氏D表面硬度。
依據本發明之至少某些例子,其他球構造是可能的。作為某些更特定例子,依據本發明之至少某些例子的多件式高爾夫球可包括:(a)一實心內球心,其包括一熱塑性樹脂材料(例如,一離子聚合材料),該實心內球心具有在42至54肖氏(Shore)D(且在某些例子中,由45至51肖氏D或甚至由46至50肖氏D)之一範圍內的一表面硬度,其中該實心內球心具有在18至36mm之一範圍內之一直徑;(b)一外球心層,其包圍該實心內球心,該外球心層包括一含聚丁二烯橡膠材料或一含熱塑性樹脂材料(例如,一離子聚合材料),該外球心層具有在50至64肖氏D(且在某些例子中,由54至60肖氏D或甚至由55至59肖氏D)之一範圍內的一表面硬度,其中該外球心層具有在4至10mm之一範圍內之一厚度;(c)一外殼層,其包圍該外球心層,該外殼層包括一含聚胺基甲酸酯材料,該外殼層具有在60至72肖氏D(且在某些例子中,由64至70肖氏D或甚至由65至69肖氏D)之一範圍內的一表面硬度,其中該外殼層具有在0.4至1.6mm之一範圍內之一厚度;及(d)一覆蓋層,其包圍該外殼層,該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該覆蓋層具有在44至60肖氏D(且在某些例子中,由50至56肖氏D或甚至由50至54肖氏D)之一範圍內的一表面硬度,其中該覆蓋層具有在0.6至1.6mm之一範圍內之一公稱厚度。在這些球中,該外殼層之肖氏D表面硬度可高於該實心內球心、該外球心層及該覆蓋層之肖氏D表面硬度。任選地,依據本發明之某些例子之球可包括另外的層,例如在該外殼層與該外球心層之間之另一層及/或在該外殼層與該覆蓋層之間之另一層。
作為某些更特定例子,如有需要,該外殼層之表面硬度可以高於該外球心層之表面硬度至少8肖氏D點,高於該實心內球心之表面硬度至少16肖氏D點,及/或高於該覆蓋層之表面硬度至少10肖氏D點。任選地,該外殼層之肖氏D表面硬度可高於在該球中之任一其他層。
依據本發明之例子之這些高爾夫球構造的其他更特定例子包括多數球,其中該實心內球心之表面硬度是在46至50肖氏D之一範圍內且該實心內球心之直徑是在23至26mm之一範圍內;該外球心層之表面硬度是在55至59肖氏D之一範圍內且該外球心層之厚度是在6至8mm之一範圍內;該外殼層之表面硬度是在65至69肖氏D之一範圍內且該外殼層之厚度是在0.8至1.2mm之一範圍內;且該覆蓋層之表面硬度是在52至56肖氏D之一範圍內且其中該覆蓋層之公稱厚度是在0.9至1.3mm之一範圍內。
任選地,依據本發明之任一上述例子之多件式高爾夫球構造亦可具有在上述小節中所述各種凹坑配置、凹坑特性、及/或其他凹坑特徵之任一者。
3.方法形態
本發明之其他形態係有關於製造高爾夫球之方法。對於上述各種凹坑配置、凹坑特性、及/或其他凹坑特徵而言,該等凹坑可在不偏離本發明之情形下以包括透過使用在這技術中已知及使用之習知技術的任何所需方式形成在該球之覆蓋層中。作為某些更特定例子,上述各種凹坑配置、凹坑特性、及/或其他凹坑特徵可藉例如壓縮模製或射出模製之模製法;藉鑄造法;藉雷射成形法等形成在該等高爾夫球之覆蓋層中。在該模製及鑄造法中,可藉將一液體或半固體覆蓋材料設置在該球之緊臨內層與具有形成在其中之所需凹坑圖案之一反面的一模具之間,以藉此使該覆蓋材料成形為所需形狀(且在該覆蓋層包括該所需凹坑圖案及尺寸)且接著使該覆蓋材料硬化(例如,藉固化、加熱、壓力等)成最後所需尺寸及形狀。
本發明之另一形態係有關於形成多件式高爾夫球之方法(例如,三或三個以上件式球)。這些方法可包括一或多個以下步驟:(a)提供由一或多個構件製成之一球心(可包括如壓縮模製、射出模製、鑄造等形成步驟),其中該球心具有在18至40mm之一範圍內的一直徑;(b)形成一緊臨且包圍該球心之一最外表面的一外殼層(例如,藉射出模製、壓縮模製、鑄造等),該外殼層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,其中該外殼層具有在0.4至1.6mm之一範圍內的一厚度;及(c)形成用以包圍該外殼層之一覆蓋層(例如,藉射出模製、壓縮模製、鑄造等),該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,其中該覆蓋層具有在0.6至1.6mm之一範圍內的一公稱厚度;及(d)在該覆蓋層上施加至少一精加工材料以藉此產生一“精加工”高爾夫球(即,具有施加在該外覆蓋層上之至少一精加工材料(例如,塗料、一透明塗料等)之一高爾夫球)。該方法可更包括當正在製造各種球層時之一或多個磨光或拋光步驟。該精加工高爾夫球之球心可具有在53至61肖氏D之一範圍內的一最外表面硬度,該精加工高爾夫球之外殼層可具有在64至72肖氏D之一範圍內的一表面硬度,且該精加工高爾夫球之覆蓋層可具有在50至58肖氏D之一範圍內的一表面硬度。任選地,該外殼層之肖氏D硬度將高於該球心之肖氏D最外表面硬度及/或該覆蓋層之肖氏D表面硬度。在依據本發明之至少某些球構造例中,在該精加工高爾夫球中,該外殼層之表面硬度將比該球心之最外表面硬度高至少8肖氏D點及/或比該覆蓋層之表面硬度高至少10肖氏D點。
本發明之另一形態例係有關於形成多件式高爾夫球(例如,四件式、五件式或六件式球)之方法,其包括以下一或多個:(a)提供包括一熱塑性樹脂材料之實心內球心(可包括如壓縮模製、射出模製、鑄造等形成步驟),其中該實心內球心具有在20至29mm之一範圍內之一直徑;(b)形成用以包圍該實心內球心之一外球心層(例如,藉射出模製、壓縮模製、鑄造等),該外球心層包括一含聚丁二烯橡膠材料或一含熱塑性樹脂材料,其中該外球心層具有在4至10mm之一範圍內之一厚度;(c)形成用以包圍該外球心之一外殼層(例如,藉射出模製、壓縮模製、鑄造等),該外殼層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,其中該外殼層具有在0.5至1.5mm之一範圍內之一厚度;(d)形成用以包圍該外殼層之一覆蓋層(例如,藉射出模製、壓縮模製、鑄造等),該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,其中該覆蓋層具有在0.7至1.5mm之一範圍內之一公稱厚度;(e)任選地,在該外殼層與該外球心層之間形成一層;(f)任選地,在該外殼層與該覆蓋層之間形成一層;及(g)在該覆蓋層上施加一精加工材料(例如,藉塗刷、塗覆、靜電塗覆等)以藉此產生一精加工高爾夫球(即,具有施加在該外覆蓋層上之至少一精加工材料(例如,塗料、一透明塗料等)之一高爾夫球)。該方法可更包括當正在製造各種球層時之一或多個磨光或拋光步驟。該精加工高爾夫球之實心內球心可具有在45至51肖氏D之一範圍內的一表面硬度,該精加工高爾夫球之外球心層可具有在54至60肖氏D之一範圍內的一表面硬度,該精加工高爾夫球之外殼層可具有在64至70肖氏D之一範圍內的一表面硬度,且該精加工高爾夫球之覆蓋層可具有在51至57肖氏D之一範圍內的一表面硬度。任選地,該外殼層之肖氏D硬度將高於該實心內球心、該外球心層及/或該覆蓋層之肖氏D表面硬度。作為某些更特定例子,在該精加工高爾夫球中,該外殼層之表面硬度將比該外球心層之表面硬度高至少8肖氏D點,比該實心內球心之表面硬度高至少16肖氏D點及/或比該覆蓋層之表面硬度高至少10肖氏D點。
如有需要,上述方法可被用來產生具有上述各種球構造、球硬度、層厚度、凹坑配置、凹坑特性、及/或其他凹坑特徵之任一者的高爾夫球。
以下更詳細地說明本發明之特定例子。讀者應了解的是這些特定例子只是為了說明本發明之說明例而提出,且它們不應被解釋為限制本發明。
B.本發明之特定例子
在這申請案中之各種圖顯示依據本發明例子之高爾夫球之特徵及方法的例子。當相同符號出現在一個以上之圖式中時,在這說明書及圖式中一致地使用該符號以便表示全部之相同或類似部件。
1.高爾夫球構造形態及特徵
本發明之至少某些形態,例如該等凹坑形態,可以包括習知構造之高爾夫球的任何所需形式之高爾夫球構造實施,該習知構造之高爾夫球包括一液體填充中央球心、一實心中心球心、單件式實心球、及多件式實心球(例如,兩件式球、三件式球、四件式球、五件式球等)。
第1A圖顯示一三件式實心高爾夫球構造100包括一實心中央或內球心102,包圍且緊臨該內球心102之一最外表面102a之一外殼層104,及包圍該外殼層104之一覆蓋層106。該覆蓋層106包括形成在其外表面106a中之多數凹坑108。
該實心內球心102可在不偏離本發明之情形下由包括如在此技術中已知及使用之習知高爾夫球球心材料的任何所需材料製成,例如橡膠(例如,天然橡膠,聚丁二烯橡膠等);彈性樹脂材料(包括可由德拉威州Wilmington之E.I. DuPont公司取得之HPF 2000熱塑性樹脂材料(高中和性離子聚合物));其他彈性材料等。如在該技術中已知地,該球心材料可與其他添加劑混合以便提供所需最後性質。在依據本發明之某些例子之高爾夫球產品中,該實心內球心102可具有在42至54肖氏D之一範圍內之一表面硬度及在18至36mm之一範圍內之一直徑。這硬度值係使用標準測試方法ASTM D-2240“在該球上”(在一球之一實心內球心102之一暴露最外表面102a上)測量。對精加工球而言,可藉研磨或剝離該球之覆蓋層106及其他層以暴露該球心表面102a而暴露該球心以便進行硬度測試。在球製造時,可在該球心102上施加任何包覆層之前在一完成球心102上測量該球心102之硬度。該球之球心102可通過其橫截面具有一固定或實質固定硬度(±10%)(例如,對上述形式之熱塑性樹脂球心而言),或它可通過其橫截面具有一變化硬度(例如,如對聚丁二烯橡膠球心而言,一比中央硬之球心表面102a)。
該外殼層104亦可在不偏離本發明之情形下由包括如在此技術中已知及使用之習知內高爾夫球層材料的任何所需材料製成,包括離子聚合材料(例如,可由德拉威州Wilmington之E.I. DuPont公司取得之SURLYN),含熱塑性聚胺基甲酸酯材料等。在一高爾夫球產品中,這外殼層104可具有在60至72肖氏D之一範圍內之一表面硬度及在0.4至1.6mm之一範圍內之一厚度。這硬度值係使用標準測試方法ASTM D-2240“在該球上”(在一球之一外殼層104之一暴露外表面104a上)測量。對精加工球而言,可藉研磨或剝離其包覆層以暴露該表面104a而暴露該外殼層104之外表面104a以便進行硬度測試。在球製造時,可在該外殼層104上施加任何包覆層之前在一完成外殼層104上測量該外殼層104之硬度。如在這說明書中所使用地,該用語“外殼層”係專供一高爾夫球構造之最硬內層之用,與它在該高爾夫球中之多數層內之位置無關。
該覆蓋層106亦可在不偏離本發明之情形下由包括如在此技術中已知及使用之習知覆蓋層材料的任何所需材料製成,包括離子聚合材料(例如,可由德拉威州Wilmington之E.I. DuPont公司取得之SURLYN),含熱塑性聚胺基甲酸酯材料等。在一高爾夫球產品中,這覆蓋層106(在這說明書中亦可稱為一“外覆蓋層”)可具有在44至60肖氏D之一範圍內之一表面硬度及在0.6至1.6mm之一範圍內之一厚度(即,在該等凹坑108以外之一位置的厚度)。這硬度值係使用標準測試方法ASTM D-2240“在該球上”(在一球之一覆蓋層106之一暴露外表面106a上)測量。這硬度測量可在該覆蓋層106之外表面106a上施加精加工材料(如果有的話)之前或之後進行。
第1B圖顯示可包括本發明之特徵例之一四件式實心高爾夫球構造120例。這高爾夫球構造120例包括可與上述三件式球100層(例如,一實心中央或內球心102,一外殼層104,及一覆蓋層106)相同或相似之各種層,包括上述相同可能材料、硬度、及/或厚度,以及形成在其外表面106a中之多數凹坑108。但是,這高爾夫球結構120例包括在該外殼層104與該實心內球心102之間之另一層122。在一高爾夫球產品中,這另一層122(在此亦可稱為一“外球心層”)可具有在50至64肖氏D之一範圍內之一表面硬度及在4至10mm之一範圍內之一厚度。這硬度值係使用標準測試方法ASTM D-2240“在該球上”(在一球之一層122之一暴露外表面122a上)測量。在一精加工高爾夫球產品上,可藉研磨或剝離其包覆層以暴露該表面122a而暴露該外球心層122之外表面122a以便進行硬度測試。在球製造時,可在該層122上施加任何包覆層之前在該完成外球心層122上測量這層122之硬度。如在這說明書中所使用地,除非另外指出,該用語“球心”將被通用地用以包括一單一實心球心(例如,如第1A圖所示之元件102)或一多層球心(例如,如第1B圖所示之組合元件102與122)。這外球心層122可由任一與用於該實心內球心102之上述者相同之材料(例如,橡膠、彈性樹脂材料等)製成。
第1C與1D圖分別顯示可包括本發明之特徵例的五件式高爾夫球構造140及160例。這些高爾夫球構造140及160例包括可與上述四件式球120層(例如,一實心中央或內球心102,一外殼層104,一外球心層122及一覆蓋層106)相同或相似之各種層,包括上述相同可能材料、硬度、及/或厚度,以及形成在其外表面106a中之多數凹坑108。但是,第1C圖之高爾夫球結構140例包括在該外殼層104與該外球心層122之間之另一層142。這另一層142亦可被視為該球之全“球心”之一部分。相反地,第1D圖之高爾夫球結構160例包括在該外殼層104與該外覆蓋層106之間之另一層162(在這位置,該另一層162亦可稱為一“內覆蓋層”)。在一高爾夫球產品中,這些另外的層142與162可具有在30至64肖氏D之一範圍內之一表面硬度及在0.1至4mm之一範圍內之一厚度。這些硬度值係使用標準測試方法ASTM D-2240“在該球上”(在例如,藉研磨或剝離暴露或在任何包覆層施加在其上之前測量之一球產品之層142與162之一暴露外表面142a與162a上)測量。這些另外之層142與162可由包括上述任一特定材料及在高爾夫球構造中以往習知及使用之任何材料的任何所需材料製成。
雖然在各種圖中該等球之各種內層之表面(例如,表面102a、104a、122a、142a及/或162a)係顯示為平滑球形表面,這不是必要的。此外,如有需要,結構可加入任一及/或所有這些內層,例如包括凹坑、空隙、槽孔、溝槽、凹孔等。這些凹坑、空隙、槽孔、溝槽、凹孔等之任一者可被其緊臨層之表面填充或使它們可不被填充。同時,如有需要,在該球中之任一層或元件之內部亦可包括多數空隙。如有需要,某些層可使用球形以外之形狀(例如,卵形、橢圓球形等)。
又,如有需要,一黏著層可設置在該球之任何相鄰層之間的界面(例如,在一層之外表面與一相鄰層之一表面之間)。作為一更特定例子,對一四件式球(例如,如第1B圖所示),一層黏著劑可設置在表面102a上且位在該中央球心102(如以上且以下更詳細地所述,任選地由一樹脂材料製成)與該外球心層122(如以上且以下更詳細地所述,任選地由一橡膠材料製成)。雖然在不偏離本發明之情形下可使用任何所需種類之黏著劑,但是在某些球構造例中,該黏著劑可以是設置在該中央球心102之外表面102a上的一乙基乙烯乙酸酯(“EVA”)膜。
以下表提供依據本發明之更特定高爾夫球構造的其他例子。
依據本發明之至少某些形態之第一球例子具有如第1B圖所示之一四件式構造,且具有以下性質及/或特徵之範圍:
依據本發明之至少某些形態之另一球例子具有如第1B圖所示之一四件式構造,且具有以下性質及/或特徵之範圍:
依據本發明之至少某些形態之另一球例子具有如以上在表2中所述之一般及中間性質及以下更特定性質及特徵或性質及/或特徵之範圍:
(a)中央球心材料:HPF 2000+BaSO4
(例如,比例為重量86/14份之HPF/BaSO4
(HPF 2000是可由德拉威州Wilmington之E.I. DuPont公司取得之高中和性離子聚合物)
(b)中央球心比重:1.006
(c)中央球心硬度:53肖氏D
(d)中央球心直徑:28mm
(e)外球心材料:聚丁二烯橡膠(例如,可由Korea Kumho Petrochemical公司取得之Kumho NdBR-40橡膠,其包括100重量份NdBR(以釹為基之聚丁二烯橡膠);9重量份氧化鋅(ZnO);5重量份硫酸鋇(BaSO4
);0.6重量份過氧化物交聯劑(例如,可由德國之Degussa Initiators GmbH & Co.取得之3M/231);1重量份DCP(二異丙苯基過氧化物交聯劑);31重量份二丙烯酸鋅酯(ZDA,一固化劑);0.46重量份液態酚樹脂塑化劑(例如,可如由台灣之Holy Hill Trading公司取得之LPR);0.6重量份五氯苯硫酚之鋅鹽;及0.1重量份防崩劑)(如有需要,該五氯苯硫酚之鋅鹽可以是在美國專利第7,566,280號中所述之種類,且該專利在此全部加入作為參考)
(f)外球心比重:1.07
(g)外球心硬度:54至56肖氏D
(h)外球心壓縮(10至130kg負載):2.2至2.6mm
(i)外球心PGA壓縮:94
(j)外殼層材料:TPU(例如,可由Dongsung Highchem公司取得之neothane 6303)
(k)外殼層比重:1.2
(l)外殼層硬度:64至66肖氏D
(m)外殼層厚度:0.6mm
(n)外殼層壓縮(10至130kg負載):2.3至2.6mm
(o)外殼層PGA壓縮:96
(p)外覆蓋材料:TPU(例如,可由Dongsung Highchem公司取得之neothane 4515)
(q)外覆蓋比重:1.2
(r)外覆蓋硬度:52肖氏D
(s)外覆蓋厚度:1.2mm
(t)全體球壓縮(10至130kg負載):2.2至2.6mm
(u)全體球PGA壓縮:96
依據本發明之至少某些形態之另一球例子具有如以上在表2中所述之一般及中間性質及以下更特定性質及特徵或性質及/或特徵之範圍:
(a)中央球心材料:HPF 2000/AD 1035混合物(具有一重量比85/15)+BaSO4
(86/14之HPF+AD混合物/BaSO4
重量比)(AD 1035是可由德拉威州Wilmington之E.I. DuPont公司取得之高中和性離子聚合物)
(b)中央球心比重:1.006
(c)中央球心硬度:50肖氏D
(d)中央球心直徑:24mm
(e)外球心材料:聚丁二烯橡膠(例如,上述Kumho NdBR-40材料)
(f)外球心比重:1.07
(g)外球心硬度:54至60肖氏D
(h)外球心壓縮(10至130kg負載):2.2至2.6mm
(i)外球心PGA壓縮:94
(j)外殼層材料:TPU(例如,上述Dongsung Highchem Neothane 6303D)
(k)外殼層比重:1.2
(l)外殼層硬度:64至66肖氏D
(m)外殼層厚度:0.6mm
(n)外殼層壓縮(10至130kg負載):2.3至2.6mm
(o)外殼層PGA壓縮:96
(p)外覆蓋材料:TPU(例如,上述Dongsung Highchem Neothane 4515D)
(q)外覆蓋比重:1.2
(r)外覆蓋硬度:52肖氏D
(s)外覆蓋厚度:1.2mm
(t)全體球壓縮(10至130kg負載):2.2至2.6mm
(u)全體球PGA壓縮:96
依據本發明之至少某些形態之另一球例子具有如以上在表2中所述之一般及中間性質及以下更特定性質及特徵或性質及/或特徵之範圍:
(a)中央球心材料:HPF 2000/AD 1035混合物(具有一重量比65/35)+BaSO4
(86/14之HPF+AD混合物/BaSO4
重量比)
(b)中央球心比重:1.006
(c)中央球心硬度:48肖氏D
(d)中央球心直徑:24.5mm
(e)外球心材料:聚丁二烯橡膠(例如,上述Kumho NdBR-40材料)
(f)外球心比重:1.07
(g)外球心硬度:57肖氏D
(h)外球心壓縮(10至130kg負載):2.2至2.6mm
(i)外球心PGA壓縮:94
(j)外殼層材料:TPU(例如,上述Dongsung Highchem Neothane 6303D)
(k)外殼層比重:1.2
(l)外殼層硬度:67肖氏D
(m)外殼層厚度:1mm
(n)外殼層壓縮(10至130kg負載):2.3至2.6mm
(o)外殼層PGA壓縮:96
(p)外覆蓋材料:TPU(例如,上述Dongsung Highchem Neothane 4515D)
(q)外覆蓋比重:1.2
(r)外覆蓋硬度:52肖氏D
(s)外覆蓋厚度:1.1mm
(t)全體球壓縮(10至130kg負載):2.5mm
(u)全體球PGA壓縮:96
在不偏離本發明之情形下可對這些球構造進行各種改變及修改,包括添加或省去多數獨立層;修改各種層之硬度、比重、厚度、及/或壓縮;修改該等各種層之材料等,以便得到具有例如旋轉、全體硬度、撞擊時之聲音、升力、阻力等所需最後特性的一最後球。這些構造之任一構造之高爾夫球亦可具有下述凹坑特徵之任一凹坑特徵。
2.凹坑尺寸及尺寸形態與特徵
如上所述,本發明之至少某些形態係有關於在高爾夫球之外覆蓋層上的凹坑特徵。雖然在不偏離本發明之情形下該高爾夫球之凹坑可具有多種特徵及特性,第2A至2F圖協助顯示及說明在這說明書中所使用之各種用語。
第2A圖顯示一高爾夫球覆蓋層106之一部份之橫截面圖,且一凹坑108形成在其一外表面106a中。第2A圖之部份橫截面圖係在凹坑108之一中央截取,當直接向下看在該球之表面106a上之凹坑108時,該凹坑108具有一圓周邊緣形狀108E。如第2A圖所示,這凹坑108例具有圓弧橫截面形狀(形成在該球之覆蓋層106中之一圓弧),其中該凹坑108之內表面108a之橫截面長度(在第2A圖中之點L1
與L2
之間)的至少中央75%具有一單一半徑Rd
。換言之,在這例子中,該凹坑表面108a之至少中央75%構成具有一半徑Rd
之球面之一扇形區或部份。當在依據本發明之例子之高爾夫球中的凹坑具有一圓弧橫截面形狀時,如以下更詳細說明地,該凹坑半徑Rd
可在依據本發明之凹坑構造中具有多數值之一範圍。
如有需要,依據本發明之至少某些例子之凹坑可在該覆蓋層106之表面106a與該凹坑108之內表面108a之接合處具有一銳角或急轉角。但是,經常,如第2A圖所示,該凹坑邊緣將更圓,例如,具有一邊緣半徑Re
。雖然在依據本發明之例子之凹坑構造中可提供所需邊緣半徑,但是在某些更特定例子中,該邊緣半徑Re
將在0.1至5mm之一範圍中,且在某些例子中,在0.25至3mm之一範圍內或甚至在0.25至1.5mm之一範圍內。依據本發明之某些球例子將具有大約0.5mm之邊緣半徑Re
。對於在一給定高爾夫球構造上之各種凹坑而言,該邊緣半徑Re
可以相同或不同。即使當該凹坑108之最終邊緣具有一不同形狀(例如一圓角或邊緣)以便促進在該內凹坑表面108a與該最外覆蓋層表面106a之間的轉接時,凹坑108仍可被認為具有一球形扇形形狀及一圓弧橫截面形狀。如在這說明書中所使用地,如果一凹坑之橫截表面108a之75%構成一圓之一弧則該凹坑將被認為具有一圓弧橫截面形狀且如果該凹坑之表面積之中央75%構成一球面之一部份則該凹坑將被認為具有一球扇形表面形狀。
第2B圖顯示可包括在依據本發明之至少某些例子之凹坑構造中的其他特徵。如第2B圖所示,一假想線(虛線PL)顯示如果該凹坑108不在該球上則該高爾夫球之最外覆蓋層106之表面106a將設置之位置。該凹坑108之邊緣(或周邊)可藉定位該等點E來決定,且在該等E點處,在該凹坑108之正好相對側的切線平行(以便藉此提供第2B圖中之單一點劃線TL)。這些切點E界定該凹坑108之邊緣,且對具有一圓周邊緣之凹坑而言,在該等相對切點E之間的距離被定義為該凹坑之“直徑”d而在這說明中使用該用語。對具有其他周邊形狀(例如,多邊形、橢圓形、卵形等)之凹坑而言,可定義一類似凹坑尺寸大小,例如長度、寬度、長軸、短軸、大半徑、小半徑、弦長、對角長度等。
在這說明書中使用之該凹坑之“深度”表示該凹坑由其最深點至該切線TL之尺寸,如第2B圖所示。對具有一圓弧橫截面形狀之球扇形凹坑而言,這凹坑“深度”將在該凹坑108之幾何中心處,由該切線TL至該凹坑內表面108a在該凹坑108之中央測量。另一凹坑“深度”值可獲得為由該高爾夫球之假想表面至該凹坑之最深點之尺寸(對球扇形凹坑而言,在該凹坑108之中央由該假想線PL至該凹坑內表面108a在該凹坑108之中央)。在這說明書中,當在沒有進一步說明或限定句之情形下使用該用語凹坑“深度”時,欲表示的是由切線TL至該凹坑之最深點之該凹坑深度(在這說明書中亦可稱為“平冠狀凹坑深度”,因為它是由藉延伸在凹坑邊緣E之間且界定凹坑邊緣E之多數切線TL組界定之平面或“蓋”測量)。當表示由該假想線PL至該凹坑之最深點之深度時,該用語“總凹坑深度”將特別地使用在這說明書中(該總凹坑深度之線在第2B圖係偏離該凹坑108之中心顯示以避免遮蔽該平冠狀凹坑深度之線)。
對一特定凹坑而言,亦可界定至少兩不同凹坑體積。一凹坑體積係定義為在延伸在凹坑邊緣E之間且界定凹坑邊緣E之多數切線TL與該凹坑表面(例如,如第2B圖所示之表面108a)之間的體積。在這說明書中該體積亦可稱為“平冠狀凹坑體積”,因為它是由藉延伸在凹坑邊緣E之間且界定凹坑邊緣E之多數切線TL組界定之平面或“冠(cap)”測量。一第二凹坑體積可定義為在該球之假想球面(即,如果凹坑不存在則將是該球面處)與該凹坑表面(例如,如第2B圖所示之表面108a)之間的體積。在這說明書中,當在沒有進一步說明或限定句之情形下使用該用語凹坑“體積”時,欲表示的是由界定該凹坑周邊之多數切線TL至該凹坑之表面測量之凹坑體積(該“平冠狀凹坑體積”)。當表示在該假想球面與該凹坑表面之間測量的體積時,該用語“總凹坑體積”將特別地使用在這說明書中。
第2C圖顯示可在這說明書中討論及用以界定本發明之至少某些形態的其他凹坑特徵。第2C圖顯示該覆蓋層106厚度之各種特徵。如第2C圖所示,由於其凹坑108,一高爾夫球之覆蓋層106沒有一固定厚度。因此,在這說明書中使用之該等用語“覆蓋層厚度”及“公稱厚度”表示當沿該球之球體之一半徑,在遠離任一凹坑108之一位置處(即,在凹坑108之間的格子紋或坑間區域(land area)處)測量之該覆蓋層106的厚度。這“覆蓋層厚度”及“公稱厚度”尺寸之一例子係在第2C圖中顯示為尺寸“T”。
第2C圖顯示另一覆蓋層尺寸,尺寸B,該尺寸球是沿該球之球體之一半徑在一凹坑108之最深點之覆蓋層尺寸。在依據本發明之至少某些例子之高爾夫球上的凹坑可具有一大範圍之B/T值,例如由0.4至0.95之範圍,且在某些例子中,在0.5至0.9,或甚至0.6至0.85之範圍內。對在一給定球面上之各種不同凹坑形式而言,該B/T比可不同。
本發明之某些形態亦可有關於在該球上之凹坑表面積覆蓋率。對一單獨凹坑而言,該凹坑之表面積可以由如上述地由該凹坑邊緣界定之面積來界定。對一具有圓形周邊形狀之凹坑而言,如第2D圖所示,這面積可定義為π×(d/2)2
(其中“d”是獨立之凹坑直徑),對具有一正方形周邊形狀之凹坑而言,這面積可被定義為s2
(其中“s”是該凹坑之一邊緣之長度),且對具有一矩形周邊形狀之凹坑而言,這面積可被定義為l×w(其中“l”是該凹坑之一邊緣的長度且“w”是該凹坑之一相鄰邊緣之長度)。其他獨立之凹坑面積可以這用以決定一平冠狀凹坑周邊之一形狀之面積的相同一般方式決定。該總凹坑面積(參數Ad
是獨立凹坑表面積)對該球之一假想表面之表面積(參數Ab
是假設該球不包括凹坑來自其最外表面之該球的表面積)的比Ad
/Ab
可以是至少70%,且在某些例子中,至少72%或在由72%至85%之一範圍內或甚至在由72%至78%之一範圍內。在其中所有凹坑具有一圓周邊之本發明的至少某些例子中,該比Ad
/Ab
可在任一上述範圍內,其中Ad
是如由式(I)所決定之一總凹坑表面覆蓋面積:
其中“M”是在該高爾夫球上之一凹坑總數,且“d”是一獨立凹坑直徑,且其中Ab
是如由式(II)所決定之假設沒有凹坑存在該球上之一總高爾夫球表面積:
Ab
=4πx(D/2)2
式(II),
其中“D”是該高爾夫球之一最外直徑。
許多上述說明係有關於具有一圓弧橫截面形狀及一圓形周邊形狀之凹坑。這些在本發明之所有形態中不是必要的。相反地,包含在依據本發明之某些例子之高爾夫球中的凹坑可具有多種不同橫截面形狀,周邊形狀等。第2E圖顯示其中該橫截面形狀具有一“雙半徑”構態之另一凹坑表面例。更詳而言之,如第2E圖所示,這凹坑208之中央部份包括具有一第一曲率半徑(Rd1
)之一上(或周邊)部份(即,向該凹坑之邊緣的部份)及具有一第二曲率半徑(Rd2
)之一下(或中央)部份(即,向該凹坑之中央的部份),其中各曲率半徑之中心係位在該球外側。Rd1
可大於或小於Rd2
,且在本發明之某些例子中,Rd1
可在0.2Rd2
至5Rd2
之一範圍內,且在某些例子中,由0.25Rd2
至4Rd2
或甚至0.5Rd2
至2Rd2
。依據本發明之至少某些例子之球亦可具有一三(或三以上)半徑構造。
第2F圖顯示另一凹坑橫截面形狀例。在這例子中,該凹坑218之上(或周邊)部份(即,向該凹坑之邊緣的部份)具有一第一曲率半徑(Rd1
)且該凹坑218之下(或中央)部份(即,向該凹坑之中央的部份)具有一平坦或實質平坦底部結構。如有需要,該凹坑之底部中央部份可具有一凸形狀(即,向該球之外表面向外突出)。其他凹坑橫截面形狀可提供在依據本發明之至少某些例子之高爾夫球中,例如具有環形環之凹坑(由該凹坑內表面凸起或切入該凹坑內表面),具有切入該凹坑內表面之一部份中之任何所需形狀的凹坑,具有具有由該內凹坑表面凸起之任何所需形狀之凸塊,多數平面凹坑內表面,圓柱形凹坑表面等。
在不偏離本發明之情形下,在一高爾夫球上之凹坑可具有不同周邊形狀,例如多邊形(例如,三角形、正方形、矩形、五邊形、六邊形、八邊形等),橢圓形、卵形、淚珠形、橄欖球形,星形、不規則形等。
如果,當該等凹坑形成在該覆蓋層中時(例如,在模製、鑄造等時),一凹坑以任何明顯方式與另一凹坑不同,例如在直徑、深度、體積、表面積、橫截面形狀等方面,這兩凹坑將具有不同“形式”,如該用語在這說明書中所使用者。如果在任一上述尺寸或性質中有超過4%之差異則凹坑“明顯地”不同。如果,當該等凹坑被模製、鑄造或以其他方式開始產生時,兩凹坑具有相同尺寸及形狀(例如,相同直徑、深度、半徑、體積、表面積、橫截面形狀等),即,如果該等凹坑非“明顯地”不同(在任一上述尺寸或性質中有超過4%之差異),則兩凹坑將具有相同“形式”。如在這說明書中所使用者,即使某些變化會存在一給定形式內之每一凹坑,對該球表面之後處理,例如,塗刷、透明塗覆等也不會將一形式之凹坑改變成另一形式之凹坑。磨光或拋光該球(例如,如果這些處理是必要的話,則環繞該接縫線)亦通常將不被認為是由一凹坑形式改變成另一凹坑形式,除非該磨光或拋光“明顯地”改變一或多個上述尺寸或性質(例如,改變該尺寸大於4%)及/或除非該磨光或拋光企圖改變一單獨凹坑之尺寸之一或多個尺寸以配合另一凹坑形式的尺寸。
3.凹坑布置形態及特徵
本發明之各種形態係有關於在該高爾夫球表面上之凹坑布置及配置的形態及特徵。第3A與3B圖協助顯示依據本發明之形態之某些布置及配置特徵,首先,如這些圖中所示,一高爾夫球300包括兩半部300a與300b,各半部具有一實質半球形狀,但是,如第3B圖之前視圖所示,各球半部300a與300b可以是彎曲的或階狀的以便協助在該球上提供不對應於環繞該球之一“大圓”或赤道的一接縫線SL。依這方式,該球300可具有一“無縫”外觀,其中包括在該球之赤道之一大圓(在該等極P之間的半途)之在該球300上的所有大圓將與至少一凹坑交叉(沒有在製造這球時該等模具半部接合之明顯接縫線)。
該高爾夫球300之凹坑(在這結構例中,形式A至E)係配置在各半部300a與300b中之N個重覆扇形區302中,其中N是在2至10之範圍內的整數,且在某些例子中由2至8或甚至由3至6。在第3A及3B圖之特定例子中,對在整個球300表面上總共6個扇形區而言,各球半部300a與300b包括重覆環繞該極P之3個扇形區302(各扇形區302覆蓋該球周邊之120°)。在這凹坑配置例中之各獨立扇形區302包括一對稱線LS(如第3A圖中之一虛線所示),且在該對稱線LS一側上之扇形區內之獨立凹坑(及凹坑部份)係配置成相對在該對稱線LS之另一側上在相同扇形區302之獨立凹坑(及凹坑部份)成一鏡像。如有需要,一或多個扇形區可設置在不包括對稱線之凹坑圖案半部中,例如,與包括對稱線之扇形區散置。換言之,本發明不需要在一球上之各凹坑之可辨識扇形區必須包括一對稱線。
如第3A圖所示,各扇形區302具有一球形三角區域。如有需要(但非必要),這些扇形區302之至少某些扇形區可共用一共同點或甚至一共同側。在第3A圖所示之結構例中,在各半球300a與300b中之扇形區302共用該球體之一極點P。或者,如有需要,該等扇形區302不必共用一共同點(例如,該球形三角可由該極點P向下分開)及/或它們不必共用一共同邊緣(例如,其他、不同扇形區可設置在具有相同凹坑圖案之扇形區302之間)。
雖然在一球半部300a上之凹坑圖案半部(即,該凹坑布置及配置)與在另一球半部300b上之凹坑圖案半部(即,該凹坑布置及配置)相同,但是該等凹坑未跨越該接縫線SL配置成一鏡像。相反地,如由第3B圖可見,該等凹坑圖案半部300a與300b係跨越該接縫線SL位置互相旋轉地偏移在2°至90°、5°至60°、5°至45°、10°至45°、10°至30°且甚至15°至30°之一範圍內的偏移量。在第3A與3B圖之所示例子中,這旋轉偏移量是大約60°。
在不偏離本發明之情形下,任何所需數目之全部凹坑可包含在該球上,例如由320至432個全部凹坑,或甚至330至392個全部凹坑。依據本發明之例子之某些特定高爾夫球凹坑配置將包括360與390個全部凹坑。第3A與3B圖之特定凹坑配置包括390個全部凹坑(且每扇形區65個凹坑且每半個扇形區32.5個凹坑),且五種不同凹坑形式(形式A至E)配置在該球300上。如第3A與3B圖所示,兩相鄰扇形區302可共用一獨立凹坑使得各扇形區包含該凹坑之一半。
第4A與4B圖分別顯示具有大致以以上相對第3A與3B圖所述之方式布置之一凹坑圖案之另一高爾夫球400例的俯視及前視圖,且六個全部凹坑扇形區(在各凹坑圖案半部中有三個扇形區)並且各扇形區被一中心對稱線LS分開,且在該半扇形區內之凹坑相對該中心對稱線LS在其相鄰半扇形區中形成一鏡像。在這所示球400例中,該等凹坑圖案半部互相旋轉偏移大約60°。第4A與4B圖之這特定凹坑配置包括360個全部凹坑,且每扇形區30個凹坑且每半扇形區15個凹坑。這球400包括配置環繞該球400之六種不同凹坑形式(形式A至F)。
第5A與5B圖分別顯示一高爾夫球500之俯視及前視圖,該球500具有分成八個扇形區(由實線顯示)之各凹坑圖案半部且對稱線LS(如第5A與5B圖中之虛線所示)再將各扇形區相對該對稱線LS互相反映之多數半扇形區。為了清楚顯示,沒有實際之凹坑顯示在第5A與5B圖中,但是在不偏離本發明之情形下,在該等扇形區及半扇形區中可提供任何所需凹坑圖案、凹坑形式、及/或凹坑數目。此外,如第5B圖所示,該頂凹坑圖案半部可由一相等底凹坑圖案半部旋轉地偏移任何所需旋轉量(大約11.25°之一旋轉偏移RO顯示在第5B圖之特定例子中)。
第6A與6B圖分別顯示具有大致以以上相對第3A與3B圖所述之方式布置之一凹坑圖案之另一高爾夫球600的俯視及前視圖,且六個全部凹坑扇形區(在各凹坑圖案半部中有三個扇形區)並且各扇形區被一中心對稱線LS分開,且在該半扇形區內之凹坑相對該中心對稱線LS在其相鄰半扇形區中形成一鏡像。在這所示球600例中,該等凹坑圖案半部互相旋轉偏移大約10°。第6A與6B圖之這特定凹坑配置包括360個全部凹坑,且每扇形區30個凹坑且每半扇形區15個凹坑。這球600包括配置環繞該球600之十種不同凹坑形式(形式A至J)。
4.凹坑尺寸及其他特徵
本發明之其他形態係有關於在一單一高爾夫球之一表面上包括各種凹坑“形式”。依據本發明至少某些例子之高爾夫球可包括至少四種不同凹坑“形式”,且在某些例子中,由4至20種凹坑“形式”,由4至16種凹坑“形式”,且甚至由5至12種凹坑“形式”。
依據本發明之例子之凹坑可具有各種尺寸特徵、橫截面形狀、表面特徵等。依據本發明之至少某些例子,設置在依據本發明之至少某些例子之高爾夫球表面上的凹坑可包括:(A)在2至20mm之一範圍內的一凹坑半徑,(B)在1.5至8mm之一範圍內的一凹坑直徑,(C)在0.08至0.5mm之一範圍內的一凹坑深度,(D)在8至40之一範圍內之各凹坑形式的一直徑對深度
比,(E)至少65%之相對該假想球表面積(Ab
)之一總凹坑表面覆蓋率面積(Ad
),及(F)至少300mm2
之一總凹坑體積(平冠狀)。
設置在依據本發明至少某些例子之高爾夫球表面上之凹坑之特性及特徵的某些更特定例子可包括:(A)在2.5至18mm之一範圍內的一凹坑半徑,(B)在2至6mm之一範圍內的一凹坑直徑,(C)在0.1至0.3mm之一範圍內的一凹坑深度,(D)在10至30之一範圍內之各凹坑形式的一直徑對深度比,(E)至少70%之相對該假想球表面積(Ab
)之一總凹坑表面覆蓋率面積(Ad
),及(F)至少320mm2
之一總凹坑體積(平冠狀)。
設置在依據本發明至少某些例子之高爾夫球表面上之凹坑之特性及特徵的某些又更特定例子可包括:(A)在3至16mm之一範圍內的一凹坑半徑,(B)在2.2至5mm之一範圍內的一凹坑直徑,(C)在0.1至0.25mm之一範圍內的一凹坑深度,(D)在10至28之一範圍內之各凹坑形式的一直徑對深度比,(E)72%至78%之相對該假想球表面積(Ab
)之一總凹坑表面覆蓋率面積(Ad
),及(F)至少360mm2
至560mm2
之一總凹坑體積(平冠狀),且
在某些例子中,在由360mm2
至480mm2
之一範圍內。
依據本發明之至少某些形態之一特定凹坑圖案包括第3A與3B圖所示之一般凹坑配置,且390個全部凹坑配置在六個全部扇形區中及配置成五種不同凹坑形式(形式A至E)。在該等凹坑形成後(且在任何精加工步驟之前),這特定球之凹坑可具有如在以下表中所述之特徵及特性:
這球之總凹坑(“平冠狀”)體積是356.4mm3
,且該Ad
/Ab
比是大約75%。
依據本發明之至少某些形態之另一特定凹坑圖案包括第4A與4B圖所示之一般凹坑配置,且360個全部凹坑配置在六個全部扇形區中及配置成六種不同凹坑形式(形式A至F)。在該等凹坑形成後(且在任何精加工步驟之前),這特定球之凹坑可具有如在以下表中所述之特徵及特性:
這球之總凹坑(“平冠狀”)體積是371.4mm3
,且該Ad
/Ab
比是大約76%。
在以上表中所述之特定凹坑圖案的另一變化(包括第4A與4B圖所示之一般凹坑配置,且360個全部凹坑配置在六個全部扇形區中及配置成七種不同凹坑形式)具有以下特徵及特性(在形成該等凹坑後及在任何精加工步驟之前):
這球之總凹坑(“平冠狀”)體積是374.4mm3
,且該Ad
/Ab
比是大約76%。特別地,這球包括具有一4mm直徑之兩不同凹坑“形式”(即,一凹坑形式具有一0.175mm之深度且另一凹坑形式具有一0.165之深度)。具有較深深度(0.175mm)之大部份4mm凹坑的中心係設置成比具有較淺深度(0.165mm)之大部份4mm凹坑的中心更遠離該球之接縫或赤道。如有需要,具有較深深度之全部4mm凹坑將使它們的中心比具有較淺深度之4mm凹坑的中心更遠離該接縫或赤道(且較靠近該凹坑圖案半部之對應極)。
依據本發明之至少某些形態之另一特定凹坑圖案包括第6A與6B圖所示之一般凹坑配置,且360個全部凹坑配置在六個全部扇形區中及配置成十種不同凹坑形式(形式A至J)。在該等凹坑形成後(且在任何精加工步驟之前),這特定球之凹坑可具有如在以下表中所述之特徵及特性:
這球之總凹坑(“平冠狀”)體積是381.25mm3
,且該Ad
/Ab
比是大約76.6%。
特別地,這球例子包括多數凹坑,該等凹坑包括:
(a)一第一凹坑形式,其具有一第一直徑(2.4mm);
(b)一第二凹坑形式,其具有該第一直徑(2.4mm)及一比該第一凹坑形式更深之深度(0.205mm對0.195mm),其中該第二凹坑形式之大部份凹坑(在這例子中,所有凹坑)係設置成比該第一凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫(相對該接縫之距離係沿該球之表面由該接縫線至該凹坑之中心之最直接路徑測量);
(c)一第三凹坑形式,其具有一大於該第一直徑之第二直徑(3.3mm);
(d)一第四凹坑形式,其具有該第二直徑(3.3mm)及一比該第三凹坑形式更深之深度(0.145mm對0.135mm),其中該第四凹坑形式之大部份凹坑(在這例子中,所有凹坑)係設置成比該第三凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;
(e)一第五凹坑形式,其具有一大於該第二直徑之第三直徑(3.5mm);
(f)一第六凹坑形式,其具有一大於該第三直徑之第四直徑(3.7mm);
(g)一第七凹坑形式,其具有一大於該第四直徑之第五直徑(4.0mm);
(h)一第八凹坑形式,其具有該第五直徑(4.0mm)及一比該第七凹坑形式更深之深度(0.165mm對0.155mm),其中該第八凹坑形式之大部份凹坑(在這例子中,所有凹坑)係設置成比該第七凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;
(i)一第九凹坑形式,其具有一大於該第五直徑之第六直徑(4.3mm);及
(j)一第十凹坑形式,其具有該第六直徑(4.3mm)及一比該第九凹坑形式更深之深度(0.215mm對0.205mm),其中該第十凹坑形式之大部份凹坑(在這例子中,所有凹坑)係設置成比該第九凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫。
如上所述,某些凹坑形式將共用一共同凹坑直徑但不同凹坑深度(相較於另一凹坑形式)。依據本發明之至少某些例子,具有與另一凹坑形式相同之直徑的較深凹坑形式將使它們的中心位在比相同直徑之較淺凹坑形式之中心更遠離該接縫的位置。在至少某些例子中,具有與另一凹坑形式相同之直徑的各組較深凹坑形式將使它們的中心設置成比相同直徑之較淺凹坑形式之中心更遠離該接縫。
雖然在表6及以上緊接之說明中提及某些特定凹坑直徑,在不偏離本發明之情形下,這些特定尺寸可變化。例如,上述“第一直徑”可在2至3mm之一範圍內;上述“第二直徑”可在3至3.6mm之一範圍內;上述“第三直徑”可在3.2至3.8mm之一範圍內;上述“第四直徑”可在3.4至4mm之一範圍內;上述“第五直徑”可在3.6至4.4mm之一範圍內;及上述“第六直徑”可在4至6mm之一範圍內。該總凹坑體積(平冠狀)可為至少320mm3
,且在某些例子中,至少360mm3
,且在某些例子中在360mm3
至560mm3
之一範圍內且甚至在360mm3
至480mm3
之一範圍內。該Ad
/Ab
比可以是至少65%,至少70%,且在某些例子中,在72%至78%之一範圍內。
以上相對第6A與6B圖所述之特定凹坑圖案及配置亦包括凹坑尺寸之各種組合,但是在不偏離本發明之情形下該等特定尺寸可以改變。例如,上述“第一凹坑形式”可具有至少0.175mm之一深度,且上述“第二凹坑形式”可具有至少0.185mm之一深度。作為一特徵例,該“第一凹坑形式”可具有等於或小於15之一直徑對深度比且該“第二凹坑形式”可具有等於或小於14之一直徑對深度比。作為在依據本發明之至少某些凹坑配置例中之另一可能特徵,該等第一與第二凹坑形式之各凹坑形式將具有等於或小於14之一直徑對深度比,而該等第三至第十凹坑形式之各凹坑形式可具有等於或大於16之一直徑對深度比(且在某些情形下,該等第三至第十凹坑形式之至少某些凹坑形式將具有等於或大於20之一直徑對深度比)。作為再一可能特徵,上述第一與第二凹坑形式之各凹坑形式可具有等於或小於5mm之一凹坑半徑,且任選地,該等第三至第十凹坑形式之各凹坑形式可具有等於或大於8mm之一凹坑半徑(且在某些情形下,該等第三至第十凹坑形式之至少某些凹坑形式將具有等於或大於10之一凹坑半徑)。在不偏離本發明之情形下,亦可有其他尺寸變化及性質之組合。
在不偏離本發明之情形下,上述各種凹坑配置可使用在任何所需種類之球構造中,包括任一上述各種特定球構造(例如,多件式球構造)。
5.球製造特徵
依據本發明之高爾夫球可以任何所方式,包括以在此技術中已知及使用之習知方式製造。這包括真正製造及組裝一球之各種部件(例如一多件式球)及在該球之覆蓋層上包括該等凹坑。以下是各種製程步驟之某些更特定例子。
作為在用於一多件式高爾夫球(例如,一四件式球)之一製造方法中的一第一步驟,提供例如,由任一上述各種材料製成之一實心內球心構件。這可,例如,藉將先前經擠壓之球心材料坯料壓縮模製成一圓(或其他所需)形狀或藉一射出模製法,例如,使得該實心內球心具有在18至36mm之一範圍內(且在某些例子中由20至29mm)的一直徑。一旦模製後,該球心可以固化(如有必要),平滑化,磨光,或以另外之方式處理。
接著可將這球心放入一模製機中(例如,被支持在多數銷上),且可,例如,藉一射出模製法形成一外球心層以包圍該實心內球心(一旦該射出模製法已進行一足夠量後,該等支持銷可移除或縮回)。或者,可使用一壓縮模製或鑄造法以便環繞該實心球心形成一層。一旦模製或以其他方式形成後,這兩層球心可固化(如有必要),平滑化,磨光,或以另外之方式處理。該外球心層可具有在4至10mm之範圍的一厚度。如有必要或需要,可在該模製程序之前處理該內球心之外表面使得該外球心材料將與它維持一穩定關係。或者,可選擇該等模製條件及/或該等材料使得在這些材料之間的所需附著力或其他關係可在不需要對該內球心之另外添加物或表面處理之情形下產生。
接著,可將該兩層球心放入另一模具中以便容許一外殼層環繞該外球心形成。這亦可,例如,藉射出模製(例如藉將該兩層球心放在被一旦射出模製已適當進行後被移除或縮回之多數銷支持的一模具內)來達成。亦可為其他形成方法(且如有需要,該外殼層可在一單一步驟中與該外球心層一起加入該球構造,例如,藉施加兩層作為環繞該內球心之一兩層積層且接著模製)。一旦模製或以其他方式形成後,這三層結構可固化(如有必要),平滑化,磨光,或以另外之方式處理。該外殼層可形成為具有,例如,在0.4至1.6mm之一範圍內之一厚度。如有必要或需要,可在該模製程序之前處理該外球心之外表面使得該外殼層材料將與它維持一穩定關係。或者,可選擇該等模製條件及/或該等材料使得在這些材料之間的所需附著力或其他關係可在不需要對該外球心之另外添加物或表面處理之情形下產生。
接著,可形成一覆蓋層以包圍該外殼層。這步驟亦可例如,以上述一般方式,藉一射出模製法,藉一鑄造方式等來達成。該覆蓋層模具之內表面上可包括適當配置及尺寸之多數突起以便產生所需凹坑圖案,例如,如上述之凹坑配置及圖案。一旦模製或以其他方式形成後,這具凹坑球結構可固化(如有必要),平滑化,磨光,或以另外之方式處理。該覆蓋層可形成為具有,例如,在0.6至1.6mm之一範圍內之一公稱厚度。如有必要或需要,可在該模製程序之前處理該外殼層之外表面使得該覆蓋層材料將與它維持一穩定關係。或者,可選擇該等模製條件及/或該等材料使得在這些材料之間的所需附著力或其他關係可在不需要對該外殼層之另外添加物或表面處理之情形下產生。
任一上述層可包括添加物或其他材料以容許控制該層之各種性質,例如硬度、比重、壓縮、轉動慣量、配重、重量分布等。又,在不偏離本發明之情形下,多數另外之層可加入該球構造或可去除多數層(例如該外球心層)。
最後,可施加一或多數精加工材料至該覆蓋層以藉此產生一“精加工”高爾夫球。這些精加工材料包括,例如,塗料、透明塗料(例如,用以防止刮傷及磨損之保護塗層)、光學增亮劑、抗黃化劑、疏水劑、色料、顏料等。
依據本發明之至少某些例子之精加工球可包括各種性質,例如上述硬度性質。作為某些更特定例子,對一四件式球而言:(a)該精加工高爾夫球之實心內球心可具有在42至54肖氏D之一範圍內的一表面硬度(且在某些例子中,由45至51肖氏D),(b)該精加工高爾夫球之外球心層可具有在50至64肖氏D之一範圍內的一表面硬度(且在某些例子中,由54至60肖氏D),(c)該精加工高爾夫球之外殼層可具有在60至72肖氏D之一範圍內的一表面硬度(且在某些例子中,由64至70肖氏D),(d)該精加工高爾夫球之覆蓋層可具有在44至60肖氏D之一範圍內的一表面硬度(且在某些例子中,由51至57肖氏D),且(e)該外殼層之肖氏D硬度可高於該實心內球心、該外球心層及該覆蓋層之肖氏D表面硬度。依據本發明之某些構造例,在該精加工高爾夫球中,該外殼層之表面硬度將高於該外球心層之表面硬度至少8肖氏D點,高於該實心內球心之表面硬度至少16肖氏D點,且高於該覆蓋層之表面硬度至少10肖氏D點。
在依據本發明之某些又更特定球結構中,在該精加工高爾夫球產品中:(a)該實心內球心之表面硬度將在46至50肖氏D之一範圍內且該實心內球心之直徑將在23至26mm之一範圍內;(b)該外球心層之表面硬度將在55至59肖氏D之一範圍內且該外球心層之厚度將在6至8mm之一範圍內;(c)該外殼層之表面硬度將在65至69肖氏D之一範圍內且該外殼層之厚度將在0.8至1.2mm之一範圍內;且(d)該覆蓋層之表面硬度將在52至56肖氏D之一範圍內且該覆蓋層之公稱厚度將在0.9至1.3mm之一範圍內。
依據本發明之高爾夫球之其他方法及構造例可包括:提供由一或多個構件製成之一球心,其中該球心具有在18至40mm之一範圍內的一直徑;(b)形成一緊臨且包圍該球心之一最外表面的一外殼層,該外殼層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,其中該外殼層具有在0.4至1.6mm之一範圍內的一厚度;及(c)形成用以包圍該外殼層之一覆蓋層,該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,其中該覆蓋層具有在0.6至1.6mm之一範圍內的一公稱厚度,其中該覆蓋層形成為其中包括多數凹坑(例如,以包括上述圖案及配置之任何所需圖案或配置);及(d)在該覆蓋層上施加一精加工材料以藉此產生一“精加工”高爾夫球。這些步驟可與上述者相同或相似,且可包括在該技術中已知及使用之習知方法步驟。該精加工高爾夫球之球心可具有在53至61肖氏D之一範圍內的一最外表面硬度,該精加工高爾夫球之外殼層可具有在64至72肖氏D之一範圍內的一表面硬度,且該精加工高爾夫球之覆蓋層可具有在50至58肖氏D之一範圍內的一表面硬度,且該外殼層之肖氏D硬度可作成高於該球心之肖氏D最外表面硬度及該覆蓋層之肖氏D表面硬度。作為某些更特定例子,在該精加工高爾夫球中,該外殼層之表面硬度可比該球心之最外表面硬度高至少8肖氏D點及比該覆蓋層之表面硬度高至少10肖氏D點。
結論
當然,在不偏離本發明之情形下,可使用許多對該等高爾夫球及/或用以製造這些球之方法的修改。例如,至少在本發明之某些形態中,該等凹坑之尺寸、形狀及其他特徵以及它們的配置可以大幅地改變。此外,至少在本發明之某些形態中,該球構造之材料性質,例如該構造形式(例如,球心形式)、層材料、層硬度、層壓縮、層厚度等亦可以大幅地改變。對該等方法而言,在不偏離本發明之情形下,可以加入另外之製造步驟,可以省略多數上述步驟,且該等步驟可改變及/或順序改變等。因此,雖然本發明已相對包括實施本發明之目前較佳模式之特定例子說明過了,但是所屬技術領域中具有通常知識者應了解有許多上述結構及方法之變化及變更。因此,本發明之精神及範疇應如在附加申請專利範圍中提出般廣義地解釋。
100...高爾夫球結構;球
102...實心內球心;球心
102a...最外表面
104...外殼層
104a...表面
106...覆蓋層
106a...外表面
108...凹坑
108a...表面
108E...圓周邊緣形狀
120...高爾夫球構造
122...外球心層
122a...外表面
140...高爾夫球構造
142...另一層
160...高爾夫球構造
162...另一層;內覆蓋層
208...凹坑
218...凹坑
300...高爾夫球
300a,300b...半部
302...扇形區
400...高爾夫球
500...高爾夫球
600...高爾夫球
A-D,F-J...凹坑形式
d...直徑
E...切點;凹坑邊緣;凹坑形式
E...切點;凹坑邊緣
L1
,L2
...點
LS...對稱線
P...極;極點
Rd
...凹坑半徑
Rd1
...第一曲率半徑
Rd2
...第二曲率半徑
Re
...邊緣半徑
RO...旋轉偏移
SL...接縫線
T...尺寸
TL...切線
第1A至1D圖顯示可依據本發明之至少某些形態例使用之各種多件式高爾夫球構造例;
第2A至2F圖顯示可包括在依據本發明之至少某些形態例之高爾夫球中之各種凹坑特徵,且這些圖亦協助說明在這說明中使用之各種凹坑用語;
第3A與3B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之一高爾夫球凹坑圖案例的俯視與前視圖;
第4A與4B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之另一高爾夫球凹坑圖案例的俯視與前視圖;
第5A與5B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之一高爾夫球凹坑安排配置例的俯視與前視圖;及
第6A與6B圖分別顯示依據本發明之至少某些形態之另一高爾夫球凹坑圖案例的俯視與前視圖。
100...高爾夫球結構;球
102...實心內球心;球心
102a...最外表面
104...外殼層
104a...表面
106...覆蓋層
106a...外表面
108...凹坑
Claims (12)
- 一種多件式高爾夫球,包含:一實心內球心,其包括一熱塑性樹脂材料,該實心內球心具有在45至51肖氏D之一範圍內的一表面硬度且通過其橫截面具有固定硬度,其中該實心內球心具有在20至29mm之一範圍內之一直徑,且該熱塑性樹脂材料包括一離子聚合材料;一外球心層,其包圍該實心內球心,該外球心層包括一含聚丁二烯橡膠材料,該外球心層具有在54至60肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該外球心層具有在4至10mm之一範圍內之一厚度;一外殼層,其包圍該外球心層,該外殼層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該外殼層具有在64至70肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該外殼層具有在0.5至1.5mm之一範圍內之一厚度;及一覆蓋層,其包圍該外殼層,該覆蓋層包括一含熱塑性聚胺基甲酸酯材料,該覆蓋層具有在51至57肖氏D之一範圍內的一表面硬度,其中該外殼層之肖氏D表面硬度係高於該實心內球心、該外球心層及該覆蓋層之肖氏D表面硬度,且其中該覆蓋層具有在0.7至1.5mm之一範圍內之一公稱厚度。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,更包含:一在該外殼層與該外球心層之間的層。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,更包含: 一在該外殼層與該覆蓋層之間的層。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,其中該高爾夫球是一四件式高爾夫球。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,其中該外殼層之表面硬度係高於該外球心層之表面硬度至少8肖氏D點。
- 如申請專利範圍第1或5項之多件式高爾夫球,其中該外殼層之表面硬度係高於該實心內球心之表面硬度至少16肖氏D點。
- 如申請專利範圍第1或5項之多件式高爾夫球,其中該外殼層之表面硬度係高於該覆蓋層之表面硬度至少10肖氏D點。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,其中一黏著層係設置於該實心內球心之一外表面上,且其中該外球心層包圍該實心內球心及該黏著層。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,其中該覆蓋層包括多數形成在其中之凹坑,且其中該等多數凹坑包括:一第一凹坑形式,其具有一第一直徑;一第二凹坑形式,其具有一大於該第一直徑之第二直徑;一第三凹坑形式,其具有一大於該第二直徑之第三直徑;一第四凹坑形式,其具有一大於該第三直徑之第四 直徑;及一第五凹坑形式,其具有一大於該第四直徑之第五直徑。
- 如申請專利範圍第9項之多件式高爾夫球,其中該等多數凹坑更包括一第六凹坑形式,該第六凹坑形式具有一大於該第五直徑之第六直徑。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,其中該覆蓋層包括多數形成在其中之凹坑,且其中該等多數凹坑包括:一第一凹坑形式,其具有一第一直徑;一第二凹坑形式,其具有該第一直徑,其中該第二凹坑形式比該第一凹坑形式更深,且其中該第二凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第一凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;一第三凹坑形式,其具有一大於該第一直徑之第二直徑;一第四凹坑形式,其具有該第二直徑,其中該第四凹坑形式比該第三凹坑形式更深,且其中該第四凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第三凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;一第五凹坑形式,其具有一大於該第二直徑之第三直徑;一第六凹坑形式,其具有一大於該第三直徑之第四直徑; 一第七凹坑形式,其具有一大於該第四直徑之第五直徑;一第八凹坑形式,其具有該第五直徑,其中該第八凹坑形式比該第七凹坑形式更深,且其中該第八凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第七凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫;一第九凹坑形式,其具有一大於該第五直徑之第六直徑;及一第十凹坑形式,其具有該第六直徑,其中該第十凹坑形式比該第九凹坑形式更深,且其中該第十凹坑形式之大部份凹坑係設置成比該第九凹坑形式之大部份凹坑更遠離該接縫。
- 如申請專利範圍第1項之多件式高爾夫球,其中該實心內球心的表面硬度在46至50肖氏D之範圍內且該實心內球心之直徑在23至26mm之範圍內;其中該外球心層的表面硬度在55至59肖氏D之範圍內且該外球心層的厚度在6至8mm之範圍內;其中該外殼層的表面硬度在65至69肖氏D之範圍內且該外殼層的厚度在0.8至1.2mm之範圍內;且其中該覆蓋層的表面硬度在52至56肖氏D之範圍內且該覆蓋層的公稱厚度在0.9至1.3mm之範圍內。
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