TWI482672B - 珠粒選別機之均光成像裝置 - Google Patents

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TWI482672B
TWI482672B TW100144109A TW100144109A TWI482672B TW I482672 B TWI482672 B TW I482672B TW 100144109 A TW100144109 A TW 100144109A TW 100144109 A TW100144109 A TW 100144109A TW I482672 B TWI482672 B TW I482672B
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Ya Chen Hsu
Fang Chih Tien
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Ya Chen Hsu
Fang Chih Tien
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珠粒選別機之均光成像裝置
本發明提供一種珠粒選別機之均光成像裝置,其是與將固體由固體中分選出的裝置有關。
習用的珠粒選別機,其選別珠粒的方法是藉由將光線施打於珠粒上,藉由接收珠粒的反射光進行比對,藉由光強度的比對差異判定珠粒是否具有瑕疵;而本發明人則是發明出另一種珠粒選別方式,藉由本發明之珠粒選別機之均光成像裝置,提供能以受均勻光照的珠粒影像進行選別。
本發明提供一種珠粒選別機之均光成像裝置,其主要目的是能使乘載的珠粒均勻地受光,提昇判別效率及正確性。
為達前述目的,本發明提供一種珠粒選別機之均光成像裝置,其是使珠粒容置於可透光的透光載件之容槽內,並於透光載件兩側設置光源將光線射入透光載件,且又使透光載件容置珠粒的容槽深度大於珠粒直徑,使透光載件能確實且均勻地將光線施打於珠粒的周面,提供攝像裝置能拍攝受光均勻而無陰影之影響,藉以提升選別效率及選別正確率。
為使貴審查委員對本發明之目的、特徵及功效能夠有更進一步之瞭解與認識,以下茲請配合【圖式簡單說明】詳述如后:本發明珠粒選別機之均光成像裝置的較佳實施例如第1至3圖所示,包含一透光載件10供以乘載一珠粒X並配合二光源20、一攝像裝置30及一控制顯示器40使用,其中:該珠粒X具有一珠粒截面積A1及一珠粒直徑D1;該透光載件10為一可透光的塊體,且該透光載件10具有一容槽11,該容槽11具有一容槽深度D2以及一容槽截面積A2,該容槽深度D2大於該珠粒直徑D1,本實施例之該容槽深度D2為該珠粒直徑D1的1.5至2倍,且該容槽截面積A2大於或等於該珠粒截面積A1,且該珠粒X可容置於該透光載件10的容槽11內;該二光源20設置於該透光載件10外的兩側,且該二光源20朝向該透光載件10的容槽11方向設置;該攝像裝置30面向該透光載件10的容槽11設置;以及該控制顯示器40與該攝像裝置30電性連接接收顯示該攝像裝置30拍攝之影像。
以上為本發明珠粒選別機之均光成像裝置之結構關係,使用時,各該透光載件10之容槽11可容置一個該珠粒X,而該二光源20則將光線射入該透光載件10,該透光載件10可透光的特性便能將該二光源20的光線導入該透光載件10內,並使光線均勻地分佈穿透該透光載件10而施打於透光載件10容槽11內的珠粒X,設置於透光載件10兩側的光源20能確實地將光線施打於該珠粒X的周面,而本發明之透光載件10之容槽深度又特別設置為是珠粒直徑D1的1.5至2倍,也就是當該珠粒X容置於該透光載件10的容槽11內時,該透光載件10的高度是明顯地高出該珠粒X,則當該二光源20將光線射入該透光載件10時,藉由透光載件10的透光特性使光線均勻地傳導於透光載件10內部,而透光載件10高於珠粒X的部分就能再確實地將光線施打於珠粒X表面,使該珠粒X的外周面確實且均勻地受到光線照射,確保不會產生影響判別的反光或陰影,提昇判別的準確率;如此,當該攝像裝置30由該透光載件10上方進行拍攝時,就能拍攝到受均勻光照的珠粒X影像,確保該珠粒X不會因光照不足或陰影產生影像的誤差,而當該攝像裝置30拍攝珠粒X影像時,攝像裝置30拍攝的影像便會由該控制顯示器40上顯示出,則操作者就能由該控制顯示器40上清楚地判別珠粒X的良劣藉以進行選別,使用方便性高。
《本發明》
10‧‧‧透光載件
11‧‧‧容槽
20‧‧‧光源
30‧‧‧攝像裝置
40‧‧‧控制顯示器
X‧‧‧珠粒
D1‧‧‧珠粒直徑
D2‧‧‧容槽深度
A1‧‧‧珠粒截面積
A2‧‧‧容槽截面積
第1圖 為本發明珠粒選別機之均光成像裝置的使用狀態圖。
第2圖 為本發明珠粒選別機之均光成像裝置的使用狀態之部分結構剖視圖。
第3圖 為本發明珠粒選別機之均光成像裝置的另一使用狀態圖。
10...透光載件
11...容槽
20...光源
30...攝像裝置
A2...容槽截面積

Claims (2)

  1. 一種珠粒選別機之均光成像裝置,包含一透光載件供以乘載一珠粒並配合二光源及一攝像裝置使用,其中:該珠粒具有一珠粒截面積及一珠粒直徑;該透光載件為一可透光的塊體,且該透光載件具有一容槽,該容槽具有一容槽深度以及一容槽截面積,該容槽深度大於該珠粒直徑,該容槽截面積大於或等於該珠粒截面積,且該容槽深度為該珠粒直徑的1.5至2倍;該二光源設置於該透光載件外的兩側,且該二光源朝向該透光載件的容槽方向設置;以及該攝像裝置面向該透光載件的容槽設置。
  2. 如申請專利範圍第1項所述的珠粒選別機之均光成像裝置,其中,更包含一控制顯示器與該攝像裝置電性連接接收顯示該攝像裝置拍攝之影像。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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TW588155B (en) * 2001-10-31 2004-05-21 Satake Eng Co Ltd Method and apparatus for evaluating the quality of a non-washed rice

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TW588155B (en) * 2001-10-31 2004-05-21 Satake Eng Co Ltd Method and apparatus for evaluating the quality of a non-washed rice

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