TWI482101B - 產生筆劃之方法 - Google Patents

Description

產生筆劃之方法

本發明係關於一種字型產生方法，尤指一種根據一套粗體筆劃及一套細體筆劃產生更新後之筆劃的方法。

中文輸入法及漢字輸入法係為電腦使用者常用的輸入法，而現階段產生字型的方法係藉由字型產生器擷取字型資料，再根據字型的相關參數來產生字型。

字型的相關參數包含每一筆劃的關鍵點及寬度值，請參考第1圖，第1圖係為筆劃之關鍵點及寬度值之示意圖。以中文字「凸」的筆劃「ㄋ」而言，如第1圖所示，筆劃「ㄋ」係由5個關鍵點K1至K5及4個寬度值W1至W4構成，每二個關鍵點之間會搭配一寬度值，例如關鍵點K2及關鍵點K3所構成的部分筆劃的寬度為寬度值W2。

然而在習知技術中，當需要不同粗細的字型時，往往都需要重新設計一套新的字型，導致因應不同的粗細度而反覆進行設計。此外，若是僅直接對原有的字型變化粗細，會使變化後的字型結構遭到嚴重破壞，例如特定筆劃於太粗時會超出於字型的邊框。因此就習知技術而言，仍然無法在不破壞字型結構或在不重新設計字型的情況下產生各種粗細程度的字型。

本發明係之一實施例關於一種產生筆劃之方法，包含讀取一目標筆劃所對應之一粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，讀取該目標筆劃所對應之一細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，根據該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值、該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值、該目標筆劃之至少一縮放比率來產生該目標筆劃，及將該目標筆劃顯示於一顯示器上。

本發明係之另一實施例關於一種產生字型的方法，包含產生複數個目標筆劃及根據該些目標筆劃產生該字型。產生目標筆劃的每一目標筆劃包含讀取該目標筆劃所對應之一粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，讀取該目標筆劃所對應之一細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，根據該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值、該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值及該目標筆劃之至少一縮放比率，產生該目標筆劃。

透過本發明實施例產生目標筆劃及產生字型之方法，當改變字型的粗細時，字型結構不會遭到破壞，且當需要一套新的字型時，可透過調整目標筆劃之橫劃、豎劃及斜劃之各自的縮放比率來產生新的字型，因此不用再重新設計整套字型。

在說明書及後續的申請專利範圍當中使用了某些詞彙來指稱特定的元件。所屬領域中具有通常知識者應可理解，製造商可能會用不同的名詞來稱呼同樣的元件。本說明書及後續的申請專利範圍並不以名稱的差異來作為區別元件的方式，而是以元件在功能上的差異來作為區別的基準。在通篇說明書及後續的請求項當中所提及的「包含」係為一開放式的用語，故應解釋成「包含但不限定於」。

請參考第2圖，第2圖係為本發明第一實施例產生目標筆劃之流程圖，說明如下。

步驟202：讀取目標筆劃所對應之粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；

步驟204：讀取目標筆劃所對應之細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；

步驟206：根據目標筆劃所對應之粗體筆劃的複數個關鍵點座標及至少一寬度值、目標筆劃所對應之細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，及目標筆劃之至少一縮放比率來產生目標筆劃；

步驟208：將目標筆劃顯示於顯示器上。

筆劃之寬度值包含橫劃、豎劃及斜劃等種類，因此在步驟202中，粗體筆劃之至少一寬度值係指粗體筆劃之橫劃、豎劃及斜劃之寬度值，且在步驟204中，細體筆劃之至少一寬度值係指細體筆劃之橫劃、豎劃及斜劃之寬度值。此外，粗體筆劃、細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值可儲存於電腦設備之記憶體的資料庫(database)中以供讀取，且粗體筆劃、細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值可根據目標筆劃之辨識碼(identification code)來讀取。每個字型之每個筆劃均具有其專屬的辨識碼。

在步驟206中，當要產生目標筆劃時，係將細體筆劃之複數個關鍵點座標分別與對應的粗體筆劃之複數個關鍵點座標進行內插(interpolation)以產生目標筆劃的複數個關鍵點座標，並將細體筆劃之至少一寬度值分別與對應的粗體筆劃之至少一寬度值進行內插以產生目標筆劃的至少一寬度值。此外，目標筆劃的縮放比率可根據使用者的設定作變更，以產生較偏向粗體筆劃或較偏向細體筆劃的目標筆劃，且目標筆劃之橫劃、豎劃、斜劃可具有各自不同或相同的縮放比率，故透過排列組合就可產生多種字型，因此當需要一套新的字型時，不需要再重新設計整套字型，而可直接透過調整目標筆劃之橫劃、豎劃、斜劃之各自的縮放比率即可產生一套新的字型，進而減少資料庫中所要儲存的字型。

習知技術中，由於字型在進行粗細變更時，其筆劃的關鍵點無法作變更，因此當字型變更粗細之後，整個字型的結構會被破壞，除了影響外觀，字型也可能會超出邊框而與鄰近的字重疊。亦即，習知技術僅能對字型的全部筆劃之粗細進行等比例的調整，而無法針對每個筆劃作獨立的調整。本發明在步驟206中，將細體筆劃之複數個關鍵點座標與對應的粗體筆劃之複數個關鍵點座標分別進行內插以產生目標筆劃的複數個關鍵點座標，並將細體筆劃之至少一寬度值與對應的粗體筆劃之至少一寬度值進行內插以產生目標筆劃的至少一寬度值。由於產生的目標筆劃具有針對該目標筆劃內插後之關鍵點座標及針對該目標筆劃內插後之寬度值，因此目標筆劃的結構不會隨著其他筆劃的變粗或變細遭到破壞，而避免發生超出邊框與鄰近的字重疊的情形。在步驟208中，產生後之目標筆劃可顯示於液晶螢幕、投影機或筆記型電腦等顯示裝置。

雖然在第一實施例中，係藉由一套粗體筆劃及一套細體筆劃來產生內插後之目標筆劃，然而在第一實施例中亦可對粗體筆劃及細體筆劃取算術平均數、方均根(root mean square)、加權後平均等方法來產生目標筆劃，或是組合二種以上之方法來產生目標筆劃，而不限定只使用內插法來產生目標筆劃，任何對於本實施例中藉由二套筆劃產生目標筆劃之均等變化與修飾當屬本發明涵蓋之範圍。

請參考第3圖，第3圖係為本發明第二實施例產生目標筆劃之流程圖，說明如下：

步驟302：讀取目標筆劃所對應之細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；

步驟304：根據目標筆劃所對應之細體筆劃的至少一寬度值產生粗體筆劃的至少一寬度值，及根據細體筆劃的複數個關鍵點座標產生粗體筆劃的複數個關鍵點座標，來產生目標筆劃所對應之粗體筆劃；

步驟306：根據目標筆劃所對應之粗體筆劃的複數個關鍵點座標及至少一寬度值、目標筆劃所對應之細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值、目標筆劃之至少一縮放比率來產生目標筆劃；

步驟308：將目標筆劃顯示於顯示器上。

第二實施例與第一實施例的差別在於，第二實施例僅由一套細體筆劃來產生目標筆劃，在產生目標筆劃之前，係在步驟304中利用細體筆劃產生粗體筆劃，而粗體筆劃之關鍵點係根據細體筆劃之關鍵點來產生，產生粗體筆劃之關鍵點時，可將細體筆劃之關鍵點內縮一定的幅度來產生以避免產生後之粗體筆劃會超出邊框，此外粗體筆劃之寬度值係根據細體筆劃之寬度值來產生，舉例來說，透過將一細體字型的橫劃、豎劃、斜劃分別進行不同或相同幅度的調粗，便可產生一對應的粗體字型。在產生粗體筆劃之後，相同於第一實施例，接著在步驟306即可根據細體筆劃及藉由細體筆劃產生之粗體筆劃來產生內插後之目標筆劃，再於步驟308將目標筆劃顯示於顯示器上。

請參考第4圖，第4圖係為本發明第三實施例產生目標筆劃之流程圖，說明如下。

步驟402：讀取目標筆劃所對應之粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；

步驟404：根據目標筆劃所對應之粗體筆劃的至少一寬度值產生細體筆劃的至少一寬度值，及根據粗體筆劃的複數個關鍵點座標產生細體筆劃的複數個關鍵點座標，來產生目標筆劃所對應之細體筆劃；

步驟406：根據目標筆劃所對應之粗體筆劃的複數個關鍵點座標及至少一寬度值、目標筆劃所對應之細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值、目標筆劃之至少一縮放比率來產生目標筆劃；

步驟408：將目標筆劃顯示於顯示器上。

第三實施例與第一實施例的差別在於，第三實施例僅由一套粗體筆劃來產生目標筆劃，在產生目標筆劃之前，係在步驟404中利用粗體筆劃產生細體筆劃，而細體筆劃之關鍵點係根據粗體筆劃之關鍵點來產生，產生細體筆劃之關鍵點時，可將粗體筆劃之關鍵點外移一定的幅度來產生以避免產生後之細體筆劃在邊框內整體上的比例太小，然而關鍵點外移的幅度須以不使產生後之粗體筆劃超出邊框為限，此外細體筆劃之寬度值係根據粗體筆劃之寬度值來產生，舉例來說，透過將一粗體字型的橫劃、豎劃、斜劃分別進行不同或相同幅度的調細，便可產生一對應的細體字型。在產生細體筆劃之後，相同於第一實施例，接著在步驟406即可根據細體筆劃及藉由細體筆劃產生之粗體筆劃來產生內插後之目標筆劃，再於步驟408將目標筆劃顯示於顯示器上。

在以上實施例中，說明了產生單一目標筆劃的方法，請繼續參考第5圖，第5圖係為本發明第四實施例產生目標字型的流程圖，說明如下：

步驟502：讀取目標字型的每一目標筆劃所對應之粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；

步驟504：讀取目標字型的每一目標筆劃所對應之細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；

步驟506：根據每一目標筆劃所對應之粗體筆劃的複數個關鍵點座標及至少一寬度值、目標筆劃所對應之細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，及每一目標筆劃之至少一縮放比率來分別產生每一目標筆劃；

步驟508：根據所產生的每一目標筆劃來產生目標字型；

步驟510：將目標字型顯示於顯示器上。

在第四實施例中，係根據第一實施例中產生目標筆劃之方法來產生對應於目標字型的每一目標筆劃，因此同理於第一實施例，當需要一套新的字型時，不需要再重新設計整套字型，而可直接透過調整調整每一目標筆劃之橫劃、豎劃、斜劃各自的縮放比率來產生所需的目標字型，進而減少資料庫中所要儲存的字型，且因每一目標筆劃的結構均不會遭到破壞，因此目標字型不會超出邊框與鄰近的字重疊。

請參考第6A至6C圖，第6A圖係為對應「茅」字的細體筆劃之示意圖，第6B圖係為對應「茅」字的粗體筆劃之示意圖，且第6C圖係為將第6A圖、第6B圖進行第2圖之流程產生目標字型之示意圖。在第6A圖與第6B圖中，透過對細體筆劃、粗體筆劃之對應關鍵點進行內插，以及對細體筆劃、粗體筆劃之對應寬度值進行內插，可據以產生目標字型A1至A25。由於目標字型A1至A25之關鍵點及寬度值係經由第6A圖之細體筆劃與第6B圖之粗體筆劃進行內插後產生，因此目標字型A1至A25之字型結構不會被破壞，且不會超出邊框。

此外，目標字型A1至A25之橫劃、豎劃、斜劃可具有不同的縮放比率，例如在第6C圖中，以目標字型A1、A7、A13、A19、A25而言，係依序同時增加橫劃、豎劃、斜劃之寬度值；以目標字型A1、A6、A11、A16、A21而言，係依序同時增加橫劃、斜劃的寬度值，但未增加豎劃的寬度值；以目標字型A1、A2、A3、A4、A5而言，係依序同時增加豎劃、斜劃的寬度值，但未增加橫劃的寬度值。因此由第6A至6C圖可知，透過本發明第四實施例除了可在不破壞字型結構的情況下產生任意粗細的目標字型，也可以藉由對橫劃、豎劃、斜劃設置不同之縮放比率來產生新的字型。為了方便舉例說明，以上僅列舉產生目標字型A1至A25，然而本發明並不限於此，當然也可產生更多的目標字型，及對於目標字型之橫劃、豎劃、斜劃以更多不同的方式來調整來產生新的字型，任何對本發明產生字型、筆劃之方法所作之均等變化與修飾皆為本發明所涵蓋。

綜上所述，透過第一實施例至第三實施例產生目標筆劃之方法及第四實施例產生目標字型之方法，當改變字型的粗細時，字型結構不會遭到破壞，且需要一套新的字型時，可透過調整目標筆劃之橫劃、豎劃、斜劃各自的縮放比率來產生新的字型，因此不用再重新設計整套字型。

以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

202至208．．．步驟

302至308．．．步驟

402至408．．．步驟

502至510．．．步驟

A1至A25．．．目標字型

K1至K5．．．關鍵點

W1至W4．．．寬度值

第1圖係為筆劃之關鍵點及寬度值之示意圖。

第2圖係為本發明第一實施例產生目標筆劃之流程圖。

第3圖係為本發明第二實施例產生目標筆劃之流程圖。

第4圖係為本發明第三實施例產生目標筆劃之流程圖。

第5圖係為本發明第四實施例產生目標字型的流程圖。

第6A圖係為中文字的細體筆劃之示意圖。

第6B圖係為中文字的粗體筆劃之示意圖。

第6C圖係為將第6A圖、第6B圖進行第2圖之流程產生目標字型之示意圖。

202至208．．．步驟

Claims (10)

1. 一種產生筆劃之方法，包含：讀取一目標筆劃所對應之一粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；讀取該目標筆劃所對應之一細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；根據該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，及該目標筆劃之至少一縮放比率，產生該目標筆劃；及將該目標筆劃顯示於一顯示器上。
2. 如請求項1所述之方法，其中該粗體筆劃之至少一寬度值係為該粗體筆劃之橫劃、豎劃及斜劃之寬度值；該細體筆劃之至少一寬度值係為該細體筆劃之橫劃、豎劃及斜劃之寬度值；且該目標筆劃之至少一寬度值係為該目標筆劃之橫劃、豎劃及斜劃之寬度值。
3. 如請求項1所述之方法，其中產生該目標筆劃係為以內插法產生該目標筆劃。
4. 如請求項1所述之方法，其中讀取該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值係為由一資料庫讀取該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；且讀取該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值係為由該資料庫讀取該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值。
5. 如請求項1或4所述之方法，其中讀取該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值係為根據該目標筆劃之辨識碼讀取該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；且讀取該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值係為根據該目標筆劃之辨識碼讀取該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值。
6. 如請求項1所述之方法，另包含根據該細體筆劃的至少一寬度值產生該粗體筆劃的至少一寬度值。
7. 如請求項1所述之方法，另包含根據該粗體筆劃的至少一寬度值產生該細體筆劃的至少一寬度值。
8. 如請求項1所述之方法，另包含根據該細體筆劃的複數個關鍵點座標產生該粗體筆劃的複數個關鍵點座標。
9. 如請求項1所述之方法，另包含根據該粗體筆劃的複數個關鍵點座標產生該細體筆劃的複數個關鍵點座標。
10. 一種產生字型的方法，包含：產生複數個目標筆劃，其中產生該些目標筆劃的每一目標筆劃包含：讀取該目標筆劃所對應之一粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；讀取該目標筆劃所對應之一細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值；及根據該粗體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，該細體筆劃之複數個關鍵點座標及至少一寬度值，及該目標筆劃之至少一縮放比率，產生該目標筆劃；及根據該些目標筆劃產生該字型。