TWI476495B - 具有位置資訊之顯示器 - Google Patents

Description

具有位置資訊之顯示器

本發明是有關於一種具有位置資訊之顯示器。

近年來，觸控螢幕或觸控面板已廣泛地應用於各種電子產品中。常見的觸控面板包含電阻式觸控螢幕、電容式觸控螢幕、電磁感應式觸控螢幕、光學感應式觸控螢幕及音波式觸控螢幕等等。在這些習知的觸控技術中，都各有其優缺點。例如，電阻式觸控螢幕及電容式觸控螢幕會減損顯示器的亮度。音波式觸控螢幕及光學感應式觸控螢幕雖然不會減損顯示器的亮度，但是解析度不盡理想。電磁感應式觸控螢幕的成本較高。有鑑於此，目前仍須要一種嶄新的觸控技術，期能具有高解析度及低成本，且不減損顯示器的亮度。

本發明之一目的係提供一種具有位置資訊之顯示器，俾能在不減損顯示器之亮度下，提供識別位置的功能。

本發明之另一目的係提供一種具有位置資訊之顯示器，俾能提高此顯示器的可識別角度。

根據本發明一實施態樣，此具有位置資訊之顯示器包含複數畫素單元，每一畫素單元包含一位置識別圖碼、一第一畫素電極以及一第二畫素電極。第一畫素電極與第二 畫素電極間隔一狹縫，且位置識別圖碼與狹縫在顯示器之顯示面的法線方向上重疊。

根據本發明另一實施態樣，係提供一種具有位置資訊之液晶顯示器，其包含一主動陣列基板、一對向基板、一液晶層以及複數位置識別圖碼。主動陣列基板包含複數畫素，每一畫素包含一透明導電層，且透明導電層具有一狹縫。對向基板面向主動陣列基板。液晶層位於主動陣列基板與對向基板之間。這些位置識別圖碼配置於主動陣列基板或/及對向基板，且位置識別圖碼與狹縫在在一垂直投影方向上重疊。

在一實施方式中，每一位置識別圖碼包含一吸收紅外光材料。

在一實施方式中，吸收紅外光材料係吸收波長800 nm至1100 nm之紅外光。

在一實施方式中，所述液晶顯示器為一聚合物穩定配向之液晶顯示器(PSA LCD)，且透明導電層包含一第一畫素電極以及一第二畫素電極，第一與第二畫素電極被狹縫間隔開。

在一實施方式中，這些位置識別圖碼位於對向基板上，且對向基板包含一圖案化黑色樹脂層，這些位置識別圖碼與圖案化黑色樹脂層為同一層別。

根據本發明一實施方式，位置識別圖碼位於該對向基板上，且對向基板包含基材、圖案化黑色樹脂層、彩色光阻層以及第三共用電極。圖案化黑色樹脂層位於基材上。彩色光阻層位於基材上，且覆蓋圖案化黑色樹脂層的至少 一部分。第三共用電極配置在彩色光阻層上，其中位置識別圖碼位於彩色光阻層上，且被第三共用電極覆蓋。

根據本發明一實施方式，位置識別圖碼位於對向基板上，且對向基板包含基材、圖案化黑色樹脂層、彩色光阻層以及第三共用電極。圖案化黑色樹脂層位於基材上。彩色光阻層位於基材上，且覆蓋圖案化黑色樹脂層的至少一部分。第三共用電極配置在彩色光阻層上，其中位置識別圖碼位於第三共用電極上。

在一實施方式中，這些位置識別圖碼配置在對向基板之相對於液晶層的外側表面。

在一實施方式中，這些位置識別圖碼配置在主動陣列基板上，且位置識別圖碼位於狹縫之內。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光阻層，每一透明導電層形成於彩色光阻層上，其中位置識別圖碼位於彩色光阻層上，且位置識別圖碼位於狹縫內。

在一實施方式中，這些位置識別圖碼配置在主動陣列基板之相對於液晶層的外側表面。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光阻層，且每一透明導電層形成於彩色光阻層上，其中位置識別圖碼配置在主動陣列基板之相對液晶層的外側表面。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光阻層，且每一透明導電層形成於彩色光阻層上，且其中對向基板包含圖案化黑色樹脂層以及第三共用電極覆蓋圖案化黑色樹脂層，位置識別圖碼位於第三共用電極上。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光 阻層，且每一透明導電層形成於彩色光阻層上，且其中對向基板包含基材、圖案化黑色樹脂層以及第三共用電極。圖案化黑色樹脂層位於且接觸基材上。第三共用電極覆蓋圖案化黑色樹脂層。這些位置識別圖碼位於且接觸基材上，且被第三共用電極覆蓋。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光阻層，且每一透明導電層形成於彩色光阻層上，且其中對向基板包含基材、圖案化黑色樹脂層以及第三共用電極。圖案化黑色樹脂層位於且接觸基材上。第三共用電極覆蓋圖案化黑色樹脂層。位置識別圖碼配置於對向基板之相對液晶層的外側表面。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光阻層以及圖案化黑色樹脂層，且圖案化黑色樹脂層以及每一透明導電層配置於彩色光阻層上，且其中位置識別圖碼配置於彩色光阻層上，且位於這些狹縫內。

根據本發明一實施方式，其中主動陣列基板更包含彩色光阻層以及圖案化黑色樹脂層，且圖案化黑色樹脂層以及每一透明導電層配置於彩色光阻層上，且其中位置識別圖碼配置在主動陣列基板之相對液晶層的外側表面。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光阻層以及圖案化黑色樹脂層，且圖案化黑色樹脂層以及每一透明導電層配置於彩色光阻層上，且其中對向基板包含第三共用電極，這些位置識別圖碼位於第三共用電極上。

根據本發明一實施方式，其中主動陣列基板更包含彩色光阻層以及圖案化黑色樹脂層，且圖案化黑色樹脂層以 及每一透明導電層配置於彩色光阻層上，且其中對向基板包含基材以及第三共用電極位於基材上，位置識別圖碼位於基材上，且被第三共用電極覆蓋。

根據本發明一實施方式，主動陣列基板更包含彩色光阻層以及圖案化黑色樹脂層，且圖案化黑色樹脂層以及每一透明導電層配置於彩色光阻層上，且其中這些位置識別圖碼配置於對向基板之相對液晶層的外側表面。

根據本發明一實施方式，狹縫之寬度為約3 μm至約20 μm。

根據本發明一實施方式，狹縫之寬度為約5 μm至約18 μm。

根據本發明一實施方式，狹縫之寬度為約3 μm至約7 μm。

根據本發明一實施方式，位置識別圖碼之寬度對狹縫之寬度的比值為約0.5至約1.2。

根據本發明又一實施態樣，係提供一種具有位置資訊之液晶顯示器，其包含主動陣列基板、對向基板、液晶層以及複數位置識別圖碼。主動陣列基板包含複數畫素，每一畫素包含第一畫素電極以及第二畫素電極，第一畫素電極與第二畫素電極間隔一狹縫。對向基板面向主動陣列基板。液晶層位於主動陣列基板與對向基板之間。位置識別圖碼配置於主動陣列基板或/及對向基板，且位置識別圖碼包含吸收紅外光材料，且位置識別圖碼在垂直投影方向上與狹縫重疊，也就是位置識別圖碼在主動陣列基板的投影與狹縫在該主動陣列基板的投影位置重疊。

為了使本揭示內容的敘述更加詳盡與完備，下文針對了本發明的實施態樣與具體實施例提出了說明性的描述；但這並非實施或運用本發明具體實施例的唯一形式。以下所揭露的各實施例，在有益的情形下可相互組合或取代，也可在一實施例中附加其他的實施例，而無須進一步的記載或說明。

在以下描述中，將詳細敘述許多特定細節以使讀者能夠充分理解以下的實施例。然而，可在無此等特定細節之情況下實踐本發明之實施例。在其他情況下，為簡化圖式，熟知的結構與裝置僅示意性地繪示於圖中。

第1A圖繪示本發明一實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器100的上視示意圖，第2圖繪示第1A圖中延2-2’線段的剖面示意圖。液晶顯示器100包含一主動陣列基板110、一對向基板130、一液晶層140以及位置識別圖碼150。為簡化圖示之目的，第1A圖中未繪示對向基板130及液晶層140。

主動陣列基板110具有複數畫素111，每一個畫素111包含透明導電層120，且透明導電層120具有狹縫120s，如第1A圖所示。在一實施方式中，透明導電層120包含第一畫素電極121以及第二畫素電極122，第一與第二畫素電極121、122被狹縫120s間隔開，使第一和第二畫素電極121、122彼此分離。在一實施方式中，狹縫120s的寬度G為約3 μm至約20 μm。在另一實施方式中，狹縫 120s的寬度G為約5 μm至約18 μm。在其他實施方式中，狹縫120s的寬度G為約3 μm至約7 μm。再一較佳實例中，狹縫120s的寬度G為約7 μm。第一畫素電極121朝向至少一個方向延伸，例如：四個方向延伸，而形成四個區域(domain)，第二畫素電極122也朝向至少一個方向延伸，例如：四個方向延伸，而形成另外四個區域。在一實施例中，液晶顯示器100為聚合物穩定配向之液晶顯示器(PSA LCD)。

如第2圖所示，對向基板130面向主動陣列基板110。液晶層140位於主動陣列基板110與對向基板130之間。對向基板130具有一第三共用電極118，第一和第二畫素電極121、122分別與第三共用電極118形成電場，而得以適當地控制液晶層140中液晶分子的向位(orientation)。

請參見第1A圖，在一實施方式中，主動陣列基板110還包含複數閘極線113、複數資料線114以及複數主動元件115。閘極線113與資料線114交錯，而形成畫素111的區域。主動元件115可例如為薄膜電晶體，主動元件115的汲極電性耦接至第一畫素電極121及/或第二畫素電極122。雖然在第1A圖中，每一個畫素111僅繪示一個主動元件115，但在其他實施方式中，每一個畫素111可包含兩個主動元件115，並且這兩個主動元件115分別電性耦接第一畫素電極121和第二畫素電極122。根據本發明一或多個實施方式，第一畫素電極121與第二畫素電極122可具有不同的電位。

在另一實施方式中，每一個畫素111還包含第一共用 電極116以及第二共用電極117，如第1A圖所示。舉例而言，第一及第二共用電極116、117與閘極線113為同一層別，並且第一及第二共用電極116、117分別位於第一和第二畫素電極121、122的下方。第一與第二畫素電極121、122之間的狹縫120s位在第一和第二共用電極116、117之間。

位置識別圖碼150配置在主動陣列基板110與對向基板130的至少其中一者上。換言之，位置識別圖碼150可選擇性配置在主動陣列基板110上，或是配置在對向基板130上。或者，某些位置識別圖碼150配置在主動陣列基板110上，另一些位置識別圖碼150配置在對向基板130上。位置識別圖碼150的外觀形狀及數量並無特殊限制，可為四邊形、圓形、三角形、多邊形、曲線形或任意形狀，且數量可為單一個或複數個，在第1A圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150為長條形。在第1B圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150為圓形，本發明並不以此為限。

根據本發明一實施方式，這些位置識別圖碼150的位置對應於這些狹縫120s的位置，詳細來說：位置識別圖碼150投影至主動陣列基板110的位置與些狹縫120s投影至主動陣列基板110的位置重疊。如第2圖所示。在一實施方式中，位置識別圖碼150配置在主動陣列基板110上，並且每一個位置識別圖碼150位於狹縫120s內。在另一實施方式中，如第3圖所示，位置識別圖碼150是配置在主動陣列基板110相對於液晶層140的外側表面112上，並且位置識別圖碼150對應於第一畫素電極121與第二畫素 電極122之間的狹縫120s。亦即，位置識別圖碼150位在狹縫120s的正下方；詳細來說：位置識別圖碼150投影至主動陣列基板110的與些狹縫120s投影至主動陣列基板110的位置重疊。在此實施方式中，顯示器100還包含第一偏光片160位於主動陣列基板110的外側表面112上，位置識別圖碼150夾置在第一偏光片160與主動陣列基板110之間。

雖然在第1A圖及第1B圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150的寬度W小於狹縫120s的寬度G，但是本發明並不限於此。如第1C圖所示，位置識別圖碼150的寬度W可實質上等於狹縫120s的寬度G。在第1D圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150的寬度W大於狹縫120s的寬度G。位置識別圖碼150可延伸超過狹縫120s的邊緣。例如，位置識別圖碼150可向第一畫素電極121延伸，使位置識別圖碼150超過狹縫120s的邊緣一距離b。或者，位置識別圖碼150可向第二畫素電極122延伸，使位置識別圖碼150超過狹縫120s的邊緣一距離a。距離a及/或距離b可例如為約1 μm至約5μm。根據本發明之諸多實施方式，每一位置識別圖碼150之寬度W對狹縫120s之寬度G的比值(W/G)較佳為約0.5至約1.2。若比值W/G約小於0.5，必須使用較高解析度的影像擷取裝置來讀取位置識別圖碼150，可能增加整體裝置的成本。若比值W/G約大於1.2，畫素的開口率可能下降到無法接受的程度，同時導致面板的亮度降低至無法接受的程度。

在又一實施方式中，如第4A圖所示，位置識別圖碼 150位於對向基板130上。對向基板130還包含一圖案化黑色樹脂層134以及一彩色光阻層136，位置識別圖碼150與圖案化黑色樹脂層134為同一層別。換言之，位置識別圖碼150與黑色樹脂層134為相同材料，且圖案化黑色樹脂層134和位置識別圖碼150是在同一道微影製程中形成，彩色光阻層136覆蓋黑色樹脂層134及位置識別圖碼150。位置識別圖碼150對應於第一畫素電極121與第二畫素電極122之間的狹縫120s。亦即，位置識別圖碼150位在狹縫120s的正上方；詳細來說：位置識別圖碼150投影至主動陣列基板110的位置與些狹縫120s投影至主動陣列基板110的位置重疊。在其他實施例中，圖案化黑色樹脂層134和位置識別圖碼150亦可在不同道微影製程中形成，如第4B圖及第4C圖所示。在第4B圖繪示的實施方式中，對向基板130包含基材130a、圖案化黑色樹脂層134、彩色光阻層136以及第三共用電極118。圖案化黑色樹脂層134及彩色光阻層136位於基材130a上，彩色光阻層136覆蓋圖案化黑色樹脂層134的至少一部分。第三共用電極118配置在彩色光阻層136上。位置識別圖碼150位於彩色光阻層136上，且被第三共用電極覆蓋118。第4C圖繪示的實施方式與第4B圖相似，不同之處在於，位置識別圖碼150位於位置識別圖碼150位於第三共用電極118上。

在其他實施方式中，如第5圖所示，置識別圖碼150配置在對向基板130之相對於液晶層140的外側表面131上。在此實施方式中，顯示器100還包含第二偏光片170， 其位於對向基板130的外側表面131上，位置識別圖碼150則夾置在第二偏光片170與主動陣列基板110之間。相似地，位置識別圖碼150位在狹縫120s的正上方；詳細來說：位置識別圖碼150投影至主動陣列基板110的位置與些狹縫120s投影至主動陣列基板110的位置重疊。

在一實施方式中，位置識別圖碼150能夠吸收紅外光。例如，位置識別圖碼150可包含諸如碳黑(carbon black)、黑色顏料(pigment)或其它可吸收紅外光適合的材料。舉例而言，此吸收紅外光的材料能夠吸收波長為約800 nm至約1100 nm的紅外光。在一具體實例中，如第4A-4C圖所示，顯示器100更包含一紅外線光源180，用以發射紅外光，紅外光穿透主動陣列基板110、液晶層140以及對向基板130。

上述位置識別圖碼150與狹縫120s的相對關係具有實質的技術意義。在第一畫素電極121與第二畫素電極122之間的狹縫120s區域中，因電場分佈的因素，造成狹縫120s區域中的液晶分子的向位與其他區域不同，而導致狹縫120s區域始終呈現暗態。舉例來說，在聚合物穩定配向之液晶顯示器(PSA LCD)中，液晶分子在未受電場影響的情況下，其向位是垂直於面板的表面。當畫素電極120與對向基板130上的第三共用電極118形成電場時，狹縫120s區域內並不存在適當的電場來驅動液晶分子並改變其向位，所以狹縫120s區域始終呈現暗態。但是，本發明之發明人發現，偏光片僅對可見光有偏極化效應，對於紅外光並無偏極化效果，所以紅外光能夠穿透液晶分子及其上下的偏 光片。換言之，在驅動畫素是其呈現亮態的情況下，在狹縫120s區域內，可見光仍然不能穿透；但是，紅外光卻能夠穿透狹縫120s區域。因此，將位置識別圖碼150設置在對應於狹縫120s的位置，並不會讓液晶顯示器的原本亮度降低。另一方面，由於紅外光能夠穿透狹縫120s區域，當吸收紅外線的位置識別圖碼150設置在此區域時，能夠利用諸如紅外光電荷耦合元件(CCD)之影像讀取裝置190(繪示於第4圖)來識別及判讀這些位置識別圖碼150，從而計算出這些位置識別圖碼150所對應的位置。關於上述計算及判讀位置的詳細原理，可參見中華民國專利號I276986以及I302227。

以下表一彙整本發明一實施方式之位置識別圖碼的寬度W對開口率的影響程度。表一所舉之實施方式的畫素結構類似於第1A、1C、1D圖所示的結構。每一子畫素的長度為約744 μm，寬度為約248 μm，子畫素面積為約184512 μm² ，狹縫120s的寬度G為約7 μm，原本設計的透光區域面積為約119933 μm² 。因此，原本設計的開口率為約65%。位置識別圖碼150配置在狹縫120s的中間，表一中列舉位置識別圖碼150的寬度W分別為2、4、6、7、8、10、12、14、16、18、20、22及24μm。當位置識別圖碼150的寬度W小於或約等於狹縫120s的寬度G時(即7 μm)，可以維持原本畫素結構開口率(即65%)。當位置識別圖碼150的寬度W為約8 μm時，開口率下降為約64.87%，因此開口率為原本的約99.79%。當位置識別圖碼150的寬度W為約10 μm時，開口率下降為約64.60%，因此開口率為原本 的約99.38%。當位置識別圖碼150的寬度W為約14 μm時，開口率下降為約64.06%，因此開口率為原本的約98.55%。當位置識別圖碼150的寬度W為20 μm時，開口率下降為約63.25%，因此開口率為原本的約97.31%。

第1E圖繪示本發明一比較例的上視示意圖。在這比較例中，位置識別圖碼150設置的位置是對應於第二畫素電極122的主幹122a的上方。由於主幹122a的區域是可見光能夠穿透的區域，所以會使畫素的開口率下降，造成亮度降低。第1F圖繪示本發明另一個比較例的上視示意圖。在這比較例中，位置識別圖碼150設置的位置是對應於第二畫素電極122的兩個枝幹122b之間的間隙。由於兩個枝 幹122b之間的間隙的區域仍然是可見光能夠穿透的區域，所以仍然會造成開口率下降。相較第1A、1C、1D圖所示的實施方式，根據本發明之實施方式顯然具有較高的開口率。

在中華民國專利號I276986以及I302227揭露的技術中，是利用反射紅外光的原理來識別及讀取這些位置識別圖碼。在此技術中，當紅外光發射器傾斜於顯示器時，紅外光發射器所發射的紅外光因鏡面反射而無法進入影像讀取裝置，造成使用者僅能在紅外光發射器與顯示器互相垂直的方向上使用此裝置。因此，本發明其中一特徵是利用吸收紅外光的材料及原理，使影像讀取裝置在傾斜顯示面板的角度上，也能夠識別及判讀這些位置識別圖碼。換言之，本發明的其中一技術功效在於，讓具有位置資訊之顯示器的可識別角度得以提高，而改善習知技術之缺點。

第6A-6E圖繪示本發明數個實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器100的剖面示意圖。液晶顯示器100包含主動陣列基板110、對向基板130、液晶層140以及位置識別圖碼150。第6A-6E圖的實施方式與前述第2-5圖的實施方式的不同之處在於，主動陣列基板110還包含有彩色光阻層137。詳言之，彩色光阻層137形成在畫素區域中，且配置在第一共用電極116和第二共用電極117的上方。第一畫素電極121以及第二畫素電極122位在彩色光阻層137上，且第一與第二畫素電極121、122被狹縫120s間隔開。在第6A圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150配置在彩色光阻層137上，且位在狹縫120s中。在第6B圖 繪示的實施方式中，位置識別圖碼150是配置在主動陣列基板110的外側表面112上，並且位置識別圖碼150位在狹縫120s的正下方。在第6C圖繪示的實施方式中，對向基板130包含圖案化黑色樹脂層134以及第三共用電極118，第三共用電極118覆蓋圖案化黑色樹脂層134，位置識別圖碼150位於第三共用電極118上。換言之，位置識別圖碼150位於對向基板130的內側表面132上，且位置識別圖碼150位在狹縫120s的正上方。第6D圖繪示的實施方式中，圖案化黑色樹脂層134位於基材130a上，並且接觸基材130a。第三共用電極118覆蓋圖案化黑色樹脂層134。位置識別圖碼150位於基材130a上，且被該第三共用電極覆蓋。在第6E圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150位於對向基板130的外側表面131上，且位置識別圖碼150位在狹縫120s的正上方。詳細來說：位置識別圖碼150投影至主動陣列基板110的位置與些狹縫120s投影至主動陣列基板110的位置重疊；此外，位置識別圖碼150與圖案化黑色樹脂層134可為同一層別。換言之，位置識別圖碼150與黑色樹脂層134可為相同材料，且圖案化黑色樹脂層134和位置識別圖碼150可依設計選擇性在同一道微影製程或不同道微影製程中形成，在其他實施例中，圖案化黑色樹脂層134和位置識別圖碼150亦可為不同材料，且也可依設計選擇性在同一道微影製程或不同道微影製程中形成，本發明不以此為限。

第7A-7E圖繪示本發明另外五個實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器100的剖面示意圖。第7A-7E圖的實施 方式與前述第2-5圖的實施方式的不同之處在於，主動陣列基板110還包含有彩色光阻層137以及圖案化黑色樹脂層138。彩色光阻層137形成在畫素區域中，且配置在第一共用電極116和第二共用電極117的上方。圖案化黑色樹脂層138形成在彩色光阻層137上。圖案化黑色樹脂層138可圍繞畫素區域而形成矩陣的圖案。諸如第一畫素電極121以及第二畫素電極122之透明導電層配置在彩色光阻層137上，且第一與第二畫素電極121、122被狹縫120s間隔開。詳言之，在第7A圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150配置在彩色光阻層137上，且位在狹縫120s中。在第7B圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150是配置在主動陣列基板110之相對於液晶層140的外側表面112上，並且位在狹縫120s的正下方。在第7C圖繪示的實施方式中，對向基板130包含第三共用電極118，位置識別圖碼150位於第三共用電極118上。換言之，位置識別圖碼150位於對向基板130的內側表面132上，且位置識別圖碼150位在狹縫120s的正上方。在第7D圖繪示的實施方式中，對向基板130包含基材130a以及第三共用電極118位於基材130a上，位置識別圖碼150位於基材130a上，且被第三共用電極118覆蓋。在第7E圖繪示的實施方式中，位置識別圖碼150位於對向基板130之相對液晶層140的外側表面131上，且位置識別圖碼150位在狹縫120s的正上方；詳細來說：位置識別圖碼150投影至主動陣列基板110的位置與些狹縫120s投影至主動陣列基板110的位置重疊；此外，位置識別圖碼150與圖案化黑色樹脂層134可為同一層別。換言之，位置識別圖碼150與黑色樹脂層134可 為相同材料，且圖案化黑色樹脂層134和位置識別圖碼150可依設計選擇性在同一道微影製程或不同道微影製程中形成，在其他實施例中，圖案化黑色樹脂層134和位置識別圖碼150亦可為不同材料，且也可依設計選擇性在同一道微影製程或不同道微影製程中形成，本發明不以此為限。

再者，本發明上述實施例中的位置識別圖碼150是運用於以垂直電場驅動液晶層的畫素電極為範例，但不限於此。於其它實施例中，上述實施例中的位置識別圖碼150亦可運用於水平電場驅動液晶層的畫素電極為範例或者是運用於同時有水平與垂直電場驅動液晶層的畫素電極。

另外，本發明上述實施例中，皆以液晶層，即非自發光型的顯示介質層為範例，但不限於此，只要是非自發光型的顯非介質層亦可使用，例如：電泳層、電濕潤層、或其它合適的材料。另外，若自發光型的顯示介質層可運用於本發明所揭露的特徵，亦可使用之。

雖然本發明已以實施方式揭露如上，然其並非用以限定本發明，任何熟習此技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內，當可作各種之更動與潤飾，因此本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。

100‧‧‧顯示器

101‧‧‧畫素單元

102‧‧‧顯示面

110‧‧‧主動陣列基板

111‧‧‧畫素

112‧‧‧外側表面

113‧‧‧閘極線

114‧‧‧資料線

115‧‧‧主動元件

116‧‧‧第一共用電極

117‧‧‧第二共用電極

118‧‧‧第三共用電極

120‧‧‧透明導電層

120s‧‧‧狹縫

121‧‧‧第一畫素電極

122‧‧‧第二畫素電極

122a‧‧‧主幹

122b‧‧‧枝幹

130‧‧‧對向基板

130a‧‧‧基材

131‧‧‧外側表面

132‧‧‧內側表面

134、138‧‧‧圖案化黑色樹脂層

136、137‧‧‧彩色光阻層

140‧‧‧液晶層

150‧‧‧識別圖碼

160‧‧‧第一偏光片

170‧‧‧第二偏光片

180‧‧‧紅外線光源

190‧‧‧影像讀取裝置

2-2’‧‧‧線段

G‧‧‧狹縫寬度

W‧‧‧位置識別圖碼寬度

為讓本發明之上述和其他目的、特徵、優點與實施例能更明顯易懂，所附圖式之說明如下：第1A圖繪示本發明一實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的上視示意圖。

第1B圖繪示本發明另一實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的上視示意圖。

第1C及1D圖繪示本發明另外兩實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的上視示意圖。

第1E及1F圖繪示本發明兩比較例之具有位置資訊之液晶顯示器的上視示意圖。

第2圖繪示第1A圖中延2-2’線段的剖面示意圖。

第3圖繪示本發明另一實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的剖面示意圖。

第4A-4C圖繪示本發明數個實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的剖面示意圖。

第5圖繪示本發明另一實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的剖面示意圖。

第6A-6E圖繪示本發明數個實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的剖面示意圖。

第7A-7E圖繪示本發明另外五個實施方式之具有位置資訊之液晶顯示器的剖面示意圖。

100‧‧‧顯示器

110‧‧‧主動陣列基板

113‧‧‧閘極線

118‧‧‧第三共用電極

116‧‧‧第一共用電極

117‧‧‧第二共用電極

120s‧‧‧狹縫

121‧‧‧第一畫素電極

122‧‧‧第二畫素電極

130‧‧‧對向基板

130a‧‧‧基材

134‧‧‧圖案化黑色樹脂層

136‧‧‧彩色光阻層

140‧‧‧液晶層

150‧‧‧識別圖碼

180‧‧‧紅外線光源

190‧‧‧影像讀取裝置

Claims (26)

1. 一種具有位置資訊之液晶顯示器，包含：一主動陣列基板，包含複數畫素，每一該畫素包含一透明導電層，且該透明導電層具有一狹縫；一對向基板，面向該主動陣列基板；一液晶層，位於該主動陣列基板與該對向基板之間；以及一位置識別圖碼，配置於該主動陣列基板或/及該對向基板，且該位置識別圖碼在垂直投影方向上與該狹縫重疊。
2. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該位置識別圖碼包含一吸收紅外光材料。
3. 如請求項2所述之液晶顯示器，其中該吸收紅外光材料係吸收波長800nm至1100nm之紅外光。
4. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該液晶顯示器為一聚合物穩定配向之液晶顯示器(PSA LCD)，且該透明導電層包含一第一畫素電極以及一第二畫素電極，該第一與該第二畫素電極被該狹縫間隔開。
5. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該位置識別圖碼位於該對向基板上，且該對向基板包含一圖案化黑色樹脂層，該些位置識別圖碼與該圖案化黑色樹脂層為同一層 別。
6. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該位置識別圖碼位於該對向基板上，且該對向基板包含：一基材；一圖案化黑色樹脂層，位於該基材上；一彩色光阻層，位於該基材上，且覆蓋該圖案化黑色樹脂層的至少一部分；以及一第三共用電極，配置在該彩色光阻層上，其中該位置識別圖碼位於該彩色光阻層上，且被該第三共用電極覆蓋。
7. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該位置識別圖碼位於該對向基板上，且該對向基板包含：一基材；一圖案化黑色樹脂層，位於該基材上；一彩色光阻層，位於該基材上，且覆蓋該圖案化黑色樹脂層的至少一部分；以及一第三共用電極，配置在該彩色光阻層上，其中該位置識別圖碼位於該第三共用電極上。
8. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該位置識別圖碼配置於該對向基板之相對該液晶層的一外側表面。
9. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該位置識別圖碼配置在該主動陣列基板上，且該位置識別圖碼位於該些狹縫之內。
10. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層，每一該透明導電層形成於該彩色光阻層上，其中該位置識別圖碼位於該彩色光阻層上，且該位置識別圖碼位於該些狹縫之內。
11. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該位置識別圖碼配置在該主動陣列基板之相對該液晶層的一外側表面。
12. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層，且每一該透明導電層形成於該彩色光阻層上，其中該位置識別圖碼配置在該主動陣列基板之相對該液晶層的一外側表面。
13. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層，且每一該透明導電層形成於該彩色光阻層上，且其中該對向基板包含一圖案化黑色樹脂層以及一第三共用電極覆蓋該圖案化黑色樹脂層，該位置識別圖碼位於該第三共用電極上。
14. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列 基板更包含一彩色光阻層，且每一該透明導電層形成於該彩色光阻層上，且其中該對向基板包含：一基材；一圖案化黑色樹脂層，位於且接觸該基材上；以及一第三共用電極，覆蓋該圖案化黑色樹脂層；其中該位置識別圖碼位於且接觸該基材上，且被該第三共用電極覆蓋。
15. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層，且每一該透明導電層形成於該彩色光阻層上，且其中該對向基板包含：一基材；一圖案化黑色樹脂層，位於且接觸該基材上；以及一第三共用電極，覆蓋該圖案化黑色樹脂層；其中該些位置識別圖碼配置於該對向基板之相對該液晶層的一外側表面。
16. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層以及一圖案化黑色樹脂層，且該圖案化黑色樹脂層以及每一該透明導電層配置於該彩色光阻層上，且其中該位置識別圖碼配置於該彩色光阻層上，且位於該些狹縫之內。
17. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層以及一圖案化黑色樹脂層，且該 圖案化黑色樹脂層以及每一該透明導電層配置於該彩色光阻層上，且其中該位置識別圖碼配置在該主動陣列基板之相對該液晶層的一外側表面。
18. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層以及一圖案化黑色樹脂層，且該圖案化黑色樹脂層以及每一該透明導電層配置於該彩色光阻層上，且其中該對向基板包含一第三共用電極，該位置識別圖碼位於該第三共用電極上。
19. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層以及一圖案化黑色樹脂層，且該圖案化黑色樹脂層以及每一該透明導電層配置於該彩色光阻層上，且其中該對向基板包含一基材以及一第三共用電極位於該基材上，該位置識別圖碼位於該基材上，且被該第三共用電極覆蓋。
20. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該主動陣列基板更包含一彩色光阻層以及一圖案化黑色樹脂層，且該圖案化黑色樹脂層以及每一該透明導電層配置於該彩色光阻層上，且其中該位置識別圖碼配置於該對向基板之相對該液晶層的一外側表面。
21. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該狹縫之一寬度為約3μm至約20μm。
22. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該狹縫之一寬度為約5μm至約18μm。
23. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中該狹縫之一寬度為約3μm至約7μm。
24. 如請求項1所述之液晶顯示器，其中每一該位置識別圖碼之寬度對該狹縫之寬度的比值為約0.5至約1.2。
25. 一種具有位置資訊之液晶顯示器，包含：一主動陣列基板，包含複數畫素，每一該畫素包含一第一畫素電極以及一第二畫素電極，該第一畫素電極與該第二畫素電極間隔一狹縫，該狹縫使該第一畫素電極與該第二畫素電極彼此分離；一對向基板，面向該主動陣列基板；一液晶層，位於該主動陣列基板與該對向基板之間；以及一位置識別圖碼，配置於該主動陣列基板或/及該對向基板，且該位置識別圖碼包含一吸收紅外光材料，且該位置識別圖碼與該狹縫在一垂直投影方向上重疊。
26. 如請求項25所述之液晶顯示器，其中該吸收紅外光材料係吸收波長800nm至1100nm之紅外光。