TWI476432B

TWI476432B - 抗反射膜

Info

Publication number: TWI476432B
Application number: TW098143236A
Authority: TW
Inventors: Akiyo Kojima; Chiharu Usui; Masayuki Murase; Norihito Fujita; Masaya Hikita; Takayuki Nojima
Original assignee: Nof Corp
Priority date: 2008-12-22
Filing date: 2009-12-16
Publication date: 2015-03-11
Also published as: TW201030368A

Description

抗反射膜

本發明係關於一種適用於例如電漿顯示面板(PDP)、液晶顯示面板(LDP)等之抗反射膜，其透明基底膜上之抗反射層以單層結構即具有充分之抗反射性能。

近年來，電漿顯示面板、液晶顯示器等電子影像顯示裝置(電子顯示器)在電視及監視器之用途上達到顯著的進步並廣泛普及。伴隨此等電子影像顯示裝置之大型化，發生因外光映入而導致清晰度降低的問題。因而，一般採用之方法係將在透明基底膜表面設置抗反射層而形成之抗反射膜，貼合於顯示器表面，用以提高清晰度。

為了獲得抗反射性能，從前設於該抗反射膜之抗反射層，一般為堆疊高折射率層與低折射率層之複數層多層結構，但若使用更低折射率之材料，即使僅為低折射率層之單層結構，仍可在廣泛之可見光波長帶中抑制反射。再者，因單層結構之抗反射膜的層結構比多層結構之抗反射膜簡單，其在生產性上更顯優異。

例如，單層結構之抗反射膜，習知有藉由100~300nm之二氧化矽粒子與具有比該二氧化矽粒子之粒徑小的膠狀二氧化矽之混合物所形成的細密填充塗膜(參照專利文獻1)。採用該細密填充塗膜時，可以簡單之方法在基板上形成高密度且規則地僅排列一層超微粒子之塗膜，特別是可形成適於抗反射膜之塗膜。

但是，記載於專利文獻1之該細密填充塗膜，由於包含100nm以上大的二氧化矽粒子，因而其二氧化矽粒子露出於塗膜之表面，導致塗膜表面耐擦傷性不佳，對基板之密合性明顯不足。

此外，一般抗反射膜之結構係在透明基底膜上設置使用紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等電離放射線硬化型樹脂之透明(clear)的硬塗層。但是，因為主要用作透明基底膜之聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜的折射率為1.65，而通常使用之硬塗層的折射率為1.50~1.55，所以在PET膜與硬塗層之間產生0.10~0.15之折射率差。如此一來，由於在折射率不同之層的界面發生光的反射，在兩者界面產生之反射光的干擾，因而在日光燈等之下注視薄膜時會觀察到虹彩之干擾紋。

[專利文獻1]日本特開平7-198904號公報

因此，本發明之目的包含提供一種透明基底膜上之抗反射層以單層結構即具有充分之抗反射性能，且密合性及耐擦傷性優異而生產性高的抗反射膜。

本發明一例之抗反射膜的結構，係在透明基底膜之表面直接堆疊作為單層結構之抗反射層的低折射率層。而前述低折射率層之折射率為1.20~1.50。

採用該結構時，藉由低折射率層之功能可發揮抗反射作用，此外還能降低因低折射率層與透明基底膜間之層所造成對抗反射作用的妨礙。再者，因沒有低折射率層與透明基底膜間之層的塗抹不勻的問題，所以品質優異。因而，本發明一例之抗反射膜，其透明基底膜上之抗反射層以單層結構即具有充分之抗反射性能，且在外觀上並無反射不勻的情形。

以下，就本發明之實施形態詳細作說明。

實施形態之抗反射膜係在透明基底膜之表面堆疊作為單層結構之抗反射層的低折射率層而構成。而前述低折射率層之折射率設定為1.20~1.50。其次，就該抗反射膜之構成要素依序作說明。

＜透明基底膜＞

用於抗反射膜之透明基底膜並無特別限制，只要具有透明性即可，不過為了抑制光的反射，折射率(n)在1.55~1.70之範圍內者較為適合。形成此種透明基底膜之材料，例如較佳為聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET，n=1.65)等之聚酯、聚碳酸酯(PC，n=1.59)、聚芳酯(PAR，n=1.60)及聚醚碸(PES，n=1.65)等。此等之中，基於膜成形容易性、獲得容易性及成本之觀點，聚酯膜以聚對苯二甲酸乙二醇酯膜較為適合。

此外透明基底膜之厚度較佳為25~400μm，更佳為50~200μm。透明基底膜之厚度若比25μm薄或比400μm厚，會造成在抗反射膜製造時及使用時處理不易，較為不佳。另外，透明基底膜中亦可含有各種添加劑。此種添加劑例如有紫外線吸收劑、防帶電劑、安定劑、可塑劑、潤滑劑、難燃劑等。

＜低折射率層＞

抗反射膜之低折射率層為具有抑制反射功能之單層結構的抗反射層。該低折射率層例如係使含有平均粒子徑為10~100nm之中空二氧化矽微粒子與聚合性黏合劑之低折射率層塗布液硬化而形成。

該低折射率層之折射率係1.20~1.50，較佳為1.25~1.45。低折射率層之折射率未達1.20情況下，因為聚合性黏合劑之含量少，所以低折射率層不易保持充分之塗膜強度。另外，折射率超過1.50情況下，低折射率層無法發揮充分之抗反射性能。可依中空二氧化矽微粒子之粒子徑及聚合性黏合劑的種類等來調整抗反射性能。

形成低折射率層之成分的前述中空二氧化矽微粒子，係二氧化矽(silica，SiO₂ )形成大致球狀，並在其外殼內有中空部的微粒子。中空二氧化矽微粒子之平均粒子徑較佳為10~100nm，更佳為20~60nm。中空二氧化矽微粒子之平均粒子徑若小於10nm，中空二氧化矽微粒子不易製造，故較少採用。另外，平均粒子徑大於100nm時，低折射率層中之光的散射變大，在薄膜中反射大，而抗反射功能降低。

該中空二氧化矽微粒子可直接使用市面販售之分散於有機溶劑中者，或是亦可將市面販售之各種二氧化矽粉末分散於有機溶劑中來使用。該中空二氧化矽微粒子亦可藉由例如在日本特開2006-21938號公報中揭示之在外殼內部有空洞之中空且球狀的二氧化矽系微粒子的製造方法而合成。亦即，二氧化矽系微粒子係經過下述之步驟(a)、(b)、(d)及(e)而製造。

步驟(a)：將矽酸鹽之水溶液或酸性矽酸液，與鹼溶性之無機化合物水溶液，以指定之比率添加於鹼水溶液中，調製複合氧化物微粒子分散液時，添加電解質鹽之步驟。

步驟(b)：在前述複合氧化物微粒子分散液中添加酸，作為二氧化矽系微粒子分散液之步驟。

步驟(d)：將前述二氧化矽系微粒子分散液在常溫～300℃之範圍而熟成之步驟。

步驟(e)：在50~300℃之範圍實施水熱處理之步驟。

其次，形成低折射率層之成分的前述聚合性黏合劑係含氟有機化合物之單體或混合物。此外，聚合性黏合劑可使用不含氟之有機化合物(以下簡稱為非氟系有機化合物)之單體或混合物或是聚合物。

含氟有機化合物例如宜為含氟有機化合物例如宜為1-(甲基)丙烯醯氧基-1-全氟烷基甲烷(1-(meta)acryloyloxy-1-perfluoroalkylmethane)、1-(甲基)丙烯醯氧基-2-全氟烷基乙烷(1-(meta)acryloyloxy-2-perfluoroalkylethane)、1,10-二丙烯醯氧基-1,1,10,10-四氫化全氟癸烷(1,10-bisacryloyloxy-1,1,10,10-tetrahydroperfluorodecane)、1,10-二二丙烯醯氧基-2,9-二烴基-4,4,5,5,6,6,7,7-八氟癸烷(1,10-bisbisacryloyloxy-2,9-dihydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7-octafluorodecane)、1,9-二二丙烯醯氧基-2,10-二烴基-4,4,5,5,6,6,7,7-八氟癸烷(1,9-bisbisacryloyloxy-2,10-dihydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7-octafluorodecane)、2,9-二二丙烯醯氧基-1,10-二烴基-4,4,5,5,6,6,7,7-八氟癸烷(2,9-bisbisacryloyloxy-1,10-dihydroxy-4,4,5,5,6,6,7,7-octafluorodecane)、1,2-二(甲基)丙烯醯氧基-3-全氟烷基丁烷(1,2-di(meta)acryloyloxy-3-perfluoroalkylbutane)、2-烴基-1H,1H,2H,3H,3H-全氟烷基-2’,2’-二{(甲基)丙烯醯氧基甲基}丙酸(2-hydroxy-1H,1H,2H,3H,3H-perfluoroalkyl-2’,2’-bis{meta)acryloyloxymethyl}propionate)、α,ω-二(甲基)丙烯醯氧基甲基全氟鏈烷(α,ω-di(meta)acryloyloxymethylperfluoroalkane)、α,β,ψ,ω-四{(甲基)丙烯醯氧基}-αH,αH,βH,γH,γH,χH,χH,ψH,ωH,ωH-全氟烷烴(α,β,ψ,ω-(tetrakis{(meta)acryloyloxy})-αH,αH,βH,γH,γH,χH,χH,ψH,ωH,ωH-(perfluoroalkane))等。

非氟系有機化合物例如有將單官能(meta)丙烯酸酯[在此，本說明書中所謂(meta)丙烯酸酯，係指包含丙烯酸酯與甲基丙烯酸酯兩者的總稱。]、多官能(meta)丙烯酸酯及四乙氧基矽烷等反應性矽化合物等作為起始原料者。此等之中，從兼顧生產性及硬度之觀點而言，較佳為主要成分包含紫外線硬化性有機化合物，特別是紫外線硬化性多官能丙烯酸酯的組合物。此種包含紫外線硬化性多官能丙烯酸酯之組合物並無特別限制，例如可為將熟知之紫外線硬化性多官能丙烯酸酯混合兩種以上者，及市面販售之紫外線硬化性硬塗層材料者等。前述紫外線硬化性多官能丙烯酸酯並無特別限制，例如宜為二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritolhexaacrylate)、四羥甲基甲烷四丙烯酸酯(tetramethylolmethanetetraacrylate)、四羥甲基甲烷三丙烯酸酯(tetramethylolmethanetriacrylate)、三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(trimethylolpropanetriacrylate)、1,6-己二醇二丙烯酸酯(1,6-hexanedioldiacrylate)、1,6-二(3-丙烯醯氧基-2-羥基丙氧基)己烷(1,6-bis(3-acryloyloxy-2-hydroxypropyloxy)hexane)等多官能醇之丙烯酸衍生物，以及聚乙二醇二丙烯酸酯(poly[ethylene glycol]diacrylate))及聚氨酯丙烯酸酯(polyurethane acrylate)等。聚合性黏合劑係紫外線硬化性有機化合物時，可藉由紫外線照射而迅速形成低折射率層，並可提高抗反射膜之生產性。

聚合性黏合劑係紫外線硬化性有機化合物時，可藉由紫外線照射而迅速形成低折射率層，並可提高抗反射膜之生產性。

在透明基底膜之表面形成低折射率層的方法並無特別限制，如有藉由滾塗法、旋塗法、線棒法、浸塗法、模壓塗布法(Die coating method)等塗布方法將低折射率層塗布液塗布於薄膜表面後，照射紫外線的方法。低折射率層塗布液之塗布方法以生產性之觀點而言，宜採用滾塗法等可連續形成低折射率層之方法。

此外，在藉由滾塗法、旋塗法、捲鋼棒法(Coil bar method)、浸塗法、模壓塗布法(Die coating method)等塗布方法將低折射率層塗布液塗布於薄膜表面之前，亦可在基底膜表面實施電暈放電處理。

低折射率層之厚度宜為kλ/4，是為了藉由光之干擾作用減少表面反射，而提高透過率。在此，λ表示光之波長(400~650nm)，k表示1或3。如此藉由將低折射率層之厚度形成kλ/4可更加提高抗反射效果。該情況下，k為1時，抗反射性能(可見度反射率)提高，k為3時，耐擦傷性提高。

＜易接著層＞

低折射率層宜直接堆疊於透明基底膜。之所以如此，係由於低折射率層與透明基底膜之易接著層會成為造成抗反射作用降低與反射不均勻的因素。但是，若為具有指定範圍之折射率與厚度之易接著層時，經證實即使設於低折射率層與透明基底膜之間，仍不致發生抗反射作用降低與反射不均勻。採用此種易接著層時，由於兼顧反射不均勻之減低與充分實用性之抗反射性能，進一步提高低折射率層與透明基底膜之密合性，低折射率層對透明基底膜之密合容易，且低折射率層不易剝落，因此可以優異之生產性生產適合高度耐用性用途之抗反射膜。

就易接著層之折射率作說明。實施形態之易接著層的折射率是以低折射率層之折射率為易接著層之折射率以下的方式設定。易接著層之折射率亦可為低折射率層之折射率以上，且為透明基底膜之折射率以下的方式設定。例如易接著層之折射率係1.50~1.65，較佳為1.55~1.60。易接著層之折射率低於1.50時，或高於1.65時，會導致發生光之干擾不均勻的結果，反射率提高，因此不適當。

此外，該易接著層之厚度係1~50nm，較佳為1~30nm，更佳為5~25nm。例如，易接著層之厚度比1nm薄時，提高透明基底膜與低折射率層之密合性作用不足，採用易接著層並無實益。另外，比50nm厚時，因為抗反射膜受到光學干擾，導致反射率提高，因此不適當。

易接著層之折射率與厚度可在上述範圍內適切地組合。

形成該易接著層之材料並無特別限制，例如可使用聚酯、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂等熱硬化性樹脂。易接著層亦可為導電性易接著層。此外，易接著層在製造透明基底膜時可以習知方法形成於透明基底膜表面，或是使用預先形成易接著層之透明基底膜的市售品。採用易接著層時，低折射率層可按照第一種實施形態所例示之方法而形成於透明基底膜表面的易接著層上。

導電性易接著層可發揮防止雜質附著的效果，可在導電性易接著層上精確地堆疊低折射率層，並且可使處理性提高。導電性易接著層藉由使具有聚噻吩骨架之導電性化合物、聚吡咯、4級銨鹽基、有機磺酸鹽、界面活性劑及導電性微粒子等分散於黏合劑的導電性材料而形成。導電性微粒子例如使用銦、鋅、錫、鉬、銻、鎵等氧化物或複合氧化物微粒子；銅、銀、鎳、低熔點合金(焊錫等)之金屬微粒子；被覆金屬之聚合物微粒子；各種碳黑、聚吡咯、聚苯胺等導電性聚合物粒子；金屬纖維、碳纖維等之導電劑。

包含此種導電性材料之導電性易接著層的表面電阻率(表面固有電阻)較佳為1×10¹² Ω/□以下，更佳為1×10¹⁰ Ω/□以下，特佳為1×10⁸ Ω/□以下。表面固有電阻不宜比1×10¹² Ω/□高，是因在塗布面上堆疊低折射率層時，防止塵埃等雜質附著性及處理性惡化，有時無法充分進行更精巧之堆疊。

＜抗反射膜＞

實施形態之抗反射膜係在透明基底膜之表面堆疊作為單層結構之抗反射層的低折射率層而構成，該低折射率層之折射率係1.20~1.50。在此設定下，低折射率層之抗反射作用不受妨礙而可充分發揮。此外，在低折射率層與透明基底膜之間沒有易接著層時不用說在採用折射率與厚度在指定範圍之易接著層時，抗反射作用仍可不受妨礙而有效發揮，且沒有反射不均勻的狀況。因此，實施形態之抗反射膜，其透明基底膜上之抗反射層以單層結構即具有充分之抗反射性能，且沒有反射不均勻的狀況，生產性優異。此外，透明基底膜之表面亦不需要硬塗層。

實施形態之抗反射膜適合適用於電漿顯示面板、液晶顯示面板、場發射顯示器、表面電場顯示器等平面電子顯示器或畫框、美術館等展示護板、陳列櫥窗等之表面。

以下，列舉實施例及比較例，進一步具體說明實施形態。

實施例1~3之抗反射膜係在透明基底膜之表面直接堆疊作為單層結構之抗反射層的低折射率層而構成。因而，實施例1~3之抗反射膜係由透明基底膜與低折射率層(最上層)而構成的2層疊層體。

(A)光學特性

(a-1)可見度反射率

為了除去測定面之背面反射，以砂紙將背面磨粗糙，並以黑色塗料全面塗抹，再藉由分光光度計[日本分光(股份有限公司)製，商品名稱：U-best 560]測定光之波長380~780nm的5°、-5°正反射光譜。使用所獲得之380~780nm之分光反射率與CIE標準光源D65之相對分光分布，將JIS Z8701規定之XYZ表色系中物體色藉由反射之三個刺激值Y作為可見度反射率。

(a-2)折射率之測定

按照其次之(1)~(4)的步驟算出折射率。

(1)在折射率1.49之丙烯酸樹脂板[商品名稱：「DELAGAS A」，旭化成工業(股)公司製]上，藉由浸塗機[杉山元理化學機器(股)公司製]塗布低折射率層塗布液。低折射率層塗布液之塗布係調整成具有對應於乾燥低折射率層為550nm程度之λ的光學膜厚(λ/4)來進行。

(2)低折射率層塗布液中之溶劑乾燥後，依需要藉由紫外線照射裝置[岩崎電氣(股)公司製]在氮氣環境下，使用120W高壓水銀燈，照射輸出為400mJ之紫外線，而使低折射率層塗布液硬化。

(3)將以砂紙將丙烯酸樹脂板之背面磨粗糙，並以黑色塗料全面塗抹者，藉由分光光度計[「U-best 560」，日本分光(股)公司製]測定400~650nm中之5°、-5°正反射率，讀取其反射率之極小值或極大值。

(4)從反射率之極值，使用以下公式計算折射率。

最小反射率(%)={[丙烯酸樹脂板之折射率×空氣之折射率-(層之折射率)² ]/[丙烯酸樹脂板之折射率×空氣之折射率+(層之折射率)² ]}² ×100

其中，丙烯酸樹脂之折射率為1.49及空氣之折射率為1.00。

(a-3)平均粒子徑

使用粒子徑分布策定裝置[大塚電子(股)公司製，PAR-III]，藉由使用雷射光之動態光散射法測定平均粒子徑。

(B)反射不均勻

在三波長光源下，在所製作之抗反射膜的背面貼合施以黑黏著層之薄膜，以目視觀察反射不均勻(外觀之色的不均勻)，由以下三個階段作評估。無反射不均勻時為◎，反射不均勻弱時為○，反射不均勻強時為×，反射不均勻強而可看出干擾紋時為××。

(C)變性中空二氧化矽微粒子(溶膠)

混合中空二氧化矽溶膠[觸媒化成工業(股)公司，商品名稱ELCOM NY-1001SIV，異丙醇構成之中空二氧化矽溶膠的25質量%分散液，平均粒子徑：60nm]2000質量份、γ-丙烯醯氧基丙基三甲氧基矽烷(γ-acryloyloxypropyltrimethoxysilane)[信越化學工業(股)公司製，KBM5103]70質量份及蒸餾水80質量份，來調製變性中空二氧化矽微粒子(溶膠)(平均粒子徑：60nm)。

(D)低折射率層塗布液

(d-1)低折射率層塗布液A之調製

混合前述變性中空二氧化矽微粒子60質量份、二季戊四醇六丙烯酸酯(dipentaerythritolhexaacrylate)40質量份、光聚合起始劑[Ciba Specialty Chemicals(股)公司製，IRGACURE907]2質量份、異丙醇2000質量份，而獲得低折射率層塗布液A。所獲得之低折射率層塗布液A的塗膜(低折射率層)之折射率為1.41。

(d-2)低折射率層塗布液B之調製

藉由104質量份之全氟-(1,1,9,9-四氫-5,8-二氟甲基-4,7-二-1-壬烯)-9-醇，亦即下述化學式所示之化合物[CH₂ =CFCF₂ OCF(CF₃ )CF₂ OCF(CF₃ )CH₂ OH]

與二(2,2,3,3,4,4,5,5,6,6,7,7-十二氟庚醯)過氧化物之8質量%全氟己烷溶液11質量份之聚合反應，而獲得含烴基含氟烯丙醚聚合物(數平均分子量72,000，質量平均分子量118,000)。

其次，從含烴基含氟烯丙醚聚合物5質量份、甲基乙基甲酮(MEK)43質量份、吡啶1質量份及α-氟代丙烯酸氟化物1質量份，調製具有聚合性雙鍵之含氟反應性聚合物溶液(固態成分13質量%，a-氟代丙烯醯基對氫氧基之導入率為40莫耳%)。混合該含氟反應性聚合物溶液40質量份、變性中空二氧化矽微粒子60質量份、光聚合起始劑[Ciba Specialty Chemicals(股)公司製，IRGACURE907]2質量份、異丙醇2000質量份，而獲得低折射率層塗布液B。該低折射率層塗布液B的塗膜(低折射率層)之折射率為1.35。

(實施例1)

在二軸延伸聚酯膜(聚對苯二甲酸乙二醇酯，厚度100μm，折射率1.65)之表面，以獲得之低折射率層的光學膜厚為kλ/4(k：1，λ：550nm)之方式，以凹輥塗布法塗布前述低折射率層塗布液A，乾燥後，藉由在氮氣環境下，以400mJ/cm² 之輸出照射紫外線使其硬化，而製作抗反射膜。就獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表1。

(實施例2)

實施例1中，除了低折射率層塗布液A之塗布前，在二軸延伸聚酯膜之表面實施電暈放電處理(輸出：0.5KW)之外，與實施例1同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表1。

(實施例3)

實施例1中，除了取代低折射率層塗布液A，而使用低折射率層塗布液B之外，與實施例1同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表1。

(比較例1)

除了在二軸延伸聚酯膜之表面設置折射率為1.58，厚度為100nm之易接著層之外，與實施例1同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表1。

從表1所示之結果瞭解，在透明基底膜之表面直接堆疊折射率為1.20~1.50之低折射率層而構成的實施例1~3中，由於低折射率層與透明基底膜之間並無易接著層，因此不受易接著層之光學干擾，可獲得充分之可見度反射率，再者，因為沒有易接著層之塗抹不均勻之情況，所以可獲得品質優異之抗反射膜。另外，比較例1中由於低折射率層與透明基底膜間之易接著層的厚度為100nm，因此受到易接著層之光學干擾，可見度反射率惡化，由於易接著層之塗抹不均勻，而導致品質差的結果。

(E)物理性特性

實施例4~36之抗反射膜係在透明基底膜上依序形成易接著層及低折射率層而構成。採用以下之方法來評估使用易接著層之實施例4~36之透明基底膜的物理性特性。

(e-1)密合性

就設有低折射率層之面側，依據JIS D0202-1998進行橫切剝離膠帶測試。使用賽璐玢帶(玻璃紙膠帶)[米其邦(股)公司製，CT24]在密合於抗反射膜後剝離。判定是以100方格中不剝離之格子數來表示，全部不剝離時以100/100表示，完全剝離時以0/100來表示。

(e-2)耐擦傷性之評估

在(股)公司本光製作所製之橡皮擦磨損測試機的頂端固定＃0000之鋼絲棉，分別施加2.5N之負荷(250gf之負荷)及1N之負荷(100gf之負荷)的負荷，以目視觀察將抗反射膜表面上來回摩擦10次之後的表面損傷，並由以下之A～E的6個階段作評估。

A：無損傷，A’：損傷1~3條，B：損傷4~10條，C：損傷11~20條，D：損傷21~30條，E：損傷31條以上

(F)導電性易接著PET膜之製作

(f-1)導電性易接著PET膜A之製作

按照記載於日本特開2003-157724號公報之實施例1的電子導電層之組合，來製作導電性易接著PET膜A。亦即，將含有0.006質量%之極限黏度為0.65dl/g，平均粒子徑為2.4μm的二氧化矽粒子之PET顆粒以180℃加熱後，送至擠壓裝置。繼續以280~300℃之溫度擠壓成片狀，獲得厚度為720μm之未延伸膜，將其以85℃縱向延伸，而獲得單軸延伸PET膜。在該單軸延伸PET膜之一方的面實施放電處理後，在其面上塗布6μm厚度之聚噻吩80質量%及聚乙二醇20質量%的水性塗布液。其後以110℃橫向延伸，進一步以230℃熱處理，而獲得在厚度為50μm之二軸延伸PET膜上形成了厚度為0.016μm之導電性易接著層的導電性易接著PET膜A。所獲得之導電性易接著PET膜A的折射率為1.52。

(f-2)導電性易接著PET膜B之製作

按照記載於日本特開2008-255177號公報之實施例1的疊層二軸延伸膜之製造方法來製作導電性易接著PET膜B。亦即，以質量比為80/20之比率混合實質上不含粒子之極限黏度為0.66之PET，與含有0.6質量份之平均粒子徑為2.5μm的非晶質二氧化矽極限黏度為0.66之PET。將其在280~300℃下加熱熔化，擠壓成片狀來製作未延伸PET膜。將該未延伸PET膜在長度方向延伸作為單軸延伸PET膜，在其一面塗布其塗布量為0.03g/m² 之下述塗布組合物。塗布組合物係以將指定之吡咯單位與指定之丙烯醯胺單位以質量比為95/5之比率共聚合，數目平均分子量為20000之高分子化合物、甲基化六羧甲基三聚氰胺之交聯性樹脂、氨基樹脂系交聯劑之交聯觸媒及作為界面活性劑的聚環氧乙烷月桂基醚(烴基乙烯之平均聚合度為4)，成為固態部分質量比為60/40/2/5之方式而混合者。

將塗布了該塗布組合物之膜予以加熱並乾燥，在寬度方向延伸，進一步實施加熱處理，而獲得在膜之厚度為38μm的二軸配向PET膜上形成了0.03g/m² 之量的導電性易接著層之導電性易接著PET膜B。所獲得之導電性易接著PET膜B之折射率為1.56。

(實施例4)

在一面設有折射率為1.58，厚度為5nm之易接著層的二軸延伸聚酯膜(PET膜，厚度為100μm，折射率為1.65：以下稱為膜C)之易接著層面上，採用凹輥塗布法，以獲得之低折射率層的光學膜厚為kλ/4(k：1，λ：550nm)之方式，塗布前述低折射率層塗布液A，乾燥後，藉由在氮氣環境下以400mJ/cm² 之輸出照射紫外線使其硬化，來製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例5)

除了易接著層之厚度為10nm之外，與實施例4同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例6)

除了易接著層之厚度為30nm之外，與實施例4同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例7)

除了以獲得之低折射率層的光學膜厚為kλ/4(k：3，λ：550nm)之方式塗布低折射率層塗布液A之外，與實施例5同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例8)

除了取代低折射率層塗布液A而使用低折射率層塗布液B之外，與實施例4同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例9)

除了取代低折射率層塗布液A而使用低折射率層塗布液B之外，與實施例5同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例10)

除了取代低折射率層塗布液A而使用低折射率層塗布液B之外，與實施例6同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例11)

除了以獲得之低折射率層的光學膜厚為kλ/4(k：3，λ：550nm)之方式塗布低折射率層塗布液B之外，與實施例9同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例12)

除了易接著層之厚度為50nm之外，與實施例4同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例13)

除了取代折射率為1.58之易接著層，而設置折射率為1.50之易接著層之外，與實施例4同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例14)

除了在二軸延伸聚酯膜之兩面設置折射率為1.58，厚度為5nm之易接著層之外，與實施例4同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

(實施例15~25)

除了將膜C變更成導電性易接著PET膜A之外，與實施例4~14同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表3。

(實施例26~36)

除了將膜C變更成導電性易接著PET膜B之外，與實施例4~14同樣方式製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表4。

(參考例1)

將無易接著層之實施例1的抗反射膜作為參考例1而顯示於表2。

(比較例1)

將表1之比較例1的抗反射膜之評估結果顯示於表2。另外，比較例1之抗反射膜除了易接著層之厚度為100nm之外，其餘與實施例4相同。

(比較例2)

在一面設有折射率為1.58，厚度為15nm之易接著層的二軸延伸聚酯膜(PET膜，厚度為100μm，折射率為1.65)上塗布折射率為1.60，厚度為5μm之硬塗層。在硬塗層上，以獲得之低折射率層的光學膜厚為kλ/4(k：1，λ：550nm)之方式，採用凹輥塗布法塗布前述低折射率層塗布液A，乾燥後，藉由在氮氣環境下，以400mJ/cm² 之輸出照射紫外線使其硬化，來製作抗反射膜。就所獲得之抗反射膜的評估結果顯示於表2。

從表2所示之結果瞭解，實施例4~6中由於易接著層之折射率與厚度兩者在指定之範圍，因此幾乎不受易接著層之光學干擾，可獲得充分之可見度反射率，並可獲得無反射不均勻、且密合性及耐擦傷性優異之抗反射膜。此外，實施例8~10中，與實施例4~6比較，因為低折射率層塗布液之折射率低，所以可獲得更良好之可見度反射率。另外，實施例7及11藉由將低折射率層之光學膜厚形成3λ/4，與光學膜厚為λ/4時比較，可獲得較佳耐擦傷性的結果。

此外，實施例12由於易接著層之厚度為50nm，因此受到易接著層之光學干擾，導致可見度反射率上昇的結果。再者，如實施例13，即使易接著層之折射率不同時，仍可達成與實施例4同等性能。此外，如實施例14，即使兩面設置易接著層，仍可獲得與實施例4同等性能。

參考例因為未設置易接著層，所以在光學性特性方面最優異，不過低折射率層對透明基底膜之密合性及耐擦傷性方面不佳。比較例1由於易接著層之厚度為100nm，因此受到易接著層之光學干擾，導致可見度反射率惡化的結果。再者，比較例2由於在易接著層上介由硬塗層而設置低折射率層，因此反射光之干擾造成的反射不均勻很強，可看到干擾紋。

從表3及表4所示之結果瞭解，實施例15~25及實施例26~36，因為易接著層係導電性易接著層，所以與表2所示之實施例4~14的情況比較，可獲得使表面電阻率顯著降低的效果。

‧易接著層亦可在聚酯樹脂、丙烯酸樹脂、氨基甲酸酯樹脂等熱硬化性樹脂中配合二氧化矽、氧化鋁、氧化鈦等金屬氧化物之微粒子，以可調整折射率之方式而構成。

‧形成低折射率層之材料可使用膠質氧化矽、氟化鑭、氟化鎂等無機微粒子或有機聚合物微粒子。此等微粒子之平均粒子徑，為了抑制光之散射，不宜過度超過低折射率層之厚度，例如宜設定在0.1μm以下。

‧低折射率層中例如亦可添加無機或有機顏料、聚合物、聚合起始劑、光聚合起始劑、氧化防止劑、聚合禁止劑、分散劑、界面活性劑、光安定劑、均化劑等之添加劑。

Claims

一種抗反射膜，其特徵為：在透明基底膜之表面堆疊作為單層結構之抗反射層的低折射率層而構成，且前述低折射率層之折射率係1.20~1.50；其中前述低折射率層係直接堆疊於前述透明基底膜之表面；其中低折射率層係使含有平均粒子徑為10~100nm之中空二氧化矽微粒子與聚合性黏合劑的低折射率層塗布液硬化而形成者；其中低折射率層之光學膜厚係k λ/4，λ係光之波長(400~650nm)，k係1或3。
一種抗反射膜，其特徵為：在透明基底膜之表面堆疊作為單層結構之抗反射層的低折射率層而構成，且前述低折射率層之折射率係1.20~1.50；其中前述低折射率層係在透明基底膜之表面介有折射率為1.50~1.65，厚度為1~50nm之從聚酯、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂所組成之群組中選擇之熱硬化性樹脂構成之易接著層來堆疊而構成；其中低折射率層係使含有平均粒子徑為10~100nm之中空二氧化矽微粒子與聚合性黏合劑的低折射率層塗布液硬化而形成者；其中低折射率層之光學膜厚係k λ/4，λ係光之波長(400~650nm)，k係1或3。
如請求項2之抗反射膜，其中易接著層係導電性易接著層。
如請求項3之抗反射膜，其中導電性易接著層係包含具有聚噻吩骨架之導電性化合物。