TWI454019B - 馬達結構 - Google Patents

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TWI454019B
TWI454019B TW101121859A TW101121859A TWI454019B TW I454019 B TWI454019 B TW I454019B TW 101121859 A TW101121859 A TW 101121859A TW 101121859 A TW101121859 A TW 101121859A TW I454019 B TWI454019 B TW I454019B
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Hsing Chih Tsai
Kuo Yin Tu
Ming Hung Chien
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Metal Ind Res & Dev Ct
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    • H—ELECTRICITY
    • H02—GENERATION; CONVERSION OR DISTRIBUTION OF ELECTRIC POWER
    • H02K—DYNAMO-ELECTRIC MACHINES
    • H02K1/00—Details of the magnetic circuit
    • H02K1/06—Details of the magnetic circuit characterised by the shape, form or construction
    • H02K1/12—Stationary parts of the magnetic circuit
    • H02K1/17—Stator cores with permanent magnets

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  • Power Engineering (AREA)
  • Motor Or Generator Frames (AREA)
  • Permanent Field Magnets Of Synchronous Machinery (AREA)
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Description

馬達結構
本發明是有關於一種馬達結構，特別是有關於一種具導磁片之馬達結構。
請參閱第1圖，習知馬達結構10包含一殼體11、一第一磁石12、一第二磁石13及一轉子14，該殼體11具有一容置槽11a，該第一磁石12、該第二磁石13及該轉子14設置於該容置槽11a，藉由該殼體11導磁使得該轉子14可轉動，惟基於製造成本考量，該馬達結構10之該殼體11的厚度皆會刻意薄化，因此造成了該馬達結構10發生磁漏及降低馬達氣隙磁通密度，因而影響馬達轉動的性能。
本發明之主要目的在於提供一種馬達結構，藉由一設置於殼體與磁石之間的導磁片，降低該馬達結構的磁阻，以避免發生磁漏，並可增加馬達氣隙磁通密度，以提升馬達轉動性能。
本發明之一種馬達結構，其包含一殼體、一轉子、一第一磁石、一第二磁石及至少一導磁片，該殼體具有一容置槽，該轉子設置於該容置槽，該第一磁石設置於該殼體與該轉子之間，該第一磁石具有一第一端部，該第一端部與該殼體之間具有一第一間隔空間，該第二磁石設置於該殼體與該轉子之間，該第二磁石具有一第二端部，該第二端部與該殼體之間具有一第二間隔空間， 該第一間隔空間及該第二間隔空間構成一間隔槽，該導磁片設置於該間隔槽，且該導磁片接觸該殼體，藉由該導磁片降低該馬達結構的磁阻及避免發生磁漏，並可增加馬達氣隙磁通密度，以提升馬達轉動性能。
請參閱第2及3圖，其為本發明之一較佳實施例，一種馬達結構100，其包含一殼體110、一轉子120、一第一磁石130、一第二磁石140及至少一導磁片150，該殼體110具有一容置槽111，該轉子120設置於該容置槽111中。
請參閱第2圖，該第一磁石130設置於該殼體110與該轉子120之間，該第一磁石130具有一第一端部131，該第一端部131與該殼體110之間具有一第一間隔空間S1，該第二磁石140設置於該殼體110與該轉子120之間，在本實施例中，該第一磁石130及該第二磁石140係相對設置於該轉子120的二側，且該第一磁石130及該第二磁石140不相互接觸，該第二磁石140具有一第二端部141，該第二端部141與該殼體110之間具有一第二間隔空間S2，該第一間隔空間S1及該第二間隔空間S2構成一間隔槽A。
請參閱第3圖，該導磁片150設置於該間隔槽A中，且該導磁片150接觸該殼體110，藉由該導磁片150的導磁，可降低該馬達結構100的磁阻以避免發生磁漏，並可增加馬達氣隙磁通密度，以提升馬達轉動性能。
請參閱第3圖，該馬達結構100另包含至少一定位件160，該定位件160設置於該第一磁石130之該第一端部 131及該第二磁石140之該第二端部141之間，該定位件160抵觸該第一磁石130之該第一端部131及該第二磁石140之該第二端部141，以使該第一磁石130及該第二磁石140被固定於該殼體110之該容置槽111中，較佳地，該定位件160係具有彈性，於抵觸該第一磁石130及該第二磁石時，該定位件160產生變形，藉由變形回復力使該第一磁石130及該第二磁石140被固定於該殼體110之該容置槽111中。
請參閱第3及4圖，在本實施例中，該定位件160與該導磁片150可由一金屬板以沖壓製程一體成型，該定位件160具有一連接部161及一抵觸部162，該連接部161連接該導磁片150，該抵觸部162凸出於該導磁片150，該抵觸部162抵觸該第一磁石130之該第一端部131及該第二磁石140之該第二端部141，在本實施例中，該第一磁石130之該第一端部131具有一第一顯露面131a，該第二磁石140之該第二端部141具有一第二顯露面141a，該抵觸部162位於該第一顯露面131a與該第二顯露面141a之間，且該抵觸部162抵觸該第一端部131之第一顯露面131a及該第二端部141之該第二顯露面141a。
本發明是藉由設置於該間隔槽A的該導磁片150接觸該殼體110，以降低該馬達結構100的磁阻及避免發生磁漏，並可增加馬達氣隙磁通密度，以提升馬達轉動性能。
本發明之保護範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準，任何熟知此項技藝者，在不脫離本發明之精神和範圍內所作之任何變化與修改，均屬於本發明之保護 範圍。
10‧‧‧馬達結構
11‧‧‧殼體
11a‧‧‧容置槽
12‧‧‧第一磁石
13‧‧‧第二磁石
14‧‧‧轉子
100‧‧‧馬達結構
110‧‧‧殼體
111‧‧‧容置槽
120‧‧‧轉子
130‧‧‧第一磁石
131‧‧‧第一端部
131a‧‧‧第一顯露面
140‧‧‧第二磁石
141‧‧‧第二端部
141a‧‧‧第二顯露面
150‧‧‧導磁片
160‧‧‧定位件
161‧‧‧連接部
162‧‧‧抵觸部
A‧‧‧間隔槽
S1‧‧‧第一間隔空間
S2‧‧‧第二間隔空間
第1圖：習知馬達結構之剖視圖。
第2圖：依據本發明之一較佳實施例，一種馬達結構之剖面圖。
第3圖：依據本發明之一較佳實施例，一種馬達結構之剖面圖。
第4圖：依據本發明之一較佳實施例，該導磁片之立體示意圖。
100‧‧‧馬達結構
110‧‧‧殼體
111‧‧‧容置槽
120‧‧‧轉子
130‧‧‧第一磁石
131‧‧‧第一端部
131a‧‧‧第一顯露面
140‧‧‧第二磁石
141‧‧‧第二端部
141a‧‧‧第二顯露面
150‧‧‧導磁片
160‧‧‧定位件
161‧‧‧連接部
162‧‧‧抵觸部
A‧‧‧間隔槽
S1‧‧‧第一間隔空間
S2‧‧‧第二間隔空間

Claims (6)

  1. 一種馬達結構，其包含：一殼體，其具有一容置槽；一轉子，設置於該容置槽；一第一磁石，其設置於該殼體與該轉子之間，該第一磁石具有至少一第一端部，該第一端部與該殼體之間具有一第一間隔空間；一第二磁石，其設置於該殼體與該轉子之間，該第二磁石具有至少一第二端部，該第二端部與該殼體之間具有一第二間隔空間，該第一間隔空間及該第二間隔空間構成一間隔槽；以及至少一導磁片，其設置於該間隔槽，且該導磁片接觸該殼體。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之馬達結構，其另包含至少一定位件，該定位件設置於該第一磁石之該第一端部及該第二磁石之該第二端部之間。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之馬達結構，其中該定位件與該導磁片為一體成型。
  4. 如申請專利範圍第2或3項所述之馬達結構，其中該定位件具有一連接部及一抵觸部，該連接部連接該導磁片，該抵觸部凸出於該導磁片。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之馬達結構，其中該第一磁石之該第一端部具有一第一顯露面，該定位件之該抵觸部抵觸該第一端部之該第一顯露面。
  6. 如申請專利範圍第5項所述之馬達結構，其中該第二磁石之該第二端部具有一第二顯露面，該定位件之該抵觸部抵觸該第二端部之該第二顯露面。
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