TWI441952B - 浸潤型鍍膜設備 - Google Patents

Description

浸潤型鍍膜設備

本發明涉及一種鍍膜技術，尤其涉及一種浸潤型鍍膜設備。

在浸潤型鍍膜過程中，一般要先將待鍍物品浸入溶解有鍍膜材料之鍍膜液體，待鍍膜材料於待鍍物品表面沉積一定程度後，自所述鍍膜液體中取出所述待鍍物品，然後，對所述待鍍物品進行烘烤，以使殘留在所述待鍍物品上之鍍膜液體中之溶劑蒸發。

先前浸潤型鍍膜之浸潤和烘乾製程係在不同設備中進行的，因此浸潤完成後之待鍍物品要經過專門之運送設備至用於烘乾設備中，這無疑增加了運送成本，同時，待鍍物品在運送過程中也容易被污染，對待鍍物品之鍍膜良率造成影響。

有鑒於此，有必要提供一種節省鍍膜成本及提高鍍膜良率之浸潤型鍍膜設備。

一種浸潤型鍍膜設備，其包括一個鍍膜腔體裝置以及一個位於所述鍍膜腔體裝置內且可以相對於所述鍍膜腔體裝置升降及旋轉之升降旋轉裝置。所述鍍膜腔體裝置包括一個浸潤腔體部以及一個與所述浸潤腔體部相連且疊置於所述浸潤腔體部上之烘烤腔體部，所述浸潤腔體部用於容置鍍膜液體及對待鍍物品進行浸潤製程，所述烘烤腔體部用於對所述浸潤待鍍物品進行烘烤製程。所述 烘烤腔體部之側壁開設有一個用於取放所述待鍍物品之開口並包括一個用於封閉/打開所述開口之腔門。所述升降旋轉裝置包括一個可旋轉運動之旋轉體以及一個穿設於所述旋轉體內部之加熱體，所述加熱體用於保持滿足所述待鍍物品鍍膜條件之溫度環境。所述旋轉體之外側面上設置有用於固定所述待鍍物品之固定件，所述固定件開設有用於固定所述待鍍物品之固定槽。所述升降旋轉裝置帶動所述待鍍物品下降進入所述浸潤腔體部或者上升進入所述烘烤腔體部進行浸潤或者烘烤製程。

本發明之浸潤型鍍膜設備包括用於進行浸潤製程之浸潤腔體部及用於進行烘烤製程之烘烤腔體部，可以在該設備中進行對待鍍物品之浸潤及烘烤製程，省去了由浸潤製程到烘烤製程之間對待鍍物品之運送動作，因此節省了鍍膜成本及提高了鍍膜效率，同時避免待鍍物品由於運送而造成之污染，進而提高了鍍膜良率。

100‧‧‧浸潤型鍍膜設備

10‧‧‧鍍膜腔體

11‧‧‧浸潤腔體

111‧‧‧鍍液空間

12‧‧‧烘烤腔體

121‧‧‧烘烤空間

122‧‧‧開口

123‧‧‧腔門

124‧‧‧出風口

20‧‧‧升降旋轉裝置

21‧‧‧旋轉體

211‧‧‧固定件

211a‧‧‧固定槽

22‧‧‧熱體

221‧‧‧熱芯

222‧‧‧加熱棒

30‧‧‧吹氣裝置

31‧‧‧吹氣管

圖1係本發明浸潤型鍍膜設備之結構圖。

圖2係圖1之浸潤型鍍膜設備之分解圖。

下面將結合附圖對本發明作一具體介紹。

請參閱圖1，所示為本發明之浸潤型鍍膜設備100之結構圖，所述影浸潤型鍍膜設備100包括一個鍍膜腔體10以及一個位於所述鍍膜腔體10內且可以相對於所述鍍膜腔體10升降及旋轉之升降旋轉裝置20。

請參閱圖2，所述鍍膜腔體10包括一個浸潤腔體11以及一個與所 述浸潤腔體11相連之烘烤腔體12。所述浸潤腔體11內部形成一個鍍液空間111，鍍膜時，所述鍍液空間111內充滿鍍膜液體，用於浸潤待鍍物品(圖未示)。所述烘烤腔體12內部形成一個烘烤空間121，用於對浸潤完成後之待鍍物品進行烘烤。所述烘烤腔體12之側壁開設有一個開口122，所述開口之一側邊之烘烤腔體12上可轉動之設置有一個腔門123，所述腔門123用於封閉/打開所述開口122。所述烘烤腔體12之頂部還設置有一個與所述烘烤空間相通之出風口124，所述出風口124用於排出烘烤製程中產生之熱空氣。

所述升降旋轉裝置20為柱狀體結構，其包括一個旋轉體21以及一個穿設於所述旋轉體21內部之加熱體22。所述旋轉體21之外側面設置有至少一個與所述旋轉體21一體相連之固定件211。本實施方式中，所述固定件211為兩個，其關於所述旋轉體21之旋轉軸呈中心對稱設置於所述旋轉體21外側面。所述每一固定件211沿平行於所述旋轉體21之旋轉軸之方向開設有複數固定槽211a，所述固定槽211a用於固定待鍍物品。所述固定槽211a之形狀可以依據所述待鍍物品之外形而作不同之變化。所述加熱體22用於保持滿足所述待鍍物品鍍膜條件之溫度環境，其包括一個熱芯221以及複數穿設於所述熱芯221內之加熱棒222。所述熱芯221為熱之良導體，例如鋁、銅等。本實施方式中，所述加熱棒222為電阻式加熱棒。

所述浸潤型鍍膜設備100還包括一個吹氣裝置30，所述吹氣裝置30用於向所述鍍膜腔體10內吹氣。本實施方式中，所述吹氣裝置30包括複數吹氣管31，所述每一個吹氣管31與所述浸潤腔體11相 連，且其內部與所述浸潤腔體11內部相通。當然，所述每一吹氣管31也可以所述烘烤腔體12相連。

請一併參閱圖1及圖2，所述浸潤型鍍膜設備100在對待鍍物品進行鍍膜時。將所述升降旋轉裝置20升至所述烘烤腔體12，使所述固定槽211a朝向所述開口121，將待鍍物品自所述開口放入並固定於所述固定槽211a內。待鍍物品放置完成後，轉動所述腔門123以封閉所述開口122。於所述鍍液空間111內注入鍍膜液體(圖未示)，所述鍍膜液體混合有鍍膜材料。將所述升降旋轉裝置20降至所述浸潤腔體11，使所述待鍍物品浸入所述鍍膜液體內，使所述鍍膜材料沉積、附著於所述待鍍物品表面上。在此過程中，可以控制所述升降旋轉裝置20帶動所述待鍍物品進行緩慢之升降或旋轉，以達到鍍膜材料更好之沉積效果；同時，可以開啟所述加熱棒，使所述鍍膜液體處於符合鍍膜要求之溫度；另外，可自所述吹氣管內31緩慢吹入氣體，以加速所述待鍍物品表面之液體揮發。上述鍍膜材料之沉積、附著完成後，將所述升降旋轉裝置20升至所述烘烤腔體12內，然後，控制所述升降旋轉裝置20帶動所述待鍍物品快速轉動，轉動過程中，可同時自所述升降旋轉裝置20向所述烘烤空間121通入熱氣，以加速所述待鍍物品表面之液體揮發，另外，可以控制所述加熱棒之加熱溫度，以使所述待鍍物品表面之鍍膜材料之晶相產生符合預期之變化，可改善鍍膜品質。

本發明之浸潤型鍍膜設備包括用於進行浸潤製程之浸潤腔體部及用於進行烘烤製程之烘烤腔體部，可以在該設備中進行對待鍍物品之浸潤及烘烤製程，省去了由浸潤製程到烘烤製程之間對待鍍 物品之運送動作，因此節省了鍍膜成本及提高了鍍膜效率，同時避免待鍍物品由於運送而造成之污染，進而提高了鍍膜良率。

綜上所述，本發明確已符合發明專利之要件，遂依法提出專利申請。惟，以上所述者僅為本發明之較佳實施方式，自不能以此限制本案之申請專利範圍。舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化，皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。

100‧‧‧浸潤型鍍膜設備

11‧‧‧浸潤腔體

111‧‧‧鍍液空間

12‧‧‧烘烤腔體

121‧‧‧烘烤空間

122‧‧‧開口

123‧‧‧腔門

124‧‧‧出風口

21‧‧‧旋轉體

211‧‧‧固定件

211a‧‧‧固定槽

22‧‧‧熱體

221‧‧‧熱芯

222‧‧‧加熱棒

30‧‧‧吹氣裝置

31‧‧‧吹氣管

Claims (7)

1. 一種浸潤型鍍膜設備，其包括：一個鍍膜腔體裝置以及一個位於所述鍍膜腔體裝置內且可以相對於所述鍍膜腔體升裝置降及旋轉之升降旋轉裝置，所述鍍膜腔體裝置包括一個浸潤腔體部以及一個與所述浸潤腔體部相連且疊置於所述浸潤腔體部上之烘烤腔體部，所述浸潤腔體部用於容置鍍膜液體及對待鍍物品進行浸潤製程，所述烘烤腔體部用於對所述浸潤待鍍物品進行烘烤製程，所述烘烤腔體部之側壁開設有一個用於取放所述待鍍物品之開口並包括一個用於封閉/打開所述開口之腔門，所述升降旋轉裝置包括一個可旋轉運動之旋轉體以及一個穿設於所述旋轉體內部之加熱體，所述加熱體用於保持滿足所述待鍍物品鍍膜條件之溫度環境，所述旋轉體之外側面上設置有固定件，所述固定件開設有用於固定所述待鍍物品之固定槽，所述升降旋轉裝置帶動所述待鍍物品下降進入所述浸潤腔體部或者上升進入所述烘烤腔體部進行浸潤或者烘烤製程。
2. 如申請專利範圍第1項所述之浸潤型鍍膜設備，其中，所述烘烤腔體部之頂部設置有一個用於排出在所述烘烤製程中產生之熱空氣之出風口。
3. 如申請專利範圍第1項所述之浸潤型鍍膜設備，其中，所述升降旋轉裝置為柱狀體結構。
4. 如申請專利範圍第1項所述之浸潤型鍍膜設備，其中，所述固定件之數量為兩個，所述兩個固定件關於所述旋轉體之旋轉軸呈中心對稱設置於所述旋轉體之外側面。
5. 如申請專利範圍第4項所述之浸潤型鍍膜設備，其中，所述每個固定件沿平行於所述旋轉體之旋轉軸之方向開設有用於固定待鍍物品之複數固定槽。
6. 如申請專利範圍第1項所述之浸潤型鍍膜設備，其中，所述加熱體包括一個熱芯以及複數穿設於所述熱芯內之加熱棒。
7. 如申請專利範圍第1項所述之浸潤型鍍膜設備，其中，所述浸潤型鍍膜設備還包括一個吹氣裝置，所述吹氣裝置包括複數與所述鍍膜腔體裝置內部相通之吹氣管，並用於向所述鍍膜腔體內吹氣。