TWI409534B - A touch screen having a reflection and a passing effect, and a method of manufacturing the same - Google Patents

Description

兼顧反射和透過效果的觸控螢幕及其製造方法

本發明有關於一種觸控螢幕及其製造方法，特別是有關於一種兼顧反射和透過效果的觸控螢幕及其製造方法。

觸控螢幕是藉由在螢幕上進行接觸性操作實現資訊輸入的電子器件。觸控螢幕的螢幕上的提示資訊必須可見，才能實現資訊輸入，因此，組成觸控螢幕的結構層都需要透明。

隨著市場需求的發展，出現了要求觸控螢幕具有反射功能的要求，例如在使用觸控螢幕的電子設備不工作時，可以使用觸控螢幕充當鏡子使用。

觸控螢幕要實現反射功能，要求觸控螢幕的結構層具有將光線的反射功能。目前，在觸控螢幕製造行業對光線進行發射使用最多的是金屬膜，然而，由於金屬膜通常又具有遮光的作用，使用金屬膜實現光線反射又帶來對觸控螢幕背景光源的隔斷，造成觸控螢幕提示資訊不可見而影響觸控螢幕的基板使用功能。

因此，迄今為止，尚未出現帶有反射功能的觸控螢幕。

有鑑於上述習知技藝之問題，本發明之一目的在提供一種兼顧反射和透過效果的觸控螢幕，使觸控螢幕實現反射和觸控雙重功能。

根據本發明之一目的，提供一種兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法 ，實現上述觸控螢幕的生產。

根據本發明之另一目的，提供解決其技術問題之一所採用的方法是：製造一種兼顧反射和透過效果的觸控螢幕，包括一基板和一觸控膜層，其中，還包括一半反半透膜層和一保護膜層，半反半透膜層覆蓋在基板上，保護膜層覆蓋在該半反半透膜層上，觸控膜層覆蓋在該保護膜層上或覆蓋在基板另一側表面上。

其中，半反半透膜層為：一帶有圖案的金屬膜層、一帶有圖案的金屬合金膜層、一有反射及透明效果的非金屬膜層、一有反射及透明效果的金屬膜層或一有反射及透明效果的金屬合金膜層。

其中，保護膜層為二氧化矽(SiO₂)膜層。

其中，基板為玻璃基板、透明PET塑膠基板或透明柔性基板。

其中，半反半透膜的透過率範圍為30%~70%，反射率範圍為30%~70%。

其中，保護膜的透過率大於90%。

其中，觸控膜層為電容式觸控螢幕觸控膜層或電阻式觸控螢幕觸控膜層。

其中，本發明解決其技術問題之二所採用的方法是：提供一種兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法，其中，包括在基板上製作觸控膜層、半反半透膜層和保護膜層，並半反半透膜層完全覆蓋在基板上，保護膜層覆蓋在該半反半透膜層上，觸控膜層覆蓋在該保護膜層上或覆蓋在基板另一側表面上。

其中，依次在基板上層疊覆蓋的半反半透膜層、保護膜層和觸控膜層。

其中，在基板一側製作覆蓋該側表面的觸控膜層，在基板的另一側表面依次製作層疊覆蓋的半反半透膜層和保護膜層。

本發明的兼顧反射和透過效果的觸控螢幕及其製造方法，與先前技術比較，其至少具有以下優點：1．首次提出具有反射和透過屬性的觸控螢幕，使觸控螢幕實現了鏡面反射和觸控控制雙重功能，即在觸控螢幕不工作、其背景光源關閉時，觸控螢幕可以作為反射鏡面使用；在觸控螢幕工作時，觸控螢幕背景光源開啟，實現正常的觸控控制顯示功能，滿足客戶新的使用要求；2．結構簡單，生產成本低。

1‧‧‧基板

2‧‧‧觸控膜層

3‧‧‧半反半透膜層

4‧‧‧保護膜層

第1圖係為本發明兼顧反射和透過效果的觸控螢幕實施例一之結構剖面示意圖；第2圖係為本發明兼顧反射和透過效果的觸控螢幕實施例二之結構剖面示意圖；第3圖係為本發明兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法實施例一之流程圖；以及第4圖係為本發明兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法實施例二之流程圖。

本發明兼顧反射和透過效果的觸控螢幕的實施例如下：請參閱第1圖，其係本發明兼顧反射和透過效果的觸控螢幕實施例一之結構剖面示意圖，本發明兼顧反射和透過效果的觸控螢幕包括一基板1、一觸控膜層2、一半反半透膜層3及一保護膜層4，半反半透膜層3覆蓋在基板1上，保護膜層4覆蓋在半反半透膜層3之上，觸控膜層2覆蓋在基板1的另一側表面上。

半反半透膜層3可以採用包括但不限於：1、 帶有圖案的金屬膜層，圖案根據需要設計，藉由圖案實現透光的目的；2、 同樣，可採用帶有圖案的金屬合金膜層；3、 有反射及透明效果的非金屬膜層，如在基板上鍍兩種不同折射率的膜，如高折射率的二氧化鈦(TiO₂)和低折射率的二氧化矽(SiO₂)，兩種膜交替鍍，膜層的厚度為137.5奈米可產生反射效果，膜層數增加，反射效果增加；4、 有反射及透明效果的金屬合金膜層，如30~50奈米的鋁(Al)膜；以及5、 有反射及透明效果的金屬合金膜層，如30~50奈米的鋁釹合金(AlNd)膜。

可將半反半透膜3的透過率(透過率為材料的光通量的透過比例，即透過材料後的光強度與原始的光強度的比例)控制在30%~70%範圍內，反射率(反射率為材料的光通量的反射比例，即經過材料反射後的光強度與原始的光強度的比例)控制在30%~70%範圍內，可以達到較好的半反半透效果。當然，將半反半透膜3的透過率、反射率控制在上述範圍之外，亦能夠實現本發明目的，如透過率為29%、反射率為71%，同樣能夠實現本發明目的。

保護膜層4可以採用包括但不限於SiO₂(二氧化矽)膜層或氮化矽(SiN_X)膜層。保護膜層4的透過率可以控制在大於等於90%。同樣，保護膜層4的透過率小於90%(如透過率為88%)，亦能夠實現本發明目的。觸控膜層2可以採用包括但不限於電容式觸控螢幕觸控膜層、電阻式觸控螢 幕觸控膜層。

基板1可以採用包括但不限於玻璃基板、透明PET(聚對苯二甲酸乙二醇酯，屬線型飽和聚酯樹脂)塑膠基板或透明柔性(如聚醯亞胺)基板。

請參閱第2圖，其係為本發明兼顧反射和透過效果的觸控螢幕實施例二之結構剖面示意圖。本實施例二與實施例一基本相同，主要區別在於：半反半透膜層3、保護膜層4和觸控膜層2依次層疊在基板1的同一側表面上，由內向外的順序為：半反半透膜層3、保護膜層4和觸控膜層2。

請參閱第3圖，其係本發明兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法實施例一之流程圖。本發明兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法包括：先製作觸控膜層，觸控膜層直接覆蓋在基板的一側表面上；再製作半反半透膜，半反半透膜直接覆蓋在基板的另一側表面上；以及然後製作保護膜，保護膜覆蓋在半反半透膜上。

在其他實施例中，製作觸控膜層的次序可以在製作半反半透膜和製作保護膜之中或之後進行。

請參閱第4圖，係為本發明兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法實施例二之流程圖，本發明兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法包括：先製作半反半透膜，半反半透膜直接覆蓋在基板的另一側表面上；再製作保護膜，保護膜覆蓋在半反半透膜上；然後製作觸控膜層，觸控膜層覆蓋在半反半透膜上。

1‧‧‧基板

2‧‧‧觸控膜層

3‧‧‧半反半透膜層

4‧‧‧保護膜層

Claims (10)

1. 一種兼顧反射和透過效果之觸控螢幕，其包括：一基板；一半反半透膜層，該半反半透膜層覆蓋在該基板上；一保護膜層，該保護膜層覆蓋在該半反半透膜層上；以及一觸控膜層，其覆蓋在該保護膜層上或覆蓋在該基板另一側表面上。
2. 如申請專利範圍第1項所述之兼顧反射和透過效果之觸控螢幕，其中，該半反半透膜層係為：一帶有圖案之金屬膜層、一帶有圖案之金屬合金膜層、一有反射及一透明效果之非金屬膜層、一有反射及透明效果之金屬膜層或一有反射及透明效果之金屬合金膜層。
3. 如申請專利範圍第1項所述之兼顧反射和透過效果之觸控螢幕，其中，該保護膜層係為二氧化矽膜層。
4. 如申請專利範圍第1項所述之兼顧反射和透過效果之觸控螢幕，其中，該基板系為玻璃基板、透明聚對苯二甲酸乙二醇酯塑膠基板或透明柔性基板。
5. 如申請專利範圍第1至4項之任一項所述之兼顧反射和透過效果之觸控螢幕，其中，該半反半透膜的透過率範圍係為30%~70%，反射率範圍係為30%~70%。
6. 如申請專利範圍第1至4項之任一項所述之兼顧反射和透過效果之觸控螢幕，其中，該保護膜之透過率大於90%。
7. 如申請專利範圍第1至4項之任一項所述之兼顧反射和透過效果之觸控螢幕，其中，該觸控膜層係為電容式觸控螢幕觸控膜層或電阻式觸控螢幕觸控膜層。
8. 一種兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法，其包括：在一基板上分別製作一觸控膜層、一半反半透膜層和一保護膜層；以及使該半反半透膜層覆蓋在該基板上；使該保護膜層覆蓋在該半反半透膜層上；以及使該觸控膜層覆蓋在該保護膜層上或覆蓋在該基板另一側表面上。
9. 如申請專利範圍第8項所述之兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法，其中，依次在該基板上層疊覆蓋該半反半透膜層、該保護膜層和該觸控膜層。
10. 如申請專利範圍第8項所述之兼顧反射和透過效果觸控螢幕的製造方法，其中，在該基板一側製作覆蓋該側表面之該觸控膜層，在該基板之另一側表面依次製作層疊覆蓋之該半反半透膜層和該保護膜層。