TWI402886B - 以氣霧方式清洗遮罩之方法及氣霧式遮罩清洗設備 - Google Patents

Description

以氣霧方式清洗遮罩之方法及氣霧式遮罩清洗設備

本發明提供一種遮罩清洗設備，尤指一種氣霧式遮罩清洗設備。

先前技術中遮罩的清洗方式為浸泡式清洗，如第1圖所示，第1圖為先前技術中清洗遮罩12之簡易示意圖。清洗槽10中放置乾淨的清洗液13，將遮罩12放入清洗槽10中，利用清洗液13除去遮罩12上的有機物質。然而，利用液體清洗遮罩12可能因液體的內聚力或表面張力，於浸泡的過程中或於置入取出遮罩12時而造成遮罩12的損害。

一般來說，清洗遮罩12可能需要清洗數次，由清洗遮罩的人員將遮罩12放置清洗槽10中清洗，於一段時間後再將遮罩12拿起來檢查是否已清洗乾淨，若未清洗乾淨，則須將原本清洗槽10中的清洗液13換新，或者準備多個清洗槽10來清洗遮罩12，直到清洗乾淨為止。

因此，清洗遮罩12需要大量的清洗液13以及人員不斷地定時檢查是否清洗完畢，而且使用過的清洗液13也無法即時回收，需要藉由其他設備回收，其所耗費的人力、時間與成本相當龐大。

本發明係提供一種氣霧式遮罩清洗設備，以解決上述之問題。

本發明係揭露一種氣霧式遮罩清洗設備，其包含一清洗室，用以容納待清洗之遮罩，複數個霧化器，設置於該清洗室內，用以將清洗液霧化，以清洗該遮罩，一回收槽，用以回收清洗液，以及一冷凝器，連接於該回收槽，用以將該回收槽中蒸餾之氣體冷凝。

為了解決先前技術的問題，本發明提供一種氣霧式遮罩清洗設備，將清洗液霧化以清洗遮罩，並加設回收系統以回收清洗液再利用，以及加裝紫外線照明燈於清洗設備中，以即時檢查遮罩是否清洗完畢。

請參閱第2圖與第3圖；第2圖與第3圖分別為本發明氣霧式遮罩清洗設備20不同方向之側視圖。氣霧式遮罩清洗設備20包含一清洗室22、一過濾器24、一儲存槽26、一幫浦28、一氣液分離器30、一回收槽32、一加熱器34與一冷凝器36。清洗室22內設有複數個霧化器38。一門板44以可旋轉的方式設置於清洗室22之一側。如第3圖所示，清洗室22的內側設有一軌道40，一承載座42以可滑動之方式設置於軌道40上，用以承載遮罩12。清洗室22的兩側設有紫外線照明燈50，將紫外線照射於遮罩12上，以檢查遮罩12是否清洗乾淨。

於下說明設備20的運作。將欲清洗的遮罩12放置承載座42上，承載座42藉由軌道40滑入清洗室22中，關上門板44後即可啟動氣霧式遮罩清洗設備20。幫浦28抽取儲存槽26內的清洗液13，而過濾器24會先將清洗液13中的固態粒子過濾後才將清洗液13送至清洗室22中。接著，霧化器38將清洗液13霧化後直接噴灑於遮罩12上，利用較小的霧化分子來清洗遮罩12，以降低清洗遮罩12可能造成的損害。

清洗室22中的清洗液13分兩部分回收。一為霧化的清洗液13，其與空氣經由氣液分離器30所分離，空氣將直接排出，而清洗液13透過連接於回收槽32與氣液分離器30之間的管路46流至回收槽32中。回收槽32下方設有加熱器34，可將回收槽32中的清洗液13加熱蒸發成氣態，氣態的清洗液13再經過冷凝器36冷凝作用，凝結成液態並流至儲存槽26中。另一部份為回收液態的清洗液13，清洗室22與回收槽32之間設有一回流管48，以將清洗室22中液態的清洗液13回收至回收槽32中。

相較於先前技術，本發明氣霧式遮罩清洗設備在清洗的過程中，可以持續提供乾淨的霧化清洗液，以避免清洗時造成遮罩的損害，並可隨時藉由紫外線照明燈的開啟，以檢查是否已清洗乾淨，若未清洗乾淨，則繼續執行清洗，遮罩只須在同一個設備中清洗，無須換到別的清洗槽中再清洗。另外，使用過後的清洗液可立即回收處理以再使用，可減少清洗液的使用量。因此本發明可減少許多不必要的人力、時間與成本。

以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

10．．．清洗槽

12．．．遮罩

13．．．清洗液

20．．．氣霧式遮罩清洗設備

22．．．清洗室

24．．．過濾器

26．．．儲存槽

28．．．幫浦

30．．．氣液分離器

32．．．回收槽

34．．．加熱器

36．．．冷凝器

38．．．霧化器

40．．．軌道

42．．．承載座

44．．．門板

46．．．管路

48．．．回流管

50．．．紫外線照明燈

第1圖為先前技術中清洗遮罩之簡易示意圖。

第2圖與第3圖分別為本發明氣霧式遮罩清洗設備不同方向之側視圖。

13．．．清洗液

20．．．氣霧式遮罩清洗設備

22．．．清洗室

24．．．過濾器

26．．．儲存槽

28．．．幫浦

30．．．氣液分離器

32．．．回收槽

34．．．加熱器

36．．．冷凝器

38．．．霧化器

44．．．門板

46．．．管路

48．．．回流管

Claims (9)

1. 一種氣霧式遮罩清洗設備，包含：一清洗室，用以容納待清洗之遮罩；複數個霧化器，設置並分佈於該清洗室內，用以將清洗液霧化，以清洗該遮罩；一回收槽，用以回收清洗液；一加熱器，用以蒸餾該回收槽中的清洗液；以及一冷凝器，連接於該回收槽，用以將該回收槽中蒸餾之氣體冷凝。
2. 如申請專利範圍第1項所述之氣霧式遮罩清洗設備，更包含：一過濾器，連接於該複數個霧化器，用以過濾清洗液中固態粒子；一儲存槽，連接於該過濾器，以提供清洗液；一氣液分離器，連接於該清洗室，用以分離該清洗室中空氣與清洗液；以及一紫外線照明燈，設置於該清洗室內，用以將紫外線照射於該遮罩上，以檢查是否清洗乾淨。
3. 如申請專利範圍第1項所述之氣霧式遮罩清洗設備，更包含一軌道，設置於該清洗室之一內側。
4. 如申請專利範圍第3項所述之氣霧式遮罩清洗設備，更包含一承載座，以可滑動之方式設置於該軌道上，用以承載該遮罩。
5. 如申請專利範圍第2項所述之氣霧式遮罩清洗設備，更包含一幫浦，用以抽取該儲存槽內之清洗液至該清洗室內。
6. 如申請專利範圍第1項所述之氣霧式遮罩清洗設備，更包含一門板，以旋轉的方式設置於該清洗室之一側。
7. 如申請專利範圍第2項所述之氣霧式遮罩清洗設備，更包含一管路，用以連接該回收槽與該氣液分離器。
8. 如申請專利範圍第1項所述之氣霧式遮罩清洗設備，更包含一回流管，連接於該清洗室與該回收槽之間，用以回收該清洗室內之清洗液至該回收槽中。
9. 一種以氣霧方式清洗遮罩之方法，包含：霧化清洗液；以霧化後之清洗液清洗遮罩；將清洗過後之清洗液與空氣分離，回收清洗過後之清洗液至一回收槽中； 蒸餾該回收槽中之清洗液；冷凝該蒸餾後之氣體，並將冷凝後之液體儲存於一儲存槽中；以及利用紫外線照射遮罩，以檢查遮罩是否清洗乾淨。