TWI398905B

TWI398905B - 選擇性修正佈局圖形之方法

Info

Publication number: TWI398905B
Application number: TW97130023A
Authority: TW
Inventors: Yu Shiang Yang; Te Hung Wu; Yung Feng Cheng; Chuen Huei Yang; Hsiang Yun Huang; Hui Fang Kuo; Shih Ming Kuo; Lun Hung Chen
Original assignee: United Microelectronics Corp
Priority date: 2008-08-07
Filing date: 2008-08-07
Publication date: 2013-06-11
Also published as: TW201007816A

Description

選擇性修正佈局圖形之方法

本發明係關於一種修正佈局圖形之方法。特別是關於一種選擇性修正佈局圖形之方法。

在半導體元件的製造過程中，經常會使用到微影(photo lithography)及蝕刻(etching)等關鍵技術。微影技術包括將一複雜的積體電路圖形轉移至一半導體晶圓表面，以供蝕刻、摻雜等步驟所用。此等圖形的轉移需要極為準確，俾與之前與之後之其他製程之圖案相互對應，進而製造出精密的積體電路。

但是在微影步驟中，將光罩(reticle)上的標準圖形轉移至晶圓表面時，經常會產生偏差，進而影響半導體裝置之性能。此種偏差與被轉移的圖形特性、晶圓的外形、所使用的光源種類及種種的製程參數有關。

其中，對於因為光學近接效應、工藝規則、光學規則等所引起的圖形偏差，已經發展出許多檢驗、修正與補償的方法，以改善影像轉移後的品質。例如，已知之方法有光學近接修正(optical proximity correction，OPC)、工藝規則檢驗(process rule check，pRC)與光學規則檢驗 (lithography rule check，LRC)等等，並已有市售光學近接修正軟體，以供檢測佈局圖形中的狹小處(pitch)、橋接處(bridge)、關鍵尺寸均勻性(CD uniformity)等等問題。此等光學近接修正軟體可以將光罩的標準佈局圖形經由理論影像校正，而獲得可於晶圓上正確曝光的影像圖形。此等方法不但能檢測佈局圖形中的問題，還能經由理論影像校正光罩的佈局圖形。所得之校正圖形若均正確可用，則予以輸出製作光罩，進而獲得晶圓上正確的影像圖形。

然而，以上檢驗、修正與補償的方法一般說來都有已經建立好了的標準處理流程步驟可供參考。例如，習知技術中利用OPC來確認光罩之佈局圖形的流程可以是，首先，輸入一佈局圖形。然後對此佈局圖形進行OPC的布林(Boolean)預處理，獲得初步佈局圖形。接著，進行OPC，以修正較特殊的圖形。然後，個別進行工藝規則檢驗(process rule check，PRC)與光學規則檢驗(lithography rule check，LRC)，然後再進行錯誤過濾及檢查。如果，所得之圖形若均正確可用，則予以輸出。若有錯誤，則反覆進行整修及檢查，無誤後再予以輸出。

由此可知，使用光學近接修正模型來校正佈局圖形，以得到用於製作光罩之佈局圖形，並使得此等佈局圖形的轉移更加精確，在半導體元件的製造過程中是一件至為關鍵的操作程序。

本發明即在於提供一種選擇性修正佈局圖形之方法。在本發明之方法中，會提供包含至少一第一群組與一第二群組之佈局圖形，其中第一群組與第二群組分別包含複數個成員。此後再分別針對第一群組與第二群組中之所有成員分別進行評估(simulation)程序與修正程序，而使得第一群組與第二群組中之所有成員終於分別達成目標。此等選擇性修正佈局圖形之方法區別性地對於第一群組與第二群組進行評估程序與修正程序，可以提昇傳統光學近接修正方法之準確度與速度，進而得到適用之佈局圖形。

本發明選擇性修正佈局圖形(layout pattern)之方法，首先提供第一佈局圖形。第一佈局圖形中包含至少一第一群組(group)與第二群組，而第一群組與第二群組又分別包含複數個成員(members)。其次，分別對第一群組中之所有成員進行評估(simulation)程序與第一群組修正程序，進而得到經修正之第一群組。再來，分別對第二群組中之所有成員進行評估程序與第二群組修正程序而得到經修正之第二群組。然後，反覆確認經修正之第一群組與經修正之第二群組，直到經修正之第一群組與經修正之第二群組達成目標。接著，輸出包含達成目標之經修正之第一群組與經修正之第二群組之一第二佈局圖形。視情況需要，可以預先確認第一群組與第二群組是否達成目標(on target)。或是，進一步對未達成目標之第一群組與第二群組進行優先權篩選(priority selection)程序而得到優先群組(prior group)與次要群組(inferior group)。

由於在本發明之方法中，在正式的修正程序前會將多個不同群組分為第一群組與第二群組，或視情況需要進行優先權篩選程序，所以爾後再分別針對第一群組與第二群組中/或優先群組與次要群組中之所有成員分別進行評估程序與修正程序時，能夠以區別性(discriminatory)的方式針對第一群組與第二群組中之所有成員，各別進行獨立的評估程序與獨立的修正程序。這樣一來，第一群組與第二群組中屬性相異之所有成員，可以獲得更適切之評估與修正，俾使第一群組與第二群組中之所有成員早日分別達成目標。本發明之選擇性修正佈局圖形之方法可以提昇傳統光學近接修正方法之準確度與速度，進而得到適用之佈局圖形。

本發明關於一種選擇性修正佈局圖形之方法。在正式的修正程序前，會將多個不同群組分為第一群組與第二群組，或視情況需要再進行優先權篩選程序。因故爾後能夠以區別性的方式針對第一群組與第二群組中之所有成員進行獨立的評估程序與修正程序。在本發明之方法中，優先權篩選程序會將多個不同群組分為優先群組與次要群組，而使得優先群組與次要群組中之所有成員終於分別達成目標。此等選擇性修正佈局圖形之方法可以提昇傳統光學近接修正方法之準確度與速度，進而得到適用之佈局圖形。

第1圖例示本發明選擇性修正佈局圖形方法之主要流程之流程圖。本發明選擇性修正佈局圖形方法100，包含：步驟110：提供第一佈局圖形；步驟120：視情況需要，確認第一群組與第二群組是否達成目標；步驟130：視情況需要，對未達成目標之第一群組與第二群組進行優先權篩選程序而得到優先群組與次要群組；步驟140：對第一群組中之所有成員分別進行評估程序與第一群組修正程序，而得到經修正之第一群組；步驟150：對第二群組中之所有成員分別進行評估程序與第二群組修正程序，而得到經修正之第二群組；步驟160：反覆確認經修正之第一群組與經修正之第二群組直到達成目標；以及步驟170：輸出包含達成目標之經修正之第一群組與經修正之第二群組之第二佈局圖形。

首先，在步驟110中，此等第一佈局圖形可以是一種需要轉移的電路圖形，例如靜態隨機存取記憶體之接觸洞圖形、介層洞圖形、摻雜區、多晶矽閘極等之任一階段製程的佈局圖形。或者，此等第一佈局圖形亦可以是先對一初步佈局圖形先進行一傳統光學近接修正(optical proximity correction，OPC)後而得到的第一佈局圖形。在此第一佈局圖形中，會包含屬性相異之至少一第一群組與第二群組。另外，第一群組與第二群組又會分別包含複數個成員(members)。

以下將舉例說明一任意的佈局圖形中，群組與成員間關係的一較佳實施例。請參考第2圖，其例示一任意的第一佈局圖形中包含有多個群組與其成員。例如佈局圖形200可以視情況需要區分為多個模版(templates)210、211。各別模版210、211又由多個形狀(shapes)220、221、222、223、224、225、226所組成。而每個形狀220、221、222、223、224、225、226應該包含至少一個邊(edge)。例如，形狀221至少包含有代表性邊231、232、233、234。較佳者，不同的邊231、232、233、234彼此之間形成正交關係或呈135°角等的夾角。在光學近接修正模型的操作下，每個邊231、232、233、234又會視情況需要，區分為段落(segment)241、242、243、244。每個段落241、242、243、 244即被視為在本發明選擇性光學近接修正模型的操作下的最小操作單位。

如第3圖所示，當不同的邊231、232彼此之間形成正交關係時，就可以被視為具有不同的群組屬性，而彼此平行的邊，則可以被視為具有相同的群組屬性。於是不同的邊231、232即可被視為隸屬不同的群組，亦即，第一群組261與第二群組262。於是，邊231、232、233、234之所屬段落241、242、243、244，即可視為群組的成員271、272、273、274。

換句話說，佈局圖形200中包含有第一群組261與第二群組262。例如，第一群組261包含有形狀221的成員271、273，第二群組262則包含有形狀221的成員272、274。另一方面，在佈局圖形200中，其他與邊232或231其中一者平行的邊便可分類為相同之群組。

由於在將光罩(reticle)上之圖形轉移至晶圓表面的微影步驟時，會因使用的光源種類、圖形特性等製程參數而產生偏差。例如當使用四極偏軸照射(QUASAR illumination)等之不對稱的光源，將光罩上的標準圖形轉移至晶圓表面時，同一形狀中彼此之間形成正交關係的邊232、231通常會對相同的四極偏軸照射光反應出不同的敏感度，於是形成不同的結果，例如，曝光強度不同，例如第一曝光強度/第二曝光強度，或是對比不同，例如第一對比/第二對比。其中，有一邊應該較為敏感，而另一邊則相對較冷感，如第4圖所示。此時，本發明即係對具有不同敏感屬性的邊312、313施以不同又獨立的評估與修正，以區分出不同的評估條件與修正條件。例如，較敏感群組只需要些許的修正量就能達到明顯的修正結果，而較冷感的群組可能需要更大的修正量才能達到與較敏感群組相同的修正結果。

其次，在步驟120中，視情況需要，本發明會先確認第一佈局圖形200中的第一群組261與第二群組262是否達成目標。所謂的「達成目標」根據不同的光學近接修正要求可能不同。例如，可以為群組是否在可接受的臨界尺寸誤差(critical dimension error)範圍內。所謂之臨界尺寸誤差，可以參考第3圖之說明。第3圖中例示一圓形圖案，例如一預定之接觸洞圖形。期望預定之接觸洞圖形具有84(nm)*84(nm)之長*寬尺寸。經由光學近接修正評估後，此圓形圖案會形成89(nm)*76(nm)之長*寬尺寸。因為長邊的絕對值| 76－84 |＝8大於短邊的絕對值| 89－84 |＝5，於是此等圓形圖案之臨界尺寸誤差取其大者，即視為8nm，接著判斷是否在可接受的臨界尺寸誤差範圍內。

此外，確認第一群組與第二群組是否達成目標也可以使用其他參數來進行比對。第4圖例示一佈局圖形之多個形狀曝光強度圖。佈局圖形301具有形狀311、312、313、314。

對比強度＝(最大強度一最小強度)/(最大強度＋最小強度)。例如，形狀312與313之間的第一對比強度為0.5476，而形狀313與314之間的第二對比強度為0.3122。此時，所謂的「達成目標」可以視為此二者之參數，亦即對比強度之差值小於一特定範圍，例如小於1*10^－4 。明顯的，第一對比強度與第二對比強度之差值為0.2354，沒有達成目標。

若第一佈局圖形中的第一群組與第二群組恰好皆達成目標，就可以直接輸出第一佈局圖形，因為第一佈局圖形中的第一群組與第二群組中的所有成員都符合預定之期望結果。

然而，在大多數的狀況下，第一佈局圖形中的第一群組與第二群組並非皆能達成目標，此時，視情況需要，準備進入步驟130：對未達成目標之第一群組與第二群組進行優先權篩選程序而得到優先群組與次要群組。

值得注意的是，由於直到現在都不知道第一群組與第二群組的敏感屬性，所以可以對第一群組與第二群組進行優先權篩選程序而將第一群組與第二群組分成優先群組與次要群組。

承上所述，當使用四極偏軸照射(QUASAR illumination)將光罩上的標準圖形轉移至晶圓表面時，優先權篩選程序的條件可以是：邊232、231對四極偏軸照射光不同的敏感度。根據邊232、231對四極偏軸照射光的相對位置差異，其中一者會被判定為「敏感」，而另一者則會被判定為「冷感」。於是視情況需要，將敏感群組與冷感群組歸為優先群組與次要群組。在本較佳實施例中，敏感群組會屬於優先群組，而冷感群組歸為次要群組。

又例如第4圖中，因為第一對比強度為0.5476，大於第二對比強度為0.3122，所以可以將第一對比強度0.5476歸為優先群組，而將第二對比強度為0.3122歸為次要群組。

在決定好了優先群組與次要群組之後，就可以進入步驟140：對優先群組中之所有成員分別進行評估程序與優先群組修正程序，而得到經修正之優先群組。由於優先群組是經由優先權篩選程序而得到的，所以優先群組中之所有成員都會具有相同的特定屬性。於是對優先群組中之所有成員進行修正前的評估程序時，在類似的環境下能夠得到更加趨於一致的評估結果。

如果不執行步驟120/130，就可以直接進入步驟140：對第一群組中之所有成員分別進行評估程序與第一群組修正程序，而得到經修正之第一群組。由於第一群組中之所有成員都會具有相同的特定屬性。於是對第一群組中之所有成員進行修正前的評估程序時，在類似的環境下能夠得到更加趨於一致的評估結果。

例如，在第2圖所示，不同的邊232、231彼此之間形成正交關係。假設經過了優先權篩選程序而判定邊231為「敏感」，邊232被判定為「冷感」。依序前述之分類原則(sorting principle)，將敏感群組，邊231歸為優先群組；而冷感群組，邊232歸為次要群組。於是可以對優先群組(邊231)，亦即第一群組261中的「所有」成員271、273分別進行評估程序與優先群組修正程序，通常是評估程序在先，而優先群組修正程序殿後。

在評估程序中，將對各別成員271、273評估出每個成員的「調整方向(adjusted direction)」以及「修正權數(correction weight)」。一方面，「調整方向」可以分為向外(outward)與向內(inward)兩種，其由此等成員的境界(ambit)來決定，向外調整視為面積的增加，而向內調整視為面積的減少。請參考第5圖，例示形狀221中成員271的調整方向。例如，對於成員271，只會產生＋Y或－Y兩種移動方向。於是＋Y移動方向在此即對應為「向外調整方向」，而－Y移動方向在此即對應為「向內調整方向」，因為＋Y移動方向會使得形狀221面積增加，－Y移動方向會使得形狀221面積減少。

另一方面，當每個成員的「調整方向」都決定好了以後，可以進入下一階段來評估每個成員的「修正權數」。修正權數是指在預定的調整方向下的移動量。移動量的大小關乎每個形狀的成員的改變程度以及修正後圖形的輪廓改變程度。值得注意的是，較敏感群組只需要些許的修正量就能達到修正後圖形輪廓的明顯改變，而較冷感的群組可能需要更大的修正量才能達到與較敏感群組相同的輪廓改變程度。在此先假設第5圖形狀221中成員271經過評估的修正權數量為「A」。

在每個成員的「調整方向」以及「修正權數」都決定好了以後，就可以進入下一階段來進行優先群組修正程序。在優先群組修正程序中，會依據評估程序所提出的每個成員的「調整方向」以及「修正權數」，來確定每個成員的「調整方向」以及「修正量(correction scale)」。

雖然先前的評估程序中已經提出了每個成員的「調整方向」以及「修正權數」，但是實際進行每個成員的修正時，視情況需要，每個成員的「修正量」不一定要等於「修正權數」。在本發明中，「修正量」可為加入折扣的「修正權數」，稱為修正權數之折減(damping)。例如，此等折減(damping)可以介於「修正權數」值的0到1之間，較佳為「修正權數」的90%、70%、50%或30%，依照不同的修正圖形與不同的光學近接修正模型而定。舉例而言，第5圖形狀221中成員271的實際「修正量」可以為70%A。

經過優先群組修正程序之後便產生了經修正之優先群組，第一佈局圖形的原始輪廓也隨之改變。優先群組修正程序通常僅修正優先群組之所有成員，較佳者為不涉及次要群組之任何成員的修正，以避免干擾到屬性不同的次要群組成員。

在完成了優先群組中所有成員的評估程序與優先群組修正程序，而得到了經修正之優先群組之後，就可以進入步驟150：對次要群組中之所有成員分別進行評估程序與次要群組修正程序而得到經修正之次要群組。由於次要群組也是經由優先權篩選程序而得到的，所以次要群組中之所有成員也都會具有相同的特定屬性。於是對次要群組中之所有成員進行修正前的評估程序時，在類似的環境下能夠得到更加趨於一致的評估結果。

如果不執行步驟120/130，就可以直接進入步驟150：對第二群組中之所有成員分別進行評估程序與第二群組修正程序而得到經修正之第二群組。由於第二群組中之所有成員也都會具有相同的特定屬性。於是對第二群組中之所有成員進行修正前的評估程序時，在類似的環境下能夠得到更加趨於一致的評估結果。

例如，在第2圖所示，不同的邊231、232彼此之間形成正交關係。假設經過了優先權篩選程序而判定邊231為「敏感」，邊232被判定為「冷感」。依序前述之分類原則(sorting principle)，冷感群組，即邊232歸為次要群組。於是可以對次要群組(亦即第二群組262)中的「所有」成員272、274分別進行評估程序與次要群組修正程序，通常是評估程序在先，而次要群組修正程序殿後。在如第3圖所示的接觸洞或介層洞這種最簡單的圖形中，每一邊即是單一成員，此時第一群組261與第二群組262的評估程序與群組修正程序可以任意擇一先進行，較佳是進行優先權篩選程序篩選出敏感群組，而先進行評估程序與群組修正程序，再進行冷感群組的評估程序與群組修正程序。

在評估程序中，將對各別成員272、274評估出每個成員的「調整方向(adjusted direction)」以及「修正權數(correction weight)」。操作實例可以參考第5圖之相關說明。

另一方面，當每個成員的「調整方向」都決定好了以後，可以進入下一階段來評估每個成員的「修正權數」。在本發明中，可以參考第5圖之相關說明，「修正量」可為加入折扣的「修正權數」，稱為修正權數之折減(damping)。例如，此等折減(damping)可以介於「修正權數」值的0到1之間，較佳為「修正權數」的90%、70%、50%或30%，依照不同的修正圖形與不同的光學近接修正模型而定。

經過次要群組修正程序之後便產生了經修正之次要群組，第一佈局圖形的原始輪廓又繼經修正之優先群組後再次改變。次要群組修正程序通常僅修正次要群組之所有成員，較佳者為不涉及優先群組之任何成員的修正，以避免干擾到屬性不同的群組成員。

如果執行過步驟120/130，在優先群組與次要群組中之所有成員都進行過評估程序與修正程序而得到經修正之優先群組與經修正之次要群組後，會再次確認第一佈局圖形中的優先群組與次要群組是否達成目標，也就是要進行步驟160：反覆確認經修正之優先群組與經修正之次要群組直到達成目標。若經修正之第一佈局圖形中的優先群組與次要群組恰好皆達成目標，就可以直接輸出此經修正之第一佈局圖形，因為此經修正之第一佈局圖形中的優先群組與次要群組中的所有成員都符合預定之期望結果。

如果不執行步驟120/130，而第一群組與第二群組中之所有成員都進行過評估程序與修正程序而得到經修正之第一群組與經修正之第二群組後，會再次確認第一佈局圖形中的第一群組與第二群組是否達成目標，也就是要進行步驟160：反覆確認經修正之第一群組與經修正之第二群組直到達成目標。若經修正之第一佈局圖形中的第一群組與第二群組恰好皆達成目標，就可以直接輸出此經修正之第一佈局圖形，因為此經修正之第一佈局圖形中的第一群組與第二群組中的所有成員都符合預定之期望結果。

然而，在大多數的狀況下，第一佈局圖形中的第一群組與第二群組雖然經過了一次的評估程序與修正程序而得到經修正之第一群組與經修正之第二群組後，仍然不都能達成目標，於是，步驟160可以進一步包含以下的子步驟。第6A圖例示本發明選擇性修正佈局圖形的流程圖，說明源自步驟160的子步驟。例如，可以進行：步驟161：分別對經修正之第一群組中之所有成員再次進行評估程序，而得到第一群組評估資料；步驟162：基於第一群組評估資料對經修正之第一群組再次進行第一群組修正程序而得到經修正之第一群組；步驟163：確認修正之第一群組之所有成員是否達成目標；步驟164：分別對經修正之第二群組中之所有成員再次進行評估程序，而得到第二群組評估資料；步驟165：基於第二群組評估資料對經修正之第二群組再次進行第二群組修正程序而得到經修正之第二群組；以及步驟166：確認經修正之第二群組之所有成員是否達成目標。

亦即，在子步驟161/164中分別準備重新對經修正之第一群組中之所有成員以及對經修正之第二群組中之所有成員進行評估程序，較佳為對經修正之第一群組中之所有成員以及對經修正之第二群組中之所有成員獨立地進行評估程序而得到對應的評估資料。然後，在子步驟162/165中，基於此等評估資料再分別輪流進行第一群組修正程序與第二群組修正程序，較佳為獨立地進行第一群組修正程序與第二群組修正程序，直到子步驟163/166經修正之第一群組以及經修正之第二群組之所有成員皆達成目標。

如果獨立地進行第一群組以及第二群組的各項工作，步驟160可以視為進一步包含以下如第6B圖所示之的子步驟：步驟161’：對經修正之第一群組中之所有成員分別進行評估程序與第一群組修正程序，而再次得到經修正之第一群組。步驟162’：對經修正之第二群組中之所有成員分別進行評估程序與第二群組修正程序，而再次得到經修正之第二群組。

換句話說，步驟160通常會重複不只一次，直到經修正之第一群組與經修正之第二群組全部都達成目標為止。例如，以第4圖所例示佈局圖形之形狀曝光強度為例，經過步驟160的多次修正後，形狀312與313之間的第一對比強度變為0.42917，而形狀313與314之間的第二對比強度變為0.42911。此時，第一對比強度與第二對比強度之差值為6*10^－5 ，小於預定的範圍，例如1*10^－4 。明顯的，第一對比強度與第二對比強度即可視為達成目標。

視情況需要，可以重複子步驟(161’)與子步驟(162’)多次，直至第一群組與第二群組恰好皆達成目標。於是可能要執行多次第一群組與第二群組之評估程序與修正程序，才終於得到第一佈局圖形中的第一群組與第二群組恰好皆達成目標，稱為適用之第二修正圖形。於是，原始的第一佈局圖形在此時成為適用的第二佈局圖形，就可以進行步驟170：輸出包含達成目標之經修正之第一群組與經修正之第二群組之第二佈局圖形。於是得到所要之適用的佈局圖形。

以上所述僅為本發明之較佳實施例，凡依本發明申請專利範圍所做之均等變化與修飾，皆應屬本發明之涵蓋範圍。

200‧‧‧佈局圖形

210、211‧‧‧模版

220、221、222、223、224、225、226‧‧‧形狀

231、232、233、234‧‧‧邊

241、242、243、244‧‧‧段落

261‧‧‧第一群組

262‧‧‧第二群組

301‧‧‧佈局圖形

311、312、313、314‧‧‧形狀

第1圖例示本發明選擇性修正佈局圖形方法之主要流程之流程圖。

第2圖例示一任意的佈局圖形中包含有多個群組與其成員。

第3圖例示一圓形圖案之臨界尺寸誤差。

第4圖例示一佈局圖形之多個形狀曝光強度圖。

第5圖例示形狀中某一成員的調整方向。

第6A/6B圖例示本發明選擇性修正佈局圖形的方法，說明源自步驟160的子步驟。

Claims

一種選擇性修正一佈局圖形(layout pattern)之方法，包括至少下列步驟：提供一第一佈局圖形，其包含至少一第一群組(group)與一第二群組，其中該第一群組與該第二群組分別包含複數個成員(members)；分別對該第一群組中之所有成員進行一評估(simulation)程序與一第一群組修正程序而得到一經修正之該第一群組，其中該評估程序係評估該第一群組中之各別成員的一修正方向與一修正權數，且該第一群組修正程序係決定該修正權數之折減(damping)；分別對該第二群組中之所有成員進行一評估程序與一第二群組修正程序而得到一經修正之該第二群組；確認經修正之該第一群組與經修正之該第二群組直到達成目標；以及輸出包含達成目標之經修正之該第一群組與經修正之該第二群組之一第二佈局圖形。
如請求項1之方法，其中該第一群組與該第二群組分別為至少一幾何圖形之一第一邊(edge)與一第二邊。
如請求項2之方法，其中該第一邊與該第二邊垂直。
如請求項2之方法，其中該第一邊與該第二邊呈135°角。
如請求項1之方法，其中該第一群組與該第二群組分別具有一第一對比強度與一第二對比強度。
如請求項1之方法，其中該第一佈局圖形包含至少一形狀。
如請求項1之方法，其中該第一佈局圖形選自一接觸洞圖形與一介層洞圖形所組成之群組。
如請求項1之方法，另包含：確認該第一群組與該第二群組是否達成目標(on target)。
如請求項8之方法，其中確認該第一群組與該第二群組是否達成目標之步驟係使用一參數來進行比對。
如請求項9之方法，其中該參數包含一曝光強度。
如請求項1之方法，其中該第二群組修正程序係決定該修正權數之折減。
如請求項1之方法，其中該第一群組修正程序係修正該第一群組之所有該成員。
如請求項1之方法，其中該第一群組修正程序係不修正該第二群組之任何該成員。
如請求項1之方法，其中該第二群組修正程序係修正該第二群組之所有該成員。
如請求項1之方法，其中該第二群組修正程序係不修正該第一群組之任何該成員。
如請求項1之方法，其中確認經修正之該第一群組與經修正之該第二群組直到達成目標之步驟另包含：分別對經修正之該第一群組中之所有成員進行該評估(simulation)程序而得到一第一群組評估資料；基於該第一群組評估資料對經修正之該第一群組進行該第一群組修正程序而得到經修正之該第一群組，直到經修正之該第一群組之所有成員達成目標；分別對經修正之該第二群組中之所有成員進行該評估(simulation)程序而得到一第二群組評估資料；以及基於該第二群組評估資料對經修正之該第二群組進行該第二群組修正程序而得到經修正之該第二群組，直到經修正之該第二群組之所有成員達成目標。
如請求項1之方法，進一步包含：對一初步佈局圖形進行一光學近接修正(optical proximity correction,OPC)而得到該第一佈局圖形。
如請求項1之方法，進一步包含：對該第一群組與該第二群組進行一優先權篩選(priority selection)程序而得到一優先群組(prior group)與一次要群組(inferior group)。
如請求項18之方法，其中該優先權篩選程序之步驟係基於一修正操作之敏感性來進行。
如請求項18之方法，其中該優先群組為一修正敏感(sensitive)群組，而該次要群組為一修正冷感(indifferent)群組。