TWI331347B - - Google Patents
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⑴ 1347 九、發明說明: 【發明所屬之技術領域】 、本發明係一種多元晶片型積層電容器之製造方 去尤扣種製程簡單、成本低、產品良率高之 電容器製造方法者。 、曰 【先前技術】 按由於半導體技術的演進,使得半導體構裝以 產。σ在市%需求提高下,不斷發展出更精密、更 的電子元件。以目前的半導體技術而言,比如 裝的技術、積層純的設計及被動元件的設計等’曰均 在半導體產業中,佔有不可或缺的地找 2陣列封裝結構為例,晶片係配置㈣= ί =晶片與封裝基板電性連接,而封褒基板係為 “圖:化電路層’以及多層絕緣層積集而成,其中 圖案化电㈣可經由微影㈣的方式 而 ’而絕緣層配罟协知撕_ 心我而成 為了尸至…“ 化電路層之間。此外, 為了侍到更佳的電氣特性,封裝基板之 有電容、電感以及電阻等被動元件 ::: 板之内部線路’而電性連接於晶w其二=: 在被動元件之設計上, η,,, , 上,再傳至被動二之熱能會傳至封裝基板 攸切凡件上。為了使被釦 ㈣7°件即使在高溫 5 1331347 因此必須設計具 而微小型積層電 主要係由多層介 介電層係由高介 的環境下’也不會影響其電氣特性 有耐高溫以及ifj穩定性的被動元件 谷·器即是其中一例。 一般習知之微小型積層電容器 電層與多層金屬層堆疊而成,盆 /丨电增你田鬲介 :…材質,如:鋇鈦酸鹽所組成,而金屬層係由 7銀、健合金之導電材質所組成,以層金屬層 ;成夕個@陰極父替之内電極"价rna electrode),而内電極與介電層係構成一電容纟士構, 其兩側還配置有-對終端電極,分別電性連接陽、陰 極之内電極,形㈣極及陰極,㈣等陽極及陰極: 面可形成-表面金屬層,如:鎳,以防止氧化。 習見之微小型積層電容器雖可因由乡層介電廣 與多層金屬層堆疊構成,而體積可微小型化,辦加運 用範圍。但是,其製程複雜’成本高,短路率;多, 製造過程及組裝困難。再者,美國第US6249424號 專利亦揭露有單片電容器7,請參閱第ι圖所υ 不’係顯示該專利之圖示,該電容器係由陽極i靜 極6中間隔離一隔離層3所構成,其中陽才虽q 有介電氧化膜(Al2〇3)2,導電性碳夥層5及銀膠層 6所構成之陰極2與陽極!之間則有導電高分子層 4,而隔·離層3隔絕陰極2與陽極!構成链晶片電i m而’電容器欲增加其電容值係以並聯連接方 1331347 式使數個電容器堆疊並& 加,得到數個電容值相加後之電容值相 圖所示),並將玱〜, 的電容值(如第2 卫將堆瑩後之鋁晶片 23,且從陽極j盥 态7進行封裝 μ ^ 興陰極鳊分別引出導腳21,來&士 整之電容器,但a 形成兀 —疋堆&電谷器需以治且1 7械颅奴 晶片電容器7 (如第3 1 八17擠屋鋁 以产且17 ^ 所710 m複雜(增加 口 /、17 £者及上銀膠1()等程序 率报客,日;成本向,短路 丰4夕且谷易於封裝時產生埶 又如美國帛US642122…利、成電容損壞’ 0421227號專利亦揭示電容不同之堆 登方式,請參閱第4 4b、4 剎夕闰_々 4b 4c圓所不,其顯示該專 田不之夕種不同堆疊方式’然而,不論何種堆疊 方式,亦如上述美國第US6249424號專利,益 服電容器容易損壞、製程複雜、成本高、短路;很多 之缺=。因此,如何能開發設計出一種多元晶片型積 層電容器’將是相關業界亟待努力之課題。 【發明内容】 發明人有鑑於前述先前技術之缺點,乃依其從事 各種電容器之製造經驗和技術累積,針對上述缺失乘 心研究各種解決的方法,在經過不斷的研究、實驗與 改良後’終於開發設計出本發明之一種全新多元晶片 型積層電容器之製造方法的發明,以期能摒除先前技 術所產生之缺失。 因此本發明即旨在提供一種多元晶片型積層電 7 U31347 容器之製造方法,依本發明之此種電容器 釦中’能簡化製程,大幅降低成本,組裝容易:提高 產品良率’以改善習見之電容器的缺失,此為本發明 之主要目的。 又 、為便責審查委員能對本發明之目的、形狀、構 4裝置特徵及其功效,做更進一# 疋 /之5忍硪與瞭解,茲 举貫施例配合圖式,詳細說明如下: 【實施方式】 、、本發明之此種「多元晶片型積層電容器之製造方 法j ’乃如第5至11圖所示,必需先予陳明者,為了說 明t的清楚起見,第5至11圖均係實物放大了數十倍 之多。本發明之電容器i係依以下步驟製成: > (A)首先,將不同的金屬薄片基板u、12沖壓 f複數個分離並以延伸部13止於基板而形成相連之 陽極片 111、112、113…及陰極片 121、122、123..., 如此,陽極片111、112、113與金屬薄片基板1;1間乃 j 一延伸部13連接,陰極片121、122、123與金屬 4片基板12間亦以一陰極片之延伸片工3連接並於— 夕細孔性之隔離薄板14上沖壓出陰、陽極片11 i、1工2 ' 1…、121 ' 122、123…對應而較陰、陽極片小之 開孔141,作為陰、陽極片111、112、113...、121、 122、123...之間的隔離層142 (如第5圖所示); (B )接著’若有必要,依檢驗的結果,對陽極 1331347 片111、112、113…與陰極片121、122、123...進行整 修(修除毛邊)(如第6圖所示);再將陽極片n丨、U2 、113...、陰極片121 ' 122、123…及隔離層142依照 順序相互堆疊及壓合,而形成陽、陰極片〗丨ii 12 、113···、121、122、123...之間夾置著隔離層142的 積層結構15 (如第7圖所示); (C) 之後’若有必要’可視隔離層ι42材料之 性質,施以碳化之製程(如第8圖所示);再將該積層 、’、。構15反/貝於電解質溶液槽16中,以吸收電解質(如 第9圖所示); (D) 如果所浸潰的為高分子電解質溶液,則在 高溫下,予以熱聚合,使陽極片lu、112、113與 陰極片121、122、123...之間之隔離層142所吸附的電 解質溶液,成為導電性高分子聚合物固態電解質層( 如第10圖所示); θ (Ε)最後,將此積層結構15進行裁切,使形成 陽極片 1U、112、113...、陰極片 121、122、123 與 隔離層142所組成之積層電容器結構17,並於裁切時 保留一與陽極片m、112、113相連接之陽極導片13 ,以及一與陰極片121、122、123…相連接之陰極導 片13,作為外部電氣連接使用之外部電極,嗣再於該 積層電容器結構17上封裝一作為保護外層之覆蓋層 171 ’即獲得單元晶片型積層電容^ (如第山圖與 9 Ϊ331347 第lib圖所示)。 復請參閱第lib與11c圖所示,上述積層電容器i 引出之陽極導片13、陰極導片13可視實際使用之需求 ’將該等陽極導片13、陰極導片13彎折至與覆蓋層m 表面貼合,以便於表面黏著(SMT )方式之連結。 上述隔離層142亦可用塗佈可溶性之導電性高分 子溶液等方式’使其吸附導電性高分子單量體等固態 電解質。而本發明之積層電容器,其陽極片lu、112 、113·..與陰極片121、122、123…之間的隔離層 ,較佳的係為具有碳素纖維(簡稱碳纖)之不織布或 紙所構成者。 請參閱第12圖所示,本發明積層電容器之積層結 構亦可將複數片陽極片1U、112、113 、複數片^ 極片121、122、123…及複數片隔離層142依照覆蓋層 (cover) 162、碳纖帶(carb〇n fiber tape ) 152、隔 離層1/2、陰極片、隔離層、陽極片、隔離層、陰極 片隔離層......陰極片、隔離層、纖維帶、覆蓋層之 順序相互堆疊及壓合,並引出與陽極片1 “112、 3...相連接之陽極導片13,以及一與陰極片Η卜122 、、:123…相連接之陰極導片13 ,作為外部電極,即形 成多元晶片型積層電容器1。 。。此處,需陳明的是,構成一個晶片型積層電容器 之早兀者,為陽極片、隔離層、以及陰極片,其中, :極片較佳的為鋁箱; 布纖維、碳化紙、碳纖與合成纖::可以為紙、不織 維等;陰極片之材料則可、被1纖與紙質纖 亦即’金屬基片及一層或多 /::金屬溶( 材質可與被覆層相同或不同,被復广屬基片之 潰、電鍍或其他被覆方法形成喷減、浸 導電性聚合物固態電解質之單體T為液態電解質,或 土::明中,請參閱第 13a、13b、13c、13d_ 面:發月之積層電容m可視使用之需 ,引出三個電極導片(二個陽極導片13a、一個陰極 yub或^固陽極導片13a、二個陰極導片i3b)(如 13a圖所示),或於其四側面分別引出四個電極導片 (二個陽極導片13a、二個陰極導片13b)(如第13b 3所示)’或於其二相鄰之側面分別引出陽極導片工3 a 、陰極導片13b (如第i3c圖所示);或於任一側面引 出陽極導片13a、陰極導片13b (如第13d圖所示)。 凊參閱第14圖所示,本發明之另一實施例中,陽 極片 111、112、113...、陰極片 m、122、123··.及隔 離層142之相互堆疊及壓合方式,可以前後堆疊、壓 合方式進行’使作為陰極之導片13b及作為陽極之導 片13a分別位於積層結構15之前、後端,再將該積層 結構15浸潰於電解質溶液槽16中,以吸收電解質;然 後’在高溫下,予以熱聚合,使陽極片m um '、陰極片12卜122、123...之間之隔離層142所吸附的 電解貝,谷液,成為導電性高分子聚合物固態電解質層 ’·最後’將此積層結構15進行裁切,使形成陽極片iu 112 113...、陰極片121、122、123…與隔離層Η] 所.、且成之積層電容器結構! 7,並於裁切時保留一與陽 極片in、112、113.·.相連接之陽極導片13,以及一 :、陰極片121、122、123...相連接之陰極導片13,作 ^部電氣連接使用(外部電極),嗣再於該積層電 2器結構17上封裝一作為保護外層之絕緣塑膠層(覆 蓋層)162,並將作為電極之陰極導片13、陽極導片 13、考曲貼合於絕緣塑膠層(覆蓋層)162表面上,即 形成多元晶片型積層電容器1。
綜合上所述,本發明之多元晶片型積層電容器之 製造方法,確實具有前所未有之功能與結構,其既未 ^於任何刊物,且市面上亦未見有任何類似的產品, 是以,其具有新穎性應無疑慮。另外,本發明所具有 之獨特特徵以及功能遠非習用所可比擬,所以其確實 比習用更具有其進步性,而符合我國專利法有關發明 專利之申請要件之規定,.乃依法提起專利申請。X 以上所述,僅為本發明最佳具體實施例,惟本發 明之構造特徵並不侷限於此,任何熟悉該項技藝者在. 本發明領域内,可輕易思及之變化或修飾,皆^涵蓋 12 1331347 在以下本案之專利範圍。 13 1331347 【圖式簡單說明】 第1至4圖為習用電容器之剖面示意圖。 第5至11圖為本發明電容器之製造過程示意 圖。 第12至14圖為本發明電容器其他實施例之示 意圖。 【主要元件符號說明】 II、 12 :金屬薄片 III、 112、113···:陽極片 121、122、123···:陰極片 13 :陽極片延伸部 13 :陰極片延伸部 14 :隔離薄板 141 :開孔 142 :隔離層 15 :積層結構 16 :電解質溶液槽 17 :積層電容器結構 152 :纖維帶 162 :覆蓋層 14
Claims (1)
1331347 十、申請專利範園: b 片型積層電容器之製造方法,係將不 Γ的金屬❹基板切割出複數個分離並以延伸 f止於—基板而相連之陽極片及陰極片,並於-夕細孔性之隔離薄板上切割出與陰、陽極片對應 之開孔,作為陰、陽極片之間的隔離層,·接著, 2至少:陰極層、陽極片及隔離層相互堆疊及壓 少成至少層陰、陽極層及隔離層的積層 2冓;之後再將該積層結構浸潰於電解質之溶液 中,以吸收電解督·,B /4、 电解貝且/或予以熱聚合,使陽極 片與陰極片之間之隔離層,形成導電性高分子聚 u H層;最後將此積層結構進行裁切,並 引出陽極導片、陰極導片,而完成多元晶片型之 積層電容器結構者。 2 、一種多兀晶片型積層電容器之製造方法,係將不 同之金屬薄片切割出複數個分離並以延伸部止 於一基板而相連之陽極片及陰極片,並於一多細 孔性之隔離薄板上切割出與陰、陽極片對應之開 孔,作為陰、陽極片之間的隔離層,再作修正歼 修毛邊)’接者’將至少一陰極片、陽極片及隔 離層相互堆疊及壓合,而形成至少一層陰、陽極 片及^層的積層結構;接著,將該積層結構碳 化,之後再將該積層結構浸潰於電解質之容 ’以吸收電解質’且/或予以熱聚合,使陽極層 1331347 與陰極層之間之隔離層,形成導電性古八 物電解質層,·最後將此積層結 :刀子聚合 出陽極導片、陰極導片及封裝,而完:曰刀’並引 積層電容器結構者。 日曰片型之 、如申請專利範圍第! 一或2項所 積層電容器之製造方法,其中,。日曰片型 層為覆蓋層,覆苗声 、备盗本體的外 4 復π層之内為纖維帶者。 ‘如申請專利範圍第i或2項所 積層電容器之製造方法, 兀日日片型 銘泪,隔離層較佳的可以為紙 圭的為 化紙、碳纖與合成# ^ μ布識.准、碳 产抗μ 成、哉維布、碳纖與紙質纖%耸. :極二之材料則可為金屬靖、被覆的 即,金屬基片及一層或多層被覆声白(亦 之材質可與被覆層相同或不同;;3基片 濺、浸潰、電鍍或古 用喷 ),至於電解質 ' 覆方法形成於基片之上 液離電Μ # 、糸滲透通過隔離層者,其可為 ,、電心,或導電性聚合物固態電解質之單^ 如申請專利範園筮,上。 積層電容器之製、生"項所述之多7L晶片型 結構可為單心t方法’ *中積層電容器之積層 如申請專利^圍:數1層二積g層結構者。 積層電容器之,』、 或項所述之多元晶片型 、造方法,其中可於完成之積層電 6 專利範圍第6項所述之曰 之製造方法,其中該積層電積? 極導片、陰極導片可視會隊社罨谷态引出之% 除極導片、陰極導片彎折至 “將该專 合者。 與、,、巴緣塑膠層表面貼 :申請專利範圍第6項所述 電容器之皮古、1 ^ 夕凡日日片型積層 之需求於复—μ 、g罨令态可視使用 κ於其二側面引出三個 導片、—個^ 包極導片(二個陽極 導片);戋;^1 , %極導片、二個陰極 二個陽極導H 出四個電極導片( 之側面引出陽m 等片),或於其二相鄰 Ή出除極導片、陰極導片.$ 引出陽極邋Η ^ 守巧,或於任一側面 U等片、陰極導片者。 1331347 七、指定代表圖: (一) 本案指定代表圖為:第(5 )圖。 (二) 本代表圖之元件符號簡單說明: 八、本案若有化學式時,請揭示最能顯示發明特徵的化學式: 11 ' 12 :金屬薄片 111 、112、113..·: 陽極片 121 、122、123·.·: 陰極片 13 : 陽極片延伸部 13 : 陰極片延伸部 14 : 隔離薄板 141 :開孔 142 :隔離層 152 :纖維帶 162 :覆蓋層
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW95139380A TW200820282A (en) | 2006-10-25 | 2006-10-25 | Multiple chip type laminate capacitor and manufacturing method thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
TW95139380A TW200820282A (en) | 2006-10-25 | 2006-10-25 | Multiple chip type laminate capacitor and manufacturing method thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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TW200820282A TW200820282A (en) | 2008-05-01 |
TWI331347B true TWI331347B (zh) | 2010-10-01 |
Family
ID=44770116
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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TW95139380A TW200820282A (en) | 2006-10-25 | 2006-10-25 | Multiple chip type laminate capacitor and manufacturing method thereof |
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TW (1) | TW200820282A (zh) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI406377B (zh) * | 2010-12-27 | 2013-08-21 | Powertech Technology Inc | 方向指示標記立體化之球格陣列封裝構造及其製造方法 |
-
2006
- 2006-10-25 TW TW95139380A patent/TW200820282A/zh not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI406377B (zh) * | 2010-12-27 | 2013-08-21 | Powertech Technology Inc | 方向指示標記立體化之球格陣列封裝構造及其製造方法 |
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TW200820282A (en) | 2008-05-01 |
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