1302327 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明涉及一種電子發射器件，尤其係一種涉及真空電子發射領域之 電子發射器件。 【先前技術】 奈米碳管應用於場發射電子元件已經得到廣泛研究，可參見N. De jonge 等人於文獻《Phil. Trans· R· Soc· Lond· A》，Vol· 362, 2004，2239-2266, “Carbon Nanotube Electron Source and Applications” 一文。先前技 術中，為將電子從奈米碳管中拉出，一般情況下需要施加一幾百至幾千伏 | 之較大電壓，調節電壓可調節奈米碳管出射電流之大小。 然而，（1)由於所需施加之電壓較高，實際應用中不宜再作調節。（2) 由於奈米碳管表面吸附之影響，奈米碳管之場發射電流穩定性會變差，為 獲取相對較穩定之場發射電流，需要保持一個極高之真空環境，通常為 1〇_9〜10_1°毫巴(mbar)，lmbar=100帕斯卡(Pa);然而，較高真空度之維持會 大幅度增加整個場發射電子器件之成本。上述存在之兩個問題將會限制奈 米碳管於場發射電子器件中之應用。 有鐘於此，有必要提供一種電子發射器件，其可具有發射電流易調節 及穩定性較佳等特點。 【發明内容】 > 下面將以實施例說明一種電子發射器件，其具有發射電流易調節及穩 定性較佳等特點。 一種電子發射器件，其包括： 一電子發射體，其包括一維奈米結構； 一陽極，其相對於該電子發射體設置； 一第一電源，用於向該電子發射體施加一加熱電壓；及 一第二電源，用於在該電子發射體與陽極之間施加一電壓以於該電子 發射體與陽極之間形成一電場。 相較於先前技術，所述電子發射器件，其藉由設置一第一電源向電子 發射體施加一加熱電壓，可産生一加熱電流對該電子發射體加熱以產生一 6 1302327 * 騎糕；此加熱電壓—方面可去除電子發射體表面之吸附物質，可使發 射電流之穩定性較佳；另一方面，該加熱電壓較低，發射電流大小可藉由 調節該加熱電壓方便調節。 9 【實施方式】 下面結合_將縣㈣實細作進_步的詳細說明。 第一實施例 參見第-圖至Μ四圖，本發明第一實施例所提供之電子發射器件1〇〇, 其包括、··電子發射體102 ; -第一電源1〇4 ;及一第二電源1〇6 ; 一陽極1〇8。 、所述電子發射體102，用於產生一發射電流。本實施例中，電子發射體 鲁102為-絲碳管絲，也即奈米碳管之複合體，其包含有複數奈米碳管(一 維奈米結構）；該奈米碳管絲之直徑以不小於丨微米為佳。第二圖為該 - #^TEM(Transmission Electron Microscope, ，奈米碳管絲之直徑約為20微米(um)，長約為2釐* (cm)。該種奈米 石厌&絲之製作方法，可參見姜開利等人於文獻《貽扣代》ν〇1·4ΐ9， ΡΡ· 801(2002)，“Spinning Continuous Carbon Nanotube Yarns” 一文·· ，平α石夕基底上生長一奈米碳管束Nanotubes Bundle)陣列；然 $ ’從上述奈米碳管束陣列中選定一包括複數奈米碳管束之奈米碳管束片 段，採用一拉伸工具(如鑷子)拉伸該奈米碳管束片段，使奈米碳管絲沿拉 伸方向形成，該奈米碳管絲之直徑可由選取之奈米碳管束之數量確定。然 =、’將上述沿拉伸方向形成之奈米碳管絲用酒精或其他液體如水、丙酮等 浸泡以增強其機械強度，進而獲得本實施例中之電子發射體1〇2。 所述第一電源104與電子發射體102串聯，用於向電子發射體1〇2施加一 加熱電壓，進而產生-加熱電流，以使電子發射體1〇2達到一預定溫度，進 而産生一穩定之發射電流。其中，該電子發射體1〇2稱為熱場發射體。 此參見第三圖，其為電子發射體102於本實施例之熱場發射條件下與其在 先前技術場發射條件下之發射特性對比圖。橫坐標為電壓值，縱坐標為電 T發射體102相應産生之發射電流，粗線條為電子發射體1〇2於先前技術之 場發射條件下之電壓-電流曲線，細線條為電子發射體102於本實施例熱場 發射條件下之電壓-電流曲線。由第三圖可知，對於在先前技術之場發射條 7 13〇2327 件下之情況，待場發射電壓在500V時才開始有微小發射電流産生；要獲取 所需之較大發射電流，其需要更高之場發射電壓。而於本實施例之熱場發 射條件下，當加熱電壓僅為15〜100伏特(V)左右時，其可將電子發射體1〇2 加熱至1500〜2000開爾文(K)左右（第三圖中兩條虛線於細線條之交叉點1表 示電子發射體102之溫度為2000K) ’進而可使得電子發射體1〇2産生之發射 電流範圍為1x102〜500微安培(μΑ)。該電子發射體1〇2的發射電流之大小與 其溫度成一定之指數關係。本實施例中，由於使電子發射體1〇2産生熱電子 發射之加熱電壓較低，因此可以方便地藉由調節施加給電子發射體1〇2之加 熱電壓（或電流)來調節其溫度，進而可控制其發射電流之大小。另，可以 I 理解的是，適當減小電子發射體102之長度，可降低加熱電壓之大小。 參見第四圖’其為電子發射體102於加熱及室溫條件下發射電流穩定性 對比圖，縱坐標為時間轴，橫坐標為電子發射體1〇2之發射電流大小，其中， 電子發射體102之加熱電壓為20V ; 10000〜15000秒區間為加熱段， 15000〜20000秒區間為室溫段。由第四圖可知，電子發射體1〇2於加熱電壓 加熱條件下，其發射電流之波動幅度為6%，該值係藉由取用12000〜15000秒 區間對應之發射電流值而計算得到的；電子發射體1〇2於室溫條件下，其發 射電流之波動幅度為11%，該值係藉由取用17000〜19000秒區間對應之發射 電流值而計算得到的。由上述兩個數據可以得知，電子發射體1〇2於加熱條 件下其發射電流穩定性較佳；並且，可以理解的是，適當增大電子發射體 102之加熱電流，其發射電流穩定性會更佳。 該陽極108與該電子發射體1〇2相對設置。實際應用中，可於陽極ι〇8之 相對於電子發射體102之一側塗敷一螢光粉層，電子發射體1〇2發射出熱電 子轟擊該螢光粉層可發出可見光。 該第二電源106，用以在該電子發射體1〇2與陽極1〇8之間施加一電壓以 於該電子發射體102與陽極1〇8之間形成一電場，用於對電子進行加速以轟 擊陽極108。當陽極1〇8與電子發射體1〇2之間距約為1毫米(mm)，所需之第 二電源106之輸出電壓約為6〇〇V。當然，當陽極106與電子發射體102之間距 適當增大時，所需之第二電源106之輸出電壓也需相應的增大以獲取一合適 之加速電場。 8 1302327 第二實施例 參見第五® ’本發明第二實酬巾之電子發射耕2_第_實施例中 之電子發射器件100基本相同，其包括一電子發射體2〇2 ; 一 發射體202 ; —相對於玆雷孚
駿。及以上之材賢，如鈦金屬絲（溶點為聰。C)、鉬金屬絲（溶點為 2600C)、钽金屬絲(熔點為2996。〇、鎢金屬絲(熔點為338『c)等。一維奈 米結構^24之形狀可為管狀、杆狀、針狀、錐狀或其混合，其材質可選= # 奈米碳官，或鎢、鉬、鈦、鈕及其氧化物等高熔點材料。該一維奈米結構 2024可藉由真空鍵膜等方法枯附於該高溶點金屬絲2Q22表面。 第三實施例 參見第六圖，本發明第三實施例提供之電子發射器件3〇〇，其包括一電 子發射體302 ’ 一陽極308 ; —第一電源304，及一第二電源3〇6。 該電子發射趙302為一旁熱式電子發射體，其包括一熱子3026，一管狀 套筒3022，及塗敷於該管狀套筒3022外壁之一維奈米結構3〇24。該熱子3〇26 位於該管狀套筒3022内，用於對該管狀套筒3022進行加熱，進而間接地對 一維奈米結構3024加熱至電子發射所需溫度。該熱子3〇26可選用鎢燈絲、 鈦燈絲及鉬燈絲等常用之加熱絲。對於該管狀套筒洲22之材質，耐高溫 • (1600 C)且導熱之材料均可，如鈦、钥、钽、鎢及其氧化物。該一維奈米 結構2024之形狀可為管狀、杆狀、針狀、錐狀或其混合，其材質可選用奈 米碳管，或鎢、鉬、鈦、鈕及其氧化物、陶瓷等高熔點材料。該一維奈米 材料2024可藉由真空鍍膜等方法塗敷於該管狀套筒3〇22之外壁，且與該管 狀套筒形成電連接。 該第一電源304與熱子3026形成電連接，用於向熱子3026提供加熱電 該第二電源306與管狀套筒3022及陽極308形成電連接，用以在管狀套 筒3022與陽極308之間形成電場以加速一維奈米結構3〇24發射之電子。 該陽極308，其與一維奈米結構3024相對設置。實際應用中，可於陽極 1302327 308之相對於一維奈米結構3024之一側塗敷一螢光粉層，一維奈米結構3024 發射出熱電子轟擊該螢光粉層可發出可見光。 本發明第一、第二及第三實施例中，其藉由設置一第一電源向電子發 射體施加一加熱電壓，可産生一加熱電流對該電子發射體加熱以産生一發 射電流；此加熱電壓一方面可去除電子發射體表面之吸附物質，即使在一 相對較低真空條件下也可獲得穩定性較佳之發射電流；另一方面，該加熱 電壓較低，一般為15〜100V，因此發射電流大小可藉由調節該加熱電壓方便 調節。 另外，本領域技術人員還可在本發明精神内做其他變化，如適當變更
奈米碳管絲之直徑、長度及製作方法，一維奈米結構之材質及形狀，套筒、 熱子及金屬絲之材質等設計以用於本發明，只要其不偏離本發明之技術效 果均可。 綜上所述’本發明確已符合發明專利要件，爰依法提出專利申請。惟， 以上所述者僅為本伽之較佳實細，軌減本雜藝之人士，於援依 本案發明精神所作之等效修飾或變化，皆應包含於以下之巾請專利範圍内。 【圖式簡單說明】 。-®係本發明第-實酬以奈米鮮絲作為電子發㈣之電子發射 器件示意圖。 第:圖係本發明第—實施例奈米碳管絲電子發射賴M照片。 第三圖係本發明第-實施例奈米碳管絲電子發射體在熱場發射條件下 與其在先前技術場發射條件下之發射特性對比圖。 第四圖係本發明第一實施例奈米碳管絲 下發射電流穩定性對比圖。 電子發射體於加熱及室溫條件 附有一維奈米結構之金屬絲作為 第五圖係本發明第二實施例以表面粘 電子發射體之電子發射器件示意圖。 第六®係本發三實施讎財熱式電子發射體之電子發射器件示 忍圖。 【主要元件符號說明】 電子發射器件100, 200,300電子發射體1〇2, 2〇2,3〇2 1302327 第一電源 104, 204, 304 第二電源 106, 206, 306 陽極 108, 208, 308 金屬絲 2022 一維奈米結構 2024, 3024 套筒 3022 熱子 3026
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