1273281 九、發明說明： 【發明所屬之技術領域】 本發明係提供一菲淫爾透鏡結構，特別是本發明係 藉由運用四組側面為菲涅爾準平面透鏡結構之平面透鏡 交織形成方型之菲涅爾透鏡元件，該菲涅爾透鏡元件之 結構為緊密分佈排列，可應用於相關彩色濾光片製程及 圖文印表裝置之領域中。 【先前技術】 按，如美國專利公告第4,751,529號中提出以聲波 驅動喷墨之方法，利用換能器（transducer)產生超音波 後經由玻璃介質之超音波導波桿（buffer rod)傳遞，最 後在球面凹透鏡處折射而聚焦於墨水液面附近，進而產 生喷墨。另，美國專利公告第4,751,534號中提出將原 凹面透鏡處以另一個介質填平，使其保持折射聚焦之功 能，又同時可使墨水流道平順。1991年美國專利公告第 5,041,849號中提出以多階之菲涅爾準平面透鏡代替上 述之原凹面透鏡，使其具有聚焦功用外，又可簡化製程 技術。而美國專利公告第5,121,141號與美國專利公告 第5,111,220號中則增加調節墨水液面高度的平板，使 該墨水液面維持在聲波聚焦範圍内。另一種菲涅爾折射 法於1994年美國專利公告第5,339,101號中提出，藉由 環狀平面波使其相位差與聚焦路徑達成建設性干涉。 2000年之美國專利公告第6,045,208號中提出以兩層折 1273281 射聚焦的方式，第二層墨水層已更快聚焦於液面附近， 而條狀喷墨則以環狀菲淫爾透鏡之截面為剖面製作成長 條型聚焦透鏡，使其焦點連接成一條線，其喷墨型態為 條狀f墨滴。美國專利公告第6,154，236號與歐洲專利 公告第G，683,4Q5號中提出—雙層流道的喷墨頭，該嘴 墨碩之上層為墨水之供墨通道，超音波將聚焦於該上層 之上方喷孔處表面’該喷墨頭之下層流道作為散埶用， 藉由流體帶離換能器所產生的熱量，可以應用 光片塗佈製程。 … 综上所述，雖可由上述之專利中得知藉由聲波或超 音波以凹面鏡介質或菲涅爾透鏡（Fresne丨Unses)聚 焦’但是未發現應用上述之Elr〇d與Handimj〇g|u所提 出聲波聚焦驅動噴墨方法應用在彩色濾光片塗佈技術 中’雖歐洲專利公告第〇,683,4G5號僅提出菲埋爾透鏡 聚焦喷墨運用在彩色濾光片塗佈上，但該專利之内容仍 著重於以兩層折射聚焦的方式，即列印裝置（即美國專 利公告第6,045,208號）’因此，上述之習用技術中未能 以超音波聚焦方式產生緻密喷墨。故’一般習用者儀無 法符合使用者於實際使用時之所需。 【發明内容】 因此，本發明之主要目的係在於提供一可應用於超 音波聚焦產生喷墨之菲涅爾透鏡結構。 為達上述之目的，本發明係提供一菲涅爾透鏡結構 1273281 ，係由至少四組側面為複數階梯狀之平面透鏡交織形成 一為方型之透鏡元件，該平面透鏡之側面為菲涅爾準平 面透鏡結構，使其可達到同相折射與聚焦之目的，該菲 涅爾透鏡結構可進一步藉由光微影法蝕刻於一壓電換能 元件之基板上’再與-儲墨槽及—背襯材料接合固定成 -超音波喷墨元件’藉由結構緊密之菲㈣透鏡元件將 平面聲波折射成球面波方式達到同相折射與聚焦，且由 於結構緊密’可脑橫排墨相的節距提高喷墨精密度 ’當該壓電換能元件固定產生超音波功率時，可運用最 大有限面積來產生平面聲波，並發出高聲強以驅動喷墨 ’且所產生之高精密噴塗已符合彩线光片製程條件， 進而達成繼壓電噴墨塗佈與熱汽泡式喷墨塗佈技術 應用於大面積彩色濾、^塗佈製程及圖文印表裝置上。 【實施方式】 請參閱『第1 A〜1 C圖』所示，係本發明之菲哩 =透鏡結構之立縣構示意圖、本發明之菲 姓 =圖二…菲_鏡結構之側視圖； 所不.係由至少四組之平面透鏡11 1交織形成—為方 2透鏡兀件11’該平面透鏡111之側面為複數階 :’且:平面透鏡…之側面為菲淫爾準平面： 、=，可達到同相折射與聚焦之目的，且本發明之 爾透鏡結構可進—步_於1電換能元件上。 /里爾透鏡結構_於電換能元件上時， 1273281 器產生之平面超音波可藉該菲埋爾透鏡結構達到折射成 球面波後聚焦之效果（如第2圖所示），由於該平面透 11之複數階梯狀，使該透鏡元件之製作容易且大 量’非如球面透鏡加卫困難’並易㈣於該壓電換能器 之基板上。 ' " 、田該壓電換能器產生之面超音波時，可藉由球面凹 透鏡或標準菲㈣透鏡（Resne丨丨咖）達到折射成球面 波後聚焦的效果，另，可將該球面凹透鏡改變成圓弧柱 ，聚焦透鏡（如第3A圖所示）或進—步改良成斷面為 菲/圼爾型之長條狀准平面透鏡，則可以將該平面超音波 折射聚焦成為-條狀墨帶。該圓弧柱狀聚㈣鏡之長條 邊依適當弧線料（如第3B圖所示），即可將原來各 截面焦點所連成的线再聚成—點，再將f曲後之圓弧 柱狀聚焦透鏡之曲面部份擷取（如第3 c〜3d圖所 不），使其特徵在於長邊與寬邊皆為球狀凹透鏡截面形 狀，再經菲涅爾準平面透鏡模擬球面透鏡，即可成為本 考:月之菲涅爾透鏡結構（如第4 A〜4 B圖所示）。該 菲涅爾透鏡結構之表面形貌為其長邊與寬邊皆由相同曲 ，，焦距之菲淫爾準平面透鏡結構交織而成，當該長邊 因菲涅爾準平面透鏡結構而聚焦的同時，該寬邊也因為 ，同之ΓΜ圼爾準平面透鏡結構產生聚焦，4吏其產生長寬 同相（in-phase)聚焦，以達到同相折射與聚焦之目的， 且原視為正方形平面之超音波可利用本發明之菲_透 1273281 鏡結構而維持方型平面波逐漸結合其能量成一點於整個 透鏡之焦點上。 本發明之菲涅爾透鏡結構係可進一步蝕刻於一石英 玻璃或陶瓷之基板1 2 1或壓電換能元件i 2上做為導 波桿功能，形成一菲涅爾透鏡元件丄，請參閱『第5 A 圖』所示，係本發明之菲涅爾透鏡元件之製造方法示意 圖。如圖所示：取一可為石英玻璃或陶瓷之基板i 2工， 利用濺鍍方式將一金屬薄膜鍍丄2 2於該基板丄2丄之 一端面上作為上電極，再利用濺鍍方式沉積一材料為氧 化辞（Zn〇）或聚氟化亞乙烯（p〇|yv丨ny丨丨.dene dmu〇门·， PVDF)之壓電材料層1 2 3，並於該壓電材料層丄2 3 上濺鍍另一金屬薄膜層1 2 4作為下電極，藉此形成該 壓電換能元件1 2 ,藉由該壓電換能元件i 2之自然頻 率值驅動該壓電換能元件2產生超音波之射頻訊號 (RF)，再以一個方波周期訊號與該射頻訊號做調變以 產生爆裂訊號（Burst signal)，在每一個爆裂訊號作用 時間下將包含複數個射頻訊號已累積足夠超音波能量以 克服墨水液的表面張力而產生喷墨。當該壓電換能元件 1 2完成後，再藉由光微影法4將該透鏡元件丄i蝕刻 於-亥基板1 2 1之另-端面上，形成—菲淫爾透鏡元件 1。當該透鏡元件1 1蝕刻於該基板丄21時，需注意 其聲阻抗的匹配，若墨水聲阻抗為I、使用玻璃基板之 聲阻抗為‘、壓電換能元件之聲阻抗為《_，選用之透 !273281 =:料則注意其聲阻抗為，而在玻璃基 ^〆壓電換能70件製作時’亦需注意其阻抗匹配為 本發明之菲涅爾透鏡結構係可進一步蝕刻於一壓電 換能元件12上’形成一菲淫爾透鏡元件1，組合上儲 墨槽即成為超音波嘴墨頭主要結構，請㈣『第5B圖』 斤示係係本發明之超音波噴墨元件之製造方法示意 圖。如圖所示：取一材質不與墨水產生化學反應之基板 2 1，該基板2 ;[之厚度為超音波聚焦距離，將該基板 2 1利用光微影法4或雷射加工5製作一面積大於上述 之透鏡元件1 1之總面積的長條型孔洞，形成一儲墨槽 2，而該孔洞之面積必須非常大於該透鏡元件i i所排 列出的總面積，使該儲墨槽2之邊界與墨水接觸之附著 力不θ衫響超曰波焦點附近之墨水液面的表面張力。選 擇一背襯材料3，藉由該背襯材料3固定該菲涅爾透鏡 元件1，即將戎背襯材料3利用雷射加工製作一適當的 孔槽，再利用一可為環氧樹脂之接合劑將該壓電換能元 件1 2固定於該孔槽中，並利用該接合劑將該透鏡元件 1 1固定於該儲墨槽2之長條型孔洞中，形成一超音波 噴墨元件6。上述之背襯材料3材料之聲阻抗必須要小 於該壓電換能元件1 2之聲阻抗，以避免該壓電換能元 件1 2所產生另一側射出之超音波，而被該背襯材料3 反射回該儲墨槽2之墨水進而影響原聲波聚焦，然而該 1273281 月襯材料3之聲阻抗亦不可太小，以致能有效吸收在脈 衝訊號沒作用時瞬間㈣換能元件的餘振盪所產生之超 音波。 本發明之菲涅爾透鏡結構係將平面聲波折射成球面 波方式達到同相折射與聚焦，以提高超音波聲能進而產 生喷墨現象，由於藉由四組側面為菲涅爾準平面透鏡結 構之平面透鏡交織形成方型之菲涅爾透鏡元件，使該菲 涅爾透鐃元件之結構為緊密分佈排列，該菲涅爾透鏡元 件:進一步應用於超音波喷墨元件，可縮短橫排墨珠間 的節距以提高噴墨精密度，符合彩色㈣片製程條件， 進而達成繼壓電喷墨塗佈與熱汽泡式喷墨塗佈技術，或 應用於大面積彩色濾光片塗佈製程上。而由於因應上述 之彩色遽光片製程條件（如第6圖所示），紅色子像素 (R sub pixe丨）至下一個紅色子像素之間節距約微米 (//m)，本發明之菲涅爾透鏡元件可以符合彼此中心節 距為300微米，其單個透鏡面積為90奈平方米（nm2)而 產生更高聲能之超音波，因此，當該壓電換能元件固定 產生超音波功率時，可從有限面積中運用最大面積來產 平面聲波並發出向聲強以驅動喷墨，且所產生之高 精密噴塗已符合彩色濾光片製作要求，可應用於彩色濾 光片製程及圖文印表裝置之相關領域中。 综上所述，本發明之菲涅爾透鏡結構可有效改善習 用之種種缺點，使其提高超音波聲能而產生高精密與緻 1273281 密噴塗現象，進而使本發明之產生能更進步、更實用、 更符合使用者之所需，確已符合發明專利申請之要件， 差依法提出專利申請，尚請貴審查委員撥冗細審，並 盼早日准予專利以勵創作，實感德便。 惟以上所述者，僅為本發明之較佳實施例而已，當 不能以此限定本發明實施之範圍；故，凡依本發明申請 專利範圍及發明說明㈣容所作之簡單的等效變化與修 飾，皆旎仍屬本發明專利涵蓋之範圍内。
12 1273281 【圖式簡單說明】 第1 A圖，係本發明之菲涅爾透鏡結構之立體結構示意 圖。 第1 B圖，係本發明之菲涅爾透鏡結構之上視圖。 第1 C圖，係本發明之菲涅爾透鏡結構之側視圖。 第2圖，係本發明之菲涅爾透鏡結構之折射聚焦效果示 意圖。 _ 第3 A圖，係本發明之圓弧柱狀聚焦透鏡示意圖。 第3 B圖，係本發明之經彎曲後之圓弧柱狀聚焦透鏡示 意圖。 第3 C〜3 D圖，係本發明之經曲面擷取後之圓弧柱狀 聚焦透鏡示意圖。 第4 A〜4 B圖，係本發明之菲涅爾透鏡結構之立體外 觀示意圖。 第5 A圖，係本發明之菲涅爾透鏡元件之製造方法、示意 # 圖。 第5 B圖，係本發明之超音波喷墨元件之製造方法示意 圖。 第6圖，係本發明之紅色子像素間節距示意圖。 【主要元件符號說明】 菲涅爾透鏡元件1 透鏡元件1 1 平面透鏡1 1 1 13 1273281 壓電換能元件1 2 基板1 2 1、2 1 金屬薄膜122、 壓電材層123 儲墨槽2 背襯材料3 光微影法4 雷射加工 5 超音波喷墨元件 6