TWI258257B - Relax gas discharge laser lithography light source - Google Patents

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1258257 九、發明說明： 【發明所屬之技彳标領域】 發明領域 本發明是關於雷射光傳輸系統(例如：氣體放電雷射光 5傳輸系統），本發明系統是藉由將該具有特定加工光譜之光 傳輸至該等使用雷射光之設備(例如··積體電路晶圓製造曝 光工具機、以及薄膜電晶體非結晶矽退火工具機與類似工 具機），來使該設備產生某些有利之效果(例如··改善焦聚深 度）’该特定加工光譜是(例如）藉由改變波峰中心波長及/或 10波峰分散度或波峰間中心波長或類似方式，來使一連續發 射脈衝之每一個脈衝或一連續發射脈衝之實質每一個脈衝 (例如·間隔之脈衝或類似者或者在一連續發射脈衝之整體 效應上）内之個別波是離散或實質離散。 相關申請案 15 本專利申請案係為於2003年11月3日提出申請之待審 查申凊案序列編號第10/701,280號[發明名稱：laser SPECTRAL ENGINEERING FOR LITHOGRAPFIC PROCESS]之部份延續專利申請案，該，28〇案是一於2〇〇1年 7月27日提出申請之申請案序列編號第〇9/918,773號[發明 20 名稱亦為：LASER spECTRAL ENGINEERING FOR LITHOGRAPFIC PROCESS]之部份延續專利申請案，該773 案目前已獲准為美國專利案編號第6,671，294號；本專利申 請案是於2004年6月23曰提出申請之申請案序列編號第

10/875,662 號[發明名稱·· LASER OUTPUT BEAM 1258257 WAVEFRONT SPLITTER FOR BANDWITH SPECTRUM CONTROL]之部份延續專利申請案；本專利申請案是一於 2004年5月18曰提出申請之申請案序列編號第1〇/847,799 號[發明名稱·· LASER OUTPUT LIGHT PULSE 5 STRETCHER]之部份延續專利申請案；本專利申請案是於 2004年3月23曰提出申請之申請案序列編號第1〇/8〇8，157號 [發明名稱：DUV LIGHT SOURCE OPTICAL ELEMENT IMPROVEMENT]之部份延續專利中請案，該'157案是一於 2002年6月14曰提出申請之申請案序列編號第1〇/173，19〇號 10 [發明名稱·· GAS DISCHARGE ULTRAVIOLET WAVEFRONT WITH ENHANCED ILLUMINATION]之部份延續專利申請 案’該457案目前已獲准為美國專利案編號第6,750,972 號；本專利申請案是於2002年6月14日提出申請之申請案序 列編號第10/173,190號[發明名稱：GAS DISCHARGE 15 ULTRAVIOLET WAVEFRONT WITH ENHANCED ILLUMINATION]之部份延續專利申請案，該190案目前已 獲准為美國專利案編號第6,750,792號；本專利申請案是於 2〇〇4年7月1日提出申請之申請案序列編號第10/884,101號 [發明名稱：LASER THIN FILM POLYSILICON ANNEALING 20 OPTICAL SYSTEM]之部份延續專利申請案；本專利申請 案是與下列專利申請案有關：申請案序列編號： 10/915,517[提申日期：2004年8月9，發明名稱亦為：LASER SPECTRAL ENGINEERING FOR LITHOGRAPHIC PROCESS，律師登錄編號：2004-0108-05];申請案序歹)j編 1258257 號：10/912,933[提中日期·· 2004年8月5日，發明名稱亦為： LASER SPECTRAL ENGINEERING FOR LITHOGRAPHIC PROCESS，律師登錄編號：2004-0108-06];該，517案是'933 案的繼續申請案，而該'933案是分割自一於2001年12月21 5日提出申請之申請案序列編號第10/036,925號；申請案序列 編號第10/881,533號[提申日期：2004年6月29日，發明名 稱：METHOD AND APPARATUS FOR GAS DISCHARGE LASER OUTPUT LIGHT COHERENCE REDUCTION];申 請案序列編號第10/712,545號[提申日期：2003年11月13 10 日，發明名稱·· LONG DELAY AND HIGH TIS PULSE STRETCHER];申請案序列編號第10/676,224號[提申曰 期·· 2003年 11 月 30 日，發明名稱：OPTICAL MOUNTING FOR GAS DISCHARGE ΜΟΡΑ LASER SPECTRAL ANALYSIS MODULE];申請案序歹編號第10/676,175號[提 15 申日期：2003年9月30日，發明名稱：GAS DISCHARGE ΜΟΡΑ LASER SPECTRAL ANALYSIS MODULE];上述個 別申請案之專利權擁有人皆同本發明申請案專利權擁有 人，且上述個別申請案之全部揭露内容皆在此被併入本案 以為參考資料。 20 【先前技術】 發明背景 半導體製造技藝中皆熟知聚焦深度（"DOF")是一重要 事項。於 1989年Fukuda (Hitachi Central Research Labs)提出 一種使用FLEX(聚焦寬容度增進曝光）來增加聚焦深度 1258257 (DOF)之方法，其中該曝光是使用兩階段聚焦定位。這被描 述於美國專利案編號第4,869,999號，發明名稱：METHOD OF FORMING PATTERN AND PROJECTION ALIGNER FOR CARRYING OUT THE SAME，申請日期：1989年9月 5 26日，授權給Fukuda等人("Fukuda Γ)，該，999案中亦提到 下列内容： 據本發明人研究發現：一曝光光學系統可藉由重 s數個影像點定位於一光轴的不同位置之光束來增加 有效聚焦深度，且藉此可將一光罩圖案精確地形成於 〇 一基材表面結構的頂部與底部之間。〃影像位點〃這個 術語是指一對應曝光光學系統之光罩圖案的共軛平面 點。因此，就施行數次經由光罩而曝光的塗覆光阻劑 層基材之曝光作業而言，當數次曝光於該光阻劑層與 光罩圖案影像平面間光軸方向上具有不同的位置關 15 係且忒數次不同定位曝光是同時或非同時施行時，該 光罩圖案影像皆能不僅被精確形成於一基材表面結構 的頂與底部之間，且係同時被精確形成於該結構頂

Up間之中間部分。刚3行33_54，經強調說明]

Fukuda亦指稱： 再者’於本發明具體例中，藉由沿—光軸方向來 私動基材，可以於基材内（或表面上)形成兩個不同位置 之光罩圖案影像平面的。以外，亦可藉由沿一光轴 方向移動-具有光罩圖案之校準器、藉由將一反射係 數與空氣不同之透明材料導入—曝光光學系統内、藉 1258257 由改變該曝光光學系統整體或部分氣壓、藉由使用一 具有多重焦點之透鏡、藉由重疊來自數個形成一光罩 圖案不同影像平面曝光光學系統之光束、或藉由於一 曝光光學系統中使用不同波長或一連續波長，而於基 5 材内（或表面上）形成兩個不同位置之光罩圖案影像平 面[欄6行37-53，強調說明] 其亦說明的（例如）一由Nikon所販售之一種容許於兩聚 焦平面間進行連續平台移動之系統。 於授權給Fukuda等人之美國專利案編號第4,937,619號 10 [發明名稱：PROJECTION ALIGNER AND EXPOSURE METHOD，申請日期：1990年6月26曰]("Fukuda ΙΓ)中提出 一種系統，其中雷射光束是個別地被產生，且此等個別之 雷射光束會被光學整合而產生一以不同波長來同時抵達微 影工具機校準器之單一光束。該Fukuda II專利案亦提到： 15 第5圖是本發明之第三具體例之結構圖。該第5圖 的具體例係包含一反射透鏡31、析光器32、一準分子 雷射氣體腔室33、一輸出透鏡34、一透鏡35、一析光 器角度控制電路36、一雷射振盪控制電路37、一曝光 波長控制電路38、一發光光學系統14、一校準器15、 2〇 技射透鏡16、一基材平台17、以及多種投射對準哭 所需之元件。 析光器32會縮窄該經準分子雷射共振器所振盡之 雷射光束頻寬，該共振器是由反射透鏡31、準分子雷 射氣體腔室33、以及一輸出透鏡34所構成，且該共振 1258257 器是藉由每分鐘地調整析光器32角度來縮窄中心波長 頻寬。波長控制電路38會傳送一指令至析光器角度控 制電路36，該指令是將析光器角度設定為一;設 ’且波長控制電路38會將-指令傳送至1射振盈控 制電路37,該指令會沿析光器角度引發—具有預設曝 光脈衝數目之雷射振m。該曝光波長控制電路猶二夠 10 於一基材曝光區域進行曝光期間，藉由使用上述功能 來改變析光器32之角度設定，且_光波長控制電路 38能夠使用料具有數種不同波長之光㈣行曝光投 射。由於投射透鏡16是依照個別之上述多種波長，來 將校準器15圖案聚焦於-相同光軸之μ位置，因此 使用本發明投射對準器可增進曝光之聚焦寬容度。 除了如第5圖所示般設置於兩反射透鏡μ與雷射 共振器33之間之外，析光砂與波長控制構件可以被 設置於(例如輸出透鏡34與雷射氣體腔室幻之門、或 者輸出透鏡34與發光光料統14之間。再者，二述頻 寬縮窄及波長改變並不限制是觀變析光”度之方 ，〜… 叩平分于雷射叨 20 具有較躲叙優點。料1麵寬料裝置是設 置於反射錢與輪出透鏡之間，因此_頻寬縮窄而 降低之雷射輸出值能夠被侷限於是小幅數值。…、 藉诚用本發明之投射對準器，本發明證實微細 圖案將以卜具體例之方式來增加聚焦深度。、 10 1258257

在美國專利案編號第5,303,002號[發明名稱：METHOD

/\ND APPARATUS FOR ENHANCEING THE FOCUS LATITUDE IN LITHOGRAPHY，授權給Yan，申請日期：1994 年4月12曰]中亦提出以校準器組合來個別產生之雷射光束 5 ，以獲得一具有數種波長之單一光束。Yan亦提出自一單一 雷射系統產生3種輸出光束，然而該具體例是不可行的。 於上述本發明人擁有專利權之申請案中已提出〃光譜 加工"，該加工(例如）是一波長及頻寬調整機構以在一有效 地包含數個離散光譜之雷射系統中，所爆發之脈衝的一系 10列脈衝内製造一特徵光譜，藉此。該280專利案及773申請 案說明： 一快速回應調整機構可被用以調整一連續發射脈衝之 雷射脈衝中心波長，藉此達成一近似所欲雷射光譜之連續 發射脈衝整合光譜。為了產生改良的光阻劑薄膜之圖案解 15析度，可藉由控制雷射光譜頻寬，來產生一具有至少2個光 瑨波峰之有效光束光譜。··…於一較佳具體例中，一波長調 整透鏡會以與雷射重覆頻率同步之超過500次/秒之振動速 率進行振動。··…於另一具體例中，位移極大值是以一對一 之方式來吻合雷射脈衝，藉此使一系統雷射脈衝產生所欲 20之平均具有兩波峰之光譜。其他較佳具體例是使用3個個別 之波長。上述專利案之揭露内容在此被併入本案作為參考 資料。 RELAX是〃以調整曝光雷射光譜來增進解析度〃之字母 縮寫’就一具體例來看，RELAX之理念是為了增加聚焦深 11 1258257 度(DQF)”f射賴騎該使t射摘料2個（或數個) 波峰之加工。在使用PR〇LITH軟體進行模擬之下，已證實 雙波峰光_狀能夠在可接受之曝光寬容度犧牲下，使(例 -有特疋接觸孔及直線間隔圖案之聚焦深度(D明獲得 5 2-3倍之改善。光譜可以包含(例如)2個光譜波峰(於同步發 射或非同步發射脈衝内），這2個光譜波聲會於光阻劑層產 生2個不㈣最佳聚好面。這可使該即使是非常厚之光阻 劑層（400nm及更厚）之每一部分聚焦深度皆能夠於一特定 適宜曝光寬容度㈣％)之下落在可接受之範圍内。使用雙 〇波峰曝光之結果是使所有光阻劑層内皆維持一可接受之光 阻劑層側壁角度，且控制良好的關鍵尺寸。減少該等堵塞 =4光不足接觸孔’可增加晶圓製造業者改變產率及增加 i利就本發明貫施具體例來看，本發明人已針對波峰 i，續波峰之分離提供-種批讀續批次之㈣解決方法。 15最ί分離可經由諸等使用CD、光照條件、光罩資料及雷射 光-曰之核擬來獲得驗證。本發明人推論亦提出：整合分解 光譜功率總和會等於起始光譜(未分解)功率總加且波峰可 以中心波長來進行對稱區分。 20 RELAX之特定具體例必需就現有之雷射光源系統（例 20如.氣體放電式雷射光源系統)來進行修改，此種修改實際 具體例是(例如）：波前分解、量測參數、與使用（例如)一晶 圓掃描區域之光源設備同步、以及諸等本發明實施具體例 所福述之類似事項。 t 明内3 12 1258257 發明概要 10 15 20 本發明係揭露-窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光 脈衝光束產生系統及方法，該系統及方法產生一以一選定 脈H覆速率來連續發射雷射輸出光脈衝之光束，其包含 散巾麵擇光學元件，縣學元件是以至少部 / Λ進人刀放巾^波長選擇光學元件且包含個別脈衝 =雷射光脈衝光束的人射角度來選擇個別脈衝之至少—中 波長’ 5周整機構，該機構運作是選擇—進入該分散中 、擇光干70件且包含個別脈衝之雷射光脈衝光束的 —空間定義組份人射角度；以及，—裝設於該調 =^之變㈣射林元件，該元件是讀_雷射光脈 t束人射該變化折射絲元件之—烟位置來界定數個 通過該變化折射光學元件之雷射光脈衝光束第_空間 組份的折射角度位移。本發明裝置及方法可更進-步^人 光:：:光::件’該元件包含:—界定該雷射光脈衝 ，之力—大致平坦鏡面；以及—界定數個該雷射 衝光束離去大致平坦表面之第二多切面鏡面，個別之 離去表面是界定—翔且個別自變化折射光學 角度；或者-界定數個該雷射光脈衝光束離去曲之 大致柱狀鏡面，個別之龅 罘一 該雷射光脈衝光絲^ .且個別之 桃衡尤采料鏡面，個別之此種離 於-單獨且個別沿該變化折射光學元件 減之離去驗。本發明裝置及方法可更進或漸 機構’該轉換機構是將該變化折射光學元件之^光2 13 1258257 5 10 15 20 $轉換為—纽平行—光束邮之第—光纟 對齊該變化折射光學元件長軸 。大致 + 士 1甲之方向，或者轉換入一 大致垂直該變化折射光學元件長轴延伸 者㈣ 入這兩個方向。亦可以於兮岭士 门，或者轉換 射光[/ 核妓擇科與該變化折 射先予兀件之間使用一第二調整 以包含-調整透鏡，該調整透鏡是界定调整機構可 =:分散波長選擇元件之入射角度，該;整== 由、、且合—電機場域定位機構與一微細定位機構 = 該入射角度，其中該定位機構包含_材料性質受 = ^#改_料’ t_包含(例如)_壓電材二= 機構運作可以就瞬間_週期内:正 擇一第一入私念由 群、、且脈衝來選 射角度，以及就瞬間掃瞄週期内至少一 組脈衝來選擇一第二入射角度， ：：鮮 至少一 、， ^弟鮮組脈衝與 弟一群組脈衝之脈衝數目總和是N;且該至少—第一 群_衝可以是由該選取第一入射角度之序列脈衝所料 °亥至少一第二群組脈衝可以是由該選取第二入射角度之 ，丨〗脈衝所構成。於該至少一第一群組脈衝之間以及該至 ^第二群組脈衝之間，亦可以個別具有至少一過渡脈衝 此至少一過渡脈衝是一係為雷射未被激發之脈衝，且第 群組脈衝、第二群組脈衝以及過渡脈衝數目總和是 至少_證 ^ ϋ茨 一及第二過渡脈衝是個別包含數個第一及第二過 ^ ^ ^本發明方法是用以產生一窄頻短脈衝時程氣體放 二田射輪出光脈衝光束之方法，本發明方法產生_以一選 疋脈衝重覆速率來連續發射一選定數目雷射輸出光脈衝之

14 1258257 光束，忒光束可供用於一使用光工具機，該工具機具有一 瞬間掃瞄週期，該週期是於該連續發射脈衝内持續一選定 數目N個脈衝，其中N是一偶數，本發明方法包含：使用一 分散中心波長選擇光學元件，且以至少部分測定該進入分 政中^波長選擇光學元件且包含個別脈衝之雷射光脈衝光 束的入射角度，來選擇個別脈衝之至少一中心波長；使用 一调整機構來選擇該掃描區域内一脈衝群組之第一入射角 度以及該掃描區域内脈衝第二群組之第二入射角度，該第 ^入射角度脈衝、該第二入射角度脈衝以及過渡脈衝之脈 1〇衝數目總和是N個脈衝；或者本發明方法可以包含：將連續 發射脈衝數目區分為至少一由一部分連續發射脈衝所構^ 之曝光週期，該曝光週期包含至少兩部分，該兩部分包含 至少一^-部分及至少-第二部分；於該第一部分提供數 個具有第一中心波長之脈衝，以及於該第二部分提供數個 15具有第二中心波長之脈衝；於該曝光區域内不提供至少一 脈衝是落在第一部分與第二部分之間、落在任一第一部分 之前與第-部分之間、或落在任一第二部分之後與第二^ 分之間；就一連續發射脈衝内個別之曝光週期來重覆上述 步驟。本發明方法可更進-步包含：第一部分脈衝之個別 2〇脈衝強度調控是個別且與第二部分脈衝脈衝強度調控分開 進行，且第二部分脈衝之個別脈衝強度調控是個別且與第 一部分脈衝脈衝強度調控分開進行；且本發明方法可包含 將該第一部分脈衝之累計強度調控為等同該第二部分脈衝 之累計強度。本發明裝置及方法可以更進一步包含：該雷 15 1258257 =出切撕是於空間分離但非時間分離雷射光脈衝 個中心波長光譜；―雷射輪出光脈衝光 束茶數測量儀模組；—設置於該光束產生 數測量模組間光學路徑内之光 /、先束多 5 15 20 尤束均化态。本發明裝置及方 彳 1包含··該雷射輸出光脈衝光束是於 離但非時間分離雷射光脈衝光束組份内包含數個中心波長 先譜’一雷射輸出光脈衝光束參數測量儀模組；-設置於 该先束筝數測量模組内之光束均化器是坐落於至至少一光 束參數測量儀器之光學路徑内，該測量儀器可以是一功率 測量儀。本發明裳置及方法可以更進—步包含：一設置於 該光束參數測量模組内之部分空間光束遮蔽器是坐落於至 至少一光束參數測量儀器之光學路徑内，該光束參數量測 儀益可以是-功率測量儀、一中心波長偵測器、及/或一頻 見_器。本發明裝置及方法可以更進一步包含：該雷射 輸出光脈衝光束是於空間分離但非時間分離雷射光脈衝光 束組份内包含數個中心波長光譜；-雷射輸出光脈衝光束 參數測$儀模組；一設置於該光束參數測量模組内之光束 力率測里儀疋置測該雷射輸出光脈衝光束内個別空間分離 仁非日年間分離雷射光脈衝光束組份之個別功率，以及該雷 2輸出光脈衝光束内個別空間分離但非時間分離組份所包 3之個別功率總和。亦可設置一光束參數調控模組，該調 模、且“回應一來自該光束參數測量模組之輸出，該回應 疋^制遠量測模組所量測之一光束參數，該控制是以回應 該來自光束參數測量模組之輸出來進行回饋控制；該調控 16 1258257 扠組可以回應一來自該使用光工具機輸出之回饋控制來控 制一光束參數；該調控模組可以回應一來自該工具機輸出 以及一來自該控制一光束參數之光束參數測量模組輸出之 回饋控制來控制一光束參數。 5 10 15 20 本發明裝置及方法可以更進-步包含：該雷射輸出光 脈衝光束是由數個具有—第—中心、波長以及數個具有一第 二中心波長之脈衝所構成，該兩中心波長具有一選定之中 心波長差異；一雷射輸出光脈衝光束參數測量模組；一雷 射控制器波長控制器，該波長控制妓藉由回應至少 一來自該光束參數測量模組之訊號以及回應至少—來自該 雷射控制器之訊號，來控制該個別之中心波長及中心波長 差異；該波長控制器控制個別中心波長及中心 a 回應至少—來自該使用光工具機之訊號，該訊蚊包= 操取自代表下列群組之訊號：—掃描區域内脈衝數目、一 所欲之中心波長設定、-所欲之波峰連續波峰分離、-所 :之中心波長;該波長控制器會選取一週期性波長調變訊 號^該職性波長崎訊號之週期是㈣掃描區域内之 脈成目來決定。該波長調變訊號包含：數 長連續_、數個第二中心波長連續脈衝、以及數個落在 «個弟K長連續_與 偷門夕空/丨、, 币一中心波長連績脈 tt過衝，個別之過渡脈衝是自魏個第-中心波長連績脈衝連續至該數個第二中心波長連 且^於該侧之過渡脈衝時料射未被激發。=掷 訊號可以包含：-週期由該掃描區域週期決定之緩慢= 17 I258257 λ唬、或一頻率由一該雷射脈衝重覆頻率組份決定之快亲 正弦訊號。波長調變訊號可以包含：一週期由該掃描區= 週期決定之圓方波。本發明裝置及方法亦可包含一強度控 5 ，器，該強度控制器是分別控制該第-中心波長脈衝= 5第二中心波長脈衝之強度；及/或分別控制該正弦調變訊號 較長波長組份與該正弦調變訊號較短波長組份之強度；及/ 或分別控制該圓方波所產生較長波長脈衝與該圓方波所產 生車父短波長脈衝之強度。 圖式簡單說明 10 第1圖是一參照本發明實施具體例之RELAX雷射光光 源系統方塊示意圖； 第2圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例之可 插設變化折射光學元件； 第3圖是一第2圖所顯示光學元件之更詳細部分示意圖； 15 第4圖是以示意圖顯示參照另一本發明實施具體例之 變化折射光學元件； 第5圖是以示意圖顯示一使用2個變化折射光學元件來 產生一RELAX多波峰光譜之本發明實施具體例； 第6圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例之曝 20 光週期； 第7圖顯示一本發明實施具體例於第6圖闡釋曝光週期 内雷射輸出光脈衝傳輸至一加工物件之圖案； 第8圖顯示一本發明實施具體例於一類似第6圖闡釋曝 光週期内雷射輸出光脈衝能夠傳輸至一加工物件之另一種 18 1258257 由不同波長脈衝所構成之圖案； 第9圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例之光 束均化器； 第10圖顯示一參照本發明實施具體例來進行傳輸之光 5 譜； 第11圖顯示一參照本發明實施具體例來進行傳輸之光 譜； 第12圖顯示一設置一快速調整透鏡之本發明實施具體 例； 10 第13圖顯示一參照本發明實施具體例來進行傳輸之光 譜； 第14圖顯示一本發明實施具體例因傳輸不同中心波長 脈衝而導致功率不平衡； 第15圖顯示一本發明實施具體例使用一PZT元件載壓 15 電池回饋來進行共振控制之結果； 第16圖是以示意圖顯示一使用一控制器來達成調變設 計之本發明實施具體例； 第17圖是以示意圖顯示一使用一控制器來達成調變設 計之本發明實施具體例； 20 第18圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例來將 脈衝傳輸至一加工機之掃描區域。 【實施方式】 較佳實施例之詳細說明 現在來參看第1圖，該圖顯示一RELAX雷射輸出光脈衝 19 1258257 產生系統20，該系統可包含：一雷射腔室22、一輸出耦合 透鏡24及一線縮窄模組26，三者共同構成一共振雷射振盪 為。一輸出雷射光脈衝光束4〇是包含數個以一選定脈衝重 覆速率及脈衝功率進行連續發射之脈衝(例如：一次發射數 5百個脈衝）。可以令此種脈衝光束通過一光束分光鏡30，該 刀光鏡可供用以將一包含一指示雷射光脈衝光束44(例如 大約5%)之輸出雷射光脈衝光束小組份反射入一測量模組 50 ’而以其餘形成一雷射系統20雷射輸出光脈衝光束42。 於該測量模組内，一另加之分光鏡52會自該光束44分離出 ° 組份54，該組份將經由一均化器56進入一功率測量儀58 。该光束44通過分光鏡52之未反射組份60會通入一光束遮 蔽器70,該遮蔽器可以是(例如）一能夠選擇性遮擋光束解析 面/剖面内不同空間組份之閘門，且其後於一第二光束分光 鏡72進行部分反射，其一反射光束組份74會連續被一分光 鏡76反射，藉此形成一入射一光學-二極體陣列（〃pDA")88 之場域波長量測光束78。可瞭解的是：技藝中已熟知光束 74亦會於照亮該入射pDA 88組份之前，預先入射一光柵（ 没有顯示）。該通過光束分光鏡72之光束82是入射一析光器 84，该析光器84可供用以製造一以條紋圖案入射pDA 88之 2〇級份，其目的是精準測定該離開析光器84之光束86内的光 波長。 現在來參看第9圖，該圖顯示一光束均化器2〇〇，該均 化器可供用於一本發明實施具體例。均化器2〇〇可連續設置 於一如上文所述共振振盪器腔室之後，或者亦可予以（例如 20 1258257 )連續設置於一輸出區域之後，該輸出區域是一（例如）裝設 於一（例如）雷射系統主振功率放大器（"ΜΟΡΑ")内之功率放 大器的輸出區域。可瞭解本案所使用〃雷射〃是寬度足以涵 概一單一共振腔室雷射系統或者（例如）一裝設ΜΟΡΑ之系 5 統及其他此種型態之系統(例如：ΡΟΡΟ、ΜΟΡΟ及popa雷 射系統），其中该裝設ΜΟΡΑ糸統具有（例如）一振盈器區段 ，該系統是以（例如）一主振盪器（〃Μ0〃)飼入一放大器系統 ，來放大該振盪器區段(例如：一功率放大器（〃ΡΑ〃))之輸出； 且除非另有指明，上述雷射系統之輸出雷射光脈衝可等同地 10 被使用來闡釋本發明專利說明書及檢附申請專利範圍。 均化器200可以包含一光束分光鏡202，該分光鏡包含 一部分反射鏡202，該部分反射鏡是(例如）具有能夠反射運 作波長之塗層，該塗層會將大約40-60%之雷射輸出光束40 反射至一最大反射鏡204,且以大約60-40%之光束40來構成 15 部分之輸出光束42。其後最大反射鏡204會將光束210反射 至另一最大反射鏡206，最大反射鏡206是以光束214來將光 束212反射至一第三最大反射鏡208,第三最大反射鏡208是 以光束216來將光束214反射至該光束分光鏡202之背面，其 後該背面會進行部分反射，以反射（例如）大約60-40%之光 20 束來構成部分之輸出光束42。輸出光束42會通過一光波測 量模組50，於該模組内進行如上述自輸出光束42分離一小 部分光束。 反射鏡202、204、206及208之排列是經由光學延遲路 徑來反射光束210、212、214及216，且同時以光束進行自 21 1258257 我摺合，來使輸出光束42具有如第9圖箭頭所指示之一組份 部分通過光束分光鏡202及一組份部分通過光學延遲路徑 ’且於光學延遲路徑内亦進行我摺合。就雷射輸出光脈衝 光束40形成光束42而言，延遲路徑不需要是一引發雷射輸 5出光脈衝產生任何顯著時間加長之長度，且相反地該光學 延遲路徑是主要供用為一光束均化器。 現在來參看第2_5圖，其等顯示一供用於一窄頻短酿衝 時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產生系統之RELAX設計 ，該RELAX設計可產生一以一選定脈衝重覆速率來連續發 1〇射一送疋數目雷射輸出光脈衝之光束，該RELAX設計包含 •於一分散中心波長選擇光學元件（沒有顯示）以至少部分測 疋忒進入分散中心波長選擇光學元件且包含個別脈衝之雷 射光脈衝光束的入射角度來選擇該個別脈衝之至少一中心 波長；運作一調整機構91來選擇一進入該分散中心波長選 15擇光學元件且包含個別脈衝之雷射光脈衝光束的至少一第 一空間定義組份(例如：第5圖所顯示之1〇2，)入射角度；以 及運作該包含一變化折射光學元件1〇〇之調整機構91，該機 構是以數個雷射光脈衝光束入射該變化折射光學元件之個 別位置（例如：第2及第4圖所顯示之120, 120，，120”，120，，， 2〇及120”’’），來界定數個通過該變化折射光學元件之雷射光脈 衝光束第一空間定義組份的折射角度位移（例如··第4圖所 顯示之 130, 130，，130”，130，，，及 130，，，，）。 那些熟習此項技藝人士能夠瞭解的是：可以就協助量 測之目的來進行光束40均化，此均化可以是使用（例如）均化 22 1258257 器56來使該被導入測量模組50之光束組分44進行均化，或 者此均化可以是使用（例如）第9圖均化器200來進行另加之 均化。均化器56可以是類似第9圖之設計，其亦可包含(例 如）諸等上述待審查申請案[發明名稱：METHOD AND 5 APPARATUS FOR GAS DISCHARGE LASER OUTPUT LIGHT COHERENCY REDUCTION]所論述之組合式鴿尾 型稜鏡、直角或等腰稜鏡光學元件。功率測量儀是藉由此 種方式來量測一經均化光束，且此功率是數個於光束空間 分離但非時間分離組分内包含個別中心波長之光束組份的 10 功率總和。 可選擇使用數個功率測量儀，及/或（例如）令光束通過 一閘門系統60，於此情形中，雷射系統是以（例如）一光束内 空間分離之方式來產生兩個或數個中心波長，因此就(例如 )一雙峰光譜而言，一半的光束是由一功率測量儀來進行取 15樣，而另一半的光束則由第二功率測量儀來進行取樣。類 似地，一功率測量儀亦可以使用閘門（光束遮蔽器）來量測選 擇之光束組份。 此外，整個光束無論是否經均化，皆可進入一功率測 量儀進行量測。於此情形中，測量系統會量測一光譜、另 20 一光譜及全部之功率（強度），且可以使用（例如）：第一⑻ 、第二(b)及全部(T)之功率（強度）來區分光譜波峰間之強度 功率（例如·以a/T及b/T來計算）。類似地，亦可&a/(a+b)及 b/a+b來計算分別之強度。就個別之波峰是離散脈衝(例如： 一連續發射脈衝）而言，一連續發射脈衝之強度可以在不修 23 1258257 改目‘使用工具之下，進行類似之計算，例如：計算個別 波長脈衝強度之總和，就(例如）一雙峰組合光譜之實例而言 ’所有λ!脈衝及所有μ脈衝的強度總和=所有的^脈衝強度 +所有的λ2脈衝強度。於此情形中，亦可藉由分別計算心及人2 5脈衝之強度安定度，來計算(例如）該由個別具有相同中心波 長脈衝所構成之輸送脈衝内個別或合併之總強度及強度安 定度。 如下文所述，對於參照一本發明實施具體例之某些 RELAX設計而言，會需求計算（例如）加總或平均λι&λ2脈衝 10強度，該λ1&λ2脈衝之任一者或二者可以於一連續發射脈衝 内包含諸等呈彼此時間分離之脈衝(例如：分離為兩個或數 個不同的脈衝群組），且此等脈衝可以是完全連續脈衝，或 者此等脈衝可以被一落在兩脈衝群組間之過渡脈衝分隔而 不是完全連續脈衝。這將需求(例如）藉由修改傳統計算強度 15及強度總和之方法，來因應一relax連續發射脈衝内的多 重波峰，此種多重波峰是於不同脈衝群組及一過渡脈衝内 具有個別之脈衝，該個別之脈衝具有一個別且離散之中心 波長、一於連續發射脈衝内之位置以及一對應（例如）一掃描 區域之位置。下文亦將論述，掃描區域對比RELAX光譜脈 2〇衝群組設計之關係，其中該等RELAX光譜脈衝群組是群組 與群組之間具有不同的波長，且包含過渡脈衝之脈衝總數 亦為一關鍵因素。 調控可以使用現有之控制演算法，例如：以固態脈衝 功率模組之VCP峰值電容電壓來控制強度，使用偵測功率( 24 1258257 例如：λ!脈衝之氣體放電功率及、脈衝之氣體放電功率）來 進行脈衝連續脈衝之強度控制。 5 10 15 20 測量模組5〇亦可包含一用以遮擋一光束組份之閘門穿 置6〇，該光束組份包含一特定中心波長或數個中心波長， 藉此可以（例如）：僅將一僅包含或主要包含一單一中心波長 光碏之光束44單一組份投射至該條紋圖案產生機構（例如 •析光器84)。此考量之重點是(例如）分析該分離造成住何 該呈空間分離之中㈣長移動，例如：-雙峰光譜進行^ 束中間分離或大致中間分離，由於此分離是與該改變為不 同脈衝呈對比，因此該光束仍於全程具有雙峰。於此情形 中’使用任何-種閘門或其他光學或機械式遮賴構皆會 遮擋掉略微超過該一半之光束，然而由於此光足夠容； pda進行適宜之運作，因此可以寬容任何_種波長組分間 進仃为離所造成之上下遷移。意即，取樣該低於數量一半 之光束，此樣品是由兩個別具有—不同中心波長之對半也 份所構成，此樣品雖_失㈣光子，然㈣以更確定今 料組肢完料有袖之巾心波長。輯成仙 3而/，該取樣組份可以是依照該光束内空間分_非 =:光譜波峰數目來選擇之某些其他份數。就移動 =6二樣而言，可以脈衝連續脈衝來進行揭取或者可選 _取挑選位置’藉此整合數個於連續脈_具有一中心 =之R工間組h ’並遮擋那些於發射脈衝内具 同中心波長之空間組份。 無論如何測定個別之波長，波長控制模組皆會提供回 25 1258257 饋，該回饋形式是個別中心波長(例如·· λι&λ2)之波峰分離 數值（意即：λ2—λ〗），或者該回饋形式是該整合光譜之重心 (意即：λ〗 + λ2/2)。就波峰間間隔等距之3個中心波長(例如 • λ!、λ?及λ3)來看，λ2數值是中心波長或該整合3波峰光譜 5重心，且波峰分離數值是心一心及心一λ2。 現在來參看第3圖，該圖顯示一參照本發明實施具體例 之柱狀凹透鏡100如何等同於該第4圖多重離散楔形變化折 射光學元件100,。如第3圖所顯示，當一特定光束通過一光 束通路120’時，該光學元件1〇〇之離開曲面1〇4會於沿其曲 10面任何一部分皆等同形成一由兩邊110、112及一斜 邊114所 構成之楔形，藉此界定出該等同柱狀凹透鏡曲面楔形部分 之位置及尺寸，且藉此界定出該光束通過通路12〇，之偏折 平均值以及所產生之中心波長平均值。因此，就一特定曲 面半徑及一光束剖面短軸之光束寬度是(例如）5釐米而言， 15光束通過曲面所產生之特定光束寬度内中心波長變化 是可以計算的，（例如）可以是大約·5微微米（pm)。 那些熟習此項技藝人士能夠瞭解：可以如第5圖所顯示 使用兩個變化折射光學元件，其一者是供光束14〇頂半部 102’使用，另一者是供光束14〇底半部W2使用，此兩元件 20可以某種差異來插設入光束140之路徑，此差異是如第5圖 所闡釋之該虛線第二光學元件之位置，藉由此種位置差異 可使光束140頂半部1〇2,通過一入射位置120，而底半部102 通過一入射位置120”，，該對半光束組份是分別於兩位置進 行一效力不同之折射，藉此分離出該光束140之空間分離組 26 1258257 份，個別之組份皆具有一不同之有效中心波長。有效中心 波長是來自該以一特定位置通過光學元件100, 1〇〇,，且無 論该中心波長產生任何改變，該改變皆來自（例如）第4圖具 體例之離開鏡面平坦度不均等，或者光束14〇不是同時通過 5該離開鏡面之平坦部分，意即部分重疊進入鄰接離開鏡面 之-部分，該等鄰接離開鏡面部分可整合構成如第2圖具體 例之所欲曲面。 亦可被瞭解的疋·變化折射光學元件1〇〇, 1〇〇，可以具 有-平坦之離開鏡面端部M6，M6,，此端部於插設入光束 10路径時，不會造成光束折射。那些熟習此項技藝人士可以 瞭解：如上文論述，該變化折射光學元件1〇〇, 1〇〇，亦可具 有一轉換機構（沒有顯示），該轉換機構可供用以將變化折射 光學元件100，100之雷射光脈衝轉換為大致平行一光束剖 面之光束短軸以及一如第5圖所顯示之方向122，該方向122 15是大致上沿元件100,忉〇,長軸延伸之變化折射光學元件 100, 100’長軸方向。可以藉由此種通過光學元件1〇〇, 1〇〇, 任一者或二者來進行折射之方式來選擇光束140。可以被瞭 解的是：如上文所述，光束140可以藉由通過變化折射光學 兀件100, 100’任一者或二者之平坦部分146, 146，（或者兩平 20坦部分合併）來使光束140有至少一組份102，102,不進行折 射。 那些^習此項技藝人士亦可瞭解··無論於光束路徑内 該變化折射光學元件100，100,之配置數量是單一或數個， 皆可使用一轉換機構(沒有顯示）來進行轉換，俾以將變化折 27 1258257 射光學元件100，100’之雷射光脈衝轉換為大致平行一光束 剖面之光束長軸以及一如第5圖所顯示之方向124，該方向 124是大致垂直該變化折射光學元件1〇〇，1〇〇,之長軸延伸 方向122。於一參照本發明實施具體例中，可以藉由此種方 5 式來選擇光束140内個別具有個別選定中心波長之空間組 份102, 102’的能量數量。此選擇能量數量是意欲使個別具 有選定有效中心波長之光束組份達成平衡或喪失平衡。 那些熟習此項技藝人士亦可瞭解：於一參照本發明實 施具體例中，該變化折射光學元件100，100,可以插設入光 10 學路徑之任何一部分，此種光學路徑部分是(例如）一線縮窄 模組26 ’該模組可以組合一分散中心波長選擇元件（例如： 一呈一力特羅(Littrow)配置（沒有顯示）之階梯光柵）或其他 波長選擇元件，藉此能夠以（例如）至少部分參照該選擇光束 140於該波長選擇元件（沒有顯示）内之入射角度，來選擇光 15束140或光束140組份102，102,之中心波長。於另一參照本 發明實施具體例中，系統可組合一另加之入射選擇元件角 度’例如：一設置於變化折射光學元件100，100,與分散中 心波長選擇元件間之快速調整透鏡，該快速調整透鏡於某 些情形是依照脈衝連續脈衝或實質脈衝連續脈衝來進行振 20盪’而於其他情形是鎖定(例如）一連續發射脈衝。就一本發 明方面而言，變化折射光學元件是藉由此種方式來選擇該 光束140内數個個別光譜波峰中心波長分離之組份(例如： 組份102, 102，），而該快速調整透鏡（沒有顯示）則選擇該由 數個波峰所界定之光譜重心波長，意即於雙光譜波峰之情 28 1258257 形是指兩個別光譜波峰中心 峰情开；{β & x 之波長，或者於三波 峰㈣疋:波峰中心波峰之中心波長。 如技蝥中所已知，快速調整 ，該調整透鏟早旧整透鏡 元件之入射rrrrf射舰衝光权射分散波長選擇 位機槿盘X °亥5周整透鏡可以藉由組合一電機場域定 出2與—微Μ位機構來進狀位，並藉狀位來界定 先束⑽人射該分散光學元件(沒有顯句之人射角度，立 亥微細定位機構包含-材料性質受施加該材料電場改變 之材料，崎料包含(例如）_壓電材料。 10 15 20 那些熟習此項技藝人士能夠更進一步瞭解的是··一單 可插入楔形（例如··一變化折射光學元件楔形则（多重楔 Ζ)或1〇〇，(連續曲面凹透鏡鏡面))具有多項正面優點，其包 3 j簡單、體積精簡、光學完全解析及低損失。然而，藉 由遠擇楔形角度（植置於連續曲面之位置），可使雙光譜波 峰为_於旋轉楔形時產生非常少的調變。因此，可產生不 同的中心波長，且其後能夠自其中挑選出一中心波長，此 挑選是使用（例如）上述一另加之入射角度選擇機構(例如： 一快速調整透鏡），而該等通過折射光學元件（意即楔形）以 及未通過一楔形之光束組份中心波長則以波峰連續波峰來 進行一固定距離之分隔。 就取代一單一折射光學元件1〇〇，1〇〇,(例如··一插設入 光束140一半之楔形）來使用兩個設入光束140頂部102,及底 部102之楔形而言，兩楔形可以進行相對旋轉，此旋轉可改 變該具有兩選定中心波長心及、之波峰分離。此理念與單一 29 1258257 楔形理念之差異疋兩換形能夠具有一較大之楔形角度，該 角度可容許更大幅以旋轉楔形來調整波峰位置。例如··一 單一楔形設計之楔形角度會產生一大約2微微米（pm)之波 峰分離且旋轉調整度非常小。雙楔形設計能夠使楔形產生一 5大約20微微米（Pm)之波峰分離且藉此產生一較大之旋轉調 整度。此效應亦可使用兩個如上述個別分割部分光束140之 變化折射光學元件(例如·· 100或1〇〇，）來予以達成。其他類似 之設計被論述於上文參述之待審查申請案10/847,799。 插設位置之選擇是一實施事項。設若楔形是插設於高 10倍放大區域’則該楔形必須尺寸較大且具有非常良好之波 前性質。設若楔形是插設於低倍放大區域，則該楔形可以 尺寸較小且該由（例如）涉及光學透鏡邊緣通過光束中間之 波前錯誤所造成之效應會被降至最低。設若楔形是插設於 該第一菱鏡之前，例如：一構成一部分線縮窄套組26之多 15重菱鏡光束（沒有顯示），則該插設距離必須低於5釐米（mm) ，藉此可簡化致動器。 可以藉由垂直轉換兩楔形或其他光學元件來達成調整 個別波峰能3:平衡，例如：升高或降低光束分隔線。 就產生一所欲RELAX光譜而言，（例如）一以雙楔形理 20念所產生之雙波峰光譜，會導致輸出光束之光譜含量呈一 空間分佈（例如··頂部對比底部）而非一時間分佈（例如：自 一脈衝改受至另一脈衝）。此種分佈會由於(例如）某些步進 機/掃目苗器照射設計之運作細節而導致某些雷射輸出光脈 衝設備(例如：半導體光學微影設備)產生問題。為了校準頂 30 1258257 部對比底部光譜含量，可使用上述均化器來令光束進行 均化，例如：藉由沿垂直方向翻動然後重疊。對於某些使 用本申錢專卿擁有人稱為-QpuS脈衝伸展ϋ之雷射系 統而言，該Opus脈衝伸展器是如上文參述授權給本發明申 5凊人之共同專利權擁有人之專利申請案所論述之一 4X OpuS，光束均化可使用（例如）該產生_1χ影像之6鏡〇^以設 计。雖然這可滿足最終使用者所需求之令一RELAX多重波 峰光譜分佈入整個光束空間分佈（或近似此者），然而一有效 測量儀設計之均化部分仍存有一需求。 10 一可用以產生一均化輸出雷射光脈衝光束之方法亦可 供用以均化該輸入測量儀套組50之光束，該方法是將一如 上文所述之光束翻動器200插設於一光束分光鏡30之前，該 分光鏡會導引一部分輸出光束4〇進入測量儀套組5〇。此種 光學設計能夠令光束進行端部疊蓋端部之翻動。此種設計 15亦可I没於一ΜΟΡΑ雷射設計内之數個位置，例如：裝設於 輸出Μ0(主要振盪器）階段與輸入ΡΑ(功率放大器）階段之間 ，例如·供用為本申请案專利權擁有人稱為一光波加工盒 ("WEB")之一部分，該WEB是設置於（例如）_xla_1〇〇 ΜΟΡΑ雷射系統内，其實例是供用以取代該頂部web(〃m〇 20 WEB〃)調整鏡。由於此光束均化是進行於PA放大之前，因此 本發明申請人亦探討此光束均化是否為可用於甚至一非 RELAX設備内產生較佳剖面控制及改善能量安定性之方法。 就供用於非ΜΟΡΑ設計之雷射系統而言，（例如）諸等由 本申請案專利權擁有人所販售之商品名：NL-7XXX及/或 31 1258257 ELS :ΧΧΧ ’具有類似上述均化器之光學功能，且如上 述及弟9圖所顯示此種商品可予以設置於輸出耗合鏡㈣ 24與波㈣量儀5G之間。可以藉由選擇光束分紐202之反 射率，來使所有該翻動脈衝組份能量總和等於所有未翻動 5脈衝組份能量總和。 _見在來參看第6圖，該圖是闡釋一本發明實施具體例傳 輸一雷射輸出光脈衝之示意圖，該具體例是將該包含數個 具有不同中心波長(例如：兩不同中心波長Μ、)之雷射輸 出光脈衝，傳輪至加工物件(例如··一積體電路晶圓（沒有顯 1〇不藉此（例如）依照一落在一瞬間掃描區域150内之校準 器（沒有顯示）圖案來曝光晶圓之光阻劑層。瞬間掃瞄週期 150是意指以（例如）一連續發射脈衝内某些脈衝數目照射一 部分晶圓，其中一掃描區域3〇〇(顯示於第18圖）於瞬間掃瞄 週期内與該晶圓（沒有顯示）進行相對移動，藉此使該通過瞬 15間掃瞄週期150之連續發射脈衝内的部分脈衝(例如：脈衝 152’-152’’’’’’）能夠如第18所闡釋是以個別之連續脈衝(例如 :脈衝152’-152’’”’’）照射來曝光該包含光阻劑層之晶圓的 一部分。那些熟習此項技藝人士能夠暸解的是：該校準器（ 沒有顯示）與晶圓（沒有顯示）是藉由相對移動，來使該照射 20 每一片晶圓之雷射光脈衝是以一連續脈衝内超過（例如）12 個如第6圖所顯示之脈衝，來通過一假想之瞬間掃描區域， 此種效應是如下文將解釋之消除雷射週期性，且如下文將 解釋，此種效應並不會顯著負面影響晶圓光阻劑層曝光。 如第6a圖所闡釋，該圖顯示一正預備啟始瞬間掃瞄週 32 1258257 期150之脈衝152(第7圖所闡釋之脈衝〇);連續進入瞬間掃瞄 週期150是如第6b圖所闡釋且具有（例如）一第一中心波長、 之第一脈衝152’（第7圖所闡釋之脈衝〗）；其後連續是所有皆 具有（例如）一相同中心波長心之脈衝152，，，152，，，等等（第7 5 10 15 20 圖所闡釋之脈紗5);連續是_被設計成雷射於該脈衝時未 被激發之脈衝（第7圖所闡釋之脈衝6);其後以移動（例如）中 心波長選擇機#之(例如）一快速調整鏡（沒有顯示）來選擇 該具有一第二中心波長人2之連續脈衝（第7圖之脈衝7);其後 連縯是脈衝152’’’’（第7圖之脈衝8)至脈衝152，，， ，，及 152，，，，，，( 第7圖之脈衝11及12),其中除了第6圖所顯示之脈衝152，，，，，， 之外白具有第一中心波長λ2，該脈衝是第7圖之脈衝12，且 田射控制③再_人令錢射於該脈衝時不被激發。此時，脈 = 152 (第7圖之脈衝12)變成該正預備啟始一連續瞬間 知目田週期之脈衝152，而脈衝152，，，，，，，則變成該連續瞬間掃 目苗週期之脈衝第-脈衝152，（第7圖之脈衝+ 1)。 那些熟習此項技藝人士能夠瞭解的是：該參照第6及第 7圖所闡釋來進行晶_射之本發明實施具體例，能夠使用 (例如卜鏡面非振蕩定位之快速調整鏡來傳輸一個別具有 5中波長之脈衝，且該照射晶圓整體光譜不會受一脈 衝之不利影響，該脈衝是快速調整鏡建立第一中心波从 或 λι至一Μ之過渡脈衝，其中該等λι —、可以具 有數個脈衝。此外，认& a ^ 一 於較咼脈衝重覆速率時，該快速調整 水、v ^⑴）機械共振及類似原因’而難以對個別之脈衝 “進行某些料切過某—鮮之顧，然而就上述本發 33 1258257 明實施具體例來看，此種不利影響將可被避免，或者至少 有效降低其影響程度。 第8圖闡釋一振盪設計示意圖，該設計使用—由14個脈 衝所構成之瞬間掃瞄週期，且雷射控制器之程式設計是於( 5例如）調整鏡進行中心波長心及、位置改變時，跳躍超過一 個連續脈衝條紋(例如：2個連續脈衝）。這對(例如）較高脈 衝重覆頻率（例如：大約6千赫(kHz)是有需要的。 那些熟習此項技藝人士能夠瞭解的是：本案所闡述之 瞬間掃瞄週期可以包含任何脈衝數目N，（例如）第一中心波 1〇長^具有(N-2)/2個脈衝，第一中心波長μ具有(N_2)/2個脈衝 ，2個過渡脈衝分別是丨個其後連續第一（N_2)/2個脈衝，i 個落在第一（N-2)/2個脈衝與第二(N-2)/2個脈衝之間，於此 等過渡脈衝時雷射未被激發，但有條件是(1^2)/2是一個整 數。類似地，就任一由N個脈衝所構成之掃瞄週期而言，該 I5週期可以具有超過2個中心波長，（例如）3個中心波長，（例 如）λ!、λ:及λ3，（例如）個別佔據(N_3)/3個連續脈衝（其中 (N-3)/3疋一個整數）’且於此等（n_3)/3個連續脈衝之過渡脈 衝時雷射未被激發。可以使用上述多重中心波長設計之類 似變化，（例如）上文所述個別於該具有個別不同中心波長之 20 (N3)/3個連縯脈衝群組之間具有超過1個過渡脈衝，意即： 於群組間具有2個此種雷射個別進行未被激發之過渡脈衝。 那些一 此項技藝人士亦能夠瞭解的是：如第7圖所顯 示之個別獨立瞬間掃瞄週期2可以是（例如）第7圖所闡釋之 由脈衝3運作至脈衝+3，該運作效應等同第7圖所顯示且於 34 1258257 上文論述之個別獨立瞬間掃瞄週期1。 現在來參看第18圖，該示意圖闡述第6-8圖所顯示之僅 呈空間等同之實施例。第18圖是以示意圖闡述一物理掃描 區域300，該區域之掃瞄運作會通過一欲進行曝光之積體電 5路晶圓位點（例如：覆蓋一部分積體電路模板之光阻劑層） 。於第18a圖時間1時，曝光掃描區域尚未前進覆蓋該欲進 行曝光之模板部分。於第18b圖，一掃描區域内窄條帶重疊 於一模板窄條帶310上，且(例如）第7圖所闡釋，整個掃描區 域300被一（例如）具有第一波長λ!之第7圖脈衝丨照亮。於第 10 18(：圖，該脈衝區域300重疊於另一模板窄條帶312上，且兩 條帶310, 312皆被第7圖波長脈衝2照亮。類似地於第18d_f 圖，窄條帶314, 316及318進入掃描區域内，且分別被第7 圖連續脈衝3-5, 4-5及5照亮。於對應該第7圖脈衝6之第18g 圖k Μ射未被激發，此時掃描區域300内無任一條帶被該 15未激發脈衝照亮。雷射於第18h圖再次點火，且首次以一新 的中心波長λ2來照亮該等新進入之窄條帶322，其後連續是 條f 310 320這持、續至第18m圖，此圖新進入掃描區域之 脈衝是332，而第一窄條帶31〇即將離開掃描區域，雷射未 被激發，意即此圖市對應第7圖之脈衝12。於第18n圖週期 重新開始此日才一個新的第一窄條帶31〇,首次進入掃描區 域。 那些热智此項技藝人士能夠瞭解的是··就個別之窄條 帶310,332而言，曝光皆是5個11脈衝、5個λ2脈衝以及2個未 被激發脈衝，惟曝光順序不同。例如：窄條帶312之照亮是 1258257 4個、脈衝’連續1個未被激發脈衝，連續5個入2脈衝，再連 ‘1個未被激發脈衝，其後連續丨個如第18n圖所闡釋之^最 終脈衝，此時新的第—窄條帶310,進入掃描區域300，而窄 條▼ 312即將離開掃描區域3〇〇。 5 那些熟習此項技藝人士能夠瞭解的是：一參照本發明 貫施例之窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 生系統是藉由此種方式來產生一光束，該光束是以一選定 脈衝重覆速率來連續發射一選定數目之雷射輸出光脈衝， 該光束可供用於一使用光之工具機，該工具機具有一掃瞒 1〇週期是於連續發射脈衝内持續一選定脈衝數目N，其中N是 一偶數，該系統可以於線縮窄套組26内包含一分散波長選 擇光學兀件，該TL件是以至少部分測定該進入分散中心波 長選擇光學兀件且包含個別脈衝之雷射光脈衝光束的入射 角度來送擇一個別之脈衝中心波長；運作一調整機構(例如 15 : 一設置於線縮窄套組26内之快速調整鏡）來選擇該掃瞄週 期内數個連續脈衝(例如：第7圖之脈衝^5或可選擇是脈衝 3-5)之第-人射角度，連續是至少_第_過渡脈衝(例如： 第7圖之脈衝6，且此時雷射未被激發），其後選擇該掃瞄週 期内數個第二續脈衝(例如：第7圖之脈衝^)之第二入射 2〇角度，連績是至少一第二過渡脈衝(例如··第7圖之脈衝12 ，且此時雷射未被激發），該第一入射角度脈衝與第二入射 角度脈衝及過渡脈衝總數等於N個脈衝(例如··第7圖之脈衝 1-12,或可選擇是第7圖之脈衝3-+3);以及一系統控制器 ’该控制4、是用以控制雷射系統於連續發射脈衝内重覆數 36 1258257 次進行上述步驟，該重覆次數等於連續發射脈衝所經歷之 掃瞄週期數目。這亦被闡釋於第8圖，於該圖中（例如)掃瞄 週期可以自脈衝1開始，然後至脈衝14結束，其中過渡脈衝 是脈衝6與7以及脈衝13與14，或者自脈衝3開始，然後至脈 5衝+3結束，此亦為總數14個脈衝且具有相同過渡脈衝數目 。就連續脈衝分為兩群組之設計來看，設若兩群組維持完 全連續（意即樣品中掃瞄週期是自脈衝i開始），則個別之中 心波長將傳輸相同的脈衝數目。意即，就〃連續"脈衝數目 來看，該等具有相同中心波長之連續或部分連續脈衝數目 10可以超過實施例所闡釋之5個連續脈衝。 那些熟習此項技藝人士能夠瞭解的是：該如第18圖所 闡述之掃描區域是僅為本發明實施具體例之一個實例。掃 描區域可以於頻寬、重覆頻率、所欲效能及類似參數限: 内包含任一數目之脈衝，藉此來搭配relax之需求，（例如 15 )設若脈衝總數是N個脈衝時，該個別中心波長為了平_ 別波長強度而包含相等脈衝數目，且於整合該光譜多重波 峰之間具有㈣數目之過渡脈衝。因此，（例如）第7圖所闡 釋之兩個由脈衝H2所構成群組或者第8圖所闡釋之兩個 由脈衝1-14所構成群組皆可以此種群組來分別形成具有^ 個脈衝或28個脈衝之掃描區域，該等區域於第一種情形是 刀別包含⑽临脈衝、1〇個人2脈衝以及4個或8個過渡脈衝。 本案申凊人相信對一選定數個中心波長波峰進行分離 (例如：-雙波峰㈣）需要增加或減少連續改變。這是因為 (例如)於某些设備側面色相差可能是一項考量，例如：對於 37 1258257 料體光學《。側向色相差之功岐藉由触色相遠心 ，來使光束於通過焦點時產生兩個向左及向右偏移之影: 。此結果是對比度降低。為了補償此效應，一設置於2源 内之元件會進行偏移，但是多種光馳纽設計，且為/了、 5連續發光(例如：浸潤式爾工具機），亦不能裝設此種元 件。因此，雷射輸出光脈衝光束之使用者 可接受之謝X實例，該種祖AX實例會產生== 光譜(例如：-雙波峰賴），該光譜是(例如）光束頂部具有 -波長且底部具有另-波長，這會使遠心更嚴重，且造成 ω測試及設定更困難且複雜。例如：對於某些Duv光學微影 透鏡而言，數種透鏡之相對側向偏移對比焦距偏移被列述 如下：

移| 偏I 距 焦I

S308G-im S306C S205C .7.9.0 移 偏 向j側j 4· 2 可由此數據瞭解：顯著之焦距偏移是由於側向偏移增 加所造成之結果。 然而，於某些設備中，校準平面及光瞳平面二者及一 頂部/底部分光鏡能夠就雷射光束輸入來進行調度指揮，因 此一雙波峰光譜可以不引發任何負面影響。 就使用〃步階調整器"來調整整體強度及均一性之步進 機/掃猫器而言，一用以產生一 RELAX光譜之中心線振盪方 法會導致於多種不同曝光狹縫區域(例如··由於縫高度變 38 1258257 化(該變化可以是例如大約1G%)產生—種兩波峰間不平衡。 於某些情形中，步進機/掃瞄器透鏡之側向色相差對多 重波峰RELAX光譜(例如··一雙峰光譜)效能具有一可接二 之小幅影響。 又 5 本*中請人亦檢視—經由中心線快速改變而非一光學 方法來產生RELAX光譜。就闡釋而言，本發明是以模擬予3 種中心線振靈器波形來產生整體光譜。第一種且最簡單波 形是低頻率正弦波，該正弦波週期是以搭配掃瞒器對應移 動曝光區域來進行選擇或者是此週期之倍數。第10圖顯示 10 所產生之整體光譜。就呈右17 .., /、有以—所欲選擇波長分離波峰之 觀點而言，此種〃翁形狀是有利的，雖然兩波峰間仍 具有顯著數量之能量。波峰之選擇 長入1之一第一入射角度，或者以_ 入射角度，或者以一整合有效第弟—中心波私之-第二 口有效第一入射角度及一整合有效 15第二入射角度，且波峰間能量分佈$、θ丨a 續脈衝或脈衝群組連續脈衝群έ佈之測疋可以是該脈衝連 、衝鮮組沿一角度軌跡自一入射角 度偏=另之能力(共振或其他能力)。 就產生弟—種檢視波形而古 鏡，藉此使該自一中心線峰值_=圓^來驅動調整 2〇變，而是以最高可施行頻率^另一峰值不是瞬間轉 顯示所產生之整體光譜。循—正弦波執跡。第11圖 於200赫兹_。由於兩波峰間=兩^值間之正弦波是等 諸第10圖之簡單正弦波而士，:非常少的能量，因此較 為理想。 ^顯示之光譜似乎更 39 1258257 第三種且幾近理想檢視波形之產生是使用一正弦曲線

Rmax動作，4動作是藉由其頻率是雷射重覆頻率之準I/* 且具有一對應雷射條紋之相位，來使雷射脈衝是只以兩中 心線數值來"擷取〃如第12圖所闡釋之正弦曲線。第13圖顯 5示所產生之整體光譜。如第13圖顯示，當以特定頻率及相 位來擷取正弦曲線時，會產生只有兩個中心線數值。就供 用於調整鏡驅動訊號而言，該由此種波形所產生之光譜是 理想之雙波峰光譜。 由上文可以瞭解：RELAX分離光譜技術是視所選擇之 1〇實例而可能會於兩波峰之間具有_顯著數量之光譜能量。 雖然理想上能夠以兩實際光譜進行偏移及重疊來使光譜波 峰間中點具有很少或不具有能量，然而兩波峰間仍會具有 一明顯數量之能量。 如上文芩述之待審查專利申請案所述，就產生一 15 RELAX光譜而言，可以藉由使用（例如）—聲光光學元件， 來產生違以-發射連續發射為主之偏移中心線能力，且就 而。亦可合4-RELAX光譜之形成是由該振盪中心線以 間^ -人或數次發射來進行。此種振盈必須相容於甚至是 v進機/掃目所使用之最短曝光區域。—步階中心線調控 之2助可領外有利地提供(例如）：戲劇性改善波長s形表現 成近冊j除中心線雜訊、以及中心線改變所誘發之改變， ^甫助.周控是藉由預覽_回饋迴路，且現今由於(例如)使用 機械式快速調整鏡(”Rmax")裝置之共振問題，因此該預覽 是(例如）不減慢至低於仔赫(suMdl〇henz)之等級。 40 1258257 就上文論述之分別為簡單正弦波及圓方波之第—種及 第二種波形而言，二者僅能被使用於如上文所述掃描區域 週期等同中心線振盪器週期之條件下。於某些設備中，一 ， 步進機/掃瞄器處理所使用之曝光狹縫寬度會因為某些效 5能因素而予以縮窄。此種狹縫尺寸修改會導致曝光區域之 時間及空間尺寸修改，設若此種修改沒有校正，將導致掃 描區域不配對中心線振蘯為週期。此種錯誤配對會（例如） 導致一整體光譜產生如第14圖實例所顯示之不平衡，該圖 闡釋一具有來自中心波長控制振盪器狹縫寬度改變1〇%之 · 10簡單正弦波振盪器。當狹縫寬度改變10%時，一圓方波波 形亦會不利地產生一類似之光譜不平衡。 一咼頻率正弦波（例如：一脈衝重覆頻率是（例如）500 赫茲（Hz)之4仟赫(kHz)雷射的某些組份)雖然不會於狹縫寬 · 度改變時遭受任何顯著之光譜改變，然而其相位必需（例如 15 )同雷射點火。最嚴重之相位錯誤會導致自波峰完全移除一 半能量且遷移至大約中心波長之位點。 現在來參看第16及第17圖，該方塊示意圖顯示某歧用 馨 以進行上述以脈衝連續脈衝或系列脈衝來振盪中心波長之 ^ 系統基本組件。第16圖之實例可產生一簡單正弦波及圓方 · 20波振盪訊號，該實例是闡釋一線縮窄模組26，該模組具有 一PZT元件222以及一步進機馬達224,如技藝中所熟知二者 是個別供用以定位一快速調整中心波長選擇調整鏡（沒有 、 顯示）’該定位是依照一PZT驅動訊號230(例如：±5〇伏特） · 以及一步進機馬達相位訊號232來進行，此等訊號是由一波 41 !258257 長控制模組(〃WCM〃)所產生，該WCM模組是回應測量儀所 量測之接收雷射輸出光脈衝光束診斷組份44。就調變pZT sfL號230而曰，可以使用（例如）一訊號產生器240，訊號產生 器實例是產生（例如）一正弦波訊號或一圓方波（參見第16圖） 5 ，且此種訊號產生器實例是(例如）一積體電路類比訊號產生 器。產生波型之形態及週期是藉由回應該來自一掃瞄器28〇 之回饋輸入來進行選擇，此回應選擇是考量（例如）掃描區域 尺寸、所欲中心波長及其產生之中心波長分離及中心波長 。掃瞄器280或波長控制模組220可以依照適宜或所欲來選 10擇調變設計。雷射控制器290亦可適宜地提供訊號，該訊號 代表(例如）雷射重覆速率、脈衝時程、等等。 一訊號產生器實例亦可以是一較高頻率訊號產生器， 產生高頻率訊號波或圓方波實例是額外於ρΖΤ疊層222内添 加載壓電池250以及一控制器260,該控制器260可以藉由調 15控該ρζτ控制訊號，來達成（例如）抑制快速調整鏡 (〃Rmax〃)裝置之共振或近似任何共振能量（如第15圖所闡釋） ’該圖藍線顯示沒有進行抑制之反應，紅線顯示啟動活性 抑制之反應。此結果是(例如）於導致Rmax裝置產生共振之 區域(例如··大約1000赫茲（Hz))是一更為平坦之頻率回應。 20藉由裝設此種抑制機構，波長測量儀能夠以（例如）大約1/4 雷射點火速率且以適宜之相位來提供高頻率正弦波，且 Rmax裝置對於任何選擇之頻率皆能夠進行更均一之回應 。另一選擇是將正弦波產生器設置於控制盒260内部，並進 行如上述藉由回應該等來自波長控制模組220及/或來自掃 42 1258257 瞄器280及/或雷射控制器之訊號23〇來指示（例如）一雷射頻 率、所欲波峰分離、所欲中心波長、及雷射脈衝時程。 那些熱習此項技藝人士能夠自上文來瞭解上文所論述 之RELAX實例的多相優點。例如··就(例如）使用如上述變 5化折射光學元件之光學產生系統而言，能夠獲得之光譜品 質是非常接近理想的··該光譜於光束之空間分離組份内具 有多重波峰，或者所需求之均化；且能夠就選定或（例如） 一RELAX光譜之需求來回應該來自（例如）一掃瞄器之訊號 ’具有啟動RELAX開關之能力，（例如）藉由將可插設及搭 10接之光學元件(例如：變化折射光學元件)插設於雷射與現有 線縮窄模組内光柵之間的光學路徑。 就一快速調整鏡之簡單正弦波振盪而言，其光譜品質 是如第10所顯示。rELAX實例可以藉由回應該來自掃瞄器 280及/或雷射控制器290之訊號，來指示一所光譜 15之雷射頻率、所欲波峰數目、所欲波峰分離、所欲中心波 長、脈衝重覆速率及掃描區域尺寸。其後雷射系統控制器 可以就掃描區域尺寸來平衡該正弦波之週期性。除了添加 一波形產生器來產生該快速調整鏡之簡單正弦波調變之外 ，現有之縮窄及波長控制硬體及軟體並不需要做顯著之改 20 變。 圓方波貝例可以某些如弟11圖所顯示之中心波長位 置之能量來使光譜近似一理想RELAX光譜。就現有之硬體 及軟體而言，簡單正弦波調變及相同之修改或不修改皆使 用與掃瞄器相同之介面資料。由於光譜對快速調整鏡 43 1258257 ("Rmax")與雷射點火之間的純具有靈敏度，系統會需求 以-相位鎖定迴路以及於個別之連續發射脈衝内具有某種 數目之脈衝，來建立相位鎖定。 就具有過渡（未被激發)脈衝之圓方波而言，雷射控制器 5會如上述藉由回應來自掃瞄器之訊號，來指示一 ”曰之品求所欲波峰分離、掃描區域尺寸、脈衝數目N、過 渡脈衝數目、由脈衝與過渡脈衝所構成之群組、選定之雷 射頻率，藉此來進行如上文所述之對應掃描區域之適宜調 整RELAX多重波峰光譜，例如：平衡選定光譜波峰間之強 10 度。 就一咼頻率正弦波調變而言，在使用與簡單正弦波及 圓方波調變相同之介面資料之下，其光譜亦會幾近於理想 。系統會因為進行(例如）共振回饋或類比波型產生器而需求 於PZT驅動器添加一載壓電池。本發明申請人經由模擬指出 15此光譜非常近似一理想Relax多重波峰光譜，且該光譜之 源自理想RELAX光譜聚焦深度(D〇F)效應具有非常低之減 降。 本發明申請人已使用快速調整鏡來測試一 RELAX系 統之原型，該快速調整鏡是藉由背面（非折射面）切割一凹槽 20變形，以及使用一磁場來改變兩組份之角度，來使該自調 整鏡折射之光束組份入射角度能夠入射光栅，藉此使產生 之二元光譜具有一選定波峰連續波峰分離，且以整體組裝 角度來定義中心波長。本發明申請人發現就此參照一本發 明貫施具體例之測試而言，目前設計用以量測單一波峰光 44 1258257 譜之測量儀難以解析雙波峰，特別是間隔非常靠近，例如： 波峰至波峰之間隔落在數個微微米（pm)之内。本發明申請 人研究發現：在現有之波長測量儀系統之外，可以現有量 測單元(例如：波長測量儀）來供用為適合之多重波峰光譜測 5 量儀。本發明申請人亦發現：必需避免任何脈衝重覆速率 改變，此改變會影響（例如）光譜波峰放大倍率之安定度。 【圖式簡單說明】 第1圖是一參照本發明實施具體例之RELAX雷射光光 源糸統方塊不意圖， 10 第2圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例之可 插設變化折射光學元件； 第3圖是一第2圖所顯示光學元件之更詳細部分示意圖； 第4圖是以示意圖顯示參照另一本發明實施具體例之 變化折射光學元件； 15 第5圖是以示意圖顯示一使用2個變化折射光學元件來 產生一 RELAX多波峰光譜之本發明實施具體例； 第6圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例之曝 光週期； 第7圖顯示一本發明實施具體例於第6圖闡釋曝光週期 20 内雷射輸出光脈衝傳輸至一加工物件之圖案； 第8圖顯示一本發明實施具體例於一類似第6圖闡釋曝 光週期内雷射輸出光脈衝能夠傳輸至一加工物件之另一種 由不同波長脈衝所構成之圖案； 第9圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例之光 45 1258257 束均化器； 第ίο圖顯示一參照本發明實施具體例來進行傳輸之光 譜； 第11圖顯示一參照本發明實施具體例來進行傳輸之光 5 譜； 第12圖顯示一設置一快速調整透鏡之本發明實施具體 例； 第13圖顯示一參照本發明實施具體例來進行傳輸之光 譜； 10 第14圖顯示一本發明實施具體例因傳輸不同中心波長 脈衝而導致功率不平衡； 第15圖顯示一本發明實施具體例使用一 PZT元件載壓 電池回饋來進行共振控制之結果； 第16圖是以示意圖顯示一使用一控制器來達成調變設 15 計之本發明實施具體例； 第17圖是以示意圖顯示一使用一控制器來達成調變設 計之本發明實施具體例； 第18圖是以示意圖顯示一參照本發明實施具體例來將 脈衝傳輸至一加工機之掃描區域。 20 【主要元件符號說明】 20…RELAX雷射輸出光脈衝 26…線縮窄模組 產生系統 40…輸出光束 22···雷射腔室 30…光束分光鏡 24…輸出耦合透鏡 44…測量光束 46 1258257 50…測量模組 42…非測量光束 52…分光鏡 54…功率測量組份 56…均化器 58…功率測量儀 60…閘門系統 6 0…非功率測量組份 70…光束遮蔽器 72…第二光束分光鏡 74…分光鏡76反射組份 76…分光鏡 78…場域波長量測光束 82…通過分光鏡72之光束 84…析光器 88…光學-二極體陣列("pda") 86…離開析光器84之光束 91…調整機構 100…柱狀凹透鏡 100…變化折射光學元件 100’…多重離散楔形變化折射 光學元件 102’…光束第一空間組份 102’…光束140頂半部 102···光束140底半部 104…離開曲面 110、112···楔形邊 114…楔形斜邊 120，120’，120，，，120，，，，120，，，，··· 光束組份入射位置 122···元件長轴方向 124…光束長軸方向 130,130’，130，，，130，，，，130，，，，··. 光束組份折射角度位移 140…光束 146, 146’…離開鏡面端部 150···瞬間掃描區域 152’-152”””…區域脈衝 200···光束均化器 202···光束分光鏡 204…第一最大反射鏡 206···第二最大反射鏡 208···第三最大反射鏡 210…202反射光束 212···204反射光束 214…206反射光束 216···208反射光束 220…波長控制模組

47 1258257 222…PZT元件 224…步進機馬達 230…ΡΖΤ驅動訊號 232…步進機馬達相位訊號 240…訊號產生器 250…載壓電池 260···共振控制器 280…掃瞄器 290···雷射控制器 300…脈衝區域 310-332···模板條帶 48

Claims (1)

1258257 日修(见)正本I 5 10 15 2· 20 第93131667號專利申_申請專利 十、申請專利範圍： L —财_脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 t系統，該系統會產生-以-選定脈衝重覆速率來連 績發射雷射輸出光脈衝之光、束，該系統包含： 一分散中心波長卿光學元件，該元件是以至少 部分測定該進入分散令心波長選擇光學元件且包含個 彳脈衝之雷射光脈衝光束的人射肖度來選擇個別脈衝 之至少一中心波長； 、、—調整機構’該機構運作是選擇一進入該分散中 I波長選擇光學元件且包含侧脈衝之雷射光脈衝光 的至/一第—空間定義組份入射角度；以及， a、一裝設於_整機構之變化折射光學元件，該元件 疋以數個3亥雷射光脈衝光束入射該變化折射光學元件 之一個別位置來界定數個通過該變化折射光學元件之 ^光脈衝光束第—空間㈣組份的折射角度位移。 °申晴專利範圍第#之系統，其進_步包含： 該變化折射光學元件包含： 一第一大致平坦鏡面，該第一 脈衝光束之m及，面界以雷射光 脈衝光!:Γ:鏡面’該第二鏡面界定數個該雷射光 -單獨且偷丨 平坦表面，個批離絲面會界定 早獨且個別自該變化折射光學轉離去 如申請專利範圍第1項之系統，其進—步包含又。 49 1258257 該變化折射光學元件包含： 一第一大致平坦鏡面，該第一鏡面界定該雷射光 脈衝光束之一入射面；以及， 一第二大致柱狀鏡面，該第二鏡面界定數個該雷 5 射光脈衝光束離去曲面，個別之離去曲面是近似於一 單獨且個別之該雷射光脈衝光束離去鏡面，個別之此 種離去曲面是近似於一單獨且個別沿該變化折射光學 元件長軸延伸漸增或漸減之離去角度。 4. 如申請專利範圍第1項之系統，其進一步包含： 10 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第一光轴且係沿一大致對齊該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 5. 如申請專利範圍第2項之系統，其進一步包含： 15 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第一光軸且係沿一大致對齊該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 6. 如申請專利範圍第3項之系統，其進一步包含： 20 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第一光軸且係沿一大致對齊該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 7. 如申請專利範圍第1項之系統，其進一步包含： 50 1258257 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第二光軸且係沿一大致垂直該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 5 8. 如申請專利範圍第2項之系統，其進一步包含： 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第二光軸且係沿一大致垂直該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 10 9. 如申請專利範圍第3項之系統，其進一步包含： 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第二光軸且係沿一大致垂直該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 15 10·如申請專利範圍第4項之系統，其進一步包含： 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第二光轴且係沿一大致垂直該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 20 11·如申請專利範圍第5項之系統，其進一步包含： 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第二光軸且係沿一大致垂直該變化折射光學元件之 長軸所延伸之方向。 1258257 12. 如申請專利範圍第6項之系統，其進一步包含： 一轉換機構，該轉換機構是將該變化折射光學元 件之雷射光脈衝光束，轉換為該大致平行一光束剖面 之第二光軸且係沿一大致垂直該變化折射光學元件之 5 長轴所延伸之方向。 13. 如申請專利範圍第7項之系統，其進一步包含： 一第二調整機構，該機構是設置於該分散波長選 擇元件與該變化折射光學元件之間。 14. 如申請專利範圍第8項之系統，其進一步包含： 10 一第二調整機構，該機構是設置於該分散波長選 擇元件與該變化折射光學元件之間。 15. 如申請專利範圍第9項之系統，其進一步包含： 一第二調整機構，該機構是設置於該分散波長選 擇元件與該變化折射光學元件之間。 15 學元件之間。 16. 如申請專利範圍第10項之系統，其進一步包含： 一第二調整機構，該機構是設置於該分散波長選 擇元件與該變化折射光學元件之間。學元件之間。 17. 如申請專利範圍第11項之系統，其進一步包含： 20 一第二調整機構，該機構是設置於該分散波長選 擇元件與該變化折射光學元件之間。學元件之間。 18. 如申請專利範圍第12項之系統，其進一步包含： 一第二調整機構，該機構是設置於該分散波長選 擇元件與該變化折射光學元件之間。學元件之間。 1258257 19.如申請專利範圍第13項之系統，其進一步包含： 該第二調整機構包含一調整透鏡，該調整透鏡會 界定一雷射光脈衝光束入射該分散波長選擇元件之入 射角度。 5 20.如申請專利範圍第14項之系統，其進一步包含： 該第二調整機構包含一調整透鏡，該調整透鏡會 界定一雷射光脈衝光束入射該分散波長選擇元件之入 射角度。 21. 如申請專利範圍第15項之系統，其進一步包含： 10 該第二調整機構包含一調整透鏡，該調整透鏡會 界定一雷射光脈衝光束入射該分散波長選擇元件之入 射角度。 22. 如申請專利範圍第16項之系統，其進一步包含： 該第二調整機構包含一調整透鏡，該調整透鏡會 15 界定一雷射光脈衝光束入射該分散波長選擇元件之入 射角度。 23. 如申請專利範圍第17項之系統，其進一步包含： 該第二調整機構包含一調整透鏡，該調整透鏡會 界定一雷射光脈衝光束入射該分散波長選擇元件之入 20 射角度。 24. 如申請專利範圍第18項之系統，其進一步包含： 該第二調整機構包含一調整透鏡，該調整透鏡會 界定一雷射光脈衝光束入射該分散波長選擇元件之入 射角度。 53 1258257 25. 如申請專利範圍第19項之系統，其進一步包含： 該調整透鏡是藉由一電機場域定位機構與一微細 定位機構的組合來定位界定該入射角度，其中該定位 機構包含有一其之性質會受施加於該材料之電場而改 5 變之材料。 26. 如申請專利範圍第20項之系統，其進一步包含： 該調整透鏡是藉由一電機場域定位機構與一微細 定位機構的組合來定位界定該入射角度，其中該定位 機構包含有一其之性質會受施加於該材料之電場而改 10 變之材料。 27. 如申請專利範圍第21項之系統，其進一步包含： 該調整透鏡是藉由一電機場域定位機構與一微細 定位機構的組合來定位界定該入射角度，其中該定位 機構包含有一其之性質會受施加於該材料之電場而改 15 變之材料。 28. 如申請專利範圍第22項之系統，其進一步包含： 該調整透鏡是藉由一電機場域定位機構與一微細 定位機構的組合來定位界定該入射角度，其中該定位 機構包含有一其之性質會受施加於該材料之電場而改 20 變之材料。 29. 如申請專利範圍第23項之系統，其進一步包含： 該調整透鏡是藉由一電機場域定位機構與一微細 定位機構的組合來定位界定該入射角度，其中該定位 機構包含有一其之性質會受施加於該材料之電場而改 54 1258257 變之材料。 30. 如申請專利範圍第24項之系統，其進一步包含： 該調整透鏡是藉由一電機場域定位機構與一微細 定位機構的組合來定位界定該入射角度，其中該定位 5 機構包含有一其之性質會受施加於該材料之電場而改 變之材料。 31. 如申請專利範圍第25項之系統，其進一步包含： 該材料是一壓電材料。 32. 如申請專利範圍第26項之系統，其進一步包含： 10 該材料是一壓電材料。 33. 如申請專利範圍第27項之系統，其進一步包含： 該材料是一壓電材料。 34. 如申請專利範圍第28項之系統，其進一步包含： 該材料是一壓電材料。 15 35.如申請專利範圍第29項之系統，其進一步包含： 該材料是一壓電材料。 36. 如申請專利範圍第30項之系統，其進一步包含： 該材料是一壓電材料。 37. —種窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 20 生系統，該系統會產生一以一選定脈衝重覆速率來連 續發射一選定數目雷射輸出光脈衝之光束’該光束可 用於一使用光束之工具機，該工具機具有一瞬間掃瞄 週期，該週期是於該連續發射脈衝内持續一選定數目N 個脈衝，該系統包含： 55 1258257 一分散中心波長選擇光學元件，該元件是以至少 邛分測定該進入分散中心波長選擇光學元件且包含個 別脈衝之雷射光脈衝光束的入射角度來選擇個別脈衝 之至少一中心波長；以及 5 一調整機構，該機構運作是就該瞬間掃瞄階段内 至少一第一群組脈衝來選擇一第一入射角度，以及就 瞬間掃瞄階段内至少一第二群組脈衝來選擇一第二入 射角度，該至少一第一群組脈衝與至少一第二群組脈 衝之脈衝數目總和是N個脈衝。 38.如申請專利範圍第37項之系統，其進一步包含： 該至少一第一群組脈衝是由該等選取第一入射角 度之序列脈衝所構成，且該至少一第二群組脈衝是由 忒等選取第二入射角度之序列脈衝所構成。 39·如申請專利範圍第37項之系統，其進一步包含： 5 该至少一第一群組脈衝與至少一第二群組脈衝包 含至少一落在該瞬間掃描區域内且選取第三入射角度 之第三群組脈衝，該至少一第一群組脈衝、該至少一 第二群组脈衝以及該至少一第三群組脈衝之脈衝數目 總和是N個脈衝。 20 40·如申請專利範圍第38項之系統，其進一步包含： 该至少一第一群組脈衝與至少一第二群組脈衝包 含至少一落在該瞬間掃描區域内且選取第三入射角度 之第二群組脈衝，該至少一第一群組脈衝、該至少一 第二群組脈衝以及該至少一第三群組脈衝之脈衝數目 56 1258257 總和是N個脈衝。 41·如申請專利範圍第39項之系統，其進_步包含： 該至少一第一群組脈衝是由該選取第一入射角度之 序列脈衝所構成，該至少一第二群組脈衝是由該選取第 二入射角度之序列脈衝所構成，且該至少_第三群組脈 衝是由該選取第三入射角度之序列脈衝所構成。 42·如申請專利範圍第4〇項之系統，其進一步包含： 該至少一第一群組脈衝是由該選取第一入射角度 之序列脈衝所構成，該至少一第二群組脈衝是由該選取 第二入射角度之序列脈衝所構成，且該至少一第三群組 脈衝是由該選取第三入射角度之序列脈衝所構成。 43·如申請專利範圍第37項之系統，其進一步包含： 至少一過渡脈衝是落在該個別至少一第一群組序 列脈衝與個別至少一第二群組序列脈衝之間，該至少 一過渡脈衝是一雷射未被激發脈衝，且該第一群組脈 衝、苐二群組脈衝以及過渡脈衝之脈衝數目總和是N 個脈衝。 44·如申請專利範圍第38項之系統，其進一步包含： 至少一過渡脈衝是落在該至少一第一群組序列脈 衝與至少一第二群組連續脈衝之間，該至少一過渡脈 衝是一雷射未被激發脈衝，且該第一群組脈衝、第二 群組脈衝、第三群組脈衝以及過渡脈衝之脈衝數目總 和是N個脈衝。 45·如申請專利範圍第39項之系統，其進一步包含： 57 1258257 至少一過渡脈衝是落在該至少—第一群組序列脈 衝與第二群轉列脈衝之間，且至少-過渡脈衝是落 在該至少一第二群組序列脈衝與至少一第三 脈衝之間，該至少一過渡脈衝是一雷射未被激發脈衝 5 ，且該第一群組脈衝、第二群組脈衝、第三群組脈衝 以及過渡脈衝之脈衝數目總和是N個脈衝。 46·如申請專利範圍第40項之系統，其進一步包含： 至少一過渡脈衝是落在該至少一第一群組序列脈 衝與第二群組序列脈衝之間，I至少一過渡脈衝是落 1〇 在該至少一第二群組序列脈衝與至少一第三群組序列 脈衝之間，該至少一過渡脈衝是一雷射未被激發脈衝 ，且該第一群組脈衝、第二群組脈衝、第三群組脈衝 以及過渡脈衝之脈衝數目總和是N個脈衝。 47·如申請專利範圍第43項之系統，其進一步包含： 15 5亥至少一第一及第二過渡脈衝是個別包含數個第 一及第二過渡脈衝。 48·如申請專利範圍第44項之系統，其進一步包含： 該至少一第一及第二過渡脈衝是個別包含數個第 一及第二過渡脈衝。 2〇 49·如申請專利範圍第45項之系統，其進一步包含： 該至少一第一及第二過渡脈衝是個別包含數個第 一及第二過渡脈衝。 50·如申請專利範圍第46項之系統’其進一步包含： 該至少一第一及第二過渡脈衝是個別包含數個第 58 1258257 一及第二過渡脈衝。 51. —種用以產生一窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光 脈衝光束之方法，該光束是以一選定脈衝重覆速率來 連續發射一選定數目之雷射輸出光脈衝，該光束可供 5 用於一使用光束之工具機，該工具機具有一瞬間掃瞄 週期，該週期是於該連續發射脈衝内持續一選定數目N 個脈衝，其中N是一偶數，該方法包含： 使用一分散中心波長選擇光學元件，且以至少部 分測定該進入分散中心波長選擇光學元件且包含個別 10 脈衝之雷射光脈衝光束的入射角度，來選擇個別脈衝 之至少一中心波長； 使用一調整機構來選擇該掃描區域内一脈衝群組 之第一入射角度以及該掃描區域内脈衝第二群組之第 二入射角度，該第一入射角度脈衝、該第二入射角度 15 脈衝以及過渡脈衝之脈衝數目總和是N個脈衝。 52. —種用以產生一窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光 脈衝光束之方法，以於一選定脈衝重覆速率下產生包 含連續發射一選定數目之雷射輸出光脈衝之光束，該 光束可供用於一使用光工具機，該工具機具有一於該 20 連續發射脈衝内持續一選定數目之脈衝的暴露週期， 該方法包含： 將該連續發射脈衝數目區分為至少一由一部分連 續發射脈衝所構成之曝光週期，該曝光週期包含至少 兩個部分，該兩部分包含至少一第一部分及至少一第 59 1258257 二部分； 於該第一部分提供數個具有第一中心波長之脈衝 ，以及於該第二部分提供數個具有第二中心波長之脈 衝； 5 於該曝光區域内不提供至少一落在第一部分與第 二部分之間以及落在任一第一部分之前與第一部分之 間或落在第二部分之後與第二部分之後的脈衝； 就一連續發射脈衝内個別之曝光週期來重覆上述 步驟 10 53.如申請專利範圍第52項之方法，其進一步包含： 調控在該第一部分中彼此獨立地且與該的第一部 分脈衝脈衝強度獨立的脈衝之個別脈衝強度，並調控 在該第二部分中彼此獨立地且與該的第二部分脈衝脈 衝強度獨立的脈衝之個別脈衝強度。 15 54.如申請專利範圍第52項之方法，其進一步包含： 將該第一部分脈衝之累計強度調控為等同該第二 部分脈衝之累計強度。 55. 如申請專利範圍第53項之方法，其進一步包含： 將該第一部分脈衝之累計強度調控為等同該第二 20 部分脈衝之累計強度。 56. —種窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 生系統，該系統會產生一以一選定脈衝重覆速率來連 續發射一選定數目雷射輸出光脈衝之光束，該光束可 供用於一使用光工具機，該系統包含： 60 1258257 邊雷射輸出光脈衝光束是於空間分離但非時間分 離雷射光脈衝光束組份内包含數個中心波長光譜； 一雷射輸出光脈衝光束參數測量儀模組； 5 57. 一设置於該光束產生系統與該光束參數測量模組 間光學路徑内之光束均化器。 -種窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 生系統’該系統會產生_以_選定脈衝重覆速率來連 續發射-選定數目雷射輸出光脈衝之光束，該光束可 供用於一使用光工具機，該系統包含·· 10 該雷射輸出光脈衝光束是於空間分離但非時間分 離雷射光脈衝光束峰内包含數個巾，讀長光譜； -雷射輸出光脈衝光束參數測量儀模組； 15 58. 59. 。又置於。亥光束參數測量模組内之％束均化器， 其係位於至少—光束參數測量儀ϋ之光學路徑内。 如申請專利範@第57項之系統，其進—步包含： 該測量儀器是一功率測量儀。 ，種乍頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 生系統’該线會產生1 —選定脈衝重覆速率來連 續發射—選缝目雷射輸出光_之光束，該光束可 供用於一使用光卫具機，該系統包含： «亥雷射輸出光脈衝光束是於空間分離但非時間分 離雷射光脈衝光束組份内包含數辦4長光譜； -雷射輸出光脈衝光束參數測量儀模組； °又置於Θ光束*數測量模組内之部分空間光束 61 20 1258257 遮蔽器，器係位在至少一光束參數測量儀器之光學路 徑内。 60.如申請專利範圍第59項之系統，其進一步包含： 該測量儀器是一功率測量儀。 5 61.如申請專利範圍第59項之系統，其進一步包含： 該測量儀器是一中心波長偵測器。 62.如申請專利範圍第59項之系統，其進一步包含： 該測量儀器是一頻寬偵測器。 6 3. —種窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 10 生系統，該系統會產生一以一選定脈衝重覆速率來連 續發射一選定數目雷射輸出光脈衝之光束，該光束可 供用於一使用光工具機，該系統包含： 該雷射輸出光脈衝光束是於空間分離但非時間分 離雷射光脈衝光束組份内包含數個中心波長光譜； 15 一雷射輸出光脈衝光束參數測量儀模組； 一設置於該光束參數測量模組内之光束功率測量 儀，其會量測該雷射輸出光脈衝光束内之個別空間分 離但並非為時間分離的雷射光脈衝光束部份之個別功 率，以及該雷射輸出光脈衝光束内個別空間分離但並 20 非為時間分離部份所包含之個別功率總和。 64.如申請專利範圍第56項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 組所量測之一光束參數，該控制是以回饋控制來回應 62 1258257 該來自光束參數測量模組之輸出。 65. 如申請專利範圍第57項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 5 組所量測之一光束參數，該控制是以回饋控制來回應 該來自光束參數測量模組之輸出。 66. 如申請專利範圍第58項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 10 組所量測之一光束參數，該控制是以回饋控制來回應 該來自光束參數測量模組之輸出。 67. 如申請專利範圍第59項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 15 組所量測之一光束參數，該控制是以回饋控制來回應 該來自光束參數測量模組之輸出。 68. 如申請專利範圍第60項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 20 組所量測之一光束參數，該控制是以回饋控制來回應 該來自光束參數測量模組之輸出。 69. 如申請專利範圍第61項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 63 1258257 組所量測之一光束參數，該控制是以回饋控制來回應 該來自光束參數測量模組之輸出。 70. 如申請專利範圍第62項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 5 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 組所量測之一光束參數，該控制是以回饋控制來回應 該來自光束參數測量模組之輸出。 71. 如申請專利範圍第63項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組會回應一來自 10 該光束參數測量模組之輸出，該回應是控制該量測模 組所量測之一光束參數，該控制是以回應該來自光束 參數測量模組之輸出來進行回饋控制。 72. 如申請專利範圍第56項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 15 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 73. 如申請專利範圍第57項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 74. 如申請專利範圍第58項之系統，其進一步包含： 20 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 75. 如申請專利範圍第59項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 64 1258257 76. 如申請專利範圍第60項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 77. 如申請專利範圍第61項之系統，其進一步包含： 5 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 78. 如申請專利範圍第62項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 10 79.如申請專利範圍第63項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該回饋控制光束參數之使用光束的工具機之輸出。 80. 如申請專利範圍第56項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 15 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 81. 如申請專利範圍第57項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 20 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 82. 如申請專利範圍第58項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 65 1258257 83.如申請專利範圍第59項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 5 84.如申請專利範圍第60項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 85. 如申請專利範圍第61項之系統，其進一步包含： 10 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 86. 如申請專利範圍第62項之系統，其進一步包含： 、 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 15 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 87. 如申請專利範圍第63項之系統，其進一步包含： 一光束參數調控模組，該調控模組是回應於一來 自該工具機的輸出以及一來自於以回饋控制來所調制 20 的光束參數之該光束參數測量模組的輸出。 88. —種窄頻短脈衝時程氣體放電雷射輸出光脈衝光束產 生系統，該系統會產生一以一選定脈衝重覆速率來連 續發射一選定數目雷射輸出光脈衝之光束’該光束可 供用於一使用光束之工具機，該系統包含： 66 1258257 該雷射輸出光脈衝光束是由數個具有一第一中心 波長以及數個具有一第二中心波長之脈衝所構成，該 兩中心波長具有_選定之中心波長差異； 一雷射輸出光脈衝光束參數測量儀模組； 一雷射控制器； 一波長控制器，該波長控制器是藉由回應至少一 來自該光束參數測量儀模組之訊號以及回應至少一來 自该雷射控制器之訊號，來控制個別之中心波長以及 中心波長差異。 10 89.如申請專利範圍第88項之系統，其進一步包含： 該波控制ϋ是藉由回應至少_來自該使用光工具機 之喊，來控制個別之中心波長以及中心波長差異。 9〇·如申請專利範圍第88項之系統，其進一步包含： 15 該波長控制器是藉由回應至少一來自該使用光束 之工具機之訊號，來控制一週期性波長控制訊號之週 期0 91. 如申請專利範圍第89項之系統，其進一步包含： 20 該波長控制器是藉由回應至少一來自該使用光束 =訊號，來控制-週期性波長控制訊號之遇 92. 如申請專利範圍第90項之系統，其進一步包含. 自代iir來自該㈣光卫具機訊號是包含一搁取 自代表下列群組之訊號 所欲之中心波^定/田£域内脈衝數目、一 長q、—所欲之波峰連續波峰分離、 67 1258257 一所欲之中心波長。 93·如申請專利範圍第91項之系統，其進_步包含·· 口亥至夕-來自該使用光束之工具機的訊號，係包 含一擷取自代表下列群組之訊號··一代表掃描區域内 脈衝之數目的訊號、一所欲之中心波長組之訊號、一 所欲之波峰至連續波峰分離訊號、一所欲之中心波長 訊號。 94.如申請專利範圍第92項之系統，其進一步包含： 該至少一來自該使用光束之工具機的訊號，係包 含/-擷取自代表下列群組之訊號··一代表掃描區域内 脈衝之數目的訊號、一所欲之中心波長組之訊號、一 所奴之波峰至波峰分離訊號、一所欲之中心波長訊號 週期性週期性。 95·如申請專利範圍第93項之系統，其進一步包含·· 该波長控制器會依據該掃描區域内之脈衝數目來 選取一週期性中央波長調變訊號，以及該週期性中央 波長調變訊號之週期。 96·如申請專利範圍第90項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號，其包含：數個第一中心波長連 續脈衝、數個第二中心波長連續脈衝、以及數個落在 該數個第一中心波長連續脈衝與數個第二中心波長連 績脈衝間之至少-過渡脈衝，個別之過渡脈衝是位於 該等數個第一中心波長連續脈衝連續至該數個第二中 心波長連續脈衝間，且其中於該個別之過渡脈衝時雷 1258257 射未被激發。 97·如申請專利範圍第91項之系統，其進_步包含： 該波長調變訊號，其包含：數個第一中心波長連 續脈衝、數個第二中心波長連續脈衝、以及數個落在 5 該數個第一中心波長連續脈衝與數個第二中心波長連 續脈衝間之至少一過渡脈衝，個別之過渡脈衝是位於 5亥荨數個弟一中心波長連績脈衝連續至該數個第二中 心波長連續脈衝間，且其中於該個別之過渡脈衝時雷 射未被激發。 10 98·如申請專利範圍第92項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號，其包含：數個第一中心波長連 續脈衝、數個第二中心波長連續脈衝、以及數個落在 5亥數個苐一中心波長連續脈衝與數個第二中心波長連 續脈衝間之至少一過渡脈衝，個別之過渡脈衝是位於 5 该荨數個第一中心波長連績脈衝連續至該數個第二中 心波長連續脈衝間，且其中於該個別之過渡脈衝時雷 射未被激發。 "·如申請專利範圍第93項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號’其包含：數個第一中心波長連 20 續脈衝、數個第二中心波長連續脈衝、以及數個落在 該數個第一中心波長連續脈衝與數個第二中心波長連 續脈衝間之至少一過渡脈衝，個別之過渡脈衝是位於 該等數個第一中心波長連續脈衝連續至該數個第二中 心波長連續脈衝間，且其中於該個別之過渡脈衝時雷 69 1258257 射未被激發。 100.如申請專利範圍第92項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一具有由該掃描區域週期決 定之週期的緩慢正弦訊號。 5 101.如申請專利範圍第93項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一具有由該掃描區域週期決 定之週期的緩慢正弦訊號。 102. 如申請專利範圍第94項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一具有由該掃描區域週期決 10 定之週期的緩慢正弦訊號。 103. 如申請專利範圍第95項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一具有由該掃描區域週期決 定之週期的緩慢正弦訊號。 104. 如申請專利範圍第92項之系統，其進一步包含： 15 該波長調變訊號包含一具有由一該雷射之脈衝重 覆率的部分所決定之頻率的快速正弦訊號。 105. 如申請專利範圍第93項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一具有由一該雷射之脈衝重 覆率的部分所決定之頻率的快速正弦訊號。 20 106.如申請專利範圍第94項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一具有由一該雷射之脈衝重 覆率的部分所決定之頻率的快速正弦訊號。 107.如申請專利範圍第95項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一具有由一該雷射之脈衝重 70 1258257 覆率的部分所決定之頻率的快速正弦訊號。 108.如申請專利範圍第92項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一由該掃描區域週期決定之 週期的圓方波。 5 109.如申請專利範圍第93項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一由該掃描區域週期決定之 週期的圓方波。

110. 如申請專利範圍第94項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一由該掃描區域週期決定之 10 週期的圓方波。 111. 如申請專利範圍第95項之系統，其進一步包含： 該波長調變訊號包含一由該掃描區域週期決定之 週期的圓方波。 112. 如申請專利範圍第96項之系統，其進一步包含： 15 一強度控制器，其分別控制該第一中心波長脈衝

與該第二中心波長脈衝之強度。 113. 如申請專利範圍第97項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該第一中心波長脈衝 與該第二中心波長脈衝之強度。 20 114.如申請專利範圍第98項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該第一中心波長脈衝 與該第二中心波長脈衝之強度。 115.如申請專利範圍第99項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該第一中心波長脈衝 71 1258257 與该第二中心波長脈衝之強度。 116·如中請專利範圍第10G項之系統，其進-步包含： 一強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較長 波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 5 117·如申請專利範圍第1〇1項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較長 波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 118·如中請專利範圍第⑽項之系統，其進—步包含： 強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較 1〇 長波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 119.如申請專利範圍第1〇3項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較長 波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 120·如申請專利範圍第1〇4項之系統，其進一步包含： 15 一強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較 長波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 121.如申請專利範圍第1〇5項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較長 波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 20丨22·如申睛專利範圍第106項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較 長波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 123.如申晴專利範圍第⑺了項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該正弦調變訊號之較 72 1258257 長波長部份與該正弦調變訊號之較短波長部份之強度。 124.如申請專利範圍第1〇8項之系統，其進一步包含·· 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強度。 5 125·如申請專利範圍第109項之系統，其進一步包含： 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強度。 126·如申睛專利範圍第110項之系統，其進一步包含： 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 10 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強度。 127·如申請專利範圍第111項之系統，其進一步包含： 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強度。 128·如申請專利範圍第112項之系統，其進一步包含： 15 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強度。 129·如申請專利範圍第113項之系統，其進一步包含： 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強度。 20 130·如申請專利範圍第114項之系統，其進一步包含： 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強度。 131.如申請專利範圍第115項之系統，其進一步包含： 該強度控制器，其分別控制該圓方波所產生較長 73 1258257 波長脈衝與該圓方波所產生較短波長脈衝之強声 132_如申請專利範圍第92項之系統，其進一步包含· 錢長調變訊號包含一具有由該掃福區 疋之週期的緩慢週期性訊號。 、决 133·如中請專利範圍第93項之祕，其進-步包含· 該波長調變訊號包含一具有由該掃 定-«的緩慢週期性訊號。 134.如中請專利範圍第94項之系統，其進-步包含： 10 15 20 °亥波長凋變訊號包含一具有由該掃描區域週期 定之週期的緩慢週期性訊號。 … 135·如巾請專利範圍第95項之系統，其進-步包含： 該波長調變訊號包含一具有由該掃描區域週 定之週期的緩慢週期性訊號。 … 136·如中請專利範圍第92項之系統，其進-步包含： 該波長調變訊號包含一頻率由一該雷射 速率組份決定之快速正弦訊號。 137·如中請專利範圍第93項之系統，其進-步包含： …該波長調變訊號包含一具有由一該雷射脈 率部決定之頻率的快速週期性訊號。 ^ 138·如巾請專利範圍第94項之系統，其進_步包含： 。亥波長.周變訊號包含_具有由一該雷射脈衡重 率部決定之頻率的快速週期性訊號。 ^ 139·如中請專利範圍第叫之系統，其進_步包含： 該波長調變訊號包含一具有由一該雷射脈衝重巧 74 1258257 率部決定之頻率的快速週期性訊號。 〇.如申晴專利範圍第132項之系統，其進一步包含： 強度控制H ’其分別控制該週期性調變訊號之 較長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 強度。 141·如巾請專利$1圍第133項之“，其進_步包含： i 一強度控制器’其分別控制該週期性調變訊號之 車乂長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 強度。 142·如巾請專利範圍第134項之純，其進_步包含： -強度控制器’纟分難制該週期性調變訊號之 較長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 強度。 143.如申請專利範圍第135項之系統，其進_步包含： 一強度控制器，其分別控制該週期性調變訊號之 車又長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 強度。 144·如巾請專利範圍第136項之系統，其進_步包含： 1 一強度控制器，纟分別控制該週期性調變訊號之 較長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 強度。 145.如中請專職圍第137項之系統，其進_步包含： 1 一強度控制器，其分別控制該週期性調變訊號之 車又長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 75 1258257 強度。 146. 如申請專利範圍第138項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該週期性調變訊號之 較長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 5 強度。 147. 如申請專利範圍第139項之系統，其進一步包含： 一強度控制器，其分別控制該週期性調變訊號之 較長波長部份與該週期性調變訊號之較短波長部份之 強度。 76