TWI230301B - Color filter substrate and fabricating method thereof - Google Patents
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Description
1230301 五、發明說明(1) 【發明所屬之技術領域】 本發明是有關於一種形成彩色濾光片基板之方法,且 特別是有關於一種具平坦化效果之形成彩色濾光片基板的 方法。 【先前技術】
薄膜電晶體液晶顯示器(以下簡稱TFT-LCD或液晶顯示 螢幕),主要是利用成矩陣狀排列的薄膜電晶體,配合適 當的電容、轉接墊等電子元件來驅動液晶像素,以產生豐 富亮麗的圖形。由於TFT-LCD具有外型輕薄、耗電量少以 及無輻射污染等特性,因此被廣泛地應用在筆記型電腦 (notebook)、個人數位助理(PDA)等攜帶式資訊產品上, 甚至已有逐漸取代傳統桌上型電腦之CRT監視器的趨勢。 在傳統的液晶顯示螢幕製作中,彩色濾光片基板是以 鉻(Cr)作為黑色矩陣(black matrix,BM)之材料。請參照 第1圖’其繪示傳統液晶顯示螢幕以鉻為黑色矩陣和顯示 單元之簡單示意圖。一般而言,鉻膜104的厚度約〇入 200 0A (0·1-0·2 //m),顯示單元如紅色r、綠色g、藍色
B顯不單元的厚度約丨· 5 # m。然而,在製程中蝕刻鉻所產 生的重金屬’對環境會造成嚴重污染,因此,近幾年多以 黑色樹脂作為黑色矩陣之材料。 請參照第2圖,其繪示傳統液晶顯示螢幕以黑色樹脂 广Λ色丄矩陣和顯示單元之簡單示意圖。首先,冑黑色樹脂 (為負先阻型)塗佈於裸玻璃基板上,然後經由曝光顯影而
1230301 五、發明說明(2) '-- 形成黑色樹脂矩陣(res in BM)204。由於在相同的厚度 時’黑色樹脂矩陣204的吸光度(〇·!)·,optical density) 較鉻膜104為小,遮光效果差,因此在設計上需要增加樹 脂的厚度以達到如鉻膜1〇4般之吸光效果。一般而言,黑 色樹脂矩陣204的厚度約1 · 4 //m,可達到〇· D值4· 2。當幾 乎與之等高的顯示單元R、G、B形成時,會在黑色樹脂矩 陣204的兩侧頂端,亦即顯示單元與黑色樹脂矩陣之重疊 處產生嚴重的凸角,而造成後續疊層之不平坦。因此,需 要在顯示單元R、G、B與黑色樹脂矩陣204的上方形成一= 護層(over coat) 2 08作為一平坦化層,再進行後續製程:、 此外,由於黑色樹脂的透光性不佳,於曝光時需要較高的 曝光能量,約100〜200 mj,且加上黑色樹脂黏度高等原 因,均使得黑色樹脂在顯影後容易有殘留物(1^31(11^)滯 留,影響黑色矩陣之圖形。 【發明内容】 有鑑於此,本發明的目的就是在提供一種彩色濾光少 基板及其形成方法,用以形成具有平坦化之功效之^
光片基板,其製程可省略傳統方法中之保護層和顯景^ " 驟’進而節省時間,降低生產成本。 根據本發明的目的,提出一種形成彩色濾光片基板之 方法,係應用於一液晶顯示螢幕之製作上,其中 於 璃基板(glass substrate)上係已形成—顯示單元圖案 (R-G-B pattern) °形成方法包括以下步驟:首先,塗佈
1230301 五、發明說明(3) 一光致變色材料層(photochromic material)於玻璃基板 上,並覆蓋顯示單元圖案;然後,對光致變色材料層進行 曝光,使光致變色材料層照光的部分形成一不透光區 (opaque region),未照光的部分則形成一透光區 (transparent region);接著,進行烘烤步驟,以硬化光 致變色材料層。其中,本發明之光致變色材料層例如是: 一具有光學排列特性之侧鏈液晶高分子(Side chain LC polymer with photo alignment property),或是含有染 料或染料前趨物之光阻。 為讓本發明之上述目的、特徵、和優點能更明顯易 懂,下文特舉較佳實施例,並配合所附圖式,作詳細說明 如下: 【實施方 本發 material 前和照光 藉由本發 平坦問題 此實施例 清楚凸顯 關元件。 請參 色矩陣形 式】 明係利用一種光致變色材料(ph〇t〇chr〇mic )作為遮光層,例如為黑色矩陣,此材料在照光 後會產生顏色變化,而有不透光或透光之效果, 明可解決了傳統上使用黑色樹脂矩陣所造成的不 。以下即以較佳實施例做本發明之詳細說明,但 並不會對本發明欲保護之範圍做限縮。此外,為 本發明之技術特點,參考圖示僅列出實施例之相 照第3A〜3D圖,其繪示依照本發明一實施例之黑 成方法的不意圖。首先,於一玻璃基板(glass
第7頁 1230301 五、發明說明(4) 51^31:『&七6)302上形成一顯示單元圖案(1?-6-6 pattern)303,如第3A圖所示。然後,形成一光致變色材 料層(photochromic material) 304 於玻璃基板 302 上,並 覆蓋顯示單元圖案303,如第3B圖所示。接著,提供一具 有特定圖形之光罩3 0 6,再依照光罩3 0 6上之特定圖案,對 光致變色材料層304進行曝光,如第3C圖所示。 本發明之光致變色材料層304例如是一具有光學排列 特性之側鍵液晶南分子(Side chain LC polymer with photo alignment property)。此種液晶高分子在照光後 會排列成一特定方向,並且產生交互鏈結 (cross-linked),使光線無法通過;而未照光的液晶分子 則保持原來的狀態,使光線可通過。因此,如第3D圖所 示’光致變色材料層304照光的部分形成不透光區(opaque region)304a,未照光的部分則形成透光區(transparent region)304b。不透光區304a可用以作為黑色矩陣(black matrix , BM) 〇 另外,本發明之光致變色材料層3 0 4亦可選擇具有混 合染料或染料前趨物(precursor)的一般光阻。在曝光 前,此光阻為透光材料,在曝光後,染料或染料前趨物變 色而具有不透光之效果。 在光致變色材料層304形成不透光區30 4a和透光區 304b後’再進行烘烤步驟(p〇st_curing),使殘留的溶劑 含量降低,硬化光致變色材料層3〇4,並提升其對玻璃基 板302表面的附著能力。值得注意的是,在烘烤步驟後,
TW1104F 倚美).ptd 第8頁 1230301 五、發明說明(5) 不透光區與透光區仍分別維持其不透光與透光之特性。 另外,本發明之曝光方式視實際應用之製程而定,也 可使用背面曝光之方式。背面曝光係利用顯示單元圖案 303作為遮光物,對光致變色材料層304進行曝光,而不需 提供光罩306。進行背面曝光後,被顯示單元圖案303阻擋 的部分不照光而形成透光區304b,未被顯示單元圖案303 阻擋的部分則照光形成不透光區3 〇 4 a。
再者’透光的光致變色材料層(photochromic material )304亦可填入部分顯示單元圖案3〇3之空隙。然 後’對透光之光致變色材料層304進行曝光,使透光之光 致變色材料層304照光的部分形成一不透光區(opaqUe regi〇n)304a,作為一遮光層。
另外,應用本發明之方法於一液晶顯示元件時,係令 上述之顯示單元圖案303形成於第一基板上,且令光致變 色材料層304亦形成於第一基板上並部分覆蓋顯示單元圖 案303,光致變色材料層3〇4並具有複數個不透光區⑽“與 複數個透光區304b,其中不透光區30乜係位於顯示單元^ 案3 0 3之間,以作為液晶顯示元件之一遮光層。接著,再 以一第二基板與該第一基板平行設置並對位組裝, 晶’以形成一液晶顯示元件。 傳統之黑色樹脂矩陣(如第2圖所示)相較,本 之光致變色材料層3〇4可平整地覆蓋顯示單元圖案3 而要另外形成一保護層2〇8,即可達 ^ 利用光致變色㈣照光前可透光、照光後力;;性而
J2303〇1 五、發明說明(6) — 及其具平坦化之效果,可省略顯影步驟,因此沒有傳統方 法中樹脂殘留的問題。因此,本發明形成黑色矩陣之方 法,不但具爭坦化之功效,其簡化的製程(省略保護層和 顯影步驟)更可節省時間、降低生產成本。 ^曰 綜上所述,雖然本發明已以較佳實施例揭露如上,铁 1並非用以限定本發明,任何熟習此技藝者,在 = 範圍”,當可作各種之更動與潤飾, 呆濩範圍當視後附之申請專利範圍所界定者為準。 第10頁 TW1104F 倚美).ptd 1230301 圖式簡單說明 【圖式簡單說明】 第1圖繪示傳統液晶顯示螢幕以鉻 單元之簡單示意圖; "、、“、、色矩陣和顯示 第2圖繪示傳統液晶顯示螢幕以黑 和顯示單元之簡單示意圖;及 、曰為黑色矩陣 第3A〜3D圖緣示依照本發明一實施 方法的示意圖。 』之黑色矩陣形成 圖式標號說明 鉻膜 黑色樹脂矩陣 保護層 玻璃基板 顯示單元圖案 光致變色材料層 304a :不透光區 304b :透光區 306 :光罩 TW1104F 倚美).ptd 第11頁 春
Claims (1)
1230301 六、申請專利範圍 1 · 一種形成彩色濾光片基板(black matrix,BM)之 方法’係應用於一液晶顯示螢幕之製作上,其中,於一基 板(glass substrate)上係已形成一顯示單元圖案(R-G-B pattern),該方法包括以下步驟: 塗佈一光致變色材料層(photochromic material)於 該基板上,並覆蓋該顯示單元圖案;及 對該光致變色材料層進行曝光,使該光致變色材料層 照光的部分形成一不透光區(〇pa(JUe region),未照光的 部分則开> 成一透光區(transparent regi〇n),其中該不透 光區係作為一黑色矩陣。 2·如申請專利範圍第1項所述之方法,其中在曝光步 驟後,再進行烘烤步驟,以硬化(post —curing)該光致變 色材料層。 ^ 3 ·如申請專利範圍第2項所述之方法,其中烘烤步驟 後,該不透光區與該透光區仍分別維持其不透光與透光之 特性。 法,其中係提供一 之一特疋圖案,再 變色材料層進行曝 4 ·如申清專利範圍第1項所述之方 光罩’且該光罩上具有形成該黑色矩陣 依照該光罩上之該特定圖案,對該光致 光0 5.如申請專利範圍第1項所述之方法,苴中 璃基板之背面進行曝光,使被該顯示單元圖案阻矜 不照光而形成該透光區,未被該顯示單 ^ ^从邻7刀 則照光形成該不透光區。 早疋圖案阻擋的部分
1230301 六、申請專利範圍 6 ·如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該光致變 色材料層為一具有光學排列特性之侧鏈液晶高分子(S i d e chain LC p〇iymer with ph〇t〇 alignment pr〇perty)。 7·如申請專利範圍第i項所述之方法,其中該光致變 色材料層為一含有染料或染料前趨物(dye precurs〇r)之 光阻。 8 ·如申請專利範圍第1項所述之方法,其中該光致變 色材料層係平整地覆蓋該些顯示單元,使該彩色濾光片基 板平坦化。
9 · 一種液晶顯示元件,包括: 一下基板; 複數個顯示單元,係形成於該下基板上; 一光致變色材料層,係形成於該下基板上並平整地覆 蓋該些顯示單元,並具有複數個不透光區與複數個透光 區, 一上基板,具有一薄膜電晶體陣列; 一液晶層,設置於該下基板與該上基板之間;
其中’該些不透光區係位於該些顯示單元之間,以形 成該液晶顯示元件之一黑色矩陣,該些透光區則位於該些 顯示單元之上方,且該光致變色材料層可使該液晶顯示元 件平坦化。 10·如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示元件,其 中該些顯示單元由複數個紅色顯示單元、複數個綠色顯示 單元和複數個藍色顯示單元所組成。
TW1104F 倚美).ptd 第13頁 1230301 六、申請專利範圍 11·如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示元件,其 中該光致變色材料層為一具有光學排列特性之侧鏈液晶高 分子。 12·如申請專利範圍第9項所述之液晶顯示元件,其 中該光致變色材料層為一含有染料或染料前趨物之光阻。 13· 一種彩色濾光片基板之形成方法,至少包括以下 步驟: 在一基板上形成一彩色濾光圖案,其中該圖案間具有 空隙; 形成一透光之光致變色材料層(photochromic material) 於該基板上,並填入部分該空隙;及 對該透光之光致變色材料層之一第一部份進行曝光, 使該透光之光致變色材料層之該第一部分形成一不透光區 (opaque region),作為一遮光層,該透光之光致變色層 之一第二部分係覆蓋該彩色濾光圖案。 14·如申請專利範圍第1 3項所述之方法,其中在曝光 步驟後,再進行烘烤步驟,以硬化(post-curing)該光致 變色材料層。 15·如申請專利範圍第1 3項所述之方法,其中係提供 一光罩’且該光罩上具有形成該遮光層之一特定圖案,再 依照該光罩上之該特定圖案,對該光致變色材料層進行曝 光。 16·如申請專利範圍第1 3項所述之方法’其中係自該 玻璃基板之背面進行曝光,使被該顯不早元圖案阻擔的部
TW1104F 倚美).ptd 第14頁 1230301
六、申請專利範圍 分不照光而形成一透光區,未被該顯不單元圖案阻擋的部 分則照光形成 '一不透光區。 17·如申請專利範圍第1 3項所述之方法,其中該光致 變色材料層為一具有光學排列特性之侧鏈液晶高分子 (Side chain LC polymer with ph〇to alignment property) 〇 18·如申請專利範圍第1 3項所述之方法,其中該光致 變色材料層為一含有染料或染料前趨物(dye precursor) 之光阻。
19·如申請專利範圍第1 3項所述之方法,其中該光致 變色材料層係平整地覆蓋該些顯示單元,使該彩色濾光片 基板平坦化。 2 0· —種液晶顯示元件,包括: 一第一基板; 一彩色濾光層圖案,係形成於該第一基板上;
一光致變色材料層,係形成於該第一基板上並部分覆 蓋該彩色濾光層圖案,並具有複數個不透光區與複數個透 光區’其中該些不透光區係位於該些彩色濾光層圖案之 間’以作為該液晶顯示元件之一遮光層; 一第二基板,係與該第一基板平行設置;以及 一液晶層,設置於該第一基板與該第二基板之間。 2 1 · 如申請專利範圍第2 0項所述之液晶顯示元件,其 中該彩色濾光層圖案係由複數個紅色顯示單元、複數個綠 色顯示單元和複數個藍色顯示單元所組成。
第15頁 TW1104F 倚美).ptd ;:m4 1230301 六、申請專利範圍 22. 如申請專利範圍第20項所述之液晶顯示元件,其 中該光致變色材料層為一具有光學排列特性之侧鏈液晶高 分子。 2 3. 如申請專利範圍第2 0項所述之液晶顯示元件,其 中該光致變色材料層為一含有染料或染料前趨物之光阻。 TW1104F 倚美).ptd 第16頁
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CN112987362A (zh) * | 2019-12-17 | 2021-06-18 | 上海仪电显示材料有限公司 | 液晶显示基板及其形成方法、液晶显示面板及其形成方法 |
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