TWI229747B - Phase-contrast fraud protection method - Google Patents

Description

1229747 ‘ ， _案號91105121_年月日_修正 _ 五、發明說明（1) 【發明領域】 本發明係提供一種可作為機密文件或物品防偽效果之 防偽方法，尤其是指一種利用經過特殊處理之位相差片將 圖樣隱藏，再利用與偏光片結合方式可顯示圖樣之位相差 式防偽方法。 【發明背景】 由於科技的進步’無論是機械加工、電每、掃描技術 或是印刷技術已有大幅度的進步，而目前常採用之防偽方 法及結構已面臨許多挑戰。

目前常用的防偽方法，係利用雷射全像片或是繞射光 栅之雷射防偽結構，再外覆一透明塑膠保護膜，以進行隱 藏圖樣於欲防偽物品上。而利用雷射全像片或繞射光柵結 構將圖樣隱藏，於光線照射下則可顯示出圖樣，且仿冒者 可將透明塑膠保護膜去除後，利用電鑄的技術即可將雷射 全像片或繞射光柵結構予以複製，且仿冒者可任意製作一 相似之標籤來取代真正之雷射防偽標籤，一般非專業辨識 人員在缺乏原版之防偽標籤比對下，亦無法正確地予以辨 識其真偽。另外，在印刷技術及數位取樣技術進步之下， 精密印刷之防偽圖樣亦很容易利用高解析度之掃描器及印 刷設備複製至人眼難以分辨之程度。

如習知專利所揭示，利用兩片光柵片或全像片，其中 一片為判讀片，當判讀片以適當角度覆蓋另一片後，其產 生之疊紋才可形成可供辨識用之圖樣，以解決上述容易以 人眼辨識出防偽物品上之防偽圖樣的問題，但該全像片或

第4頁 1229747 _案號91105121_年月曰 修正_ 五、發明說明（2) 是光柵片之製作困難度高且成本昂貴。 【發明目的】 本發明之主要目的，在於提供一種利用位相差片上隱 藏圖樣以構成防偽結構，及偏光片之辨識裝置覆蓋於該防 偽結構後顯示出防偽圖樣之防偽方法，達到提高防偽之效 益。 本發明之另一目的，在於解決習知利用精密印刷、全 像片及光柵之防偽方法，易於偽造複製之問題，而提出一 種以人眼無法直接看出隱藏之圖樣且不易偽造之防偽方法 〇

【發明之簡要說明】 為達上述之目的，本發明之位相差式防偽方法，係提 供利用經過特殊處理過後之位相差片以隱藏防偽或是機密 圖樣，該位相差片具有不同位相差之隱藏圖樣區域與背景 區域，當結合可產生及過濾偏極光之辨識裝置後，而能於 隱藏圖樣區域與背景區域產生不同之透光率而顯示出特殊 設計之隱藏圖樣；本發明更可利用位相差可疊加或補償的 特性，用一片以上之位相差片來組合出欲隱藏之圖案，亦 可將帶有部分隱藏圖樣之位相差片與偏光片構成辨識裝置 ，以提高複製難度之效益而作為高度防偽。

【發明之詳細說明】 請參閱【第1圖】所示，係本發明位相差式防偽方法 示意圖，該防偽方法係提供具有隱藏圖樣1 1之位相差片 1 〇 ，該位相差片1 〇係由具有不同位相差之隱藏圖樣區

第5頁 1229747巍91·21年、日修正 \)y 3 明 說 明 發 、 五 位置背 明裝與 發識2 本辨 1 之之域 1光區 圖極樣 2偏圖 第濾藏 ί過隱 如及使 {生可 成產， 組可合 所當結 3 ， ο 1 \)/ ^—-_ 域示片 區所差 景圖相 背意位 與示該 2片與 1差ο 域相2 而讀 ， 判 IX 以 1加 樣式 圖方 藏的 隱識 出辨 示器 顯機 而或 率眼 光人 透用 之利 同以 不可 生 1^_ 產1-1 3樣 ττΗ ial 域藏 區隱 景該 差 相 位 該 中 其 示 所 li 圖 2 第 η 及 J 圖 1 第 rL 閱 〇參 偽再 真 其 針理 係處 作學 製化 之如 3 ( 1理 域處 區殊 景特 背過 與經 2 0 Ίχ IX 域片 區差 樣相 圖位 藏之 隱遲 之延 上位 ο相 1某 片對 或域 份區 部樣隱， 除圖其此 去藏，因 等隱前， 理該合態 處而結狀 熱，ο明 、成2透 形置 以裝 }識 工辨 加與 之未 性3 特1 遲域 延區 差景 相背 位與 部2 全 τ"_ 現隱 呈之 均ο 0〇 IX 1片 域差 區相 景位 背到 與看 2接 rH直 域法 區無 樣者 圖察 藏觀

IX 法 無 樣亦 圖ο 藏1 板效 差之 相偽 位防 該達 於可 射， 照此 源因 光， 之1 般1 一樣 用圖 利藏 者隱 察該 觀出 另示 ，顯 益 片 差 相 位 - 少 至 由 可 IX IX έκ 榡 圖 藏 隱 之 ο 1Μ 片 差 相 位 該 二位合 有一疊 具第片 明由差 發係相 本ο位 係 1 片 ，片兩 示差之 所相Β 1位ο 一玉旦合田r*H 3 ， 片 第圖差 t意相 閱示位 參法二 請方第 ，偽及 成防A 而之ο τ—ί 疊差片 o相.差 1位相 置之 位上 該Β 由ο 係1 差片 相差 位相 之位 置二 位第 一及 每A 上ο ο ί—-1 IX 片 片差 差相 相位 位一 該第 則於 ，應 成對 而相 同ο 不1 於片 散差 分相 1位 1 二 樣第 圖或 藏A 隱ο 將1 可片 式差 方相 述位 上一 •，第 成如 而C 總片 加差 差相 相位 位之

第6頁 1229747 案號 91·21 , , a 修正 明 說 明 發 、 五

B 上

於 置 \)/ A ο 1 片 差 目 才 位一 第 如 /IV 片 差 相 位一 將 4)再 /(V

ο合 r-H田豐 片的 差確 相準 位片 二差 第相 如位 C 片 片兩 差此 相當 位， 一上 另ο 而2 ，置 上裝 品識 物辨 之於 偽置 防 欲B 何圖之 任之整 用分完 利部知 者有得 察於法 觀由無 當但亦 ， ， 者 此樣察 因圖觀 。之該 樣上故 圖品， 的物上 藏偽ο 隱防CM 所欲置 出到裝 合取識 組讀辨 能法該 才方於 ，殊係 後特樣 第樣 片ί圖 差如將 相C } 位式示 一方所 圖 ri 該點圖 ， 亂 4 且用第 而利t 。可如 造B C 偽ο式 行1方 進片圖 能差紋 不相條 而位或 ί~•二 \ly 一—^第示 樣及所 圖A 藏ο圖 隱1 3 之元 合二 結以 置不 裝並 識作 辨製 與之 未圖 於點 對IL 艮 00 士Φ 人且 使·， ，難 圖困 紋為 條更 或識 圖辨 點之 亂樣 至圖 藏偽 隱防 可， 亦式 ，方 限作 為製 }片 差差 § ΘΜ 才才 位位 零階 為灰 域合 區配 之並 工圖 加點 已亂 C工 差加 相式 位方 工階 加灰 式用 方利 不讀 之者 期察 週觀 意當 任時 為樣 以圖 可藏 向隱 方為 之作 紋式 條方 該圖 中點 其亂 式用 方利 圖而 紋； 條紋 該條 以 而規 ，偽 點防 亂將 多圖 許紋 為條 係及 樣圖 圖點 之亂 來以 出， 示此 顯因 時樣 片圖 差藏 相隱 位出 片識 一辨 任法 到無 取而 第圖 t意 閱示 參之 請合 ’結 合片 結差 。ο相 益1位 效片與 偽差置 防相裝 高位識 提該辨 可與明 式ο發 方2本 的置係 變裝， 調識示 以辨所 加當1 樣 圖 圖 5 後 ，域 ο區 1—一樣 片圖 差藏 相隱 位之 於差 LV 目 身 入位 ΊχΙ51Τ 2不 光有 極具 偏上 之ο ο 1 2 片 置差 裝相 識位 辨該 該過 ，通 背第 與及 2 A IX 域2 區光 樣極 圖偏 藏一 隱第 於之 別向 分方 後化 之極 ，偏 3同 1不 域出 區射 ^ 3 背1 與域 2區 r-H旦厅

第7頁 1229747 案號 91·21 , , a 修正 5)2 明光 說極 剌偏 五二 使 ο 2 置 裝 識 辨 過 通 光 極 偏 道 兩 此 當 Β 而 率 光 透 之 同 不 生 產 3 IX 域 區 景 背 與。 0Λ- IX IX IX 域樣 區圖 樣藏 圖隱 藏出 隱示 該顯 不 或： 光明 透說 之細 品詳 物作 偽示 防圖 欲合 依配 可面 ο下 2 ， 置式 裝射 識反 辨及 之式 明透 發穿 本為 而分 光 透

括 包 可 A ο 2 置 裝 識 辨 式 透 穿 該 示 所 1J 圖 6 1 第 式L 透如 穿 rL ο 片光 差偏 相下 位及 及A A 2 2 2 2 片 片光 光偏 偏上 上該 之， 方B 上2 0 2 1 片 片光 差偏 相下 位之 於方 設下 上組 該件 且元 ，要 片必 光他 偏其 圓合 或結 片以 光可 偏B 圓2 橢CXI 、 片 片光 光偏 偏下 性及 線A 為2 可2 B 片 2光 2偏 ο光有 2偏具 置下上 裝於ο 識射1 辨照片 式3差 透2相 穿源位 當光於 ，一射 示以入 所 ，1 1後2 圖合光 7結極 第ο偏 ί 1生 閱片產 參差後 請相， •，位Β 組該2 模與2 成Α片 分方 後化 之極 ，偏 3同 1不 域出 區射 旦不3 背1 與域 2區 域背 區與 樣2 tta1—I 藏域 隱區 之樣 差圖 相藏 位隱 同於 不別 上極 過偏 通之 後定 之一 ，有 B具 1上 2 A 光2 極2 偏片 二光 第偏 及上 A該 1於 2由 光， 極A 偏2 一 2 第片 之光 向偏 偏 上 過 通 B T—Η 2 光 極 偏 二 第 及 A IX 2 光 極 偏 - 第 該 此 因 隱由 該藉 使， 而率 ，光 象透 現之 之同 透不 穿生 及產 收3 吸1 被域 光區 生景 產背 會與 ，2 後1 A域 2區 2樣 片圖 光藏 該的 當出 ，示 1 ^ 樣大 圖越 藏比 隱對 出之 示3 顯1 而域 下區 比景 對背 之與 同2 不1 率域 光區 透樣 之圖 述藏 上隱

1229747 _案號 91105121_年月日__ 五、發明說明（6) 隱藏圖樣越明顯；而當光源2 3照射於上偏光片2 2 A ， 再經過位相差板1 0 ，後由下偏光片2 2 B射出，亦可顯 示出隱藏圖樣1 1 。

再參閱【第6圖】所示，當上偏光片2 2A及下偏光 片2 2 B分別為水平線偏光片及垂直線偏光片，該位相差 板1 0為1/2又（半波長相位延遲）片，並藉由特殊處理 一 (如化學處理、熱處理、雷射處理等）使其隱藏圖樣區域 之位相差為1/2λ而該背景區域1 3之位相差為Ο λ ，且 ' 該下偏光片22Β為垂直方向之偏光片，位相差片10之 拉伸方向與下偏光片2 2 Β之偏光成4 5度角貼合，當光 線照射於下偏光片2 2 Β ，而產生垂直偏極光，後通過位 相差片1 0之隱藏圖樣區域1 2之垂直偏極光變為水平偏 極光，及通過背景區域1 3之垂直偏極光不變，後來，該 隱藏圖樣區域12之水平偏極光入射於水平方向之上偏光 片2 2Α而穿透，使該隱藏圖樣區域12完全透光，而該 垂直偏極光則被上偏光片2 2 Α吸收，使該背景區域1 3 呈現黑色，由於該隱藏圖樣區域1 2 (呈現完全透光）與 背景區域1 3 (呈現黑色）之色澤呈現最高對比，因此，

可清楚顯示該隱藏圖樣。而其他可達到上述對比效果之情 況，請參閱【第9圖】之係本發明各種位相差片與穿透式 辨識裝置結合後相對應隱藏圖樣區域與背景區域穿透率之 比較圖。 穿透式辨識裝置2 OA亦配合二片位相差片使用，請 參閱【第8圖】所示，其中該第一位相差片1 OA可貼於

第9頁 1229747 _案號 91105121_年月日__ 五、發明說明（7) 該一偏光片（如上偏光片22A)上，及第二位相差片 10B貼於另一偏光片（如下偏光片22B)上，再將貼 於第一位相差片1 OA上之上偏光片2 2A貼設於欲防偽 之可透光物品上，以將一部分圖樣隱藏於可透光物品，其 他部分圖樣隱藏於辨識裝置2 OA上，當第一位相差片 1 OA與第二位相差片1 〇 B準確疊合後，並由一光源 2 3入射於下偏光片22B ，才可顯示出隱藏圖樣，因 此，當僅具有透光物品或穿透式辨識裝置2 Ο A均無法得 知隱藏圖樣，因此，可達到更佳之防偽效果。

另外，穿透式辨識裝置2 OA可採用一可發射偏極光 之·偏極光發射器來取代【第7圖】中之一光源2 3及下偏 光片22B ，請參閱【第1 0圖】所示，該穿透式辨識裝 置2 Ο A均係包括一偏極光發射器2 5及設於位相差片 10下表面之下偏光片22B ，該穿透式辨識裝置20A 與相位差片1 0結合後，該偏極光發射器2 5發出一偏極 光2 1照射於該相位差片1 0之上表面，則顯示出隱藏圖 樣 。當該位相差片1 〇之下表面與下偏光片2 2 B之一面貼 合後，再將該下偏光片2 2 B之另一面貼於欲防偽之可透 光物品，則可隱藏圖樣於該物品上。

【反射式】 如【第1 1圖】所示，該反射式辨識裝置2 OB包括 一設於位相差片1 〇上方之偏光片2 2及一設於位相差片 1 0下方之偏極態保留性質之反射層2 4 ;其中該偏光片

第10頁 1229747 _案號 91105121_年月日__ 五、發明說明（8) 22可為線性偏光片、橢圓偏光片或圓偏光片，該反射層 2 4可為金屬反射層，且該偏光片2 2及反射層2 4可以 結合其他必要元件組成模組；當反射式辨識裝置2 Ο B與 該位相差片1 0結合後，以一光源2 3照射於偏光片2 2 ，後產生偏極光2 1入射於位相差片1 0上具有不同位相 差之隱藏圖樣區域1 2與背景區域1 3 ，之後分別經過隱 · 藏圖樣區域1 2與背景區域1 3產生不同極化方向之偏極 光，之後經由反射層2 4反射後，再通過隱藏圖樣區域 ~ 1 2與背景區域1 3射出形成第一偏極光2 1A及第二偏 極光21B ，再到達偏光片22 ，由於該偏光片22上具

有一定之偏極性，因此該第一偏極光2 1 A及第二偏極光 2 1 B通過偏光片2 2後，會產生光被吸收或穿透之現 象，而使該隱藏圖樣區域1 2與背景區域1 3產生不同之 反射率，藉由上述之反射率不同之對比下而顯示出隱藏圖 樣1 1 ，當該隱藏圖樣區域1 2與背景區域1 3之對比越 大則顯示出的隱藏圖樣越明顯。

再參閱【第1 1圖】所示，當偏光片2 2為水平線偏 光片，且該位相差板1 〇為1/4又片，並藉由特殊處理（ 如化學處理、熱處理、雷射處理等）使其隱藏圖樣區域 1 2之位相差為1 / 4 λ而該背景區域1 3之位相差為 〇又，且該偏光片2 2之極化方向與該位相差片1 0之拉 伸方向成4 5度角貼合後；當光線照射於偏光片2 2 ，而 產生水平偏極光，後通過位相差片1 0之隱藏圖樣區域 1 2之水平偏極光變為圓偏極光，及通過背景區域1 3之

第11頁 1229747 _案號91105121_年月日_修正_ 五、發明說明（9) 水平偏極光不變，後來，該圓偏極光經過偏極態保留性質 之反射層2 4之反射，再次通過隱藏圖樣區域1 2之位相 差1 / 4又而成為垂直偏光，使該隱藏圖樣區域1 2呈現黑 色，而通過背景區域1 3之水平偏極光則經由反射層2 4 反射，再通過背景區域1 3時仍為水平偏光’使該背景區 域1 3完全透光，由於該隱藏圖樣區域1 2 (呈現黑色） · 與背景區域1 3 (呈現反光）之色澤呈現最高對比，因 此，可清楚顯示該隱藏圖樣。 ~

該反射式辨識裝置2 Ο B亦配合二片位相差片使用， 請參閱【第1 2圖】所示，該第一位相差片1 Ο A可貼於 該偏光片22上，及第二位相差片1 OB貼於反射層24 上，再將反射層2 4貼於欲防偽之不透光物品上，以將一 部分圖樣隱藏於不透光物品，其他部分圖樣隱藏於反射式 辨識裝置2 OB上，當第一位相差片1 OA與第二位相差 片10B疊合，並由一光源23入射於該偏光片22 ，才 可顯示出隱藏圖樣，因此，當僅具有不透光物品或反射式 辨識裝置2 Ο B均無法得知隱藏圖樣，因此，可達到更佳 之防偽效果。

另外，請參閱【第1 3圖】所示，係本發明之另一反 射式辨識裝置示意圖，反射式辨識裝置2 Ο B亦可由一可 發射偏極光之偏極光發射器2 5及設於位相差片1 0下表 面之反射式偏光片2 6所組成；其中該反射式偏光片2 6 係為一具有反射層之偏光片，而該反射式偏光片2 6之偏 光片只反射特定偏極方向之偏極光，其餘偏極方向的光線

第12頁 1229747 _案號91105121_年月日_修正__ 五、發明說明（10) 會加以吸收或穿透；當該反射式辨識裝置2 Ο B與相位差 片1 0結合後，該偏極光發射器2 5發出一偏極光照射於 該相位差片1 0 ，後經由反射式偏光片2 6 ，使與反射式

偏光片2 6相同偏極方向之偏極光反射，而其它方向之偏 極光則經由反射式偏光片2 6穿透或被其吸收；由於該隱 藏圖樣區域1 2與背景區域1 3之位相差不同，故通過隱 藏圖樣區域1 2與背景區域1 3所產生的偏極光方向亦不 同，故入射於反射式偏光片2 6時，會產生不同之反射現 象，而具有不同之反射率，因而顯示出隱藏圖樣。而當該 位相差片1 0之下表面與反射式偏光片2 6之一面貼合後 ，再將該反射式偏光片2 6之另一面貼於欲防偽之不透光 物品，則可隱藏圖樣於該物品上。如【第1 3圖】所示， 當偏極光發射器2 5產生之偏極光方向為水平，反射式偏 光片2 6之偏極方向亦為水平，位相差片‘1 0為1/2又片 ，並藉由特殊處理（如化學處理、熱處理、雷射處理等） 使其隱藏圖樣區域1 2之位相差為1 / 2又而該背景區域 1 3之位相差為Ο λ ，而反射式偏光片2 6之極化方向與

該位相差片1 0之拉伸方向成4 5度角貼合；當由偏極光 發射器2 5所產生之水平偏極光通過位相差片1 0之隱藏 圖樣區域1 2之水平偏極光變為垂直偏極光，及通過背景 區域1 3之水平偏極光不變；當兩偏極光行進至水平偏極 方向之反射式偏光片2 6 ，通過隱藏圖樣區域1 2的垂直 偏極光被完全吸收或穿透，從上方觀察位置觀看則成為黑 色區域；通過背景區域1 3之水平偏極光則被反射式偏光

第13頁 1229747

第14頁 1229747 _案號 91105121_年月日__ 圖式簡單說明 【圖式之簡要說明】 第1圖，係本發明位相差式防偽方法示意圖。 第2圖，係本發明位相差片示意圖。 第3圖，係本發明具有二位相差片之防偽方法示意圖。 第4圖，係本發明利用條紋圖方式之位相差片示意圖。 第5圖，係本發明辨識裝置與位相差片結合之示意圖。 第6圖，係本發明之穿透式辨識裝置與單一位相差板結合 示意圖。 第7圖，係本發明之穿透式辨識裝置與單一位相差板之光 路不意圖。

第8圖，係本發明之穿透式辨識裝置與二位相板結合示意 圖。 第9圖，係本發明各種位相差片與穿透式辨識裝置結合後 相對應隱藏圖樣區域與背景區域透光率之比較圖。 第1 0圖，係本發明之另一穿透式辨識裝置示意圖。 第11圖，係本發明之反射式辨識裝置與單一位相差板示 意圖。 第1 2圖，係本發明之反射式辨識裝’置與二位相板示意圖 〇 第1 3圖，係本發明之另一反射式辨識裝置示意圖。

【圖號之簡要說明】 位相差片·· · ........10

第一位相差片.........10A

第二位相差片.........10B

第15頁 1229747 案號 91105121 曰 修正 圖式簡單說明 隱藏圖樣·· · 隱藏圖樣區域· 背景區域·· · 辨識裝置·· · 穿透式辨識裝置 反射式辨識裝置 偏極光·· 第一偏極光 第二偏極光 偏光片· 上偏光片 下偏光片 光源· · 反射層· 偏極光發射器 反射式偏光片 2 0 2 Ο A 2 Ο B 2 1 2 1 A 2 1 B 2 2 2 2 A 2 2 B 2 3 2 4

第16頁

Claims (1)

1229747 _案號 91105121_年月日_修正 六、申請專利範圍 之一 樣第 圖稱 藏， 隱籤 有標 具偽 片防 兩之 供上 提品 其物 ，護 法保 方待 偽於 防貼 式為 差一 相其 位， 種片 一差 、相 1位 片差 差相 相位 位二 以 片 第背 稱與 ，域 置區 裝樣 識圖 辨藏 的隱 偽有 真含 之包 物上 測片 待差 驗相 檢位 片片 一兩 及該 再可 和後 疊合 當結 適置 片裝 差之 相光 位極 二偏 第濾 與過 片可 差及 相置 位裝 一之 第光 該極 當偏 •，生 域產 區可 景與 示 顯 而 率 光 透 之 同 不 生 產 域 區 景 背 該 與 域 區。 樣 圖圖 藏藏 隱隱 該該 使出 其裝 ，之 法光 方極 偽偏 防生 式產 差與 相並 位合 之疊 述當 所適 項未 1 片 第差 圍相 範位 利二 專第 請與 申一 如第 、該 2中 景合 背疊 與當 域適 區經 樣片 圖差 藏相 隱位 其二 ，第 前與 合一 結第 置； 裝辨 之分 光眼 極人 偏以 濾法 過無 可均 及域 置區 顯真 所其 後讀 合判 結以 置加 裝式 之方 光的 極識 偏辨 濾器 過機 可或 及眼 置人 裝以 之可 光樣 極圖 偏藏 生隱 產之 與出。 並示偽 其隱 ，而 法， 方差 偽相 防位 式之 差同 相不 位有 之具 述域 所區 項景 1背 第該 圍與 範域 利區 專樣 請圖 申藏 如隱 、該 3中 與 片 差 相 位。 一成 第而 由總 別加 分差 可相 差位 相之 位置 之位 域應 區對 景相 背之 與片 域差 區相 樣位 圖二 藏第 其 法 方 偽 防 式 差 相 位 之 述 所 項 3 第 圍 範 利 專 請 申 如 f 4

第17頁 1229747 _案號91105121_年月日__ 六、申請專利範圍 中該第一位相差片及第二位相差片可以亂點圖方式將其隱 藏圖樣與背景區域之位相差分散至兩片位相差片上。 5 、如申請專利範圍第3項所述之位相差式防偽方法，其 中該第一位相差片及第二位相差片可以條紋圖方式將其隱 藏圖樣與背景區域之位相差分散至兩片位相差片上。 6 、如申請專利範圍第1項所述之位相差式防偽方法，其 中該偏極光產生及過濾裝置可為一對偏光片與一光源，其 中該一對偏光片分別放置於該第一位相差片（防偽標籤）與 該第二位相差片（辨識裝置）適當重疊後整體之上方與下 方，該光源則入射於一偏光片後，則可從另一偏光片處顯 示出隱藏圖樣。 7 、如申請專利範圍第6項所述之位相差式防偽方法，其 中分散於該第一位相差片（防偽標籤）與第二位相差片 (辨識裝置）之隱藏圖樣區域與背景區域之加總位相差分 別是1/2 λ及0 λ或是0 λ及1/2 λ為最佳。 8 、如申請專利範圍第6項所述之位相差式防偽方法，其 中該偏極光產生及過濾裝置之偏光片可為線性偏光片、橢 圓偏光片或圓偏光片。

第18頁 1229747 案號 91105121 年 月 a 修正 t、申請專利範圍 9 、如申請專利範圍第6項所述之位相差式防偽方法，其 中該偏光片可以結合其他必要元件組成模組。 1 0 、如申請專利範圍第1項所述之位相差式防偽方法， 其中該偏極光產生及過濾裝置可為一偏光片與一偏極態保 留性質之反射層以及一光源，其中偏光片及反射層放置於 該第一位相差片（防偽標戴）與該弟二位相差片（辨識裝 置）適當重疊後整體之上方與下方，該光源則入射於偏光 片後，則可顯示隱藏圖樣。 1 1 、如申請專利範圍第1 0項所述之位相差式防偽方 法，其中分散於該第一位相差片（防偽標籤）與第二位相 差片（辨識裝置）之隱藏圖樣區域與背景區域之加總位相 差分別是1/4 λ及0 λ或是0 λ及1/4入為最佳。 1 2 、如申請專利範圍第1 0項所述之位相差式防偽方 法，其中該辨識裝置之偏光片可為線性偏光片、橢圓偏光 片或圓偏光片。 1 3 、如申請專利範圍第1 0項所述之位相差式防偽方 法，其中該偏光片及偏極態保留性質之反射層可以結合其 他必要元件組成模組。

第19頁