TW496025B - High repetition rate gas discharge laser with precise pulse timing control - Google Patents

Description

496025 五、發明說明（1 ) 本發明係下列諸專利案及專利申請案之部分繼續申 請：2000年十二月二十二日提出申請案編號09/748,3 16 號，2000年十月六日提出申請案編號684 629號以及1999 年八月九日提出之申請案編號〇9/37〇,739號而現在為美國 專利案第6，151，346號，它係1998年七月十八日提出之申請 案編號09/1 18,773號之部分繼續申請而現在為美國專利案 第），936,988號以及2000年六月三十日提出之申請案編號 09/608,543號。本發明有關於氣體放電雷射，以及特別地 有關於高重複率氣體放電雷射。 發明之背景 電放電氣體雷射 電放電氣體雷射係眾所熟知，並在1 96〇年代中雷射係 經發明後之立刻即已能提供。兩電極之間高電壓放電激發 一氣體增盈介質。一諧振腔含此增益介質者可讓光之激勵 放大，它係隨後呈一雷射光束之形態自此腔萃取。甚多這 些電放電氣體雷射係呈一脈波模式地操作。 激元雷射 激元雷射係一種特殊類型之電氣體放電雷射，並自從 1970年代中葉即已為眾所習知。有用於積體電路光刻之激 元雷射之說明係說明於美國專利案第5,〇23,884號中，此案 於1991年六月十一日頒授，標題為“輕便激元雷射”，以及 美國專利案第5,991，324號中，此案於1999年十一月二十三 曰頒授，標題為“可靠，單位體，生產品質狹帶氪氟激元雷 射”。兩者專利案業已讓渡給本申請人之雇主，以及這些專 4 五、發明說明（2) 利案係在此引介入本文中作為參考。上述專利案中所說明 之激元雷射係高重複率脈波雷射。在第丨圖中，雷射10之主 要元件係經顯示（第1圖相當於專利案884中之第1圖）。此放 電器22係在兩個長形（大約23吋）電極18和2〇之間，以大約 5/8吋間隔分開。早期技藝雷射之重複率，就像其中一個所 发明者，典型地係在大約每秒至2〇〇〇脈動之範圍以内。 這些高重複率雷射通常提供以氣體循環系統。在上文言及 之雷射中，此係以一長松鼠籠類型風扇導46來完成，有葉 片48如第1圖和第2圖内所示，那係專利案，884號中之第7 圖。此風扇葉片結構些許地較電極18和2〇為長並提供足夠 之循環，俾使脈波率在1〇〇至2〇〇〇Hz時，電極之間放電擾 動之氣體係在脈波之間被清除。使用於雷射中之氣體含 氟，它係極端地具反應性。驅動風扇軸13〇之此風扇轉子係 藉密封構件136被密封於由藏置結構構件12和14所提供之 同一環境系統以内，一如專利案，884號之第9節第45行處所 解釋者，以及此馬達定子140係在密封構件136之外面，並 因此而受到防護而不受氟氣體之腐蝕作用。由電放電和氣 體之急速循環所產生之氣體中之熱係由翼片之水冷式熱交 換器58所移出。這些雷射之一最重要之用途係作為一光源 用於積體電路光刻。這些雷射之最小輸出波長係由此氣體 混合體所決定。一氪氟激元雷射操作在大約248nm ; 一氬 氣激元雷射操作在大約193nm，以及一 F2激元雷射操作在 大約157nm 〇 脈衝功率 496025 五、發明說明（3) 在美國專利案第5,023,884號中所說明之此型電發電 氣體雷射利用第3圖内所示之一電脈波電力系統以產生電 放電於此兩電極之間。在此類早期技藝系統中，一直流電 源22充電一電容器組稱之為‘‘充電電容器，，或“c〇”42者至一 預定之及控制之電壓稱之為‘‘充電電壓，，者用於每一脈波。 此一充電電壓之量可以在大約500至1000伏特之範圍内。當 C〇業已被充電至預定電壓之後，一固態開關46係閉合以容 許貯存在C〇上之電能以成一圓圈非常快速地通過一串聯之 磁壓縮電路，包含電容器組52，62和82，及感應器48，54， 64 ’以及一電壓變壓器56，以產生高電壓電位在大約1600 伏特之範圍内橫越產生此放電之此電極持續大約5〇ns。 在早期技藝之光刻雷射系統中，固態關開之閉合和放 電之間之時間係在大約5微秒之範圍内；不過，C〇之放電精 確地至此預先選定之電壓在過去曾須要大約4〇〇微秒，那對 少於2000Hz之脈波重複率言係足夠地快速。讀者應瞭解， 即由於C0上電壓位準之控制係在這些系統中，故精確之 之充電係非常重要，雷射操作者在放電電壓上所有之唯一 貫際控制依序地係雷射脈波能量之主要決定者。對用作積 體電路製造之雷射光源言，脈波之精確時序未曾是決定性 地重要，由於對步級機和掃瞄機在晶片上之目標區兩者係 以若干脈波照明，諸如在幾毫秒之間隔中大約2〇至4〇脈波。 調製盤 使用於積體電路光刻之調製盤含要予以應用至矽晶片 之圖形無為處理程序之一部分以產生此積體電路。在調製 6 五、發明說明（4) 盤上之圖形典型地係晶片上相當影傻 田〜诼之二倍或四倍大。雖 然如此，但在調製盤上之面積仍然係非常小，亦即，數百 宅微米。在調製盤上之這些圖形在過去典型地曾經產生以 電子光束，以及調製盤和晶片兩者典型地曾經以可見光顯

微鏡作檢查。 I 吾人所需要者係激之雷射系統對調製盤和晶片兩者之 調製創造和檢查均有極佳之效果。 本發明之慨述 本發明提供一高重複率，輕便，單位體之氣體放電紫 外線雷射。此雷射係有用於在一積體電路製造程序中作為 用於非常急速之晶片檢查之一種光源。它係亦有用於以非 常急速之速度作調製寫出。一較佳具體例以1000至4000只2 之脈波重複率操作，並係為全天候廿四小時生產線操作而 设计。此一較佳具體例包含一脈控單元，它控制脈波之時 序至一較4塵（10·4)為小之精確度。此一氣體放電雷射之較 佳具體例可以構形以操作以一氪氟（KrF)氣體混合體，一氩 氟（ArF)氣體混合體，或&氣體混合體，各具有一大約緩衝 氣體產生248nm，197nm或157nm紫外線光脈波。 圖式之簡要說明 第1和第2圖顯示早期技藝雷射室之橫越戴面圖。 第3圖顯示早期技藝脈波電力系統之一電路圖。 第4圖顯示一為使用本發明作為用於調製寫出之一光 源之系統。 第5圖係本發明之一較佳具體例之方塊圖。 五、發明說明（5) 第6圖係一較佳具體例之雷射室之橫截面圖。 第7圖係一部分之第6圖之雷射室之橫截面圖。 第8圖係為一較佳具體例繪製之一脈波電力系統。 第9圖顯示一較佳諧振腔。 第10圖顯示減小之雷射頭感應之效果。 第11圖顯示用於顫動控制之技術。 較佳具體例之詳細說明 第一較佳具體例 本發明之第一較佳具體例係以方塊圖顯示於第5圖 内。此一雷射系統2係一單位體，以及主要模組係為易於在 雷射房4内更換而組裝，並係經指示於第1圖内。這些模組 係雷射室6，高壓電力供應8，固態磁開關模組1〇，冷卻水 模組12 ’氣體模組14，控制模組16，以及能量監控模組18。 此雷射糸統係詳細說明如下文。 雷射糸統 此一雷射系統係為生產線之操作而設計。這些雷射係 經預期實際上連續地以1〇〇〇1^至4〇〇〇1^或更大之範圍内 之脈波率來操作，每天廿四小時，每週七天，每年52週， 以最少之停工時間供保養用。預估之使用率係每年2〇〇億脈 波。此雷射必須是為最少用於保養之停工時間而建造。它 係呈甚多方式設計，像一生產線光刻雷射系統諸如一種經 說明於美國專利案第5,991，324號中者，但有甚多重要之相 異處在此一雷射中。主要之差異係本發明並不需要使線條 縮狹’同時脈波能量係較用於光刻所須要者有幾分為低。

4Λ6025 五、發明說明（6) 不過，個別脈波能量規格包括脈波之時序（至少當使用於掩 蔽寫出時）係較那些用於光刻雷射者更緊密。同時雷射光束 之相干性之在此一雷射中者，當對早期技藝光刻雷射比較 ’係大體上被減小。此雷射系統係較小甚多，大約為血 型之早期技藝之高重複率光刻雷射之大小之一半。 主要用途 本發明之此雷射系統係目前預期為主要地使用於調製 寫出和晶片檢查。 調製寫出 本發明係特別地有用於供使用在積體電路光刻用之調 製盤之製造。用於使用本發明之調製寫出之一較佳技術係 顯示於第4圖内。此一技術使用自本發明之雷射系統之先以 印製一圖形於配置在一透明基片上之薄鉻膜上。此圖形可 以要就是用光束汽化鉻，或者藉使用係由紫外線光熱化處 理之一光阻，以及後續之酸劑處理以移出來受保護之鉻， 而以雷射紫外線光來產生。這些技術係詳細地說明於美國 加州Santa Clara所舉行之SPIE 2001年微光刻會議時由 Torbjorn，Sandstrom等人所呈現之文獻：‘‘高性能雷射圖形 產生使用特殊光调製^|(SLM)及深紫外線幅射” 一文中。它 亦經呈摘要形態地說明如以第4圖為基準之后文。在此一光 罩寫出系統2 0中，自本發明之一激元雷射2之光係由分束器 22反射上至特殊光調製器24，它以極端快速之速度調製此 光。此係以諸如一百萬反射鏡陣列（1〇〇〇 χ 1〇〇〇)之極小反 射鏡表面之一尚陣列之極小反射鏡表面來完成，此陣列係 9 496025 五、發明說明（7) 電腦控制以反射所要之圖形，通過分束器22，透鏡26，光 圈28和透鏡30，以產生所要之圖形於調製盤32上。調製盤 32之位置係由干涉儀控制之定位系統34作精密地控制。 光罩檢查 本發明之雷射之其他主要用途係用於晶片檢查。在此 一應用中，自本文所說明之雷射之一雷射光束係用來照明 一小部分（大約100 em2至1mm2)之晶片，以及此反射之光 係經成像在一CCD攝影機之象素陣列上。此CCD攝影機圖 形隨後係由處理機對一預期圖形作比較，以確定此晶片是 否業已正確地被處理。此一檢查係期望成為自動積體電路 製造生產線之部分，俾使此晶片係自動地步入供檢查用之 位置内，於檢查時自動地被掃描，以及隨後於完成檢查後 步入下一步驟上。一典型晶片包含大約100cm2之積體電路 表面區。因此，當1 〇〇 # m視點係使用時，總共大約一百萬 數位照片必須為一完全之檢查拍攝此晶片。如果每一脈波 拍攝一照片而此雷射係以3〇〇〇Hz操作時，此檢查係需要大 約333秒或大約6分鐘。 雷射系統詳細說明 雷射室 一横載面圖顯示本發明之一較佳具體例之雷射室模組 6之重要特徵者係顯示於第6圖内。放電區之放大圖係顯示 示於第7圖内。此室係閉合於一壓力容器4〇内，此壓力容器 包含突出直徑之鋁管41具有鋁終端凸緣。管之壁厚度係 20mm或30mm用於400kPa和600kPa之間之設計壓力。電極 10 五、發明說明（8) 42和44係4G公分長，並係以大約6mm間隔分間以及產生大 約4mm之放電寬度。電極42，作為陽極言及之者，係以五 個饋電桿46連接至-高透鏡48，它係由蜂化電容器組 50賦此電極44係作為陽極言及者，並係電定置於陽極支 承條52上之接地線處。在此一具體例中，2〇個電流回行葉 片54提供一低電感反觀至峰化電容器組⑽之接地線一邊。 -早-預電離化H管52類似於早期技藝光刻電射中所使用 者包含一鋁質中空圓筒形有一接地桿在中央以及一導電 凸緣54運轉此管之長度，並以一彈簧力量握靠此管，應用 峰電容器之高電壓電位至預電離子化器之外表面，通常地 電漿在此表面上於每一放電之開始處，以便在兩電極之間 之放電區内產生預電離子。雷射氣體係在室4〇内以3吋直徑 電風扇56循環，此風扇係由單一DC水冷式馬達所驅動。馬 達之轉子係利用一薄罐密封單元而被密封於雷射氣體環境 之内面俾使馬達定子係*暴露於此雷射氣體環境^此一馬 達設計係詳細地說明於美國專射請案編號第，48,316 號中’其内容係引介於本文作為參考。用於風扇之轴承係 陶瓷軸承一如美國專利案第6,2〇8,675號中所說明者（如果 水冷係不需要時’說明於’675號專利案中之馬達應予使 用）。 此雷射氣體係維持在大約3(rCs5(rc之理想溫度範圍 以内’以-個或多個翼片之水冷式熱交換器57之一類型經 說明於美國專利案第6，128,323號中者。 脈波電力 496025 五、發明說明（9) 用於此一較佳具體例之脈波電力供應係說明於美國專 利案第5，142，166號之脈波電力供應之改良式版本。 第7圖係一較佳脈波電力系統之一電繪圖，用以提供在 電極42和44之間為產生放電所需要之電脈波。此圖並不顯 示係在本較佳具體例中所利用之充電單元，該單元係一型 之諧振充電器經說明於美國專利案第6,028,872號中者。此 型諧振充電器可充電CG上至1500伏特以每秒4000電荷之速 率〇 置於C〇上之電荷係由一脈衝能量控制器所控制至一大 約0.1 %之精確度。cG上電荷之精確度係非常重要。因為c〇 上之電荷測定放電能量。當自控制模組16之一命令時，開 圖TR1係通過二極管D!，飽和感應器60和感應器1^而閉合 放電C0，以便將電容器組(^充電起來。電容器(^係通過飽 和感應器MSC1諧振地放電，以提供一大約15〇〇伏特脈波 於脈波變壓器62之主要邊。脈波變壓器62係說明於美國專 利案第5,142,166號中之一般類型之1/12至1脈波變壓器。此 一脈波變壓器以大約12之因數放大脈波電壓，例如，自15〇〇 伏特至18,000伏特，或自大約2000伏特至24,000伏特。此 一變壓器係包含有六個中空捲線軸構形之心軸，各纏繞以 Metglass以形成六個心，每一心有單一主繞組與其他心之 主繞組並聯。變壓器之副繞組係包含兩個同軸導體相互徑 向地絕緣，但呈串聯地連接並傳送通過六個心之中央。 變壓器62之輸出電壓充電電容器組Cp•丨，以及它通過 飽和感應器MSC2放電以充電峰電容器Cp，它依序地提供 12 496025 五、發明說明（10) 電位以產生所說明之放電橫越電極42和44。在此一較佳具 體例中，用於第7圖之脈波供應系統之組件之電容量和電感 之較佳值係如下：

C〇電容量 =1J // F

飽和感應器60飽和之電感 =500nH 感應器Li飽和之電感 =700ϋΙΙ

Ci飽和電感 =le27#F

飽和感應器MSC1飽和電感 =14nH

Cp·〗飽和電感 =8.8nF

飽和感應器MSC2飽和電感 =80nH

Cp飽和電感 =8.8nF

此一電路利用美國專利案第5,729,562號中所說明之 技術提供能量還原。偏壓電路經顯示於64和66處者偏壓電 路中之飽和感應器以初始地反抗自充電電容器(30流至電極 之電能。不過，在開關TR1之閉合之後此感應器於一時間 之後變成飽和以容許能量向前流動至電極。由於一失配， 橫越此放電流動之電子首先自陰極42至陽極44，以及隨後 立刻地向後橫越此放電區，自陽極44至陰極42以反相地充 電Cp。由於所有飽和感應器繼續向前導電至幾微秒於脈波 開始之後。此未消耗之脈波能量通過同一路程之電路回行 至C〇以放置電荷於C〇上相反於由諧振充電器所應用者。此 電荷係立刻地由電荷倒反電路66倒反一如美國專利案第 5,729,562號中所說明者。 頭電感 13

本發明之具體例由於包括Cp和電極42和44之脈波電力 毛路之4刀之電感上之減小而以效率上之實質改良來操 作，經顯不於第8圖内70處。此一減小曾經藉利用五個饋通 銅桿來連接Cp電谷器組之高壓匯流排至陽極42，以及廿個 熱處理之鍍鎳不銹鋼板以作用如一電流回行至回行電流， 自陽極44至Cp電容器組之地線板來達成。這些改變已導致 此一電路之放電電感上之減小至少κ5ηΗ。此一減小之效 果在脈波能量和能量穩定性兩者上係顯示於第9圖之曲線 内’在該處貫際電感係與電感上30°/。和一 300%之增加作比 較。這些較高值典型地係屬早期技藝放電雷射之脈波電力 電路之此一部分之電感值。

脈波監控器

本發明之較佳具體例包括脈波能量監控器18如第5圖 内所不。一較佳監控器係一非常快速光電極體類似於美國 專利案第6,128,323號中所說明者。此一光電二極體之輸出 係已發送至微控器16，它利用此輸出以選擇用於下一脈波 之充電電壓，以及如果須要時來為顫動作改正，一如下文 所έ兒明者。每一脈波之能量和顫動係經監控，以及此結果 係實時地對規格限制作比較。如果任一參數係在理想限制 之外時，適當行動將立刻進行。 g由射糸統係用作檢查自動控制裝備時係經適當地規 劃以重複此檢查於一規格之外之脈波能量或顫動係經計量 時。如果規格之外之頻率和範圍發生超越一預定位準時， 改正性之維護保養係被要求。當此系統係用作調製寫出 14 五、發明說明（12 ) 時，規格之外之脈波能量或顫動可能毀壞此調製盤。因此， 在一具:體例中用於雷射系統之控制指示一警告當規格之外 之資訊係被探測時。此一資訊可以利用以要求調製之特殊 操作後檢查。 顯示於第5圖内18處之脈波能量監控器亦可以被併合 入一脈波能量改正環路内，諸如美國專利案第5,852·621號 中所說明之“具有脈波能量修整器之脈波雷射”。此一技術 計量此脈波能量，強迫此輸出光束進入一延遲環路中，隨 後修整一部分之能量脫離此脈波以便能達到理想之輸出。 另一可供選擇方式為使用專利案，621號中所說明之一 般技術以反射出任何不良脈波要就是由於規格之外之脈波 能量抑或顫動。此將容許調製寫出系統來支援並再次寫出 由不良脈波所表示之此部分。 顫動補償 一如第4圖内所指示以及上文所提供之調製寫出裝備 之說明，由反射鏡陣列24所產生之圖形係寫出於目標32上 一如此目標32係由定置裝備34所定置者。反射鏡陣列定置 係非常快速，以及反射鏡分段係再定置並於每一脈波之開 始處即在適當位置，該脈波係以例如每秒3〇〇〇脈衝之速度 所產生。不過，目標32典型地以連續速度移動，例如，以 每秒100mm(亦即O.lnm/ns)。微控制器因此必須控制脈波之 時序，俾使脈波能量係澱積在目標之理想位置内。由於調 製盤上特徵之面積係在大約1〇〇11111至20〇11111之範圍或更 小，故至為重要者即脈波之時序係足夠地精確以容許脈波 15 496025 五、發明說明（l3 ) 能量予以澱積者在理想位置之大約10至20nm或更小之範 圍以内。由於此目標時下地係正以大約〇.lnm/ns之速度移 動，以及將在未來以一更快速速度移動，故此脈波之時序 須要精確至1〇〇至200ns以内，以及適當地在10至20ns以 内。脈波定時内之差誤係稱之為顫動。 為上述原因，用於調製寫出之脈波之時序係較用於積 體電路光刻之脈波之時序更重要得多，在積體電路光刻處 一晶片之剖面係暴露至大約15至50脈波，以及實際需要予 以精確之脈波之時間僅至若干微秒。 本發明之此一具體例提供一顫動控制技術稱之為顫動 補償裝置（JCD)，它確保該脈衝時序係精確在大約i〇_2〇ns 以内。自一輸入觸發器之光延遲躭視固態開關之脈波電力 模組之電壓而定。充電電壓愈高則觸發器和雷射脈波之間 之延遲愈短。觸發器至光線之間之延遲亦耽視脈波電力系 統内面之磁鐵之溫度而定。因此，觸發器至光線之間之延 遲係電壓和溫度之作用。脈波電力系統内磁鐵裝置之溫度 愈高，則觸發器和脈波之間之延遲則愈短。但固定之電壓 和溫度’具有此輸入觸發器之光脈波之自然脈波對脈波之 變化係很小，大約+/_5ns。 因此’在一較佳具體例中，自此使用者之一觸發之後， 此顫動控制延遲以相當於雷射之操作電壓和磁鐵之溫度之 一份量發送此觸發至雷射之圖態脈波電力，俾使產生之脈 波之時序係精確至大約2〇ns以内。 在另一具體例中，此脈波控制器根據用於正要上來之 16 496025 五、發明說明（μ 脈波之特殊充電電壓而為充電電壓上之變化來調整脈波之 時序。在此一具體例中，沒有用於溫度變化之直接改正係 經提供。不過，根據自先前脈波所計量之時間差誤一改正 係對此時序達成。由於磁鐵構件之溫度變化得很慢，此一 脈波時間反饋技術在影響為緩慢變化之溫度之補償上有效 果’並在同一時為其他更適當之影響提供補償。 此一特殊具體例使此反饋改正利用一技術，它應用一 完全100%改正用於較大時間差誤，諸如較20旧為大者，但 為較小時間差誤，諸如，例如少於20115者，僅25%之一改 正係經應用。此一較小百分比改正避免圍繞零差誤之振盪。 此一特殊具體例亦應用一策略，以利用具有一 40ΜΗΖ 晶體振盪之數位計數器之廣闊動態範圍來達成一丨塵秒解 决辦法。此40MHz振盪器提供以25ns間隔之時鐘信號，但 這些信號係經利用來充電一大約地線性類比電容性充電電 路。在此電容器上之電壓隨後係讀取以測定時間精確度至 大約1.0ns。 諧振腔 本發明之較佳具體例利用一曲線對曲線之諧振腔組 怨。此一組怨係在第8圖中顯示。一如第8圖内所示，此諧 振腔包含一 Rmax反射鏡和用於輸出耦合器之一局部地反射 之反射鏡。兩者反射鏡有一凹曲率之大約10米者，它有產 生一非常不相干之激元雷射光束，它係大體上發散。此 反射鏡有一大約100%之反射比，以及此輸出耦合器有一大 約4至30%之反射比在輸出耦合器之内面邊上，以及一反反 17 496025

五、發明說明（15) 射塗層在外面邊上。 各種變更仍可對本發明形成而不改變本發明之範圍。 那些精於此技藝者將瞭解甚多其他之可能變化。例如，以 非常高重複㈣高任務㈣之操作可能需要雷射氣體和雷 射之其他構件謂加冷卻，“域轉件，脈波電力構 件和風扇馬達。

依此，上文所揭露者係無意予以限制，以及本發明之範圍 應由附列之專射請和其法定等義來決定。

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五、發明說明（〗6) 元件標號對照 2…雷射系統 42，52，62，82…電容器組 4…雷射房 42，44···電極 6…雷射室 46···固態開關，饋電桿 8…高壓電力供應 48···葉片，高電壓透鏡 10…固態磁開關模組 48，54，64···感應器 12…冷卻水模組 50…峰化電容器組 14…氣體模組 5 2…支承條 16…控制模組 54…電流回行葉片， 18，20···電極 導電凸緣 18…能量監控模組 56···變壓器，電風扇 20…光罩寫出系統 57…熱交換器 22…分束器，放電器 58…水冷式熱交換器 24…光調製器 60…飽和感應器 26，30…透鏡 62…脈波變壓器 28…光圈 64，66…偏壓電路 32…調製盤 66…電荷倒反電路 34···定位系統 130···風扇轴 40…壓力容器 136···密封構件 4L···鋁管 14 0…馬達定子 19

Claims (1)

1. ^0025 BS cs DS 申請專^#.圍 h 一 複率生產品質之氣體放電雷射系統| Γ:ϊ:-4:ί fTEr 動餐1¾置者，該系統包含： … A) —雷射室包含： 1) 一雷射氣體， 2) —對伸長之電極界定一放電區域， 3) —風扇用於循環該雷射氣體於該電極之間； B) —脈波電力系統，用以提供高電壓之電脈波以產 生放電，以1000Hz或更大之重複率橫越該電極， C) 一控制器經構形以控制所有或大體上所有該放 電之顫動至一精確度在0.2微秒以内。 2.如申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該控制器係經 構形以控制該〇 · 1微秒或更小以内之精確度之時序。 3·如申請專利範圍第丨項之雷射系統，其中該控制器係經 構形以控制該時序至1〇〇至2〇〇微秒或更小之精確度。 4·如申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該控制器係經 構形以控制該時序至10至20微秒或更小之精確度。 5 ·如申凊專利範圍第1項之雷射系統，其中該雷射室係被 含於一易於可更換之模組内。 6·如申請專利範圍第5項之雷射系統，其中大多數之脈波 电力糸統係被含於易於可更換之模組内。 入如申請專利範圍第6項之雷射系統，其中所有或大體上 所有該雷射系統之構件係被含於易於可更換之模組内。 8·如申請專利範圍第丨項之雷射系統，其中該雷射系統係 經構形以作用如一調製寫出系統中之光源。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公釐） (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部智慧財產局員工消費合作杜印製 ^---------^ — -------------.--------- 20 經^-部智慧財產局員工消費合作社印製 申Μ專利範圍 9·如申請專·利範圍第1項之雷射系統，其中該雷射系統係 經構形以作用如用於調製檢查系統之光源。 10·如申请專利範圍第丨項之雷射系統，其中該雷射系統係 經構形以作用如用於一晶片檢查系統之光源。 η·如申請專利範圍第！項之雷射系统，其中該脈波電力系 統L 3 —人電路，此次電路包括一峰電容器組和兩個電 極’其中該次電路有一小於5ηΗ2電感。 12·如申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該重複率係大 約2000Hz或更大。 如申叫專利範圍第1項之雷射系統，其中該重複率係大 約3000Hz或更大。 14·如申請專利範圍第丨項之雷射系統，其中該重複率係大 約4000Hz或更大。 1 乂如申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該雷射氣體係 包含氪，氟，和一緩衝氣體，以及該系統係經構形以產 生有大約248nm之波長之雷射光。 16.如申6月專利範圍第1項之雷射糸統，其中該雷射氣體係 包δ 1，氟以及一緩衝氣體，以及該系統係經構形以產 生有大約193nm之波長之雷射光。 17·如申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該雷射氣體係 包含氟和一緩衝氣體，以及該系統係經構形以產生有大 約157nm波長之雷射光。 18·如申請專利範圍第1項之雷射系統，其中該系統包含兩 個反射鏡界定一諧振腔，該反射鏡之一有高反射比在由 本紙張尺度適用中國國家標準（CNs)A4規格（210 X 297公釐） I — — — — — — — — —— I. _ I I I I I I I — — — — — — — I· (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁} 21 4^6025 AS BS CS DS 申請專利範圍. 該雷射系統所產生之雷射光束之波長處，以及另一該反 射鏡係一局部反射之反射鏡，並經構形以作用為一輸出 耦合器，兩者反射鏡係凹反射鏡。 19.如申請專利範圍第丨8項之雷射系統，其中該局部反射之 反射鏡有一反射比在4%至30%之範圍内之波長處。 20·如申請專利範圍第18項之雷射系統，其中每一該反射鏡 有一凹曲率之大約1〇米者。 (請先Μ讀背面之注意事頊存填寫本黃> 經濟部智慧財產局員工消費合作社印制衣 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS)A4規格（210 X 297公 22 I I n n i ί ϋ n 一<fj ϋ l i n n I I ϋ I I I ϋ n ϋ n n n -I ϋ «ϋ ϋ n ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ ϋ '