TW463521B - Facial light source - Google Patents

Description

五、發明說明（1) 本發明係有關一種光源’尤指一種平面式光源。 目前一般所使用的光源，多以燈泡為點狀光線來源，而發 光燈為線狀光線來源。近幾年來，可照亮大範圍者，如適 用於需固定亮度的液晶顯示器之平面式光源，也漸漸被重 視。可配合使用光源引導器及擴散引導Is ’並結合點狀光 源及線狀光源，以一固定亮度照亮一固定面積，來製造出 平面式光源。然而，還是有其限制之處，及光源引導器與 擴散引導器高價位的問題。 有鑑於上述相關技術所遇到的問題，本發明的主要目 的，為提供一種平面式光源。 為達上述之目的，本發明是這樣實現的：一種平面式 光源，係包括有一第一基質，其上架構有第一電極，而第 一電極上則架構有隔離層；一第二基質，係與第一基質相 連接，且其上架構有第二電極，而第三電極則架構於第二 電極的邊緣處；一密封材質，用以填補第一及第二基質之 間隙；一螢光層，設置於第一基質表面或第二基質表面； 一惰性氣體，係注入到第一及第二基質間之管體。 管體，則以特定距離架構於第一及第二基質之間。 本發明之平面式光源的製造方法，其步驟係包括有： 首先’於第一基質上形成第一電極，於第一電極上形成隔 離層，並於隔離層上形成螢光層；接著，於第二基質上形 成第二電極，並沿著其邊緣上形成第三電極，於第二基質 上已形成第三電極的另一側安裝入管體；之後，將第一與 第二基質聯結在一起，並將惰性氣體注入到第一與第二基

第6頁 4 6 3 n • .<： 五、發明說明（2) 質間的管體；最後，將氣體注入口密封。 本發明之平面式光源的另一種製造方法，其步驟係包 括有：首先，於第一基質上形成第一電極，於第一電極上 形成隔離層；接著’於第二基質上形成第二電極，並沿著 其邊緣形成第三電極；於第二基質上形成第三電極的另一 側’形成具有孔洞的螢光層，其中，由於孔洞的部份，使 第二基質為看的見的，接著，利用黏著劑填滿於具有孔洞 的螢光層，並利用黏著劑將管體裝入；之後，將第一與第 二基質聯結在一起，注入惰性氣體到第一與第二基質間的 管體，並填滿此空間》 為使 貴審查委員瞭解本發明之目的、特徵及功效， 茲藉由下述具體之實施例，並配合所附之圖式，對本發明 做一詳細說明，說明如后。 請參閱第1圖及第2圖，分別係為本發明平面式光源之 實施例平面示意圖，及本發明平面式光源之實施例平面前 示圖。 在由玻璃或其類似物質所製成的下方隔離基質I 0上， 由具良好傳導力物質，如銀質或其類似物等，製成一下方 電極1 1。隔離層1 2由氧化鋁、氧化鎂、氧化釔 '鈦酸鋇、 鈦酸锶、二氧化矽及氧化鉬或其類似物中，任選其一所構 成。下方螢光層13則形成於隔離層12之上。構成下方螢光 層13的白色螢光物質可包括有氧化記-銪合金（紅色）、 矽酸鋅-錳合金（綠色）、鋁酸鎂鋇-銪合金（藍色）及一 般螢光材質等。若如下所述，於上方基質20上形成一螢光

第7頁 五、發明說明（3) 層，則下方螢光層1 3可省略之。 上方基質2 0的頂面，由如玻璃或其類似物的透明隔離 材質所製成，且其表面與下方基質1 〇並無相接，而上方電 極2 1則由透明具傳導力材質，如氧化銦錫或其類似物等所 製成。邊緣電極2 3則由具良好傳導力材質，如銀質或其類 似物等，沿著上方電極2 1的邊緣，形成於上方電極2 1之 上。其中，邊緣電極2 3可解決上方電極2 1因使用如氧化銦 錫或其類似材質，所造成之高電阻的難題。換句話說，當 使用平面式光源時，電荷由上方電極2 1傳送到上方電極2 1 的各處，並使其產生高電阻。於此過程因電阻的消耗，使 電力的消耗也增加。當平面式光源尺寸增大時，使得這樣 的問題越來越受重視。因此，為了使大尺寸的平面式光源 能有具體實施例，解決上方電極2 1的高電阻問題，乃具有 其必要性。而本發明則藉由形成邊緣電極2 3，來解決此問 題。 於上方基質20的底面形成一上方螢光層22。構成上方 螢光層22的白色螢光物質可包括有氧化釔-銪合金（紅色 ) '矽酸辞-錳合金（綠色）、鋁酸鎂鋇-銪合金（藍色） 及一般螢光材質等。若隔離層12上形成了下方螢光層13， 則上方螢光層2 2可省略之。換句話說，無論形成於下面的 下方螢光層13 ，或是形成於上面的上方螢光層22 ，都是足 夠的。如同本發明的實施例，其兩者可同時或分別形成於 上面或下面。 管體30則放置於上方螢光層22與下方螢光層13的中

第8頁 ^ 6352 11 五、發明說明（4) 間，使上方與下方基質2 0與1 0 ，保持有一特定距離□當平 面式光源為小型時，在兩基質1 0與2 0之間，維持一特定距 離並非必要。然而’當平面式光源為特大號時，若兩基質 1 0與2 0之間距離為不規則時，將造成嚴重的問題。這也就 是為何在上方與下方基質20與10之間，配置了管體30的原 由。密封材質4 0係沿著兩基質1 0與2 0邊緣處，形成於兩基 質1 0與2 0之間。密封材質4 0可將兩基質1 0與2 0之間放置有 管體3 0的空間密封住，藉以將外界的空氣隔絕。如氙氣等 惰性氣體5 0 ，注入到已經由密封材質4 0密封的空間内。惰 性氣體50藉由穿過下方基質10的注入管60而加入。當注入 氣體5 0之後，亦將注入管6 0封閉。本發明之不同的實施例 中，注入管60也可以穿過於密封材質40。 接著，將敘述平面式光源主要的操作方法。 當電壓通過於下方及上方電極11與21時，造成氣體放 電。然後，惰性氣體因氣體放電，而激發放射出紫外光 線，接著，所放射出的紫外光線，激發螢光層1 3及2 2，進 而產生出可見光。 上述之平面式光源，因光線從表面被放射到各處，故 可以固定亮度照亮特定區域。 接著，將詳述本發明平面式光源具體實施例之組裝方 法。 首先，先敘述下方基質之組裝方法。請參閱第3A-3C 圖，其係為本發明平面式光源具體實施例之下方基質，安 裝過程平面示意圖。

第9頁 五、發明說明（5) 如第3 A圖所示，將加熱的銀質糊狀物，以隔板印刷於 玻璃或其類似物製成的基質1 〇上，接著，將其在4 0 0 - 6 0 0 °C高溫下處理，即形成了下方電極Η 。 然後，如第3 Β圖所示，由氧化紹、氧化鎂 '氧化紀、 鈦酸鋇、鈦酸锶、二氧化矽及氧化钽或其類似物中任選其 一，運用隔板印刷、噴灑或塗刷等方法，將其形成於下方 電極1 1上，即形成隔離層1 2。 接著，如第3 C圖所示，白色螢光物質可包括有氧化釔 -銪合金（紅色）、矽酸鋅-錳合金（綠色）、鋁酸鎂鋇-銪合金（藍色）及一般螢光材質等，運用隔板印刷、噴灑 或塗刷等方法，將其形成於下方電極1 1上，即形成螢光層 1 3。之後，將密封材質4 0沿著基質1 0的邊緣來塗抹。上述 形成螢光層1 3，與沿著基質1 0的邊緣塗抹密封材質的步 驟，在某些例子中可以省略掉。那就是說，當上方基質2 0 上形成螢光層2 2時，形成下方螢光層1 3的步驟就可被省 略。此外，密封材質40可塗抹於上方基質20處，而非下方 基質1 0 。 現在，詳述兩種製造上方基質的方法。 首先，第一種方法如下所述。請參閱第4A-4D圖，其 係為本發明平面式光源具體實施例之上方基質，第一種安 裝過程平面示意圖。 如第4 Α圖所示，於由玻璃或其類似物所製成基質2 0的 頂面，以具傳導力透明材質，如氧化銦錫或其類似物等， 製成上方電極2 1 。運用隔板印刷方法，將銀質糊狀物或其

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24， 4 B圖 裝管 形成 時， 質， 頂面 製成 類似 理， 式， 於管 看的 填滿 46352 物形成於上方電極2 1的邊緣，接著將其在高溫下處 即形成了邊緣電極2 3。此時，形成邊緣電極2 3的步 可利用並未形成上方電極2 1的基質2 0來實施。 接著，如第4 B圖所示，將用來固定管體3 0的黏著劑 以隔板印刷的方式形成於基質20的底面。另一種與第 不同的，是將黏著劑2 4，以隔板印刷的方式形成於安 體3 0的部份。 如第4C圖所示，裝置入管體30。 最後，如第4 D圖所示，將螢光性物質以喷灑的方式， 一登光層22。然而，當榮光層12形成於下方基質10上 上述步驟可省略之。 第5 A - 5 D圖係本發明平面式光源具體實施例之上方基 第二種安裝過程平面示意圖。 如第5 A圖所示，於由玻璃或其類似物所製成基質2 0的 ，以具傳導力透明材質，如氧化銦錫或其類似物等， 上方電極2 1。運用隔板印刷方法，將銀質糊狀物或其 物，形成於上方電極21的邊緣，接著將其在高溫下處 即形成了邊緣電極2 3。 接著，如第5 B圖所示，將螢光性物質以隔板印刷的方 形成於基質20的底面，即形成一螢光層22。同時，由 體3 0的配置，使螢光層2 2具有孔洞部份，故基質2 0為 見的。 然後，如第5 C圖所示，將黏著劑2 4以隔板印刷方式， 形成於螢光層2 2的孔洞部份。

五、發明說明（υ 最後，如第5 D圖所示，將管體3 0裝置入黏著劑2 4上。 依上述架構上方與下方基質20與10的兩種方法，可藉 由密封材質4 0將其聯結在一起。利用注入管6 0，將兩已密 封基質中的空間抽真空。之後，將如氙氣等惰性氣體，注 入到上述空間内，接著將注入管6 0封閉。此注入管6 0不是 形成於製備下方基質1 0的過程，就是在聯結上方與下方基 質2 0與1 0之後。 本發明之平面式光源可以固定的亮度，照亮特定區域 〇 雖本發明以一般較佳實施例揭露如上，但並非用以限 定本發明實施之範圍。任何熟習此項技藝者，在不脫離本 發明之精神和範圍内，當可做些許之更動與潤飾，及凡依 本發明說明書或圖示内容所為之結構變化，均包含於本發 明所做的均等變化與修飾，應為本發明專利範圍所涵蓋， 其界定應以專利範圍為準。

第12頁 4 6352 圖式簡單說明 第1圖係本發明平面式光源具體實施例之平面示意圖。 第2圖係本發明平面式光源具體實施例之平面前示圓。 第3 A - 3 C圖係本發明平面式光源具體實施例之下方基質， 製造過程平面圖。 第4 A - 4 D圖係本發明平面式光源具體實施例之上方基質， 第一種製造過程平面圖。 第5 A - 5 D圖係本發明平面式光源具體實施例之上方基質， 第二種製造過程平面圖。 圖號之簡單說明： 下方基質.......…10 下方電極….…11 隔離層….......，"12 下方營光層........13 上方基質..........20 上方電極...........21 上方螢光層.......22 邊緣電極….......23 黏著劑.............24 管體.............…30 密封材質..........40 惰性氣體..........50 注入管............，60

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Claims (1)

1. 六、申請專利範圍 1 . 一種平面式光源，係包括有： 一第一基質，其上架構有第一電極，而第一電極上則架 構有隔離層； 一第二基質，係與第一基質相連接，且其上架構有第二 電極； 一第三電極，係架構於第二電極邊緣處； 一密封材質，係用以填補於第一及第二基質邊緣空隙； —螢光層，係設置於第一基質表面或第二基質表面； 一惰性氣體，係注入到第一及第二基質間之空隙。 2 .如申請專利範圍第〗項所述之平面式光源；其中，於第 一基質及第二基質之間，係架構有管體。 3. 如申請專利範圍第1項所述之平面式光源；其中，第三 電極包含銀的成份。 4. 如申請專利範圍第1項所述之平面式光源；其中，螢光 層，設置於第一基質表面及第二基質表面。 5 . —種平面式光源的製造方法，其步驟包括有： 於第一基質上形成第一電極； 於第一電極上形成隔離層； 於隔離層上形成螢光層； 於已形成第二電極的第二基質邊緣處，形成第三電極； 在第二基質，形成第三電極的另一側裝入管體； 將第一與第二基質聯結在一起； 將惰性氣體注入到第一基質與第二基質間的管體，並封 閉此空間。

   第14頁 dG352 Y' 六、申請專利範圍 6 ·如申請專利範圍第5項所述之平面式光源製造方法；其 中，包括將管體裝到第二基質之後，形成第二螢光層的 步驟 7 · —種平面式光源的製造方法，其包括有： 於第一基質上形成第一電極； 於第一電極上形成隔離層； 於第二基質形成第二電極的另一側，形成一具有孔洞的 第一螢光層，其中因有孔洞部份，故第二基質為看的見 的； 於具有孔洞的第一勞光層處塗佈黏著劑； 藉由黏著劑將管體安裝； 將第一與第二基質聯結在一起； 將惰性氣體注入到第一基質與第二基質間的管體，並封 閉此空間。 8.如申請專利範圍第7項所述之平面式光源製造方法；其 中，係包括於隔離層上形成第二螢光層的步驟。

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