308689 A7 B7 經濟部中央標菜局負工消費合作社印製 五、 發明説明 1 ) 1 1 發 明 背 景 1 1 本 發 明 係 關 於 —. 種 光 學 記 錄 介 質 9 且 更 特 別 而 係 1 1 關 於 — 種 軌 跡 寬 度 小 於 光 點 直 徑 之 高 度 光 學 記 錄 介 質 〇 1 1 請 I 1 用 以 執 行 高 密 度 ( 窄 軌 跡 ) 記 錄 之 介 質 之 例 如 曰 本 專 先 閱 1 利 J P — A — 1 7 6 4 0 4 所 述 P 依 照 此 例 » 在 具 有 凹 槽 讀 背 1 1 I 和 陸 地 以 及 資 訊 記 錄 區 域 之 光 學 記 錄 介 質 中 9 該 凹 槽 和 陸 之 注 I 意 玄 I 地 地 形 成 在 — 基 底 上 > 且 資 訊 記 錄 區 域 和 該 凹 Mb 僧 及 陸 地 相 爭 項 1 再 [ 連 預 坑 設 置 在 介 於 凹 槽 和 陸 地 間 之 邊 界 之 實 質 延 伸 線 上 填 % 本 V- I 0 特 別 的 > 預 坑 只 位 在 每 個 凹 -Mr 棺 之 中 央 線 之 任 何 特 殊 位 置 頁 1 1 之 一 側 上 〇 1 I 以 此 稱 造 記 錄 資 訊 形 成 在 凹 槽 和 陸 地 之 兩 側 上 預 1 I 坑 具 有 表 示 記 錄 區 域 之 位 址 資 訊 和 一 預 坑 共 同 使 1 訂 | 用 至 — 對 相 鄰 凹 槽 和 陸 地 以 提 供 位 址 資 訊 0 當 上 述 之 技 1 1 I 術 應 用 至 例 如 一 相 位 改 變 記 錄 介 質 或 一 磁 光 學 記 錄 介 1 1 質 時 由 於 在 —. 光 點 內 之 光 學 干 擾 效 應 介 於 相 鄰 陸 地 或 1 1 凹 槽 間 之 資 訊 干 擾 ( 串 音 ) 可 受 到 抑 制 藉 此 可 允 許 軌 跡 ^*1**~· Ί 之 窄 化 0 1 | 另 — 方 面 在 4πτ. m 光 學 干 擾 效 應 之 預 坑 區 域 中 位 址 資 1 訊 可 共 用 至 一 對 凹 ΙΜφ 槽 和 陸 地 且 亦 可 增 加 有 效 的 軌 跡 節 距 1 1 I 以 降 低 串 音 〇 1 1 但 是 在 曰 本 專 利 J Ρ — A 一 6 — 1 7 6 4 0 4 中 * 1 1 預 坑 區 域 之 配 置 偏 離 凹 槽 或 陸 地 之 中 央 線 之 —. 側 因 此 f 1 1 當 — 光 點 軌 跡 至 — 凹 槽 或 一 陸 地 時 * 軌 跡 錯 誤 ( 軌 跡 偏 置 1 1 ) 會 增 加 » 如 此 難 以 執 行 髙 密 度 記 錄 其 中 軌 跡 節 距 相 當 1 1 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) A4規格（210X 297公釐） —4 ·** 經濟部中央標準局員工消費合作社印裝 〇08689 A7 B7 五、發明説明（2 ) 窄。 發明概要 本發明可消除上述之問題’且本發明之第一目的乃在 提供一種光學記錄介質’其可抑制軌跡偏置至一值或一位 準，該值或位準對於實際使用上而言相當低，且即使當記 錄作用在凹槽和陸地時，亦可提供位址資料之有效配置。 本發明之第二目的乃在提供一種高密度光學記錄介質 ，其可確保輕易的操控和簡單的複製準備，且即使發生一 讀出錯誤時，亦可允許解碼。 爲了達成上述之第一目的，使用下述之方式。 (1 )凹槽和陸地形成在記錄介質之一基底上，資訊 記錄區域形成和凹槽和陸地相連，和預坑設置在介於凹槽 和陸地間之邊界之實質延伸線上。 預坑之配置同時滿足下列之條件（a)至（d)。 (a )預坑位在凹槽之中央線之實質延伸之兩側上； (b )預坑位在陸地之中央線之實質延伸之兩側上； (c )預坑不位在凹槽之中央線之任何特殊位置之兩 側上；和 (d )預坑不位在陸地之任何特殊位置之兩側上。 以此構造，預坑之配置不會偏置在凹槽或陸地之中央 線之實質延伸之任一側上，以確保軌跡錯誤難以發生，且 預坑不會存在於凹槽或陸地之中央線之任何特殊位置之兩 本纸張尺度適用t國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐） -----r----ί、-------訂------广 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -5 - A7 308689 B7 五、發明説明（3 ) 側上，以使介於相鄰軌跡間之預坑資訊之干擾免於發生在 一再生點內，藉此可提供高密度窄軌跡記錄。 (2 )當預坑設置在週緣方向，以使在凹槽一側上之 預坑和在另一側上之預坑無法分辨，或在陸地之一側上之 預坑和在另一側上之預坑無法分辨*和該凹槽和該陸地相 連之預坑之至少連績兩個配置製成互相不同，以提供每兩 配置週期性的預坑之相同配置。 關於其它的選擇方面， (3 )和至少一對位在一預坑區域中，在該凹槽之中 央線兩側上之坑相連之一凹槽和不與位在預坑區域中在該 凹槽之中央線之兩側上之坑相連之相鄰凹槽交替的安排在 徑向方向。 因此，僅藉由再生坑，和凹槽相連之預坑可和與陸地 相連之預坑分辨，藉此可改善資訊記錄再生之可靠度。 (4 )同步資訊和位址資訊之一以位在該凹槽之兩側 之任一側上之預坑所表示。 關於其它的選擇方向， (5 )只有同步資訊和位址資訊之一由安排在該凹槽 之兩側之一上之預坑所表示，且同步資訊和位址資訊兩者 由安排在該凹槽之另一側上之預坑所表示。 藉此，在正確的同步下，可再生位址資料。此外’由 於在兩側上介於預坑間之相位邊緣可延伸’且可利於記錄 介質之製造* (6 )凹槽和預坑具有相同的深度，其爲7 〇 nm或 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X297公釐) (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 經濟部中央標準局員工消費合作社印聚 -6 - A7 B7 經濟部中央標準局員工消費合作杜印裝 五、 發明説明 (4 ) 1 I 更 小 〇 更 特 別 而 言 * 深 度 爲 4 0 η m 或 更 多 且 爲 6 0 η m 1 1 或 更 小 9 1 1 以 此 構 造 * 在 凹 槽 和 陸 地 間 可 獲 得 適 當 串 音 消 除 之 優 請 先 閲 1 I 點 * 此 外 亦 可 獲 得 良 好 的 軌 跡 伺 服 訊 號 〇 再 者 « 亦 可 利 於 1 I 記 錄 介 質 之 形 成 和 製 造 〇 以 超 過 7 0 η m 之 凹 槽 深 度 » 難 讀 背 ιέ 1 1 以 達 成 凹 槽 之 形 成 9 當 凹 槽 深 度 約 爲 5 0 η m 時 -f4, 軌 跡 伺 之 注 1 1 意 I 服 最 大 化 且 以 約 5 0 土 1 0 η m 之 凹 槽 深 度 » 可 達 成 實 事 項 1 I 再 1 質 相 同 的 效 果 〇 填 寫 本 %. I ( 7 ) 凹 槽 和 陸 地 實 質 具 有 相 同 的 深 度 其 介 於 頁 1 1 0 3 U m 和 0 7 5 β m 之 間 〇 1 | 以 此 構 造 良 好 的 軌 跡 可 與 高 密 度 記 錄 相 容 0 如 果 凹 1 I 槽 和 陸 地 具 有 之 寬 度 不 大 於 0 3 m 則 兩 個 凹 槽 和 陸 1 訂 1 地 會 界 限 在 一 光 點 內 且 4nr. 撕 法 獲 得 良 好 的 軌 跡 訊 號 〇 另 1 ! 一 方 面 如 果 凹 槽 和 陸 地 具 有 超 過 0 7 5 β m 之 寬 度 > 1 1 則 •Air 撕 法 提 供 有 效 的 高 密 度 記 錄 〇 1 1 ( 8 ) 最 小 的 預 坑 具 有 之 尺 寸 小 於 凹 槽 和 陸 地 之 寬 度 矣 | 〇 更 特 別 而 言 9 該 尺 寸 之 範 圍 由 0 2 5 β m 至 0 5 5 1 1 β 1X1 藉 此 t 可 獲 得 4nr. 串 音 之 良 好 預 坑 訊 號 〇 由 於 尺 寸 不 大 1 1 於 0 2 5 β m 預 坑 訊 號 會 顯 著 的 降 低 f 而 當 尺 寸 超 過 1 1 0 5 5 β m 時 曹 產 生 串 音 〇 1 1 在 本 發 明 中 » 預 坑 安 排 在 凹 槽 或 陸 地 之 中 央 線 之 實 質 1 I 延 伸 線 之 兩 側 上 » 在 光 點 之 掃 描 光 向 0 而 後 * 降 低 偏 置 以 1 I 使 軌 跡 偏 置 難 以 發 生 1 且 預 坑 並 未 存 在 於 凹 槽 或 預 坑 之 中 1 1 1 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） A7 B7 308689 五、發明説明（5 ) — It 11-1--1 —^n - —I- ^^1 --1— *4 - -- - II - ----二- —^^1 (請先聞讀背面之注意事項再填寫本頁) 央線之任何特殊位置之兩側上•以確保可防止在一再生光 點內介於相鄰軌跡間之預坑資訊之干擾，且可提供高密度 窄軌跡記錄。 再者，即使在軌跡偏置存在時，藉由比較在兩側上表 示預坑之訊號之振幅，亦可正確的偵測軌跡偏置量。因此 ，藉由回娥控制揭示比較結果之資訊至一掃描單元，可抑 制軌跡偏置· 在介於一凹槽和一預坑區域間t介於一陸地和一預坑 區域間，或介於預坑區域間之部份上，當在介於一凹槽和 一陸地間之邊界上之實質延伸線上之一預坑串移位至在相 鄰實質延伸線上之預坑串時，會產生一間隙。但是，前述 的曰本專利J P - A—6 — 1 76404並未將此間隙列 入考置。因此，在間隙不存在時或間隙非常短時*基底之 操控無法以一未切割而進行，而需要兩束切割•再者，在 複製準備時，注入必需應用至陡峭的圖樣，如此導致生產 量之減少。此外，在訊號之再生時，對於再生點之偏差之 容忍度和軌跡偏置亦降低，且易產生讀出錯誤。 經濟部中央樣隼局員工消费合作社印製 爲了達成第二目的，可使用下述之方式。 (1 )凹槽和陸地形成在一基底上，且預坑安排在介 於一凹槽和一陸地間之邊界之實質延伸上。特別的，預坑 位在凹槽或陸地之中央線之延伸之兩側上，且因此，雷射 光束之光學軸在切割時必需移動。聲光偏轉器（AOD) 可使用以改變光學軸。但是在傳送用於光學軸之訊號改變 後，對於A OD引起光學軸到達所窬之光學軸位置需要花 衣紙張尺度適用中國國家標準·（ CNS ) A4規格（210X 297公釐) -8 - 經濟部中央樣準局員工消費合作社印裝 A7 ___B7 五、發明説明（6 ) 費一些時間|而當一調制雷射光束沿著完整的光學軸照射 時，坑傾斜的形成在基底上。因此*在凹槽或陸地和接續 的預坑間並無圖樣格式化以提供一間隙，和一聲光調制器 (A 0M)相關於該間隙切斷，以避免雷射照射和坑牽引 。因此，基底可手簡單的切割機製造。此外，由於多數之 不均勻性並未形成在基底之窄區域上，在複製之準備時， 產置可增加。 (2 )在預坑安排在介於一凹槽和一陸地間之邊界之 資質延伸上之配置中，當介於凹槽和陸地間之邊界之實質 延伸之一側上之預坑串之配置和在另一側上之預坑串之配 置交換時，在相關一側上之預坑串之拖曳緣互相對準在基 底之徑向方向。接續的坑串和拖曳緣位置之坑串分離在週 緣方向或記錄/再生方向，且接績坑串之拖曳緣亦相似的 互相對準。當所形成之間隙符合記錄規則時，基底整體可 便於形成，且缺乏坑之部份亦可收集在基底之特殊區域上 ，藉此可解決在前述於切割和複製準備時所孕涵之問題。 (3 )'只具有原始資訊坑之徑向相鄰坑串可互相對準 在徑向方向中之拖曳緣上。因此，加入新的坑以確保在徑 向方向中之拖曳緣之對準，並觀察在記錄時之規則。 (4 )如（2 )所述，當坑串之配置由一側位移至另 一側時，在另一側上之配置中之坑之領先緣可對準在徑向 方向，以解決如（2 )所述在切割和複製準備中所孕涵之 問題》特別的，由訊號再生之觀點言•在坑串之移位後， 同步訊號立刻分配至坑資訊，因此，在特殊位置上之通道 本紙張尺度通用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） -- - - - I 11- 1· -f .衣1^1 - - -- - - -(請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -9 - 經濟部中央標準局員工消费合作社印製 A7 ___B7 五、發明説明（7 ) 位元之決定可詳加考慮，藉此，可確保對於領先緣位置之 偏差之容忍度之增加，且剛好在坑串之移位之前之位置上 之位置之重要資料之錯誤讀取之可能性亦會降低。 圚式簡單說明 圖1爲依照本發明之箄一實施例之光學記錄介質之擴 大片段平面圖。 圖2爲由圖1之介質中再生訊號之波形圓》 圓3爲使用於本發明中之光學記錄介質之記錄和再生 之裝置之方塊圖。 圖4爲依照本發明之第二實施例之光學記錄介質之擴 大片段平面圖》 圖5爲依照本發明之第三實施例之光學記錄介質之擴 大片段平面圖。 圖6爲依照本發明之第四實施例之光學記錄介質之擴 大片段平面圖。 圖7爲由圖6之光學記錄介質而來之再生訊號之波形 圓。 圖8爲依照本發明之第五實施例之光學記錄介質之擴 大片段平面圖。 圖9爲依照本發明之第五實施例之光學記錄介質之資 訊結構圖。 圖1 0爲在第五實施例中，介於預坑區域和凹槽間之 關係之擴大片段立體圚。 本紙張尺度通用中國國家標準（CNi? ) A4规格（210x297公釐) .^^1. II *1 ^^^1 - I- ϋ^— —^^1 —^^1 ^ - I - n^i 111 ^^^1 一eJ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -10 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 __B7_ 五、發明説明（8 ) 圖1 1爲在依照本發明之實施例之光學記錄介質中， 位移細節之擴大片段平面圖。 圖1 2爲依照本發明之第六實施例之光學記錄介質之 擴大片段平Pj®。 圖1 3^/依照本發明之第六實施例之光學記錄介質中 :· ； f 1 ί· ，調制碼之丨呼* 較佳實施例之說明 第一實施例（光學記錄介質） 參考圖1 ，其中顯示本發明之光學記錄介質之擴大片 段平面圖。寬度0. 6#m且深度爲50nm之凹槽84 和寬度0 . 6 之陸地8 5交替的安排在介質之徑向方 向，和記錄標示8 1形成在兩種區域中》換言之，凹槽 8 4和陸地8 5當成記錄區域。在預坑區域8 3中，並未 形成任何凹槽，但是坑位在陸地和凹槽間之邊界之延伸上 。毎個玩具有0. 3 5//m的寬度和50nm之深度。預 坑區域分成第一預坑區域8 3 1和第二預坑區域8 3 2。 在第一預坑區域8 3 1中，由圖所示，坑8 2位在陸地 8 5之中央線之上側，而在第二預坑區域8 3 2中，由圖 所示，坑8 2位在陸地8 5之中央線之下側。因此，當光 點2 1掃描陸地8 5時，只在一側上之坑始終再生，且因 此在相鄰軌跡間不會發生串音。因此•以預坑型式記錄之 位址資訊可適當的再生而無串音。 由於坑8 2在徑向方向上並未互相結合，它們可輕易 本紙張尺度遴用中國國家橾準（CNS ) Μ規格（210x297公釐) ---^------4 象------訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -11 經濟部中央樣隼局員工消費合作社印製 A7 _B7五、發明説明（9 ) 的形成。再者，坑8 2均勻的設置在軌跡（陸地或凹槽） 之兩側，且因此，可消除在軌跡伺服訊號上由坑8 2所引 起之影響。因此，軌跡偏置可抑制至充份小的位準。 再者，當再生例如一陸地8 5時，在第二預坑區域 8 3 2上之位址資訊之再生連績的執行，而位址資訊再生 在第一預坑區域8 3 1。因此，當兩區域結合成一區域， 其中安排資訊以提供用於一軌跡之位址資訊，陸地之一位 址（軌跡編號）和凹槽之一位址可互相獨立的設定。換言 之，藉由循序的再生位址資訊片在第一和第二預坑區域 831和832，可確保介於陸地和凹槽間之辨別。‘ 更特別而言，爲了凹槽之再生，由安排在第一預坑區 域之預坑所表示之位址資訊和由安排在第二預坑區域之預 坑所表示之位址資訊相同。但是，對於陸地之再生而言， 由在第一預坑區域之預坑所表示之位址資料和由在第二預 坑區域之預坑所表示之位址資料不同。當由在第一和第二 預坑區域之預坑表示之位址互相不同時，介於兩位址間之 共同關係可設定，且藉由使用此共同關係亦可增加錯誤校 正碼之效率。 較佳的，同步資訊（VFO) 8 6和位址資訊8 7可 同時安排在第一和第二預坑區域中》 雖然在此例中，預坑區域分成第一和第二預坑區域： 但是，分割數目亦可以是多數的。例如，當分割之數目爲 四時，在第一和第三預坑區域中之坑可安排在凹槽之一側 ，而在第二和第四預坑區域之坑可安排在凹槽之另一側。 本纸張尺度遴用中國國家標車（CNS ) A4规格（210X 297公釐) ' -12 - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝. 訂 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 308689 at ______B7 五、發明説明（10) 藉由增加預坑區域之分割數目，則可改善對抗缺陰之可靠 度》 此處，相位改變記錄材料（G e Sb Te )使用於記 錄膜中。因此，記錄檩示以非晶領域之型式形成。 參考圖3，其中顯示本發明之光學記錄介質應用至光 學記錄/再生裝置之構造。.在此裝置中，波長爲6 8 0 nm之半導體雷射311和準直透鏡312使用當成一光 源3 1。一雷射輪廓形成器（例如一稜鏡）亦可依需要的 提供。半導體雷射之功率由具有自動光能控制功能之光能 控制器7 1所控制。由光源3 1所發出之光束2 2藉由一 聚焦光學件3 2而聚焦在一磁光學記錄介質8上。聚焦光 學件3 2在此例中具有至少一透鏡3 2 1 ，且其亦具有一 光束分裂器3 2 4。用以聚焦光束在光學記錄介質8上之 物鏡具有0. 6之數值孔徑。因此，在光學記錄介質8上 之光點21具有1. 0#m之尺寸。藉由一掃描單元6, 光點亦可在光學記錄介質8上移動至所需位置》掃描單元 6包括至少一馬達6 2以轉動碟型磁光學記錄介質8和具 有自動聚焦控制和自動軌跡功能之自動位置控制器61。 自動位置控制器61使用來自磁光學記錄介質8之反射光 束2 3 ，以使一光偵測單元3 3偵測光點位置，以用於回 饋控制。 光點位置可由偵測來自凹槽之繞射光射線之能量所偵 測。光偵測單元3 3由一透鏡，一光束分裂器和多數之光 偵測器所構成•且多數光偵測器之输出訊號受計算以產生 本紙張尺度遴用中國國家標隼（CNS ) Λ4規格（210Χ297公釐） (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -於· 訂 13 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印取 A7 _B7_ 五、發明説明（U) —伺服訊號和一再生訊號* 使用如圖1所示之光學記錄介質，在圖2中以1 4表 示之訊號產生當成預坑訊號。此訊號輸入至一位址偵測單 元以解碼位址資料，同時，偵測第一和第二預坑區域之訊 號時間，並根據此時間資訊，儲存第一預坑區域和第二預 坑區域之振幅（平均峰對峰振幅）。如此所儲存之振幅以 振幅比較器互相比較，以產生軌跡偏置賫訊，而後饋回至 位置移動單元（掃描單元）。參考圓2，當光點掃描一凹 槽時，一磁光學再生訊號11和相關的預坑訊號14(在圖式中 之上方）產生，而當光點掃描一陸地時，一磁光學再生訊 號1 2和相關的預坑訊號1 4 (圖式之下方）產生。由於 在此例中，光點些微的偏置如圖1所示，在來自第一預坑 區域8 3 1之預坑訊號和來自第二預坑區域8 3 2之預坑 訊號間會發生振幅差異1 3。此振幅差異相當於軌跡偏置 藉由使用圖3之裝置，即使當各種外界的干擾，如光 點之相差列入考置時，軌跡偏置可降低至±0. 03#m 或更小。在無光學相差之標稱狀態下，軌跡偏置爲 土 0. 0 15//m 或更小。 如上所述，在本發明中，預坑設置在凹槽或陸地之中 央線之實質延伸之兩側上，如圖1所示。結果，使偏置降 低至難以發生軌跡偏置。由於預坑不存在於凹槽或陸地之 中央線之任何特殊位置之兩側上，因此在一再生點內不會 發生介於相鄰軌跡間之預坑資訊之干擾，且因此可確保高 本紙張尺度適用中國國家標隼（CNS ) Λ4規格（210X 297公釐） ^^1- - ...... - I- - - I II - ·/^" - - i -I- I - (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 14 - 藉由比較 A7 B7 五、發明説明（12) 密度窄軌跡記錄。 再者，如果發生如圖2所示之軌跡偏置時 置量。因此，藉由回鑛控制指示比較結果之資訊至掃描單 元時，即可抑制軌跡偏置* 再者，介於凹槽和陸地間之辨別亦可輕易的作用。 藉由使用本發明之光學記錄介質，軌跡偏置可抑制至 實際上充份小的位準（0. 03#m或更小），此外，即 使在高密度窄軌跡記錄下，亦可輕易的獲得位址資訊。經 由使用本發明之光學記錄/再生裝置，軌跡偏置可迅速的 以回饋控制降低。 第二實施例 參考圖4，其中顯示本發明之第二實施例•本實施例 之介質和第一實施例者之不同黏在於只有同步資訊坑 861 至 864 位在凹槽 841 ，842，843， 8 4 4或8 4 5之中央線之上側（由圖式觀之）和同步資 訊坑86 1至864和位址資訊坑87 1至874位在凹 槽8 4之中央線之下側（由圖式觀之）。較佳的，位址資 訊坑8 7 1至8 7 4連續的安排至同步資訊8 6 1至 8 6 4。對於一陸地8 5而言，上和下側關係反向。 和實施例1不同的是，本實施例之位址資訊只安排在 凹槽或陸地之中央線之上或下側，且因此相同的位址資料 分配至陸地和凹槽。在本實施例中，四個分割之預坑區域 本紙張尺度逋用中國國家標率（CNS ) Λ4说格（210X297公釐） ^^1 ---- -1 m « 111 ^^1 !-- 二---- -11 ^^1 穿 、1 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本買) 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 15 經濟部中央樣準局員工消费合作杜印製 A7 _____B7_五、發明説明（13) 8 3 1和8 3 4乃用以改善預坑區域之可靠度，但是預坑 區域並非始終需要分割》在本實施例中，在考慮已通過低 通濾波器之訊號之轉接之影響，在第一預坑區域8 3 1中 之同步坑8 6 1乃設計成具有比在第二至第四預坑區域中 之同步坑更長之長度。較佳的，位在上和下側之坑由製造 介質之觀點而言最好互相間隔0. 5；am或更大。更好爲 互相相隔約1 μπι之距離，其爲再生光碟點之直徑。 第三實施例 參考圖5，於此顯示第三實施例，其中確認標示8 8 使用以辨別陸地和凹槽。在此實施例中*用以辨別介於陸 地和凹槽間之確認標示8 8獨立的提供在第一和第二實施 例之預坑區域外。 在本實施例中，一對坑（確認標示）8 8安排在凹槽 841 ，843或845之中央線之上和下側（由圖式觀 之），但是它們並未提供於凹槽842或844。假設光 點在圖中相關的由左移動至右，當具有上述確認標示之介 質再生以提供確認標示可藉由光點觀察到之"存在'之例 和確認標示無法觀察到之t不存在^之例，％存在，不存 在^保持在凹槽84 1中，''不存在，存在^保持在陸地 851中，、不存在，不存在〃，保持在凹槽842中， 和^存在，不存在〃保持在陸地852中。再者· |存在 ，存在^保持在凹槽843中，''不存在，存在|保持在 陸地853中， ''不存在·不存在〃保持在凹槽844中 1 -11« I L - i - I - / ^^1· H (^^1 i In ^ J (請先閱讀背面之注意事項再填寫本貰) 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210X 297公釐） 經濟部中央標搫局員工消費合作社印製 A7 ____ B7___ 五、發明説明（14) ，和*存在，不存在•保持在凹槽854中。亦即， '存 在，存在^和、不存在，不存在|保持在凹槽中，而、不 存在，存在〃和、存在，不存在，保持於陸地中。因此， 根據再生訊號，即可使用以作用介於陸地和凹槽間之辨別 。爲了獲得可靠度，最好提供多數之確認標示對，且更好 的，這些坑對互相間隔約數//m或更多，在介質之資訊軌 跡方向或週緣方向，其垂直於徑向方向。例如，在前述實 施例中之預坑區域和確認標示區域最好可交替的安排在週 緣方向。 第四實施例 參考圖6 ，於此顯示依照本發明之第四實施例之光學 記錄介質之擴大片段平面圖。寬度爲0. 5 am且深度爲 40nm之凹槽84和寬度爲0. 5#111之陸地8 5交替 的安排，且記錄標示8 1形成在兩種區域中。換言之，陸 地8 5和凹槽8 4當成一記錄區域。在預坑區域8 3中， 不會形成任何凹槽，但是實質圖形坑82 (直徑爲0. 3 且深度爲4 0 nm)設置在介於陸地和凹槽間之邊界 之延伸上。預坑區域分割成一 VF 0 (變頻振塗器）區域 833和一位址區域834。特別的，在VFO區域中， 坑8 2交替的設置在陸地8 5之中央線之上和下側。在此 位址區域中•坑8 2交替的設置在相同期間，如同在 V F Ο區域中段。因此，沒有坑存在於陸地或凹槽之中央 線之位置之兩側上。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Α4規格（210x 297公釐） ^^1 ! - - 1 -ili I. m m 一OJ (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) -17 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 308689 A7 B7 五、發明説明（15) 此外，在位址區域中，用於特殊軌跡之資料編碼或和 用於相鄰軌跡之資料相差一坑*換言之，此資料採用葛雷 碼（Gray code )之型式。以此構造，當一光點2 1掃 描一陸地8 5時，只有在一側上之坑始終再生，因此在相 鄰軌跡間不會發生串音。因此，分配至預坑之位址資料可 適當的再生而不會發生串音。由於用於相鄰軌跡之坑8 2 並未互相相鄰，因此它們可輕易的形成。再者，坑8 2可 均勻的設置在軌跡（陸地或凹槽）之兩側，且因此可消除 由坑8 2所引起在軌跡伺服訊號上之影響。因此，軌跡偏 置可抑制至一最小值· 當圖6之實施例之介質以圖3之裝置再生時，如圖7 所示之再生訊號由預坑區域8 3產生，其表示可獲得鼸軌 跡之不同而有所不同之資料片，且因此，位址資料可利用 非常高的效率記錄。由於葛雷碼之使用，即使在交互軌跡 存取時，亦可再生位址，如此確保了高速存取之適當性。 再者，由於使用葛雷碼，即使有串音存在，亦難以發生錯 誤，如此可確保窄化軌跡之適當性。 第五實施例 參考圖8 ，於此顯示依照本發明之第五實施例之光學 記錄介質之擴大片段平面圖•寬度爲0. 7/zm且深度爲 7 0 nm之凹槽8 4和寬度爲0 . 7 之陸地8 5交替 的安排在徑向方向，和兩種區域當成資訊軌跡，其上形成 記錄標示。 本紙浪尺度適用中國國家標準（CNS M4規格（210X297公釐） n I I . 訂 I n (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 區域8 3在資料記錄區#1：標頭 A7 B7 —........... ... — ..- 五、發明説明（16) 換言之，每個陸地8 5和凹槽8 4當成一記錄區域。 在預坑區域8 3中，並未形成任何凹槽，但是坑8 2設置 在介於陸地和凹槽間之邊界之延伸上。預坑區域分成許多 區帶，該區帶安排在徑向方向上，在1 8 0 0資訊軌跡上 ，亦即，9 0 0凹槽。 區帶同心圔的安排在整個碟上，以使全部爲2 4個區 帶在直徑爲3 0至6 Omm之碟上。更特別而言，在每個 區帶中，在一旋轉時欲偵測之預坑區域之數目，亦即，扇 區數目爲常數，且在外區帶之扇區數目大於在內區帶者。 每個扇區4 1之構造胃圓9所示。扇區4 1具有預坑 如圖8所示，預坑ΊΤ域分成第一預坑區域8 3 1和第 二預坑區域8 3 2。在第一預坑區域8 3 1中，坑8 2安 排在陸地8 5之中央線之上側（如圖所示），和在第二預 坑區域8 3 2中，坑8 2安排在陸地8 5之中央線之下側 。結果，當光點2 1掃描陸地8 5時，只有在一側上之坑 始終再生，且因此不會在相鄰軌跡間發生串音。因此，分 配至預坑之位址資訊可適當的再生而不會有串音。由預坑 所表示之位址資料以1_7調制碼（具有0. 2ym之通 道位元長度）之型式記錄。換言之，線性記錄密度爲 0 . 3 e m /位元》 圖1 0顯示在本實施例中介於預坑區域和凹槽間之關 係之擴大片段截面立體圚。 在本實施例中，一間隙區域8 7提供在第一和第二預 本紙張尺度遘用中國國家標準（CNS ) A4規格（210X 297公釐） m Hr - III - I- vn 1^1 m - - 一 11 In - ml HI ^1« 、-» (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中夬榡準局員工消費合作杜印裝 -19 - A7 ___B7 五 '發明説明（17) 坑區域831和832之間，以使它們間隔約1. 〇#m 。由於在此實施例中，資料隨著1 - 7記錄後而記錄，此 間隙距離相當於約5育道位元之長度。5通道位元之長度 剛好爲介於最長標示長度（8通道位元長度）和最短標示 長度（2通道位元長度）之中間長度。因此，可在第一和 第二預坑區域間再生間隙區域，其長度介於最短標示長度 和最長標示長度之間，即使當坑在坑形成時經歷形狀和位 置之改變，和光點經歷在形狀上之改變和在掃描位置上之 改變（伺服偏置），藉此可確保非常高的可靠度。在此例 中，標示設計成經歷•在最壤的情況下，抑制至0. 6 經濟部中央標準局員工消費合作杜印製 ----1 I - - 1- - - III ·=-良 I- ^^1 ^^1 ml - -- 洚-5 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) ( 3通道位元長度）之位置之全部改變，且因此，有 效長度（在再生時）在最短長度下爲2通道位元，而在最 長長度下爲8通道位元，藉以匹配1 - 7調制碼之規則， 如此在再生時不會引起任何問題。如果偵測長度比8通道 位元長度長時，則會逆向的干擾例如記錄位址標示之特殊 同步圖樣。如果偵測長度比2通道位元短時’則會導致一 小的標示（其小於再生光點之解晰度），且無法偵測。因 此，間隙長度最好抑制至介於最長標示長度和最短標示長 度之中間值，如本實施例所述。 根據坑形成裝置之規格，在標示位置上之改變可抑制 至一通道位元長度或更小。在此例中，稱間隙長度可抑制 至3至7通道位元長度，但是用於目的之坑形成裝置變成 相當昂貴。因此訊號受到再生時由於軌跡偏置而引起之錯 誤之可能性極高，且因此，所需要之介質爲間隙長度剛好 本紙張尺度適用中國國家標牟（CNS ) Λ4規格（210X297公釐） -20 - 經濟部中央標隼局員工消资合作社印装 A7 __B7_ 五、發明説明（18) 在最長標示長度和最短檫示長度之中間，以適於如上所述 之記錄。 在本資施例中，坑8 2均勻的設置在軌跡（陸地或凹 槽）之中央線之兩側上，且因此，可消除由坑8 2所引起 在軌跡伺服訊號上之影響。因此，軌跡偏置可抑制至一充 份小的位準。此外，當陸地8 5再生時，則連縯的執行在 第二預坑區域8 3 2上之位址資料之再生和在第一凹槽區 域8 3 1上之位址資料之再生。因此，當兩區域結合成一 區域，其中安排資訊以提供用於一軌跡之位址資料時，陸 地和凹槽之位址（軌跡編號）可互相獨立的設定。換言之 ，藉由循序的再生在第一和第二預坑區域8 3 1和8 3 2 中之位址資料片，即可確保介於陸地和凹槽間之辨別。 更特別而言，爲了凹槽之再生，安排在第一預坑區域 由預坑所表示之位址資料和安排在第二預坑區域上由預坑 表示之位址資料相同，但是對於陸地之再生而言，在第一 預坑區域中由預坑表示之位址資料和在第二預坑區域中由 預坑所表示之位址資料不同。當在第一和第二預坑區域中 由預坑所表示之位址互相不同時，介於兩位址間之相互關 係可設定，且使用此相互關係亦可增加錯誤校正碼之效率 〇 較佳的，同步資訊（VFO) 86和位址資料87可 一起安排在第一和第二預坑區域中。 雖然在此例中’預坑區域分成第一和第二預坑區域： 但是，分割數目亦可以是多數的。例如，當分割之數目爲 I紙张又度逋财關家標準（CNS ) Λ4規格（21GX 297公| ) ~ '~~'~~ -21 - · 裝 訂 (請先閲讀背面之注意事項再填寫本頁) 經濟部中央標準局員工消费合作社印装 A 7 ___ _B7__ 五、發明説明（19) 四時，如圖5所示，在第一和第三預坑區域中之坑可安排 在凹槽之一側，而在第二和第四預坑區域之坑可安排在凹 槽之另一側。藉由增加預坑區域之分割數目，則可改善對 抗缺陷之可靠度。 此處，相位改變記錄材料（Ge SbTe )使用.於記 錄膜中。因此，記錄標示以非晶領域之型式形成。 參考圖1 1 ，其中詳細顯示在介質中，介於相鄰軌跡 之預坑區域間之位移量9 6 3，介於相鄰軌跡之預坑間之 位移量9 6 1 ，和介於相鄰軌跡之凹槽間之位移量9 6 2 。在實際的介質中，由於在坑形成時會發生各種不同的原 因，位移有時會發生在相鄰軌跡之坑之間，由於位移量 96 1 、962和963 ，間隙區域86和87之長度會 增加或減少· 除了上述之位移外，在再生時之各種變化像差，伺服 錯誤等）亦會引起再生訊號之明顯位移。因此，可能的位 移會導致嚴重的問題。但是，在本發明中，間隙區域之標 構長度設定爲介於最短標示長度和最長標示長度間之中間 長度，在1 — 7調制碼之後，且因此，可允許±0. 6 // m之位移量》 如圖8所示之光學記錄介質可以圖3所示之裝置再生 ，以和第一實施例所述相同的方式，如此所具有之優點爲 軌跡偏置可降低至±0. 3 jum或更小，即使當各種不同 的外部干擾（如光學像差）列入考慮之情況下，且特別的 ，在無光學像差之標稱狀態下，其可降低至±0. 015 度適用中國國家橾牟（CNS ) Λ4規格（210X297公釐） (請先閣讀背面之注意事項再填寫本頁) 裝 訂 -22 - 經濟部中央標隼局員工消費合作社印製 308689 at Β7 五、發明説明（20) μ. m 。 第六實施例 雖然圓8之實施例使用1 - 7調制碼當成記錄調制碼 ，本實施例使用八至+四調制（E FM)記錄。通道位元 長度約爲0 · 2 。在本記錄中，最短標示長度爲3通 道位元長度和最長標示長度爲1 1通道位元長度。實際上 ，具有12通道位元或更多之標示是可用的，但是此種型 式之標示受限於一特殊之應用，如同步圖樣。因此，資料 必需免於導入可能會干擾特殊圖樣之圓樣中。除了下述之 幾點外，預坑區域，凹槽和陸地和圖8之第五實施例相似 的安排。亦即，它們安排成如圖1 0所示，且特別的，每 個凹槽之寬度約0. 75#m，和每個預坑之深度約爲 0 . 0 7 5 μ m。 在本實施例中，預坑區域和凹槽設置如圖1 2所示。 四個預坑區域831 ，832，833和834分配至一 扇區之標頭。在每個預坑區域中，用以同步至同生訊號之 一 V F 0區域和記錄軌跡和扇區區域之位址資料之位址區 域循序的安排。坑之啓始位置和端位置乃安排成可實質的 對準在徑向方向，且一間隙區域8 6提供在凹槽之端和坑 區域之啓始之間。相似的，間隙區域87、88或89提 供在相鄰預坑區域之間。 如前所述，介於坑之啓始位置和接績坑之啓始位置間 之位移之細節如圖11所示。以圖11所示之位移。間隙 本紙浪尺度逋用中國國家標準（CNS ) Μ規格（210X 297公釐） —,—»----ί 袈— (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) 訂 -23 - 經濟部中央標準局員工消費合作社印製 A7 _B7 五、發明説明（21) 區域8 6之有效長度乃降低或增加*如同圖8之第五實施 例。爲了在徑向方向對準預坑區域831 ，832和 8 3 3之最後坑之端，使用如圖1 3所示之額外坑圔樣 110。使用依照先前資料而選自四種型式（a) ， (b )，（c)和（d)之額外圖樣。藉此，最後坑之拖曳緣 位置9 9可始終對準在相同位置，而無關於先前資料，且 間隙長度和坑長度可限制至可用於調制碼之長度，以此方 式，介於接續預坑區域1 2 0和最後坑之拖曳緣位置9 9 之間之間隙區域可設定至在調制碼之後介於最長檫示長度 和最短標示長度間之中間長度，因此，在預坑形成和再生 時，邊界可顯著的增加，如第五實施例所示。 在前述實施例中，已說明相位改變記錄材料之介質， 但是，其它的材料亦可獲得本發明之優點。例如，亦可使 用磁光學記錄介質當成記錄膜。此外，已敘述之調制碼爲 2 — 7和8/9碼，但是，其亦可爲其它型式，其中前述 E F Μ延伸。 依照本發明，在具有陸地和凹槽之光學記錄介質中， 基底可以輕易的操控裝置製造，且可簡單的準備複製，而 所得之結果爲可確保介質之製造邊界和讀出邊界實際上充 份的大。因此，可提供價廉且高密度之光學記錄介質。 本紙張尺度適用中國國家標準（CNS ) Λ4規格（210 X 297公釐） . · ' 裝 訂 (請先閱讀背面之注意事項再填寫本頁) -24 -