US8143731B2
(en )
2012-03-27
Integrated alignment and overlay mark
US5702567A
(en )
1997-12-30
Plurality of photolithographic alignment marks with shape, size and spacing based on circuit pattern features
US6801313B1
(en )
2004-10-05
Overlay mark, method of measuring overlay accuracy, method of making alignment and semiconductor device therewith
KR101121354B1
(ko )
2012-03-09
반도체 프로세싱에서 웨이퍼 상에 형성된 구조의 임계 치수를 제어하는 방법 및 시스템
TWI487003B
(zh )
2015-06-01
疊對取樣方法與度量系統
US7258953B2
(en )
2007-08-21
Multi-layer registration and dimensional test mark for scatterometrical measurement
KR100787941B1
(ko )
2007-12-24
중첩 마크를 갖는 포토 마스크 및 반도체 장치의 제조 방법
KR100519252B1
(ko )
2005-10-06
오버레이 마크, 오버레이 마크 형성방법 및 오버레이측정방법
CN109643640B
(zh )
2021-02-12
在工艺中控制衬底上图案定位的方法及计算机程序产品
TWI715770B
(zh )
2021-01-11
偏移值之決定方法、圖案之形成方法、微型裝置和微型元件之製造方法及記憶媒體
JPWO2019182961A5
(zh )
2022-03-24
TW202425087A
(zh )
2024-06-16
製造半導體元件的方法
US9978687B1
(en )
2018-05-22
Semiconductor substrate
US6350994B1
(en )
2002-02-26
Structure of critical dimension bar
US9871001B2
(en )
2018-01-16
Feeding overlay data of one layer to next layer for manufacturing integrated circuit
US7632616B2
(en )
2009-12-15
Controlling system and method for operating the same
US6952886B1
(en )
2005-10-11
Overlay vernier
JP2009004793A
(ja )
2009-01-08
半導体素子のアライメントキー形成方法
TW202428143A
(zh )
2024-07-01
半導體元件以及其製造方法
TWI835363B
(zh )
2024-03-11
半導體晶圓、疊對偏移的處理裝置及其方法
US8057987B2
(en )
2011-11-15
Patterning method of semiconductor device
KR100827472B1
(ko )
2008-05-06
반도체 포토리소그래피 공정의 오버레이 마크 및 형성 방법
TWI725235B
(zh )
2021-04-21
用於在製造過程中控制基板上圖案之定位的方法及電腦程式產品
KR100548723B1
(ko )
2006-02-02
막 두께 측정용 패턴이 형성된 반도체 웨이퍼 및 이를이용한 웨이퍼의 막 두께 측정방법
CN117970741A
(zh )
2024-05-03
拼接产品的光罩及在线检测并调控层间对准情况的方法