TW202346032A - 化學機械拋光組件、用於電連接到具有流體的容積的組件，及製造流體導管的方法 - Google Patents

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Abstract

一種化學機械拋光組件，包括化學機械拋光系統、流體源和流體遞送導管，該流體遞送導管用於將流體從該流體源輸送到該化學機械拋光系統中。該拋光系統具有支撐拋光墊的壓板、支撐基板並使該基板與該拋光墊接觸的載體頭、和引起壓板與該載體頭之間的相對運動的馬達。該流體遞送導管包括：導電線，該導電線延伸穿過該導管的內部以使靜電放電流向接地；及導線提取配件，該導線提取配件覆蓋並密封該導電線穿過該流體遞送導管的壁的位置。

Description

用於ESD聚合物流體管線的接地技術
本案內容涉及化學機械拋光（CMP），並且更具體地涉及CMP中的流體遞送。
積體電路典型地藉由在半導體晶片上順序地沉積導電層、半導電層或絕緣層來形成在基板上。多種製造製程要求在基板上的層的平面化。例如，一個製造步驟涉及在非平面表面上方沉積填料層並將該填料層平面化。對於某些應用，將填料層平面化，直到暴露圖案化層的頂表面，或者直到預定厚度的材料保留在底層上。
化學機械拋光（CMP）是一種公認的平面化方法。該平面化方法典型地要求基板安裝在載體頭上。基板的暴露表面典型地被放置為抵靠旋轉的拋光墊。載體頭在基板上提供可控制的載荷以將該基板推抵在拋光墊上。可典型地向拋光墊的表面供應具有磨粒的拋光漿料。可將清潔流體（例如，去離子水）噴塗到拋光墊上，以從拋光程序移除碎屑。
一種化學機械拋光組件包括化學機械拋光系統、流體源和流體遞送導管，所述流體遞送導管用於將流體從所述流體源輸送到所述化學機械拋光系統中。所述拋光系統具有支撐拋光墊的壓板、支撐基板並使所述基板與所述拋光墊接觸的載體頭和引起壓板與所述載體頭之間的相對運動的馬達。所述流體遞送導管包括：導電線，所述導電線延伸穿過所述導管的內部以使靜電放電流向接地；及導線提取配件，所述導線提取配件覆蓋並密封所述導電線穿過所述流體遞送導管的壁的位置。
具體實施方式可包括以下特徵中的一者或多者。導電線可由貴金屬製成。流體遞送導管可以是撓性管。導電凸耳（lug）可被擰入通路的螺紋部分中。塑膠主體可被擰入流體遞送導管中的螺紋開口中。
在另一態樣，一種製造流體導管的方法包括：穿過管件放置導電線，其中該管件被配置為使流體流入化學機械拋光組件；及將導電線耦接到接地源，以形成靜電放電保護組件來傳導靜電電荷。
具體實施方式可包括以下特徵中的一者或多者。靜電放電保護組件可安裝在化學機械拋光組件上。管件可將管件流體耦接到流體源，以使流體從流體源流向化學機械拋光組件。導電線可耦接到公共接地源。
在另一態樣，用於電連接到具有流體的容積的組件包括形成容積的邊界以容納流體的壁、延伸穿過容積的導電線和提供穿過壁的密封電連接的提取配件。提取配件包括具有穿過其中的通路的環形塑膠主體。塑膠主體具有擰入壁中的螺紋孔中的螺紋外表面，導電線插入通路的一端，並且導電凸耳插入通路的相對端並接觸導電線。導電凸耳具有擰入通路的相對端處的螺紋部分中的螺紋外表面。
具體實施方式可包括以下特徵中的一者或多者。密封劑可放置在塑膠主體的螺紋外表面與壁中的螺紋孔之間。密封劑可放置在凸耳主體的螺紋外表面與通路的螺紋部分之間。在任一情況下，密封劑可以是聚四氟乙烯（PTFE）帶。塑膠主體可以是聚四氟乙烯（PTFE）。壁可以是塑膠。流體可以是蒸汽。導電線可由貴金屬製成。
可能的優點可包括但不限於以下的一者或多者。
從流體遞送管線的靜電放電的危險以及因此對化學機械拋光系統中的流體遞送管線或其他部件的造成的損壞可減少。接地機構的部件可容易地且以低成本製造。當流體與貴金屬相互作用時，流過管件的流體不會有另外的污染風險。另外，本文公開的系統和方法是高溫安全的且與半導體清潔腔室相容。
以下附圖和描述中闡述了一或多個具體實施的細節。其他態樣、特徵和優點將從描述和附圖中以及從申請專利範圍中顯而易見。
一種化學機械拋光系統包括相當大量的流體遞送管線，以遞送相當大量的流體，例如去離子水、蒸汽、氮氣。例如，典型的系統可包括流體遞送管線，以將漿料輸送到拋光墊，以將清潔液輸送到拋光墊以移除拋光碎屑，以將加熱或冷卻流體輸送到拋光墊以控制拋光製程的溫度，以輸送加壓氣體來用於載體頭中的壓力的氣動控制等。可例如由摩擦起電或靜電感應引起這些流體輸送管線中的靜電積聚。如果靜電積聚變得太大，則可能會導致靜電放電，從而損壞沿著流體遞送管線的部件和管件。特別地，靜電特別容易發生在輸送熱氣體（例如，蒸汽）的流體管線中。蒸汽和溫度的結合可造成在不使用蒸汽的一般系統中沒有觀察到的摩擦起電。
用於靜電耗散（electrostatic dissipative, ESD）管件的傳統方法是在管件內部放置導電層，例如碳的導電層。然而，塗覆在管件的內部的材料的顆粒可被流體輸送到拋光系統，從而造成基板的污染和缺陷。此外，拋光環境可以是潮濕的並被飛濺漿料潤濕，因此在管件外部的導電層會經受氧化或環境磨損。
用於接地技術的其他商業上可用的選項，例如在管件的內部和外部浸漬有一體化碳的管，無法完全地耗散來自聚合物流體管線的ESD電荷。另外，這些方法往往會在管件末端發生洩漏。這些問題在高溫下加劇，這是化學機械拋光系統中不可預見的問題，因為溫度調節對於控制製程變得更重要。
由導電貴金屬形成並延伸穿過管件內部的導線可改善這些問題。貴金屬，諸如鉑或金，即使在高溫下也不會與蒸汽相互作用。因此，在管件內部放置貴金屬導線不太可能導致微粒，並且也不太可能導致積體電路產品的缺陷。可設計接地提取配件組件來維持氣密密封管件路徑，同時還為內部貴金屬導線適當地引入接地路徑。貴金屬導線可耦接到接地源，使得由流體流與周圍聚合物管件之間的摩擦所產生的電荷能被耗散。
圖1和圖2圖示化學機械拋光系統的拋光系統20的示例。拋光系統20包括可旋轉盤形壓板24，拋光墊30安置在可旋轉盤形壓板24上。壓板24是可操作的以圍繞軸線23旋轉（參見圖2中的箭頭A）。例如，馬達22可轉動驅動軸26以旋轉壓板24。拋光墊30可以是具有外拋光層34和較軟的背襯層32的兩層式拋光墊。
拋光系統20可包括供應埠40（例如，在漿料分配臂43的一端處）以將拋光液42（諸如研磨漿料）分配到拋光墊30上。拋光液42可從貯存器44遞送（參見圖2）通過流體遞送管線46，例如通過泵。
拋光系統20可包括具有調節器盤92的墊調節器90（參見圖2）以維持拋光墊30的表面粗糙度。調節器盤92可定位於臂94的一端處的調節器頭93中。可例如藉由在流體遞送管線96中的加壓氣體（例如N 2）來氣動地控制調節劑盤92抵靠拋光墊30的下壓。
載體頭50是可操作的以將基板10保持在拋光墊30上。載體頭50還可包括保持環56以將基板10的側向位置維持在載體頭下方。載體頭50懸掛在支撐結構60（例如，轉盤或軌道）上，並且藉由驅動軸62連接到載體頭旋轉馬達64，使得載體頭可圍繞中心軸線51旋轉。任選地，載體頭50可例如在轉盤上的滑塊上藉由沿軌道的移動或藉由轉盤本身的旋轉振盪而橫向振盪。
載體頭50可包括撓性膜片54和複數個可加壓腔室52a-52c，撓性膜片54具有基板安裝表面以接觸基板10的背面，複數個可加壓腔室52a-52c將不同壓力施加到基板10上的不同區域（例如，不同徑向區域）。腔室52a-52c的壓力可藉由壓力調節器58a-58c來控制。壓力調節器58a-58c可藉由氣動管線59耦接，氣動管線59穿過旋轉接頭和驅動軸62並將加壓氣體（例如，N 2）輸送到相應腔室52a-52c。
在操作中，壓板圍繞其中心軸線25旋轉，並且載體頭圍繞其中心軸線51旋轉（參見圖2中的箭頭B）並在拋光墊30的頂表面上橫向平移（參見圖2中的箭頭C）。
隨著載體頭50和調節器頭92掃過拋光墊30，任何暴露表面趨於變得被漿料覆蓋。例如，漿料會黏到保持環56的外徑或內徑表面。一般而言，對於未維持在潤濕狀態下的任何表面，漿料將趨於凝結及/或變乾，從而導致零件的腐蝕以及在基板上的顆粒和缺陷。一種解決方案是例如用水或蒸汽的射流清潔部件（例如載體頭50和調節器頭92）。用於載體頭的載體頭清潔器（例如蒸汽處理組件）可以是拋光系統中的裝載杯件（load cup）的一部分。類似地，用於調節器頭的調節器頭清潔器（例如蒸汽處理組件）可以是調節器頭清潔杯件的一部分。無論哪種情況，都需要管件將清潔液（諸如液態水或蒸汽）輸送到清潔器。
在一些具體實施方式中，拋光系統20包括溫度感測器80，以監測拋光站或/拋光站的部件或拋光站中的部件的溫度，例如拋光墊30及/或在拋光墊上的拋光液38的溫度。例如，溫度感測器80可以是紅外（IR）感測器，例如IR相機。替代地或另外地，溫度感測器可以是接觸式感測器而不是非接觸式感測器。例如，溫度感測器80可以是定位於壓板24上或壓板內的熱電偶或IR溫度計。此外，溫度感測器80可與拋光墊直接接觸。
拋光系統20還可包括溫度控制系統100，以控制拋光墊30及/或在拋光墊上的拋光液38的溫度。溫度控制系統100可包括冷卻系統102及/或加熱系統104。冷卻系統102和加熱系統104的至少一個以及在一些具體實施中是兩者藉由將溫度受控的媒體（例如，液體、蒸氣或噴霧）遞送到拋光墊30的拋光表面36上（或遞送到已存在於拋光墊上的拋光液上）。
如圖1所示，示例溫度控制系統100包括在壓板22和拋光墊30上方延伸的一或多個臂110。多個噴嘴120懸掛於或形成於每個臂110中，並且每個噴嘴120被配置為將溫度控制流體遞送到拋光墊30上，例如將流體噴到拋光墊上。
為了作為冷卻系統進行操作，溫度控制流體是冷卻劑。冷卻劑可以是氣體（例如空氣）或液體（例如水）。冷卻液可在室溫下或冷卻到低於室溫（例如在5-15℃）。冷卻系統102中使用的冷卻液可包括，例如冷水、液氮或由液氮及/或乾冰形成的氣體。在一些具體實施方式中，液體（例如水、乙醇或異丙醇）的液滴可添加到氣流中。在一些具體實施中，冷卻系統使用空氣和液體的噴霧，例如液體（例如水）的霧化噴霧。特別是，冷卻系統可具有噴嘴，該噴嘴產生冷卻到低於室溫的水的霧化噴霧。
如圖2所示，冷卻系統102可包括液體冷卻劑媒體的源130及/或氣體冷卻劑媒體的源132。來自源130的液體和來自源132的氣體可在被引導通過噴嘴120例如以形成噴霧122之前通過管件134、136輸送到臂110並輸送到臂內部。當冷卻劑被分配時，該冷卻劑可低於室溫，例如從-100到20℃，例如低於0℃。
來自氣體源132的氣體，例如壓縮氣體，可連接到可將壓縮氣體分離成冷流和熱流的渦流管133，並且將冷流從噴嘴120引導到拋光墊30上。在一些具體實施方式中，噴嘴120是將壓縮氣體的冷流引導到拋光墊30上的渦流管的下端。
為了作為加熱系統進行操作，溫度控制流體是加熱流體。加熱流體可以是氣體（例如蒸汽或加熱空氣）或液體（例如加熱的水）或氣體和液體的組合。加熱流體高於室溫，例如在40-120℃，例如在90-110℃。流體可以是水，例如基本上純的去離子水，或包括有添加劑或化學品的水。在一些具體實施方式中，加熱系統使用蒸汽噴霧或蒸汽和液態水的組合。蒸汽可包括添加劑或化學品。
如圖2所示，加熱系統104可包括加熱液體（例如，熱水）的源140及/或加熱氣體（例如，蒸汽）的源142。例如，源142可以是鍋爐。來自源140的液體和來自源142的氣體可在被引導通過噴嘴120以形成噴霧122之前通過管件144、146輸送到臂110並輸送到臂內部。
沿著壓板24的旋轉方向，加熱系統104的臂110b可定位於冷卻系統102的臂110a與載體頭70之間。沿著壓板24的旋轉方向，加熱系統104的臂110b可定位於冷卻系統102的臂110a與漿料分配器臂43之間。例如，冷卻系統102的臂110a、加熱系統104的臂110b、漿料分配器臂43和載體頭70可沿壓板24的旋轉方向以此順序定位。
作為分離的臂的替代，溫度控制系統100可包括單個臂以分配冷卻劑和加熱流體兩者。
作為替代或補充，溫度控制系統100可使用其他技術以控制拋光製程的溫度。例如，加熱或冷卻流體（例如蒸汽或冷水）可被注入拋光液42（例如，漿料）中，以在拋光液42被分配之前升高或降低拋光液42的溫度。作為另一個示例，電阻加熱器可被支撐在壓板22中以加熱拋光墊30，及/或被支撐在載體頭50中以加熱基板10。
在層的拋光期間調節漿料和拋光墊的溫度允許增加帶電荷磨料（諸如氧化鈰）之間的相互作用。藉由使用溫度控制，可藉由調制拋光墊的物理參數以及變更在帶電氧化鈰與填料層之間的化學相互作用特性來有益地提高材料移除率。
在一些具體實施方式中，控制器90接收來自溫度感測器80的信號並執行閉合迴路控制演算法以控制溫度控制系統100，例如冷卻劑或加熱流體相對的流速、混合比、壓力或溫度，以便將拋光製程維持在期望溫度。
在一些具體實施方式中，原位監測系統測量基板的拋光速率，並且控制器90執行閉合迴路控制演算法以控制溫度控制系統，例如冷卻劑或加熱流體相對的流速或溫度，以便將拋光速率維持在期望速率。
拋光系統20還可包括高壓沖洗系統106。高壓沖洗系統106包括複數個噴嘴150，例如三到二十個噴嘴，這些噴嘴以高強度將清潔流體（例如水）引導到拋光墊30來沖洗墊30並移除所用過的漿料、拋光碎屑等。清潔流體可從清潔流體的源156（例如，去離子水的貯存器）通過管件152流到噴嘴150。
一個示例沖洗系統106包括在壓板24和拋光墊30上方延伸的臂110c。沿著壓板24的旋轉方向，沖洗系統106的臂110c可位於冷卻系統102的臂110a與加熱系統104的臂110b之間。
在一些具體實施方式中，拋光系統20包括刮刀或主體170以將拋光液42均勻地分佈在拋光墊30上。沿著壓板24的旋轉方向，刮刀170可位於漿料分配器40與載體頭70之間。
雖然圖2圖示用於每個子系統（例如，加熱系統104、冷卻系統102和沖洗系統106）的單獨的臂，但是各種子系統可被包括在由公共臂支撐的單個組件中。各種流體遞送部件（例如管件、通路等）可在每個主體內部延伸。
圖3A和圖3B圖示可適合於在化學機械拋光系統（例如，拋光系統20）中使用的流體遞送管線300。流體遞送管線300可用作用於拋光液的流體遞送管線44、用於載體頭的氣動管線59、用於調節器頭的流體遞送管線96、用於冷卻系統的管件134或136、用於加熱系統的管件144或146、用於高壓沖洗系統的管件152、用於將通向裝載杯件及/或調節器清潔器杯件的氣動及/或清潔流體（例如，液態水或蒸汽）輸送到清潔器的管件。
流體遞送管線300可特別適合於輸送熱氣體（例如蒸汽），因為蒸汽和高溫的組合會導致可能不會在室溫氣體或液體中發生的靜電電荷積聚。例如，流體遞送管線300可用作管件146以從源142（例如鍋爐）遞送熱氣體（例如蒸汽），或用作管件以遞送蒸汽來用於清潔裝載杯件及/或調節器清潔器杯件中的載體頭及/或調節器頭。
流體遞送管線300包括聚合物管310，其可以是電絕緣且耐高達100℃的溫度並對通過流體遞送管線300的流體呈惰性且對拋光製程呈惰性的材料。例如，聚合物管可以是全氟烷氧基烷烴（PFA）。聚合物管310具有內部通道312，流體流過內部通道312。聚合物管310可具有入口314和出口316，流體將流過入口314和出口316。流體遞送管線300可由多個件形成，例如將具有螺紋外表面的一個件擰入到具有螺紋內表面的另一個件中。可提供聚四氟乙烯（PTFE）（例如Teflon TM）帶或密封化合物在各個件之間進行額外密封。此外，雖然圖3A圖示流體遞送管線300為線性的，但是流體遞送管線可具有一或多個彎曲或曲線。
導電線340延伸穿過聚合物管310的內部通道312。此導電線340可連接到公共接地。例如，導電線340可藉由流體密封的接地提取配件組件350連接到接地線342。導電線340可以是貴金屬，諸如金和鉑。貴金屬（諸如鉑或金）即使在高溫下也不會與蒸汽相互作用，因此顆粒和對應缺陷的危險很低。在管310內，導電線是「裸露的」，即，未塗覆或覆蓋絕緣護套，使得靜電電荷可能被導線340排走。相反，接地線342可以幾乎是任何導線，例如帶有絕緣護套（例如塑膠護套）的銅線，其在與接地提取配件組件350的連接處被剝離。
導電線340不必延伸穿過管件的流體入口和出口，而是能沿著入口與出口之間的距離的至少大部分（例如至少50%，例如至少75%，例如至少90%）延伸。因此，接地提取配件組件342應當位於入口與出口之間的距離的例如最後10%內（例如，最後5%）附近。這可防止沿流體路徑的大部分的靜電放電。
圖3A圖示具有兩個接地提取配件組件350的流體遞送管線300，以及在兩個接地提取配件組件350之間延伸並與之連接的導電線340。然而，這不是必須的。在一些具體實施中，流體遞送管線300可具有單個接地提取配件組件350，並且導電線340的一端可附接到接地提取配件組件350而導電線的另一端「鬆散地」掛在流體遞送管線300中。在一些具體實施方式中，流體遞送管線300可具有單個接地提取配件組件350，並且導電線340在流體遞送管線300內形成其兩端附接到相同接地提取配件組件350的迴路。導線340中的迴路可延伸通過流體遞送管線本身中的迴路。
在一些具體實施中，接地提取配件組件350可包括具有可調整內徑的閥。導電線可藉由穿過閥的開口送入，並且然後閥可例如藉由從管件的外部旋轉被擰緊，使得內表面夾住並密封導電線。該閥可由與蒸汽不發生反應並能夠承受高溫的塑膠（例如，PFA或聚四氟乙烯（PTFE））形成。
在一些具體實施方式中，接地提取配件組件350簡單地由穿過管件的精細鑽孔提供。在一些具體實施中，孔的大小剛好足以讓一根或兩根導線穿過，並且（多根）導線的插入有效地塞住孔。如有必要，可在導線從孔中出來的地方塗上密封劑然後固化，以降低洩漏的可能性。導線的一端可以是錐形的，以説明插入和引導導線通過孔。
在一些具體實施方式中，提取配件組件350包括提供與導線340的電連接的導電接地凸耳（lug）。
圖3C和圖4圖示將外部接地導線342連接到在流體遞送管線300內部的導電線340的機構。接地提取配件組件350包括配件352，配件352是具有穿過其中的通路354的環形主體。在一些具體實施中，通路354具有窄部分354a和較寬部分354b。通路354的寬部分354b的內表面可帶有螺紋。
配件352可以是在暴露於流體遞送管線310中的流體（例如，蒸汽）下不腐蝕或溶解的塑膠材料。例如，配件352可以是聚四氟乙烯（PTFE）（例如Teflon TM）。配件352的外表面的底部部分358是帶有螺紋的，並且被擰入管件310中的對應螺紋接收孔中，以在管件310與配件352之間形成密封。在配件352與管件310之間的附加密封件可在螺紋之間提供聚四氟乙烯（PTFE）（例如Teflon TM）帶或密封化合物。
導電線340延伸穿過通路354的下部分354a以接觸被插入通路354的上部分354b中的導電凸耳360。在一些具體實施方式中，配件352是錐形體，其下端是錐形的較窄側。在這種情況下，隨著配件352被擰入管件310，通路354被向內夾（在355處），使得配件352的塑膠牢固接觸並密封在導電線340周圍。這可形成初級密封以防止流體遞送管線300中的流體通過通路354逸出。
凸耳360可具有螺紋外表面362，螺紋外表面362擰入通路的上部分354b的對應螺紋區域354c中，以在凸耳360與配件352之間形成密封。這可提供防止流體通過通路354逸出的二次密封。在配件352與管件310之間的附加密封件可在螺紋之間提供聚四氟乙烯（PTFE）（例如Teflon TM）帶或密封化合物。
兩個凸耳螺母356可擰到凸耳360上，並且外部接地線342可纏繞在凸耳360的軸上並被擷取並壓縮在兩個凸耳螺母356之間。
一種用於將流體遞送管線300與導電線340組裝在一起的技術如下。最初地，將導電線插入並貫穿管件310。這可在附存取口、出口和提取配件組件之前執行。例如，導電線可被固定到具有比內部通道312的內徑稍小的外徑的導管上。這種導管可用於引導導電線穿過管件310，例如圍繞管件310中的彎曲或曲線。
延伸經過管的各端的導電線340的一部分然後可插入到配件352中的通路354中。窄部分354a的寬度可剛好足以至讓一根或兩根導線穿過，例如，導線安置在窄部分354a中、與通路354的窄部分354a的側壁接觸。導電線340可藉由通路354插入，直到導線延伸到通路354的較寬部分354b中。任選地，如果導電線340延伸超過配件352的頂表面357，則線350可被修整，使得其基本上不延伸超過該頂表面357，例如不超過1mm。
然後，將導電凸耳360插入通路354的寬部分354b中。特別地，導電凸耳360可具有螺紋軸362，螺紋軸362被擰入通路的帶螺紋的寬部分354b中，使得凸耳360牢固接觸並與導電線340電連接。導線340的一端可在凸耳360的底部與通路354的更寬部分354b的底部之間（在344處）被壓縮，以提供電連接。
最後，配件350既可被直接附接到管件312，也可被附接到入口314或出口316。特別地，配件350的外表面的底部分358可帶有螺紋，並且可被擰入管件312中的對應螺紋接收孔、入口314或出口316b中。
組裝處理可包括提前轉動流體遞送管線300以防止結塊、克服90°轉彎、將導線切割成齊平、鎖緊螺母以在導線上推按，以及用Teflon膠帶黏貼鎖緊螺母以將其穩固。
在一些具體實施方式中，PFA管件的尺寸可以是1/8吋厚和高達7呎長。
這種流體遞送管線可為積聚電荷提供接地路徑，並且由此降低部件損壞的風險，同時仍保持與拋光製程相容。
雖然以上描述集中在用於化學機械拋光系統的流體遞送管線上，然而，如圖5和圖6所示，接地提取配件組件350可適於在處理系統（例如半導體處理系統500）的內部容積502與外部環境504之間需要密封導電連接時作為一般導電電路提取配件組件的其他用途，特別是在內部容積502容納蒸汽的情況下。半導體處理系統典型地包括腔室510和支撐件512（例如底座、邊緣支撐環或升降銷），以將基板10保持在腔室510內，並且包括氣體源514（例如產生蒸汽或加熱水的鍋爐）或設施氣體管線。處理系統的示例包括蒸汽處理，但也包括其中需要蒸汽以用於部件的溫度控制或作為處理氣體的快速熱處理、蝕刻和沉積系統。
如圖5所示，連接可穿過管線520的壁，管線520將流體（例如，蒸汽）從源514輸送到處理系統的另一個部件，例如，用於注入到處理腔室512中或為處理系統500中的一個部件（例如，壁、支撐底座等）提供溫度控制。替代地，如圖6所示，連接可穿過處理腔室510的壁直接進入腔室的內部容積502。在任一情況下，導線340’可用於接地，但也可用於其他電氣目的，例如，將DC或AC電流從電壓源530輸送到天線540、感測器542或內部容積502中的其他部件，或者將信號（例如，DC或AC電流）從天線540、感測器542或內部容積502中的其他部件輸送到外部偵測系統或控制器533。
已經描述了本發明的多個實施方式。然而，將理解，在不脫離本發明的實質和範圍的情況下，可做出各種修改。因此，其他實施方式在所附申請專利範圍的範圍內。
10:基板 20:拋光系統 22:馬達 23:軸線 24:可旋轉盤形壓板 26:驅動軸 30:拋光墊 32:背襯層 34:外拋光層 36:拋光表面 40:供應埠 42:拋光液 43:漿料分配臂 44:貯存器 46:流體遞送管線 50:載體頭 51:中心軸線 52a:可加壓腔室 52b:可加壓腔室 52c:可加壓腔室 54:撓性膜片 56:保持環 58a:壓力調節器 58b:壓力調節器 58c:壓力調節器 59:氣動管線 60:支撐結構 62:驅動軸 64:載體頭旋轉馬達 70:載體頭 80:溫度感測器 90:墊調節器 92:調節器盤 93:調節器頭 94:臂 96:流體遞送管線 100:溫度控制系統 102:冷卻系統 104:加熱系統 106:沖洗系統 110:臂 110a:臂 110b:臂 110c:臂 120:噴嘴 122:噴霧 130:源 132:氣體源 133:渦流管 134:管件 136:管件 140:源 142:源 144:管件 146:管件 152:管件 156:源 170:刮刀 300:流體遞送管線 310:聚合物管 312:內部通道 314:入口 316:出口 340:導電線 342:接地線 350:配件 352:配件 354:通路 354a:窄部分 354b:較寬部分 356:凸耳螺母 357:頂表面 358:底部分 360:凸耳 362:螺紋軸 500:半導體處理系統 502:內部容積 504:外部環境 510:腔室 512:支撐件 514:氣體源 520:管線 530:電壓源 540:天線 542:感測器
圖1圖示拋光設備的拋光站的示例的示意性橫截面圖。
圖2是化學機械拋光設備的示例拋光站的示意性頂視圖。
圖3A是在化學機械拋光系統中具有導電線的流體遞送管線的示意圖。
圖3B是圖3A的流體遞送管線的示意性橫截面圖。
圖3C是接地提取配件組件的示意性橫截面圖。
圖4是附接到管道的接地提取配件組件的示意性橫截面圖。
圖5是附接到用於半導體處理系統的導管的電連接提取配件組件的示意性橫截面圖。
圖6是附接到半導體處理系統的處理腔室的電連接提取配件組件的示意性橫截面圖。
在各圖中，相同的元件符號指示相同的元件。
國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無 國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無
300:流體遞送管線
310:聚合物管
340:導電線
342:接地線
350:配件
352:配件
354:通路
354a:窄部分
354b:較寬部分
356:凸耳螺母
357:頂表面
358:底部分
360:凸耳

Claims (20)

  1. 一種化學機械拋光組件，包括： 一化學機械拋光系統，該化學機械拋光系統包括：支撐一拋光墊的一壓板、支撐一基板並使該基板與該拋光墊接觸的一載體頭、和引起該壓板與該載體頭之間的相對運動的一馬達； 一流體源；及 一流體遞送導管，該流體遞送導管用於將一流體從該流體源輸送到該化學機械拋光系統中，該流體遞送導管包括： 一導電線，該導電線延伸穿過該導管的一內部以使靜電放電流向一接地；及 一接地提取配件，該接地提取配件提供在該導電線與該接地之間的通過該流體遞送導管的一壁的一密封電連接。
  2. 如請求項1之組件，其中該流體源包括產生蒸汽的一鍋爐。
  3. 如請求項1之組件，其中該流體源包括一貯存器以容納一拋光流體，該系統包括一分配器以將該拋光流體遞送到該拋光墊，並且該流體遞送導管將該貯存器耦接到該分配器。
  4. 如請求項1之組件，其中該流體源包括清潔流體源，該系統包括將清潔流體遞送到該拋光墊、一調節器頭或該載體頭的一分配器，並且該流體遞送導管將該流體源耦接到該分配器。
  5. 如請求項1之組件，其中該流體源包括一溫度控制流體源，該系統包括將溫度控制流體遞送到該拋光墊的一分配器，並且該流體遞送導管將該流體源耦接到該分配器。
  6. 如請求項1之組件，其中該流體源包括一壓力管線，其中該載體頭包括一或多個可加壓腔室，並且該流體遞送導管將該壓力管線耦接到該載體頭。
  7. 如請求項1之組件，其中該流體源包括一壓力管線，其中該調節器頭包括一或多個可加壓腔室，並且該流體遞送導管將該壓力管線耦接到該調節器頭。
  8. 如請求項1之組件，其中該流體遞送導管包括用於該流體的一入口和一出口，並且該導電線沿著從該入口到該出口的距離的至少75%延伸。
  9. 如請求項1之組件，其中該接地提取配件覆蓋並密封該導電線穿過該流體遞送導管的該壁的一位置。
  10. 如請求項9之組件，其中該接地提取配件包括一塑膠主體，該塑膠主體具有穿過其中的一通路，其中該導電線插入該通路的一端，並且一導電凸耳插入該通路的一相對端並接觸該導電線。
  11. 一種製造一流體導管的方法，該方法包括以下步驟： 穿過一管件放置一導電線，該管件被配置為使一流體流入一化學機械拋光組件；及 將該導電線耦接到一接地源，從而被配置為形成一靜電放電保護組件以傳導一靜電電荷。
  12. 一種用於電連接到具有一流體的一容積的組件，包括： 一壁，該壁形成該容積的一邊界以容納該流體； 一導電線，該導電線延伸穿過該容積； 一提取配件，該提取配件提供穿過壁的一密封電連接，其中該提取配件包括一環形塑膠主體，該環形塑膠主體具有從中穿過的一通路，該塑膠主體具有擰入該壁中的一螺紋孔中的一螺紋外表面，該導電線插入該通路的一端，並且一導電凸耳插入該通路的一相對端並接觸該導電線，並且該導電凸耳具有擰入該通路的該相對端處的一螺紋部分的一螺紋外表面。
  13. 如請求項12之組件，其中該塑膠主體是錐形的，使得該通路的該一端被壓縮以在該導電線與該通路的一內表面之間形成一密封。
  14. 如請求項12之組件，其中該通路包括從該一端延伸的一下部分和從該相對端延伸的一上部分，並且該上部分比該下部分窄。
  15. 如請求項14之組件，其中該導電線被壓縮在該凸耳的一底部與該通路的該上部分的一底部之間。
  16. 如請求項12之組件，其中該壁形成用於使該流體流向一半導體處理系統的一導管，或者該壁形成一半導體處理系統的一處理腔室。
  17. 如請求項16之組件，其中該半導體處理系統包括一沉積系統、蝕刻系統或熱處理系統。
  18. 如請求項16之組件，其中該導電線耦接到在該處理腔室內部的一天線或感測器。
  19. 如請求項12之組件，包括：一監測系統或一控制器；及一第二導電線，該第二導電線將該監測系統或該控制器連接到該導電凸耳。
  20. 如請求項12之組件，包括一第二導電線，該第二導電線將該導電凸耳連接到電接地。
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