TW202344912A

TW202344912A - 透鏡單元和相機模組

Info

Publication number: TW202344912A
Application number: TW111148217A
Authority: TW
Inventors: 坂爪直樹
Original assignee: 日商索馬龍股份有限公司
Priority date: 2021-12-17
Filing date: 2022-12-15
Publication date: 2023-11-16
Also published as: CN118355322A; JP2023090032A; WO2023112989A1; KR20240125569A

Abstract

提供一種內裝了有效去除射入至相機模組1之透鏡單元2上的不必要的光的環形遮光構件的透鏡單元2以及包括該單元2的相機模組1。相機模組1具有透鏡單元2，以及藉由透鏡單元2對被攝體進行拍攝的拍攝元件9。透鏡單元2具備由沿光軸方向（X）層疊的透鏡41、43、45、47、49構成的透鏡組。間隔件61、63、65介於透鏡41和透鏡43、透鏡43和透鏡45、以及透鏡47和透鏡49之間。在間隔件61、63、65的主體即基材61a、63a、65a中的至少一個的，至少在端面側設置有抗反射膜7。抗反射膜7係以由特定組成之液劑組成物形成之藉由噴塗而成的厚度為2μm以上且40μm以下之膜所構成。

Description

透鏡單元和相機模組

本發明係關於一種透鏡單元和使用該透鏡單元的相機模組。

智能手機、平板電腦和數碼相機等電子設備內設置有用於拍攝被攝體並將其轉換成圖像信號的相機模組。該相機模組包括用於對被攝體進行拍攝的拍攝元件和將被攝體圖像成像在該拍攝元件上的透鏡單元。透鏡單元通常由多個光學透鏡組合而成

相機模組需要去除對被攝體圖像之成像不必要的射入光和反射光（以下簡稱為“不必要的光”），從而防止光暈、透鏡耀斑、鬼影等現象的發生，提高拍攝圖像的質量。作為實現該目的的方法，在相機模組中所使用的透鏡單元中，針對所構成的多個光學透鏡，將用於去除不必要的光的環形遮光構件置於一對光學透鏡之間

作為這種類型的遮光構件，已知有在薄膜基材的兩面上使用形成有包含炭黑、潤滑劑、微粒和粘合劑樹脂的遮光層的遮光膜，並將其加工成環形的遮光構件，例如，專利文獻1。［先前技術文獻］［專利文獻］

［專利文獻1］WO2006/16555號公報

［發明所欲解決之問題］

然而，當上述傳統的遮光構件介於一對光學透鏡之間時，去除不必要的光並不充分，且射入在透鏡單元上的不必要的光在薄膜基材的露出部分(未形成遮光層的薄膜基材的端面)上反射，其結果，導致產生耀斑現象。

本發明係有鑑於上述緣由而提出者。本發明之目的在於提供一種內裝了有效去除射入至相機模組之透鏡單元上的不必要的光的環形遮光構件的透鏡單元以及包括該單元的相機模組。［解決問題之技術手段］

本發明者在經過深度探討的結果，發現了介於透鏡單元的一對透鏡之間的環形遮光構件藉由滿足以下要件，便可有效地去除進入相機模組之透鏡單元的不必要的光。・使用特定組成之液劑組成物，其以指定的比例包含凹凸形成粒子。該凹凸形成粒子則以指定的質量比範圍包含具有指定粒徑範圍大小之無機系粒子。・使用上述特定組成之液劑組成物，藉由噴塗而形成指定厚度之膜。本發明者為根據此種新的發現，完成以下所提供之發明，並已解決了上述課題。

以下，設為，（A）樹脂成分、（B）凹凸形成粒子、（B1）粒徑（d ₁）為0.05μm以上0.4μm以下的無機系小粒子，（B2）粒徑（d ₂）為2μm以上6μm以下的無機系大粒子，（C）稀釋溶劑。

藉由本發明，將可提供一種透鏡單元，於在保持架內具備由沿光軸方向層疊的多個透鏡構成的透鏡組的透鏡單元中，環形遮光構件介於至少一對透鏡之間，遮光構件至少於端面具有抗反射膜，抗反射膜係以由液劑組成物形成之藉由噴塗而成的厚度為2μm以上且40μm以下之膜所構成，液劑組成物至少包含（A）、（B）及（C），在組成物的全部固形物成分之總量100質量％中，含有20質量％以上60質量％以下之（B），（B）含有90質量％以上之（B1）及（B2），相對於（B1）：1之（B2）的質量比為1.8以上3.3以下。

藉由本發明，將可提供一種相機模組，其具有：上述透鏡單元，以及藉由上述透鏡單元對被攝體進行拍攝的拍攝元件。

藉由本發明，將可提供一種抗反射膜，其係形成在透鏡單元的構成構件上的抗反射膜，並且，其係以由液劑組成物形成之藉由噴塗而成的厚度為2μm以上且40μm以下之膜所構成，液劑組成物至少包含（A）、（B）及（C），在組成物的全部固形物成分之總量100質量％中，含有20質量％以上60質量％以下之（B），（B）含有90質量％以上之（B1）及（B2），相對於（B1）：1之（B2）的質量比為1.8以上3.3以下。

作為形成有抗反射膜的透鏡單元的構成構件，可列舉保持由透鏡單元的多個透鏡構成的透鏡組的保持架，以及介於保持在該保持架中的透鏡組中的一對透鏡之間的環形遮光構件等。各構成構件的抗反射膜的形成位置為，在頭鏡組保持架的情況下的內壁，以及在環形遮光構件的情況下的端面（內端面、外端面或內外兩個端面）。

上述液劑組成物包含以下態様：・（B2）係以包含二氧化矽為佳。・二氧化矽係以包含藉由著色劑而黑色化的複合二氧化矽為佳。・（B1）係以包含碳黑為佳。・在25℃中的黏度，較佳為1mPa･s以上30mPa･s以下。

上述抗反射膜可包含以下態様：・較佳為，形成有膜之面的最表面，其對於射入角度60°的射入光的光澤度（以下，亦簡稱為「60°光澤度」。）未達1％，對於射入角度為85°的射入光的光澤度（以下，亦簡稱為「85°光澤度」。）未達5％，對於波長550nm之光的反射率（以下，亦簡稱為「反射率」。）為4％以下，以SCE方式測定的CIELAB表色系中的L值為22以下，並且光學密度為1.0以上。・較佳為，形成有膜之面的最表面，其於JIS B0601：2001中之最大高度Rz（以下，亦簡稱為「Rz」。）為7μm以上，輪廓曲線要素的長度平均Rsm（以下，亦簡稱為「Rsm」。）為80μm以上，輪廓曲線的偏斜度Rsk（以下，亦簡稱為「Rsk」。）為0.3以下，且輪廓曲線的峰度Rku（以下，亦簡稱為「Rku」。）為3以上。［發明效果］

藉由本發明，將可提供一種內裝了有效去除射入至相機模組之透鏡單元上的不必要的光的環形遮光構件的透鏡單元，以及包括該單元的相機模組。

以下，針對本發明之最佳實施形態進行說明，然而，本發明並非受以下的實施的形態所限定，在不脫離本發明主旨的範圍內，所屬技術領域中具有通常知識者可根據其通常知識針對以下實施形態進行適當變更、改良等者，亦屬本發明之所屬範圍內。

在本說明書所記載的數值範圍中，亦可以實施例所揭示的數值將某些數值範圍所記載之上限值或下限值進行置換。在本說明書中，關於組成物中各成分的含有率或含有量，當在組成物中存在複數種各成分該當物質的情況下，在未特別指定之下，意指存在於組成物中之該當複數種物質的合計含有率或含有量。

如圖1所示，本發明之一形態的相機模組1具有透鏡單元2。透鏡單元2具有由沿光軸方向X層疊的五個透鏡41、43、45、47和49組成的透鏡組。構成透鏡組的透鏡數量不限於五個。在本例中，在構成透鏡組的五個透鏡41、43、45、47和49中，在三對透鏡(透鏡41和43、透鏡43和45以及透鏡47和49)之間，介入有作為環形遮光構件的間隔件61、63和65以形成間隔件組。透鏡組和間隔件組都放置在由樹脂、金屬等構成的多級圓柱形保持架(鏡筒)8中。本例的保持架8在內週部設有三個階梯部81、83、85，使用這些階梯部81、83和85，透鏡組和間隔件組以在同一光軸上配置和層疊的狀態，收納並配置於保持架8中的預定位置上。透鏡41、43、45、47、49可以是各種透鏡(凸透鏡、凹透鏡等)。其曲面為球面或非球面皆可，其材質為樹脂(例如，環烯烴樹脂(COC或COP)、聚碳酸酯樹脂、液晶聚合物等)或玻璃皆可。相機模組1與透鏡單元2一同具有拍攝元件9。拍攝元件9设置在透鏡單元2的光軸上並且透過透鏡單元2對被攝體進行拍攝。拍攝元件9由CCD圖像傳感器、CMOS圖像傳感器等構成。

間隔件61、63、65在平面視圖下具有圓環形(環形)的外形，在斷面視圖下具有在中央部具有圓筒狀的中空部的形狀。如圖2(a)和圖2(b)所示，間隔件61、63、65均具有與其形狀基本相同的間隔件基材(以下也簡稱為“基材”)61a、63a、65a。

基材61a、63a、65a由樹脂膜等構成。作為樹脂膜可列舉：聚酯膜、聚醯亞胺膜、聚苯乙烯膜等，以及聚碳酸酯類、丙烯酸類、尼龍類、聚醯胺類、聚烯烴類、纖維素類、聚砜類、聚苯硫醚類、聚醚砜類和聚醚醚酮類薄膜等。

基材61a、63a、65a可含有顏料。可含有的顏料並未有特別限定，可如後述的(B1)和(B2)一樣，使用樹脂系粒子和無機系粒子的任一方。作為樹脂系粒子的可列舉：三聚氰胺樹脂、苯基胍胺（Benzoguanamine）、苯基胍胺 /三聚氰胺/福爾馬林縮合物、丙烯酸樹脂、聚氨酯樹脂、苯乙烯樹脂、氟樹脂和矽樹脂等。作為無機系粒子可列舉：二氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦、磁鐵礦系黑、銅/鐵/錳系黑、鈦黑、炭黑和苯胺黑等。這些顏料可單獨使用1種、亦可組合2種以上使用。

當將顏料包含於基材61a、63a、65a中時，其含有比例可以根據所要求的性能等適當設定，並未有特別限定。相對於基材61a、63a、65a，例如為0.3質量％以上，以0.4質量％以上為佳，例如為15質量％以下，以12質量％以下為佳。

基材61a、63a、65a的厚度雖並未有特別限定，但考慮到輕量化、薄膜化，例如約為3μm以上，以4μm以上為佳，例如約為150μm以下，以140μm以下為佳。特別是在需要薄膜化的用途之情況下，基材61a、63a、65a的厚度以3μm以上為佳，以為5μm以上為較佳，以50μm以下為佳，以25μm以下為較佳，以15μm以下為更佳。

（抗反射膜）在基材61a、63a、65a中的至少一個基材的，至少在端面側設置有抗反射膜7。由於是“基材61a、63a、65a中的至少一個”，所以抗反射膜7形成於基材61a、63a、65a中的任一個或任意兩個或全部。“端面”包括內端面和外端面。由於是“端面側”，所以抗反射膜7直接形成在基材61a、63a、65a的至少一個端面(內端面、外端面或內外兩端面)，之外還包括在基材和抗反射膜7之間介入任意層(例如底漆層等)之後而形成的樣態。抗反射膜7可以設置在基材61a、63a、65a中的至少一個的端面側和至少一個主面(前面、後面或前後兩面)側上。圖2(a)及圖2(b)表示在基材61a、63a、65a的內外兩端面及兩主面(前面及後面)直接形成抗反射膜7的情況。

抗反射膜7的作用為如下。在從透鏡單元2的被攝體側射入的光中，沒有射到間隔件61、63、65的端面的光(有效光線。假設為“射入光a”)透過透鏡單元2射入到拍攝元件9。另一方面，在射入到透鏡單元2的光中，到達間隔件61、63、65的端面的光(不必要的光。假設為“射入光b”)照射在基材61a、63a、65a上形成的抗反射膜7上。如果在基材61a、63a、65a上沒有形成抗反射膜，則到達基材61a、63a、65a的端面的光被表面反射並且作為與圖像不直接相關的內面反射光射入到拍攝元件9。該內面反射光會即為導致諸如耀斑、鬼影等之降低圖像質量的因素。與此相較，如同一形態，藉由在基材61a、63a、65a上形成抗反射膜7，可以減少從傾斜方向進入透鏡單元2的不必要的光即對射入光b的內面反射，其結果，對圖像產生不利影響的內面反射光則減少，從而可以防止耀斑、鬼影的發生。

本例之抗反射膜7，由藉由液劑組合物形成之膜構成。

＜液劑組成物＞有關一形態的液劑組成物（以下，亦簡稱為「組成物」。），係用以將膜形成在基材61a、63a、65a中的至少一個（以下，亦簡稱為“被塗物”）的至少端面側，進而至少一個主面側上，包含（A）樹脂成分、（B）凹凸形成粒子、以及（C）稀釋溶劑。形成組成物所用的（B）係包含：（B1）粒徑（d ₁）為0.05μm以上0.4μm以下的小粒子，以及（B2）粒徑（d ₂）為2μm以上6μm以下的大粒子，並且，亦可包含（B1）及（B2）以外的成分。亦即，有關一形態之組成物係以包含（A）、（B1）、（B2）、及（C）所構成。有關一形態之組成物，在將被塗物的表面進行塗布之際，可適用噴塗。

－（A）－形成組成物所用的（A）係成為（B）的黏合劑。（A）的材料並未有特別限定，可使用熱可塑性樹脂、以及熱硬化性樹脂中任一方。作為熱硬化性樹脂，例如可列舉：丙烯酸系樹脂、甲酸乙酯系樹脂、酚醛系樹脂、三聚氰胺系樹脂、尿素系樹脂、苯二甲酸二烯丙酯系樹脂、不飽和聚酯系樹脂、環氧系樹脂、醇酸系樹脂等。作為熱可塑性樹脂，例如可列舉：聚丙烯酸酯樹脂、聚氯乙烯樹脂、丁醛樹脂、苯乙烯-丁二烯共聚物樹脂等。由所形成的凹凸膜之耐熱性、耐濕性、耐溶劑性、以及表面硬度的觀點來看，作為（A）以使用熱硬化性樹脂為佳。作為熱硬化性樹脂，當考慮所形成之膜的柔軟性及強韌性時，尤以丙烯酸樹脂為佳。（A）可單獨使用1種、亦可組合2種以上使用。（A）的含有量（總量）雖並未有特別限定，但考慮到與其他成分之間的配比，相對於組成物的全部固形物成分之總量（100質量％），以5質量％以上為佳、15質量％以上為較佳、25質量％以上為更佳、以50質量％以下為佳、45質量％以下為較佳、40質量％以下為更佳。

－（B）－形成組成物所用的（B）為必須以複數組合大小相異的凹凸形成粒子，作為（B），主要組合使用（B1）小粒子與（B2）大粒子。例如，當將（B）構成為僅使用2種種類之大小相異的凹凸形成粒子（亦即（B1）及（B2））時，（B2）的粒徑（d ₂）係相較於（B1）的粒徑（d ₁），以10倍以上為佳、15倍以上為較佳、40倍以下為佳、35倍以下為較佳。作為（B），當使用3種種類以上大小相異的凹凸形成粒子時，表示粒徑最大值之凹凸形成粒子的粒徑（d _max）、以及表示粒徑最小值之凹凸形成粒子的粒徑（d _min）的關係，亦即（d _max）相較於（d _min），只要能調整為形成以10倍以上為佳、15倍以上為較佳、40倍以下為佳、35倍以下為較佳即可。

在一形態中，（d ₁）以0.05μm以上為佳，以0.1μm以上為較佳，以0.4μm以下為佳，以0.3μm以下為較佳。（d ₂）以2μm以上為佳，以3μm以上為較佳，以6μm以下為佳，以5μm以下為較佳，以4μm以下為更佳。（B1）的粒徑（d ₁）及（B2）的粒徑（d ₂）係藉由雷射繞射／散亂式粒徑分布測定裝置進行測定，其等體積基準為中位徑。

在一形態中，（B）中的（B2）之質量比相對於（B1）：1，以超過1.75為佳，以1.8以上為較佳，以未達3.58為佳，以3.3以下為較佳。在此質量比範圍內，藉由組合使用具有上述特定粒徑範圍的（B1）與（B2），可容易在所形成的膜中，在鄰接的2個（B2）間嵌入1個（B1），其結果，本案發明人發現到，除了可實現膜表面之低光澤性及低反射性，同時還可提高黑色度（L值變低）。

（B）中之（B1）與（B2）的合計含有量（總量）以90質量％以上為佳、95質量％以上為較佳。其上限並未有特別制限，為100質量％。亦即在一形態中，（B1）及（B2）在100質量％之（B）中，較佳為若含有90質量％以上者即可。

（B）的含有量（總量）相對於組成物之全部固形物成分的總量（100質量％），以20質量％以上為佳、25質量％以上為較佳、30質量％以上為更佳、以60質量％以下為佳、50質量％以下為較佳、45質量％以下為更佳、尤以40質量％以下為佳。當（B）的總量未達20質量％時，將產生光澤上昇、光學密度不足的不良情況，當超過60質量％時，所形成之塗膜中的（A）將相對變少，其結果，將會產生塗膜自被塗物脫落的不良情況。

作為（B2），亦可使用樹脂系粒子及無機系粒子之任一方。作為樹脂系粒子，例如可列舉：三聚氰胺樹脂、苯基胍胺（Benzoguanamine）樹脂、苯基胍胺／三聚氰胺／福馬林縮合物、丙烯酸樹脂、甲酸乙酯樹脂、苯乙烯樹脂、氟樹脂、矽樹脂等。另一方面，作為無機系粒子，例如可列舉：二氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦、碳等。其等可單獨使用1種，亦可組合2種以上使用。

為獲得更優越的特性，（B2）係以使用無機系粒子為佳。作為（B2），藉由使用無機系粒子，可容易以更低光澤形成高遮光的膜。作為（B2）所使用的無機系粒子，以二氧化矽為佳。（B2）的形狀雖並未有特別限定，但為了實現在所形成的膜表面之更進一步的低光澤、低反射、低L值，以使用粒度分布較狹窄（CV（Coefficient of Variation）值為例如15以下）的粒子（銳緣品）為佳。CV值為一種將相對於粒徑平均值（算術平均粒徑）的粒徑分布擴散（粒徑的不均）程度數值化的表現。藉由使用此種粒子，將會增加所形成之膜中（B2）與（B1）的接觸機會，進而容易實現膜表面的進一步的低光澤、低反射、低L值。另外，為了更加減低成膜表面的光澤度，作為（B2），較佳為使用不定形的粒子。即使在其中，作為（B2），尤其以使用多孔質之不定形二氧化矽粒子為佳。藉由使用此種粒子作為（B2），在成膜時，（B2）的表面及內部將會因為光線的反覆折射而可更加減低膜表面的光澤度。

在一形態中，為了抑制成膜表面的光線反射，可藉由有機系或無機系著色劑將（B2）著色成黑色。作為此種材料，可列舉：複合二氧化矽、導電性二氧化矽、黑色二氧化矽等。作為複合二氧化矽，例如可列舉：碳黑（以下亦簡稱為「CB」。）與二氧化矽以奈米等級合成且複合化之物。作為導電性二氧化矽，例如可列舉：將CB等導電性粒子披覆在二氧化矽粒子上之物。作為黑色二氧化矽例如可列舉：在矽岩中含有石磨的天然礦石。

另一方面，如同（B2），（B1）的材質亦並未有特別限定，可使用樹脂系粒子及無機系粒子的任一方。作為樹脂系粒子，例如可列舉：三聚氰胺樹脂、苯基胍胺樹脂、苯基胍胺／三聚氰胺／福馬林縮合物、丙烯酸樹脂、甲酸乙酯樹脂、苯乙烯樹脂、氟樹脂、矽樹脂等。另一方面，作為無機系粒子，可列舉：二氧化矽、氧化鋁、碳酸鈣、硫酸鋇、氧化鈦、CB等。此等可單獨使用1種、亦可組合2種以上使用。

作為（B1），例如亦可使用作為著色、導電劑而添加的CB等。作為（B1），藉由使用CB，而所形成的膜將會著色，因此可加以提升防止反射效果、且獲得良好的防止帶電效果。

－（C）－形成組成物所用的（C），摻合其之目的在於溶解（A），且調整該組成物整體的黏度。藉由使用（C），將可更加容易混合（A）、甚至是其他因應需要所添加之其他的成分，而可提升組成物的均勻性。此外，由於可適當調整組成物的黏度，當將膜形成在被塗物表面時，將有可能提高組成物的操作性、以及塗布厚度的均勻性。

作為（C），只要是可溶解（A）的溶劑，則並未有特別限定，可列舉有機溶劑或水。作為有機溶劑，例如可使用：丁酮、甲苯、丙二醇單甲基醚乙酸酯、乙酸乙酯、乙酸丁酯、甲醇、乙醇、異丙醇、丁醇等。（C）可單獨使用1種、亦可組合2種以上使用。

關於組成物中之（C）的含有量（總量），為獲得如前所述之藉由（C）的摻合所得之效果，相對於（A）100質量部，以1質量部以上為佳、3質量部以上為較佳、20質量部以下為佳。

－（D）任意成分－在組成物中，除了前述成分（（A）、（B）、（C）），在無損於本發明之效果的程度上，亦可包含（D）。作為（D），例如可列舉：調平劑、增黏劑、pH調整劑、潤滑劑、分散劑、消泡劑、硬化劑、反應觸媒等。

特別當作為（A）而使用熱硬化性樹脂的情況下，藉由摻合硬化劑而可促進（A）的交聯。作為硬化劑，可列舉具有官能基的尿素化合物、三聚氰胺化合物、異氰酸酯化合物、環氧化合物、氮丙啶化合物、㗁唑林化合物等。而作為硬化劑，即使在其中仍以異氰酸酯化合物為佳。硬化劑可單獨使用1種、亦可組合2種以上使用。在組成物中摻合硬化劑時的比例，相對於（A）100質量部，以10質量部以上80質量部以下為佳。藉由以此種範圍添加硬化劑，而可提高成膜硬度，其結果，即使將該膜放置在與其他構件滑動的環境之下，仍可長期間維持膜表面的性狀，且容易保持低光澤、高遮光、低反射及高黑色度。在組成物中摻合硬化劑情況下，為促進（A）與硬化劑的反應，亦可併用反應觸媒。作為反應觸媒，例如可列舉氨或氯化銨等。在組成物中摻合反應觸媒時的比例，相對於硬化劑100質量部，以0.1質量部以上10質量部以下為佳。

有關一形態之組成物，基於維持該組成物在被塗物表面的平滑性、同時使用噴霧進行塗覆（噴塗）的理由，在25℃中的黏度以1mPa･s以上為佳、以30mPa･s以下為佳、以20mPa･s以下為較佳。當組成物的黏度過低時，將很有可能發生無法形成足以表達設計性的提升之厚度的膜。當組成物的黏度過高時，將很有可能發生無法將組成物均勻噴霧在被塗物表面的情況，其結果，將有可能發生無法形成具有一定厚度且性能均勻的膜。上述黏度因應組成物中所含的成分而相異，亦即，因應使用的（A）、（B）之種類或分子量等而相異，此外，除了上述（A）、（B）之外，還已摻合（D）的情況下，雖亦會隨著（D）的種類或分子量等而相異，不過，藉由將組成物中之（C）的含量在前述範圍內進行調整，便可容易進行調整。

有關一形態之組成物，在（C）中添加（A）、（B）、因應需要添加（D），藉由混合攪拌而可調製（製造）。混合各成分的順序並未有特別制限，只要能將該等成分均勻混合即可。

有關本發明一形態之組成物可為1液型，亦可為2液型。在組成物中摻合作為（D）之硬化劑的情況下，有關一形態之組成物，例如可為2液型，該2液型包含：含有硬化劑以外成分的第1液、以及含有硬化劑之第2液。

成膜方法並未有特別限定。可藉由噴塗（例如：氣式噴霧、無氣式噴霧、靜電式噴霧等）、塗抹刷、簾式流動塗覆（curtain flow coating）、滾筒刷塗覆、桿式塗覆、觸滾（kiss-roll）、計量輥、凹版印刷滾輪、反向滾輪、浸塗、壓鑄塗覆等任意方法或裝置，而對被塗物設置膜。

特別是有關一形態之組成物，藉由必須從較小噴孔噴霧液滴之噴塗而成膜者為佳。換言之，有關一形態之，藉由噴塗而成之膜為噴塗膜。藉由使用有關一形態之組成物的噴塗，由組成物所形成的液滴便陸續附著在被塗物表面，與此同時，已附著在被塗物之液滴中的（C）也將隨之揮發。其結果，已由液滴中已去除（C）的固形物成分（粒）陸續堆積在被塗物表面而形成固形粒積層物。根據一形態，此種固形粒積層物即構成膜。

當作為（A）使用熱硬化性樹脂，並且作為（D）使用已摻合硬化劑之組成物時，較佳為，在使固形粒積層物附著至被塗物表面後，加熱其積層物而使其硬化。此時，即便在加熱前積層物中殘留微量的（C），亦可藉由該種加熱而幾乎完全揮發（C）。加熱條件為，只要可隨加熱前積層物的厚度或被塗物之耐熱性，以及所使用的（C）之種類等進行適當調整即可。作為加熱條件之一例，為70℃以上150℃以下且1分鐘以上10分鐘以下，較佳為100℃以上130℃以下且2分鐘以上5分鐘以下。

抗反射膜7之膜厚沒有特別限定，只要與基材61a、63a、65a的密著強度良好，抑制形成有膜之面上的內面反射，從而抑制因內面反射光之影響而產生的耀斑及鬼影即可。作為較佳之膜厚的一例，以2μm以上為佳，以5μm以上為較佳，以40μm以下為佳，以25μm以下為更佳。另外，抗反射膜7之膜厚係從被塗物表面包含由膜（B2）及（B1）突出部分的高度。膜厚係可依據JIS K7130之方法進行測定。

＜膜的特性＞由有關一形態之組成物所形成的膜，其特性如下所述。

（光澤度、反射率、L值、光學密度、密著性）由有關一形態之組成物所形成之膜較佳為，膜表面的，60°光澤度未達1％，85°光澤度未達5％，反射率為4％以下，L值為22以下，光學密度為1.0以上。

在此，由有關一形態之組成物所形成之膜若構成為露出至最表面時，則如同文字敘述，膜表面之，60°光澤度、85°光澤度、反射率、L值及光學密度以設在上述範圍為佳。當將其他膜披覆在由有關一形態之組成物所形成之膜上時，其中的其他膜的表面（亦即遮光構件的最表面）之60°光澤度、85°光澤度、反射率、L值及光學密度以設在上述範圍為佳。以下，將該等表面一起稱為「膜最表面」。

由有關一形態之組成物所形的膜較佳為，膜最表面的60°光澤度未達1％，85°光澤度未達5％，反射率為4％以下，L值為22以下，光學密度為1.0以上。藉由將膜最表面的60°光澤度、85°光澤度、反射率、L值及光學密度設定在上述範圍，便可實現膜最表面的低光澤性、低反射率（優異的抗反射性。以下相同。）、高黑色度及高遮光性。

60°光澤度的上限值係以未達0.8％為佳、以未達0.5％為較佳。藉由在上述範圍調整60°光澤度，將可有效防止因光線漫反射所造成的耀斑及鬼影現象。60°光澤度的下限值並未有特別限定，越低越好。 85°光澤度的上限值係以未達3.5％為佳、以未達2.5％為較佳。藉由在上述範圍調整85°光澤度，將可獲得進一步防止耀斑及鬼影現象，消除角度依賴性的優點。85°光澤度的下限值並未有特別限定，越低越好。

反射率的上限值係以3％以下為佳、2.5％以下為較佳。反射率的下限值並未有特別限定，越低越好。藉由在上述範圍調整反射率，將可更加有效防止因光線漫反射（內面反射）所造成的耀斑及鬼影現象。

L值（黑色度）的上限值以20以下為佳、以18以下為較佳。L值的下限值雖並未有特別限定，但從要求外觀更加漆黑的觀點來看，則是越低越好。藉由在上述範圍調整L值，可提高黑色性、讓黑度更明顯。上述L值係將膜最表面藉由SCE方式之以CIE 1976 L*a*b*（CIELAB）表色系所表示的明度L*值。所謂的SCE方式，係一種去除正反射光的方式，意指去除正反射光而測定色彩的方法。SCE方式的定義為規定在JIS Z 8722（2009）中。由於SCE方式是去除正反射光而進行測定，因此色彩為接近實際人眼所見的色彩。 CIE為Commission internationale de l'éclairage的簡稱，意指国際照明委員會。CIELAB顯示色，係為了測定因知覺與裝置的不同所導致的色差，於1976年所推薦之規定在JIS Z 8781（2013）中的均等色空間。CIELAB的三個座標以L*值、a*值、b*值所表示。L*值表示明度，以0～100表示。L*值為0時意味為黑色，L*值為100時意味為白的擴散色。a*值表示紅與綠之間的色彩。若a*值為負值，則意味色彩為靠近緑色，若為正值，則意味色彩為靠近紅色。b*值表示黃與藍之間的色彩。若b*為負值，則意味色彩為靠近藍色，若為正值，則意味色彩為靠近黃色。

光學密度的下限值，以1.5以上為佳、2.0以上為較佳。藉由將光學密度在上述範圍進行調整，便可更加提升遮光性。光學密度的上限值並未有特別限定，越高越好。

上述光澤度、反射率、L值、光學密度係可利用後術方法進行測定。

由組成物所形成的膜較佳為，除了上述特性（光澤度、反射率、L值、光學密度）之外，還更具有該膜對被塗物表面之良好的密著性。如後述實施例中所揭示的密著性評估，由組成物所形成的膜對被塗物表面之密著性係塗膜殘留為75％以上為佳。

（Rz、Rsm、Rsk、Rku、Ra）由有關一形態之組成物所形成之膜較佳為，其膜最表面之，最大高度Rz為7μm以上，輪廓曲線要素之長度平均Rsm為80μm以上，輪廓曲線之偏斜度Rsk為0.3以下，輪廓曲線之峰度Rku為3以上。藉由將膜最表面之Rz、Rsm、Rsk、及Rku設為上述範圍，能夠使膜最表面之光澤度、光學密度、反射率及L值在上述範圍（60°光澤度未達1％，85°光澤度未達5％，反射率4％以下，L值22以下，光學密度1.0以上）內，其結果，將可實現膜最表面之低光澤性、低反射率、高黑色度、以及因應需要的高遮光性。

Rz的下限值係以10μm以上為佳。藉由將Rz的下限值設為上述值，便可更加容易調整低光澤性、低反射率及高遮光性。 Rz的上限值雖並未有特別限定，但以50μm以下為佳，30μm以下為較佳。藉由將Rz的上限值設為上述值，便可容易實現膜最表面的更進一步的低光澤性、低反射率、高黑色度及高遮光性。

Rsm係表示在基準長度中，輪廓曲線要素之長度平均。Rsm的下限值以100μm以上為佳、120μm以上為較佳。藉由將Rsm的下限值設為上述值，便可更加容易獲得低光澤的優點。Rsm的上限值雖並未有特別限定，以160μm以下為佳。在上述範圍內，被塗物及其之上所形成的膜之間可獲得更加優越的密著性。

Rsk係一種指標，表示藉由均方根高度（Zq）之三次方，在已無因次化之基準長度中之高度Z（x）的三次方平均，表示對於膜最表面凹凸形狀之平均線的偏移、亦即表示形變度的指標。若Rsk之值為正值（Rsk＞0），則凹凸形狀偏向凹側而造成突狀銳利化，若為負值（Rsk＜0），則凹凸形狀偏向凸側而有造成突狀鈍化的傾向。輪廓曲線之突狀較鈍者，霧度會低於較銳利者。 Rsk的上限值係以0.2以下為佳。藉由將Rsk的上限值設為上述值，便可更加容易獲得低光澤的優點。Rsk的下限值雖並未有特別限定，但以0以上為佳。藉由將Rsk的下限值設為上述值，便可容易獲得低光澤的優點。

Rku係一種指標，表示藉由均方根高度（Zq）之四次方，在已無因次化之基準長度中之高度Z（x）的四次方平均，表示膜最表面凹凸前端之尖銳程度的指標。由於Rku越大，則會產生較多凹凸部的前端變尖的情況，因此會有凹凸之前端部附近的傾斜角雖然變大、但其他部分的傾斜角變小，造成容易產生背景倒影的傾向。另外，由於Rku越小，則會產生較多凹凸部的前端變平坦的情況，因此會有凹凸之前端部的傾斜角變小，造成容易產生背景倒影的傾向。 Rku的下限值係以3.3以上為佳。藉由將Rku的下限值設為上述值，便可更加容易獲得低光澤的優點。Rku的上限值雖並未有特別限定，但以5以下為佳。藉由將Rku的上限值設為上述值，便可更加容易獲得低光澤的優點。

由有關一形態之組成物所形成之膜，其膜最表面之算術平均粗度（Ra）以0.5μm以上為佳、1.0μm以上為較佳、1.5μm以上為更佳。

另外，如上所述之膜的最表面之Rz、Rsm、Rsk、Rku及Ra，為可根據JIS B0601：2001進行測定、計算。

（其他實施形態）上述一形態之抗反射膜7可以不進行前處理直接形成或進行前處理後形成於基材61a、63a、65a中的至少一個的至少端面側上，但不限於此形態。例如，製備在超薄塑料膜(PET膜等)上藉由噴塗形成了抗反射膜7的抗反射膜片，並將該片裁切使其與基材61a、63a、65a中的至少一個的端面形狀一致，獲得片材之後，通過粘合層將該片材貼附於基材61a、63a、65a的至少一個端面側，最後形成抗反射膜7之形態亦可。

上述一形態之抗反射膜7不限於形成於環形的遮光構件(上述一形態中，間隔件61、63、65中的至少一個)、亦可形成於透鏡單元2的其他構成構件，例如，保持架8的內壁(設置有階梯部81、83、85的一側)。［實施例］

以下，雖基於實驗例（包含實施例及比較例）具體說明本發明，但本發明並非受該等實驗例所限定。在以下的記載中，「部」係表示「質量部」，「％」則為表示「質量％」。

［組成物的構成成分］作為A（樹脂成分），準備有以下的物品。・A1：　熱硬化性丙烯酸樹脂（ACRYDIC A801、DIC公司製造，固形物成分50％）

作為隸屬B（凹凸形成粒子）的B1（小粒子），準備有以下的物品。・B1a：　碳黑（CB）（粒徑150nm）（MH黑色_＃273，御國色素公司製造，CB含有量9.5％）・B1b：　透明二氧化矽（粒徑58nm）（ACEMATT R972，EVONIK公司製造）

作為隸屬B的B2（大粒子），準備有以下的物品。・B2a：　複合二氧化矽（粒徑3μm）（BECSIA ID，FUJI SILYSIA 化學公司製造）・B2b：　黑色壓克力珠（粒徑3μm）（RUBCOULEUR 224SMD黑色，大日精化工業公司製造）・B2c：　透明二氧化矽（粒徑4.1μm）（SYLYSIA 430，FUJI SILYSIA化學公司製造）・B2d：　透明二氧化矽（粒徑8μm）（SYLYSIA 450，FUJI SILYSIA化學公司製造）・B2e：　透明壓克力珠（粒徑3μm）（Uni powder-NMB-0320C，ENEOS公司製造）

另外，在B2a（複合二氧化矽）中使用的BECSIA ID，為CB／二氧化矽＝約25／75（質量比）之CB與二氧化矽的複合粒子。在B1a（CB）中使用的MHI黑色_＃273，為CB分散液，該分散液的固形物成分總量18％當中，9.5％為CB，剩餘的8.5％為其他的化合物。其他的化合物8.5％當中，3％為銅化合物，5.5％為丙烯酸樹脂。

作為D（任意成分），準備有以下的物品。・D1：　異氰酸酯化合物（TAKENATE D110N，三井化學公司製造，固形物成分75％）

［被塗物］作為被塗物，準備評估用樣品基材。作為評估用樣品基材，使用黑色聚碳酸酯製的片材，將厚度方向(X方向)的板面之兩面均實施消光加工而成為矩形之聚碳酸酯製成的平板(長度100mm、寬度50mm、厚度1.5mm)。

［實驗例1～17］ 1. 組成物的製作為使固形物成分比形成如表1所示，以形成總固形物成分為約25質量％的方式，將各個實驗例的各成分置入作為（C）稀釋溶劑之所需量的混合溶劑（丁酮：乙酸丁酯＝50：50）中，藉由攪拌混合而調製液劑組成物（以下亦簡稱為「液劑」。）。

2. 評估用樣品的製作將各實驗例所獲得的液劑藉由如同下述（3-1）塗敷性的手法進行噴塗，在朝向被塗物（玻璃平板）的一面進行噴霧後，藉由以120℃加熱乾燥3分鐘的條件，獲得的評估用樣品為，在被塗物的表面形成平均膜厚為20μm之利用噴塗所得的固形粒積層之加熱後塗膜（以下亦簡稱為「塗膜」。）。

3. 評估對於各實驗例所獲得的液劑，以下述方法評估（液劑評估）各種特性（塗敷性）。此外，針對已形成在各實驗例所獲得之評估用樣品上的塗膜，以下述方法評估（樣品評估）各種特性（特性、表面性狀）。將結果揭示於表1。

［液劑評估］（3-1）塗敷性液劑之塗敷性，係藉由觀察噴塗塗敷後的塗覆不均來進行評估。將各液劑注入至氣式噴霧器中，即將氣刷（SPRAY-WORK HG單氣刷，TAMIYA公司製造）安裝至氣罐（SPRAY-WORK AIR CAN 420D，TAMIYA公司製造）的氣式噴霧器，由氣刷前端至10cm的距離朝向被塗物外表面噴霧10秒後，針對所形成的固形粒積層物，以目視評估是否塗覆不均。評估基準為如下所述。

〇：並未確認到塗覆不均（厚度不均） △：已確認到有局部塗覆不均 ×：已確認到有多數範圍有塗覆不均

［樣品評估］（3-2）特性－光澤度－形成在各評估樣品上的塗膜表面之相對於射入角60°之測定光的光澤度（60°鏡面光澤度）和相對於射入角85°之測定光的光澤度（85°鏡面光澤度），均使用光澤計（Gloss meter）（VG 7000，日本電色工業公司製造），根據JIS Z8741所揭方法測定光澤度9點，將其平均值作為光澤度。評估基準為如下所述。

（60°鏡面光澤度） ◎：光澤度未達0.8％（極為優異）〇：光澤度為0.8％以上，未達1％（優異） ×：光澤度為1％以上（不充分）

（85°鏡面光澤度） ◎：光澤度未達3.5％（極為優異）〇：光澤度為3.5％以上，未達5％（優異） ×：光澤度為5％以上（不充分）

（光澤度的綜合評估） ◎：60°鏡面光澤度和85°鏡面光澤度之各評估均為◎（低光澤性極為良好） ○：60°鏡面光澤度和85°鏡面光澤度之各評估中至少一個為〇，且均非為×（低光澤性良好） ×：60°鏡面光澤度和85°鏡面光澤度之各評估中至少一個為×(低光澤性不充分)

－反射率－形成在各評估用樣品上的塗膜表面之相對於波長400nm至700nm之光的反射率，為使用分光測色計（CM-5，KONICA MINOLTA公司製造），根據JIS Z8722所揭方法，以1nm間隔測定9點，將其測定結果的平均值作為反射率。評估基準為如下所述。

◎：反射率為3％以下（低反射性極為良好）〇：反射率為超過3％，4％以下（低反射性良好） ×：反射率為超過4％（低反射性不充分）

－黑色度－形成在各評估用樣品上之塗膜表面的黑色度，係藉由SCE方式，測定該塗膜表面之CIE　1976　L*a*b*（CIELAB）表色系中的明度L*值並進行評估。其明度L*值係使用分光測色計（CM-5，KONICA MINOLTA公司製造），並根據JIS Z8781-4：2013所揭方法進行測定。評估基準為如下所述。在測定中，作為光源為使用CIE標準光源D65，視野角度為10°，利用SCE方式求出CIELAB表色系中的L*值。CIE標準光源D65係規定在JIS Z 8720（2000）「測色用標準光（illuminate）及標準光源」中，在ISO 10526（2007）亦有相同規定。CIE標準光源D65為使用在表示以日光所照明之物體色的情況。關於視野角度10°，則規定在JIS Z 8723（2009）「表面色之視覺比較方法」中，在ISO／DIS 3668亦有相同規定。

◎：L值為20以下（黑色度極高）〇：L值為超過20、22以下（黑色度高） ×：L值為超過22（黑色度不充分）

－遮光性－形成在各評估用樣品上之塗膜的遮光性，係藉由計算出該塗膜的光學密度而評估。形成在各評估用樣品上之塗膜的光學密度，係使用光學密度計（X-rite 361T（Ortho filter），日本平板機械公司製造），將垂直透過光束照射至樣品的塗膜側，將與無塗膜狀態之比以log（對數）表示、計算得出。光學密度6.0以上為測定之檢測上限值。評估基準為如下所述。

◎：光學密度為1.5以上（遮光性極為良好）〇：光學密度為1.0以上，未達1.5（遮光性良好） ×：光學密度未達1.0（遮光性不充分）

－密著性－形成在各評估用樣品上之塗膜對被塗物表面的密著性，其評估方式為，將該塗膜以市售的美工刀劃成棋盤格狀，將其貼上透明膠帶（Cellotape，NICHIBAN公司製造）後撕下，以目視確認塗膜的殘留狀態。評估基準為如下所述。

◎：塗膜殘留為100％（密著性極高）〇：塗膜殘留為75％以上，未達100％（密著性高） ×：塗膜殘留未達75％（密著性不充分）

－綜合評估－綜合評估上述光澤度、反射率、黑色度、遮光性及密著性。評估基準如下所述。

◎：光澤度、反射率、黑色度、遮光性及密著性之各評估均為◎ 〇：光澤度、反射率、黑色度、遮光性及密著性之各評估中至少一個為〇，且均非為× ×：光澤度、反射率、黑色度、遮光性及密著性之各評估中至少一個為×

（3-3）表面性狀－Rz值、Rsm值、Rsk值、Rku值、Ra值－形成在各評估用樣品上之塗膜表面的性狀（Rz值、Rsm值、Rsk值、Rku值、Ra值），為使用表面粗度測定機（SURFCOM 480B、東京精密公司製造），根據JIS B0601：2001所揭方法進行測定。評估基準為如下所述。

（Rz） ◎：Rz為10μm以上（極為良好）〇：Rz為7μm以上，未達10μm（良好） ×：Rz未達7μm（不良）

（Rsm） ◎：Rsm為120μm以上（極為良好）〇：Rsm為80μm以上，未達120μm（良好） ×：Rsm未達80μm（不良）

（Rsk） ◎：Rsk為0.2以下（極為良好）〇：Rsk為超過0.2、0.3以下（良好） ×：Rsk為超過0.3（不良）

（Rku） ◎：Rku為3.3以上（極為良好）〇：Rku為3以上，未達3.3（良好） ×：Rku未達3（不良）

（Ra） ◎：Ra為1.5μm以上（極為良好）〇：Ra為0.5μm以上，未達1.5μm（良好） ×：Ra未達0.5μm（不良）

［表1］

4. 考察如表1所示，當液劑中未含有作為（B）之（B1）與（B2）的1個以上時（實驗例6、7、9、11、12），無法滿足膜特性之光澤度、反射率、L值、遮光性、密著性中之一個以上。另一方面，作為（B），即便在液劑中含有（B1）與（B2）這兩者（實驗例1～5、8、10），相對於（B1）：1之（B2）的質量比，若為1.75以下（實驗例1）、或是3.58以上（實驗例5）時，則無法滿足膜特性之L值、密著性中之一個以上。即便包含（B1）與（B2）這兩者，且對於（B1）：1之（B2）的質量比範圍為適當值（超過1.75、未達3.58）（實驗例2～4、13～17），當全部固形物成分100質量％中的（B）含有量（總量）未達20質量％（實驗例13）、或超過60質量％（實驗例17）時，將無法滿足膜特性之光澤度、反射率、L值、遮光性、密著性中之1個以上。相對於此，相對於（B1）：1之（B2）的質量比範圍，若為超過1.75、未達3.58，並且對於組成物之全部固形物成分總量100質量％之（B）的含有總量為20質量％以上60質量％以下時（實驗例2～4、8、10、14～16），便可滿足所有的液劑之塗敷性、膜特性及膜性狀。

1:相機模組 2:透鏡單元 41、43、45、47、49:透鏡 61、63、65:間隔件（環形遮光構件） 61a、63a、65a:間隔件基材 7:抗反射膜 8:保持架 9:攝像元件

[圖1]係示意性地表示本發明之一形態的透鏡單元和相機模組的分解立體圖。 [圖2](a)係作為圖1所示的透鏡單元的構成構件之一的環形遮光構件的一個例子的透鏡間隔件的平面視圖；(b)係沿圖2(a)中的IIb-IIb線之斷面視圖。

Claims

一種透鏡單元，其在保持架內具備由沿光軸方向層疊的多個透鏡構成的透鏡組，環形遮光構件介於至少一對透鏡之間，遮光構件至少於端面具有抗反射膜，抗反射膜係以由液劑組成物形成之藉由噴塗而成的厚度為2μm以上且40μm以下之膜所構成，液劑組成物至少包含（A）、（B）及（C），在組成物的全部固形物成分之總量100質量％中，含有20質量％以上60質量％以下之（B），（B）含有90質量％以上之（B1）及（B2），相對於（B1）：1之（B2）的質量比為1.8以上3.3以下；（A）為樹脂成分，（B）為凹凸形成粒子，（B1）為粒徑（d ₁）0.05μm以上0.4μm以下的無機系小粒子，（B2）為粒徑（d ₂）2μm以上6μm以下的無機系大粒子，（C）為稀釋溶劑。
如請求項1之透鏡單元，其中，（B2）包含二氧化矽。
如請求項2之透鏡單元，其中，二氧化矽包含藉由著色劑而黑色化的複合二氧化矽。
如請求項1～3中任一項之透鏡單元，其中，（B1）包含碳黑。
如請求項1～3中任一項之透鏡單元，其中，形成有膜之面的最表面，其對於射入角度60°的射入光的光澤度未達1％，對於射入角度為85°的射入光的光澤度未達5％，對於波長550nm之光的反射率為4％以下，以SCE方式測定的CIELAB表色系中的L值為22以下，並且光學密度為1.0以上。
如請求項5之透鏡單元，其中，形成有膜之面的最表面，其於JIS B0601：2001中之最大高度Rz為7μm以上，輪廓曲線要素的長度平均Rsm為80μm以上，輪廓曲線的偏斜度Rsk為0.3以下，且輪廓曲線的峰度Rku為3以上。
一種相機模組，其具有：如請求項1～3中任一項之透鏡單元，以及透過該透鏡單元對被攝體進行拍攝的拍攝元件。
一種抗反射膜，其係形成在透鏡單元的構成構件上的抗反射膜，並且，其係以由液劑組成物形成之藉由噴塗而成的厚度為2μm以上且40μm以下之膜所構成，液劑組成物至少包含（A）、（B）及（C），在組成物的全部固形物成分之總量100質量％中，含有20質量％以上60質量％以下之（B），（B）含有90質量％以上之（B1）及（B2），相對於（B1）：1之（B2）的質量比為1.8以上3.3以下；（A）為樹脂成分，（B）為凹凸形成粒子，（B1）為粒徑（d ₁）0.05μm以上0.4μm以下的無機系小粒子，（B2）為粒徑（d ₂）2μm以上6μm以下的無機系大粒子，（C）為稀釋溶劑。