TW202344870A

TW202344870A - 彩色濾光片製造方法

Info

Publication number: TW202344870A
Application number: TW111147528A
Authority: TW
Inventors: 安東尼巴柏爾; 傑羅姆米夏隆
Original assignee: 法商艾索格公司
Priority date: 2021-12-24
Filing date: 2022-12-12
Publication date: 2023-11-16
Also published as: FR3131398B1; FR3131398A1; WO2023117548A1

Abstract

本說明書係關於一種製造彩色濾光片的方法，包括以下連續步驟： a) 在塗覆基板(101)的第一表面(101T)的第一層(103)中形成開口(111)，該第一層適於在第一波長範圍內透射光； b) 將第一層(103)塗覆有第二層(113)，該第二層適於在第二波長範圍內透射光，該第二波長範圍與第一波長範圍不同； c) 籍由使用第一層(103)作為光罩自基板(101)的與第一表面(101T)相對的第二表面(101B)照射第二層(113)；及 d) 在步驟c)期間移除由第一層(103)遮蔽的第二層(113)的部分。

Description

彩色濾光片製造方法

本揭露大體係關於影像獲取裝置。本揭露更具體地係關於指紋獲取裝置，亦稱為指紋感測器。

已知例如能夠確保對儲存在手機的記憶體中的資料的存取的安全、授權人員進入建築物或場所、執行身份控制等的指紋感測器。此類感測器可能遭受欺詐嘗試，例如，籍由使用使用者的手指的二維(例如，影印)或三維(例如，由矽酮或乳膠製成的人工重組)複製品，目的在於欺騙指紋感測器。

需要加強當前指紋獲取裝置的安全性，且改進此類裝置的製造方法。

本實施例克服已知指紋獲取裝置及其製造方法的全部或部分缺點。

本實施例提供一種製造彩色濾光片的方法，包括以下連續步驟： a) 在塗覆基板的第一表面的第一層中形成開口，第一層適於在第一波長範圍內透射光； b) 將第一層塗覆有第二層，該第二層適於在第二波長範圍內透射光，該第二波長範圍與第一波長範圍不同； c) 籍由使用第一層為光罩自基板的與第一表面相對的第二表面照射第二層；及 d) 在步驟c)期間移除由第一層遮蔽的第二層的部分。

根據實施例，在步驟c)處，第二層進一步經由位於基板的第二表面的側上且覆蓋第一層的開口中的一些的第一光罩照射。

根據實施例，在步驟d)之後，方法進一步包括以下連續步驟： e) 在基板的第一表面的側上沉積第三層，該第三層適於在第三波長範圍內透射光，該第三波長範圍與第一波長範圍及第二波長範圍不同； f) 籍由使用第一層及第二層作為光罩自基板的第二表面照射第三層；及 g) 在步驟f)期間移除由第一層及第二層遮蔽的第三層的部分。

根據實施例，在步驟f)處，第三層進一步經由位於基板的第二表面的側上且覆蓋由第一光罩遮蔽的開口中的一些的第二光罩照射。

根據實施例，在步驟g)之後，方法進一步包括以下步驟： h) 在基板的第一表面的側上沉積適於在與第一波長範圍、第二波長範圍及第三波長範圍不同的第四波長範圍內透射輻射的第四層； i) 籍由使用第一層、第二層及第三層作為光罩自基板的第二表面照射第四層；及 j) 在步驟i)期間移除由第一層、第二層及第三層遮蔽的第四層的部分。

根據實施例，第一波長範圍、第二波長範圍及第三波長範圍位於可見光範圍內，且第四波長範圍位於紅外內。

根據實施例，第一光罩包括具有大於第一層的開口的橫向尺寸的橫向尺寸的開口。

根據實施例，在步驟a)處，開口籍由經由位於基板的第一表面的側上的第三光罩照射第一層且隨後移除第一層的未照射部分而形成。

根據實施例，第三光罩先前經由第四光罩照射塗覆另一基板的表面的第五層及隨後移除第五層的未照射部分而形成。

根據實施例，第一層及第五層由同一材料製成。

根據實施例，第三光罩包括塗覆有單獨金屬襯墊的基板。

本實施例提供一種形成指紋感測器的方法，包括以下步驟：將籍由諸如先前所描述的方法獲得的彩色濾光片轉移至有機光偵測器陣列上。

在不同的圖式中，相似的特徵由相似的附圖標記表示。特定而言，各種實施例中共有的結構及/或功能特徵可以具有相同的附圖標記，且可以具有相同的結構、尺寸及材料性質。

為清楚起見，僅詳細說明及描述對於理解本文描述的實施例有用的步驟及元素。特定而言，未詳述能夠與彩色濾光片相關聯的影像感測器，所描述的實施例與所有或大多數已知影像感測器相容。

除非另有指示，否則當參考連接在一起的兩個元件時，這表示除導體以外沒有任何中間元件的直接連接，且當參考耦接在一起的兩個元件時，這表示這兩個元件可以連接或可以經由一個或多個其他元件耦接。

表述「層的透射率」表示離開層的輻射強度與進入層的輻射強度之比。在以下描述中，當輻射穿過層或膜的透射率小於10%時，將層或膜稱為對輻射不透明。在以下描述中，當輻射穿過層或膜的透射率大於10%時，將層或膜稱為對輻射透明。

在以下描述中，籍由可見光指示具有在400 nm至700 nm的範圍內的波長的電磁輻射，籍由紅外輻射(infrared radiation，IR)指示具有在700 nm至1 mm的範圍內的波長的電磁輻射，且籍由紫外輻射(ultraviolet radiation，UV)指示具有在100 nm至400 nm的範圍內的波長的電磁輻射。在紅外輻射中，特定而言，可以區分具有700 nm至1.7 μm的範圍內的波長的近紅外輻射。在紫外輻射中，特定而言，可以區分具有在315 nm至400 nm的範圍內的波長的UV-A輻射、具有在280 nm至315 nm的範圍內的波長的UV-B輻射及具有在100 nm至280 nm的範圍內的波長的UV-C輻射。

在以下揭露內容中，除非另有說明，否則當參考絕對位置限定符，諸如術語「前」、「後」、「頂部」、「底部」、「左」、「右」等時，或參考相對位置限定符，諸如術語「上方」、「下方」、「上部」、「下部」等時，或定向的限定符，諸如「水平」、「垂直」等時，參考圖式中所示的定向。

除非另有說明，否則表述「約」、「大致」、「基本上」及「大約」表示在10%以內，且較佳地在5%以內。

根據實施例的態樣，指紋獲取裝置或指紋感測器包括堆疊影像感測器及彩色濾光片，指紋感測器的彩色濾光片包括第一區域及第二區域的至少兩個組件，第一區域及第二區域適於在不同波長範圍內透射光。例如，當待分析的手指置放在指紋感測器上時，至少一個光源直接或間接地照射手指，以允許籍由影像感測器且經由彩色濾光片的第一區域及第二區域的組件獲取代表手指對光的回應的第一資料及第二資料，例如利用反射率。隨後，例如分別將由此獲得的第一資料及第二資料與第一參考資料及第二參考資料進行比較，例如，代表真手指的第一資料及第二資料，亦即，非人工手指，由指紋感測器先前在相似條件下經由彩色濾光片的第一區域及第二區域的組件獲取的。

更精確而言，例如照射待分析手指，且基於第一資料及第二資料確定手指的特點回應，第一資料及第二資料源自由感測器經由第一區域及第二區域的組件獲取的手指的反射率影像。例如，手指的特點回應中的每一者對應於由指紋感測器的影像感測器獲取的手指的至少一個影像的像素值的平均值(可能經加權)，該影像係針對第一區域及第二區域的組件中的一者或另一者獲得的。例如，隨後，將待分析的手指的每一回應與針對真手指在基本相同的照射條件下獲得的至少一個參考回應進行比較。若根據比較準則，待分析的手指的回應與參考回應不同，例如，若量測到的回應及參考回應的絕對值的差值大於臨限值，則將待分析的手指視為假手指。

在待分析的手指為假手指，例如由矽酮、乳膠等製成的三維手指，或手指在兩個維度上的再現的情況下，使用此彩色濾光片能夠增強量測回應與用真手指獲得的參考回應之間的差值，尤其相對於指紋感測器不包括彩色濾光片的情況。這增加防範欺詐嘗試的能力。

可以進一步針對不同的照射波長儲存真手指的參考回應。隨後，例如籍由將待分析的手指的回應與至少兩個不同波長的參考回應進行比較來執行假手指的偵測。例如，若根據比較準則，待分析的手指的回應與至少一個波長的參考回應不同，則認為待分析的手指係假的。

第1A圖至第1E圖為說明根據實施例的製造彩色濾光片100 (例如上述類型的彩色濾光片)的方法的實例的連續步驟的簡化透視圖。

第1A圖為說明在基板101的表面101T (第1A圖的定向的上表面)上沉積第一層103 (G)的步驟結束時獲得的結構的透視圖。

在本實例中，基板101由透明材料製成。例如，基板101由玻璃或透明聚合物(諸如聚(對苯二甲酸乙二醇酯) PET、聚(甲基丙烯酸甲酯) PMMA、聚醯亞胺(PI)、聚碳酸酯(PC)或來自環狀烯烴聚合物(COP)族的聚合物)製成。例如，在基板101由聚合物材料製成的情況下，基板101具有在1 μm至100 μm的範圍內的厚度，例如在10 μm至100 μm的範圍內的厚度，在基板101由玻璃製成的情況下，基板101具有在0.1 mm至1 mm的範圍內的厚度。

在所示實例中，第一層103整體塗覆基板101的上表面101T。層103的沉積例如可以籍由液體沉積、陰極濺射或蒸發執行。例如，根據所使用的材料，層103可以更精確地籍由旋塗、噴塗、攝影製版法、槽模塗覆、葉片塗覆、柔版印刷或絲網印刷形成。

在本實例中，第一層103適於在第一波長範圍，例如僅在可見光譜的一部分中透射光。例如，層103更精確地由主要適於透射綠光(例如在510 nm與570 nm之間的波長範圍內)的材料製成。例如，層103由光阻劑製成。

第1B圖為說明在基板101的上表面101T的側上且經由光罩105照射第一層103的後續步驟的透視圖。

在所示實例中，光罩105包括對由用於照射層103的至少一個源(未示出)發出的光透明的基板107。光罩105的基板107例如由選自基板101的上述材料的清單的材料製成，例如與基板101相同的材料。例如，用於照射層103的源為紫外輻射源，例如發出UV-A輻射的源，例如更精確地具有等於大致365 nm的發射波長的源。

在本實例中，基板107的表面107T (第1B圖的定向中的上表面)包括單獨的襯墊109。襯墊109由對用於照射層103至光罩105的源發出的輻射不透明的材料製成，例如金屬或金屬合金。在第1B圖所說明的實例中，襯墊109在基板107的上表面107T上形成突起，且在俯視圖中，每一襯墊具有基本方形的形狀，應理解，在實務上，襯墊109可以具有任何形狀，例如矩形。例如，襯墊109在製造分散度內皆具有相同的形狀及尺寸。在襯墊109具有方形形狀的所示實例中，例如，每一襯墊109具有等於大致100 μm的邊長。襯墊109例如規則地間隔開且配置成列及行陣列，列例如基本上垂直於行。

第1C圖為說明在移除第一層103的未照射部分的後續步驟結束時獲得的結構的透視圖。在本實例中，第一層103的材料表現為負光阻劑，亦即，在本步驟結束時僅保留層103的先前以足夠劑量照射的部分。

在所示實例中，在第一層103中更精確地形成開口111。開口111與光罩105的襯墊109基本垂直地定位，且進一步具有與相對的襯墊109的形狀及尺寸基本相等的形狀及尺寸。由此，在本實例中，開口111形成與基板105的襯墊109的陣列相似的陣列。在第1C圖所說明的實例中，開口111穿過開口，使得基板101的上表面101T暴露在開口111的底部。例如，層103的未照射部分籍由蝕刻移除，例如籍由在顯影劑溶液中浸漬基板101及層103來移除。

第1D圖說明在基板101的上表面101T的側上沉積第二層113 (B)的後續步驟結束時獲得的結構。

在所示實例中，第二層113塗覆層103的在上文結合第1C圖描述的步驟結束時剩餘的部分以及開口111的側壁及底部。更精確而言，在第1D圖所說明的實例中，層113整體填充開口111。層113的沉積例如可以利用自上述用於沉積層103的技術清單中選擇的技術來執行。

根據本實例，第二層113適於在與第一波長範圍不同的第二波長範圍內，例如僅在可見光譜的另一部分內透射光。例如，層113更精確地由主要適於透射藍光(例如在430 nm與490 nm之間的波長範圍內)的材料製成。例如，層113由光阻劑製成。

第1D圖進一步說明自基板101的與上表面101T相對的另一表面101B (第1D圖的定向中的下表面)照射層113的後續步驟。

在所示實例中，基板101對由用於照射層113的至少一個源(未示出)發出的輻射係透明的。例如，層113由與用於照射層103的源相似或相同的紫外輻射源照射，例如發出具有等於大致365 nm的波長的UV-A輻射的源。

根據實施例，在本步驟期間，將第一層103用作照射光罩。在本實例中，第一層103更精確地針對由用於照射層113的源發出的輻射的不透明材料或吸收材料製成。例如，層103吸收由照射源發出的輻射的至少20%、較佳地至少50%、較佳地至少80%。由此，僅或主要照射層113的位於第一層103中先前形成的開口111的內部且與其垂直對齊的部分。

第1E圖為說明移除第二層113的未照射部分或最輕照射部分(亦即，由層103遮蔽的部分)的後續步驟結束時獲得的結構的透視圖。

在所示實例中，移除對應於層113的位於開口111的內部且與其垂直對齊的第一部分及由層103遮蔽的層113的第二部分(亦即，不與開口111垂直對齊的部分)的襯墊115 (B)，在第1D圖的步驟中層113的第一部分比層113的第二部分被更強的照射。在本實例中，襯墊115具有與開口111的橫向尺寸基本相等的橫向尺寸。

第1E圖中說明襯墊115在層113的上表面上形成突起的實例。然而，本實例不限於此，因為襯墊115在實務上可以具有任何高度。

在本實例中，彩色濾光片100在適於在第二波長範圍內透射光的襯墊115之間具有適於在第一波長範圍內透射光的層103的部分。

上文結合第1A圖至第1E圖描述的製造彩色濾光片100的方法的優點在於，其能夠去掉對準操作以在開口111的內部形成襯墊115。這使得能夠簡化彩色濾光片100的形成。

第2A圖至第2D圖為說明根據另一實施例的製造彩色濾光片200的方法的實施例的實例的連續步驟的部分簡化透視圖。製造彩色濾光片200的方法的第一步驟例如與上文結合第1A圖至第1C圖描述的製造彩色濾光片100的第一步驟相同。

第2A圖為說明例如自先前結合第1C圖描述的結構開始且在基板101的上表面101T的側上沉積層113之後在基板101的下表面101B的側上且經由光罩201照射層113的後續步驟的透視圖。

在所示實例中，光罩201具有開口203，開口僅位於先前形成於第一層103中的開口111中的一些的前面。例如，光罩201的開口203具有與開口111相似的形狀。開口203可以具有與開口111的橫向尺寸基本相等的橫向尺寸，或如在第2A圖所說明的實例中，大於開口111的橫向尺寸。例如，光罩201的開口203具有比層103的開口111的橫向尺寸大致大兩倍的橫向尺寸。例如，開口203為方形，且具有比開口111的邊長大致大兩倍的邊長，例如，大致等於200 μm的邊長。

另外，在所示實例中，光罩201覆蓋先前形成在第一層103中的開口111中的一些。例如，光罩201覆蓋開口111陣列的開口111的大致一半，例如，如所說明實例中的在列方向上交替的兩個開口中的一個開口111及在行方向上交替的兩個開口中的一個開口。

在此步驟期間，第一層103亦用作照射光罩。由此，主要照射層113的位於未用光罩201覆蓋的開口111內部且與其垂直對齊的部分。

第2B圖為說明移除第二層113的未照射部分或最輕照射部分的後續步驟結束時獲得的結構的透視圖。第2B圖的步驟例如與先前結合第1E圖描述的步驟相似。

在所示實例中，更精確地形成對應於層113的位於未用光罩201覆蓋的開口111的內部且與其垂直對齊的部分的襯墊205 (B)。在本實例中，襯墊205具有與開口111的橫向尺寸基本相等的橫向尺寸。

第2C圖說明在基板101的上表面101T的側上沉積第三層207 (R)的後續步驟結束時獲得的結構。

在所示實例中，第三層207塗覆層103在上文結合第1C圖描述的步驟結束時剩餘的部分，覆蓋襯墊205，且整體填充開口111。層207的沉積例如可以利用自上述用於沉積層103的技術清單中選擇的技術來執行。

在本實例中，第三層207適於在與第一波長範圍及第二波長範圍不同的第三波長範圍內，例如僅在可見光譜的又一部分內透射光。例如，層207更精確地由主要適於透射紅光(例如在600 nm與720 nm之間的波長範圍內)的材料製成。例如，層207由光阻劑製成。

第2C圖進一步說明自基板101的下表面101B照射層207的後續步驟。

例如，層207由與用於照射層103的源相似或相同的紫外輻射源照射，例如以等於大致365 nm的波長發出UV-A輻射的源。

在本步驟期間，將第一層103及第二層113用作照射光罩。在本實例中，第二層113更精確地針對由用於照射層207的源發出的輻射的不透明材料或吸收材料製成。例如，層113吸收由照射源發出的輻射的至少20%、較佳地至少50%、較佳地80%。由此，主要照射層207的位於先前形成在第一層103中且未用襯墊205填充的開口111內部且與其垂直對齊的部分。

第2D圖為說明移除第三層207的未照射部分或最輕照射部分(亦即，由層113遮蔽的部分)的後續步驟結束時獲得的結構的透視圖。

在所示實例中，更精確地形成對應於層207的第一部分的襯墊209 (R)及由層103及襯墊205遮蔽的層207的第二部分，第一部分位於先前用光罩201覆蓋的開口111的內部且與其垂直對齊，亦即，未用襯墊205填充的開口111，在第2C圖的步驟處，層207的第一部分比層207的第二部分被更強的照射。在本實例中，襯墊209具有與開口111的橫向尺寸基本相等的橫向尺寸。

在第2D圖所說明的實例中，彩色濾光片包括襯墊205及209與層103的部分的交替(或棋盤)，襯墊205及209分別適於在第二波長範圍及第三波長範圍內透射光的，層103的部分適於在第一波長範圍內透射光且在襯墊205與襯墊209之間橫向延伸。

上文結合第2A圖至第2D圖描述的彩色濾光片200的實施例的優點在於，其能夠簡化對準操作，例如，光罩201的開口203相對於層103的開口111的對準，以用於形成襯墊205或甚至用於去掉對準操作，例如用於形成襯墊209。

第3圖為說明在根據又一實施例的製造彩色濾光片300的方法的實例結束時所獲得的結構的部分簡化透視圖。

在所示實例中，彩色濾光片300包括分別適於在第二波長範圍及第三波長範圍內透射光的襯墊205及209以及適於在第四波長範圍內透射輻射的襯墊301 (K)的交替(或棋盤)。在襯墊205、209、301之間，延伸適於在第一波長範圍內透射光的層103的部分。例如，襯墊301對可見光不透明，且例如在近紅外光譜中透射紅外輻射。

基於本揭露的指示，彩色濾光片300的形成屬熟習此項技術者的能力範圍。例如，彩色濾光片300在與先前結合第2A圖至第2C圖描述的方法相似的方法結束時籍由以下步驟獲得：在第2C圖的步驟處藉由覆蓋未用襯墊205填充的某些開口111 (亦即在第2A圖的步驟處由光罩201覆蓋的某些開口111)的光罩，照射第三層207，及隨後籍由執行在基板101的上表面101T的側上沉積第五層303、籍由使用層103、113及207作為光罩自基板101的下表面101B照射第五層303及移除第五層303的未照射部分或最輕照射部分的後續步驟，以形成襯墊301。在本實例中，第三層207更精確地針對由用於照射層303的源發出的輻射的不透明材料或吸收材料製成。例如，層207吸收由照射源發出的輻射的至少20%、較佳地至少50%、較佳地至少80%。由此，主要照射層303的位於先前形成在第一層103中且未用襯墊205及209填充的開口111內部且與其垂直對齊的部分。

例如，在此情況下，光罩201覆蓋層103的開口111中的大致三分之一，且用於照射第三層207的光罩覆蓋層103的開口111中的大致另三分之一。在本實例中，彩色濾光片300包括基本上相等數目的襯墊205、209、301。例如，襯墊205、209、301形成沿著基板101的表面101T處的列及行規則地重複的圖案。

第4A圖至第4C圖為說明製造用於形成彩色濾光片的光罩(例如用於形成彩色濾光片100、200、300的光罩105 (第1B圖))的方法的實例的連續步驟的部分簡化透視圖。

第4A圖為說明在基板107的上表面107T上沉積層401的步驟結束時獲得的結構的透視圖。

在所示實例中，層401塗覆基板107的整個上表面107T。層401的沉積例如可以利用自上述用於沉積層103的技術清單中選擇的技術來執行。

在本實例中，層401由對由用於照射層103至光罩105的源發出的輻射的不透明材料製成，例如由紫外下的不透明材料製成。例如，層401由光阻劑製成。例如，層401由與層103相同的材料製成。

第4B圖為說明照射配置在基板107的上表面107T的側上的層401至光罩403的後續步驟的透視圖。在所示實例中，光罩403包括基本方形形狀的開口405。

第4C圖為說明在移除層401的未照射部分的後續步驟結束時獲得的結構的透視圖。

在所示實例中，更精確地形成對應於層401的未由光罩403覆蓋的部分的襯墊109。在本實例中，襯墊109具有與光罩403的開口405的橫向尺寸基本相等的橫向尺寸。

第5圖為說明指紋感測器500的實例的部分簡化透視圖，指紋感測器包括上述類型的彩色濾光片，例如，第2D圖的彩色濾光片200。

在所示實例中，將彩色濾光片200轉移至包括光偵測器陣列的影像感測器501，例如有機的，第5圖中未詳述。例如，彩色濾光片200包括襯墊205、209的基本組。襯墊205、209的每一基本組在俯視圖中定義對應於襯墊205、209的最小集合的基本平鋪圖案，基於該圖案，籍由圖案的水平及垂直平移，能夠恢復彩色濾光片200陣列的所有襯墊205、209的配置。

例如，襯墊205、209的每一基本組在俯視圖中具有大致等於影像感測器501的光偵測器的表面積的四倍的表面積。這有利地使得能夠去掉彩色濾光片200相對於影像感測器501的光偵測器的對準操作，襯墊205、209的每一基本組具有能夠完全覆蓋影像感測器501的至少一個光偵測器的表面積。

彩色濾光片200的基板101例如可以用作影像感測器501的有機光偵測器的封裝層。作為一種變體，可以例如在基板101的下表面101T下方提供與基板101不同的封裝層。

雖然在第5圖中未說明此情況，但感測器500可以包括其他元件，例如，旨在照射待分析的手指503的至少一個光源及/或適於將由源發出的光引向手指503的至少一個角度濾光片。

已經描述各種實施例及變體。熟習此項技術者將理解，可以組合這些各種實施例及變體的某些特徵，且熟習此項技術者將會想出其他變體。特定而言，熟習此項技術者能夠根據對目標應用的期望的光學特點，將製造彩色濾光片100的方法中層103及113的沉積順序、製造彩色濾光片200的方法中層103、113及207的沉積順序及製造彩色濾光片300的方法中層103、113、207及303的沉積順序顛倒。

另外，所描述的實施例不限於在透射模式下針對層103、113、207及303指示的波長範圍的實例。特定而言，在分別對應於綠、藍、紅的波長範圍內透射光的層103、113及207可以替換為在可見或不可見的其他波長範圍(例如對應於青、黃、洋紅)內透射輻射的層。

熟習此項技術者進一步能夠將本揭露的實施例適應於在比所述的波長範圍大(例如大4)的不同波長範圍內透射輻射的多個襯墊。

最後，基於上文給出的功能指示，所描述的實施例及變體的實際實現在熟習此項技術者的能力範圍內。特定而言，所描述的實施例不限於本揭露所提及的材料及/或尺寸的實例。

100,200,300:彩色濾光片 101,107:基板 101B:另一表面 101T,107T:表面 103:第一層 105,201,403:光罩 109,115,205,209,301:襯墊 111,203,405:開口 113:第二層 207:第三層 303:第五層 401:層 500:指紋感測器 501:影像感測器 503:手指

以上特徵及優點以及其他特徵及優點將在具體實施例的揭露內容的剩餘部分中詳細描述，這些具體實施例係參照附圖以說明而非限制的方式給出的，其中：

第1A圖、第1B圖、第1C圖、第1D圖及第1E圖為說明根據實施例的製造彩色濾光片的方法的實例的連續步驟的部分簡化透視圖；

第2A圖、第2B圖、第2C圖及第2D圖為說明根據另一實施例的製造彩色濾光片的方法的實例的連續步驟的部分簡化透視圖；

第3圖為說明在根據又一實施例的製造彩色濾光片的方法的實例結束時所獲得的結構的部分簡化透視圖；

第4A圖、第4B圖及第4C圖為說明製造用於形成彩色濾光片的光罩的方法的實例的連續步驟的部分簡化透視圖；及

第5圖為說明包括彩色濾光片的指紋感測器的實例的部分簡化透視圖。

國內寄存資訊(請依寄存機構、日期、號碼順序註記) 無國外寄存資訊(請依寄存國家、機構、日期、號碼順序註記) 無

101:基板

101B:另一表面

101T:表面

103:第一層

111:開口

113:第二層

Claims

一種製造一彩色濾光片(100；200;300)的方法，包括以下連續步驟： a) 在塗覆一基板(101)的一第一表面(101T)的一第一層(103)中形成開口(111)，該第一層適於在一第一波長範圍內透射光； b) 將該第一層(103)塗覆有一第二層(113)，該第二層適於在一第二波長範圍內透射光，該第二波長範圍與該第一波長範圍不同； c) 籍由使用該第一層(103)作為一光罩自該基板(101)的與該第一表面(101T)相對的一第二表面(101B)經由位於該基板(101)的該第二表面(101B)的該側上且覆蓋該第一層(103)的該些開口(111)中的一些的一第一光罩(201)照射該第二層(113)；及 d) 在步驟c)期間移除由該第一層(103)遮蔽的該第二層(113)的部分。
如請求項1所述之方法，在步驟d)之後，進一步包括以下連續步驟： e) 在該基板(101)的該第一表面(101T)的該側上沉積一第三層(207)，該第三層適於在一第三波長範圍內透射光，該第三波長範圍與該第一波長範圍及該第二波長範圍不同； f) 籍由使用該第一層及第二層(103、113)作為一光罩自該基板(101)的該第二表面(101B)照射該第三層(207)；及 g) 在步驟f)期間移除由該第一層及第二層(103、113)遮蔽的該第三層(207)的部分。
如請求項2所述之方法，其中在步驟f)處，該第三層(207)進一步經由位於該基板(101)的該第二表面(101B)的該側上且覆蓋由該第一光罩(201)遮蔽的該些開口(111)中的一些的一第二光罩照射。
如請求項3所述之方法，在步驟g)之後，進一步包括以下步驟： h) 在該基板(101)的該第一表面(101T)的該側上沉積適於在與該第一波長範圍、第二波長範圍及第三波長範圍不同的一第四波長範圍內透射一輻射的一第四層(303)； i) 籍由使用該第一層、第二層及第三層(103、113、207)作為一光罩自該基板(101)的該第二表面(101B)照射該第四層(303)；及 j) 在步驟i)期間移除由該第一層、第二層及第三層(103、113、207)遮蔽的該第四層(303)的部分。
如請求項4所述之方法，其中該第一波長範圍、第二波長範圍及第三波長範圍位於該可見光範圍內，且該第四波長範圍位於紅外。
如請求項1所述之方法，其中該第一光罩(201)包括具有大於該第一層(103)的該些開口(111)的橫向尺寸的橫向尺寸的開口(203)。
如請求項1所述之方法，其中在步驟a)處，該些開口(111)籍由位於該基板(101)的該第一表面(101T)的該側上的一第三光罩(105)照射該第一層(103)及隨後移除該第一層(103)的未照射部分來形成。
如請求項7所述之方法，其中該第三光罩(105)先前經由一第四光罩(403)照射塗覆另一基板(107)的一表面的一第五層(401)及隨後移除該第五層的未照射部分而形成。
如請求項8所述之方法，其中該第一層及第五層(103、401)由同一材料製成。
如請求項9所述之方法，其中該第三光罩(105)包括塗覆有單獨金屬襯墊(109)的一基板。
一種形成一指紋感測器(500)的方法，包括以下步驟：將籍由如請求項1所述之方法獲得的該彩色濾光片(100；200；300)轉移至一有機光偵測器(501)陣列上。