TW202226435A - Holding method and holding device capable of reducing unnecessary power consumption during processing - Google Patents
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Abstract
Description
本發明係關於:保持方法以及保持裝置。The present invention relates to a holding method and a holding device.
將保持對象物利用支承面來予以保持之保持方法已為習知(請參照例如:文獻1的日本特開2011-096929號公報)。
文獻1所記載的半導體元件之製造方法(保持方法),是對於被供給到暫時載置台3的上表面(支承面)的液體50 (流體),從支承面側實施使其凍結(使其硬化)的冷卻處理(硬化處理),以利用支承面來保持住半導體元件晶片1A (保持對象物),因此,必須對於每一個具有暫時載置台3這一類的支承面之構件都實施硬化處理,因而會有導致能源(電力)之無謂的消耗之問題。
A holding method of holding a holding object by a support surface is known (see, for example, Japanese Patent Laid-Open No. 2011-096929 of Document 1).
The manufacturing method (holding method) of a semiconductor element described in Document 1 is to freeze (harden) the liquid 50 (fluid) supplied to the upper surface (support surface) of the temporary mounting table 3 from the support surface side. ) cooling treatment (hardening treatment) to hold the
本發明之目的,係在於提供:能夠極力地降低能源(電力)之無謂的消耗之保持方法以及保持裝置。 本發明是採用了如請求項所記載的構成內容。 根據本發明,是從藉由流體而被支承在支承面上的保持對象物側來對於該流體實施硬化處理,因此,可以不必對於每一個具有支承面的構件都實施硬化處理,所以能夠極力地降低能源(電力)之無謂的消耗。 此外,只要預先實施流體前處理工序的話,就能夠縮短以支承面來支承保持對象物之後的流體硬化時間。 An object of the present invention is to provide a holding method and a holding device capable of reducing wasteful consumption of energy (electricity) as much as possible. The present invention employs the constitution described in the claims. According to the present invention, the fluid is hardened from the side of the object to be held that is supported on the support surface by the fluid. Therefore, it is not necessary to perform the hardening process on every member having the support surface, so it is possible to maximize the Reduce unnecessary consumption of energy (electricity). In addition, if the fluid pretreatment step is performed in advance, the fluid hardening time after the object is supported and held by the support surface can be shortened.
以下,將佐以圖面來說明本發明之其中一種實施方式。
此外,本實施方式中的X軸、Y軸、Z軸,分別都是處於彼此正交(垂直交叉)的關係,X軸及Y軸是在既定平面內的軸,而Z軸是與前述既定的平面正交的軸。再者,本實施方式是以從與Y軸保持平行之圖1A~圖1E的眼前方向來觀看時當作基準,在表示方向時,Z軸的箭頭方向是表示「上」,其相反方向是表示「下」,X軸的箭頭方向是表示「左」,其相反方向是表示「右」,Y軸的箭頭方向是表示「前」,其相反方向是表示「後」。
本發明的保持裝置EA,係具備:利用支承面12A從保持對象物WK的其中一面WK1側來支承該保持對象物WK之支承手段10;將作為流體的水WT供給到支承面12A之流體供給手段20;用來實施作為使水WT硬化也就是使其凍結的硬化處理之冷卻處理,而使該水WT凍結以利用支承面12A來保持住保持對象物WK之硬化手段30。
此外,保持對象物WK是由母材WKB所形成的,在該母材WKB(保持對象物WK)之另外一面WK2,張貼著黏合膜片AS,因而形成為一體物UP。
在本實施方式的情況下,保持裝置EA是被配置在:將黏合膜片AS從保持對象物WK剝離之剝離手段40、以及對於黏合膜片AS施加張力而從該母材WKB形成出複數個隔著既定的間隔的保持對象物WK之分開手段50的近旁。
支承手段10係具備:作為驅動機器之直動馬達(也就是直線作動馬達)11、以及被支承在直動馬達11的輸出軸11A,且具有支承面12A之作為支承構件的平台12。
平台12係具備:與設在上表面的凹部12B連通之流路12C、以及被配置在凹部12B內,且其上表面被當作支承面12A之由樹脂、金屬等所構成之多孔質構件12D。
在支承面12A上,係如圖1A中標註AA的部分所示般地,係將具有疏水性的疏水部12E予以形成格子狀,並且利用該疏水部12E來區劃出親水部12F。疏水部12E,係在支承面12A上所形成格子狀的凹溝的內面配置了樹脂、金屬等之具有撥水性(不吸水性)的構件而形成的。親水部12F,則是利用粗面加工、噴砂加工等之粗面處理,來予以實施形成粗糙表面之粗面處理。
流體供給手段20係具備:用來收容水WT之水槽21;加壓泵浦或渦輪等之加壓手段22;減壓泵浦或真空噴射器等之減壓手段23;用來切換加壓手段22及減壓手段23對於水槽21的連通狀態之切換閥24;以及經由配管25A來與流路12C相連接,並且用來切換與水槽21相連接之加壓側配管21A及減壓側配管21B的連通狀態之切換閥25。
硬化手段30係具備:由複數個臂部所構成,且被當作:在其作業範圍內,能夠將作業部也就是前端臂部31A所支承的物品移動到任何位置和任何角度之驅動機器之所謂的多關節機器手臂31;被支承在前端臂部31A的支承板32;穿插於被形成在支承板32的貫通孔32A,且在上端側具有凸緣部33A之複數個導引構件33;被支承在導引構件33的下端側,且可利用珀爾帖元件(也就是熱電元件)或熱管的冷卻側等之未圖示的冷卻手段來實施冷卻處理之冷卻板34;以及作為朝向將冷卻板34從支承板32分開的方向施加彈力的彈推手段之複數個彈簧35;並且被建構成:可以從藉由水WT而被支承在支承面12A上的保持對象物WK側來對於該水WT實施冷卻處理。
剝離手段40係具備:直動馬達11,並且被建構成:將該直動馬達11兼用作為支承手段10。
分開手段50係具備:作為驅動機器之複數個直動馬達51、以及作為驅動機器而分別被支承在各個直動馬達51的輸出軸51A,具有一對握持構件52A之保持手段也就是夾頭壓缸52。
其次,說明以上之保持裝置EA的動作。
首先,對於各個構件被配置在圖1A中的實線所示的初期位置之保持裝置EA,該保持裝置EA的使用者(以下,簡稱為「使用者」),係透過操作面板或個人電腦等之未圖示的操作手段來輸入開始進行自動運轉的信號。如此一來,流體供給手段20就會驅動切換閥24、25,如圖1B所示般地,將加壓手段22與水槽21相連通,並且經由加壓側配管21A來將水槽21與凹部12B相連通之後,又驅動該加壓手段22將水槽21內的壓力予以上昇而將水WT供給到支承面12A的親水部12F(流體供給工序)。此外,被供給到親水部12F的水WT,是利用由:照相機或投影機等的攝像手段、光學感測器或超音波感測器等的各種感測器等所構成之未圖示的流體感測手段來進行監視,流體供給手段20係以這個未圖示的流體感測手段的監視狀態作為基礎,來調整水槽21內的壓力,以使得被供給到親水部12F的水WT不要溢出到疏水部12E。接下來,硬化手段30預先實施:流體前處理工序,也就是在支承手段10將保持對象物WK予以支承之前,先對於水WT實施了不至於使該水WT凍結之程度的冷卻處理。換言之,硬化手段30先驅動多關節機器手臂31以及未圖示的冷卻手段,如圖1B中的兩點鏈線所示般地,將冷卻板34靠近支承面12A,以使得水WT的溫度降低到不至於凍結之程度的溫度也就是2℃~3℃的程度,來對於該水WT實施冷卻處理(流體前處理工序)。此外,支承面12A上的水WT的溫度,是利用熱電偶、紅外線感測器等之未圖示的溫度感測手段來進行監視,硬化手段30是以這個未圖示的溫度感測手段之監視狀態作為基礎來調整水WT的溫度。其後,硬化手段30停止對於未圖示的冷卻手段進行驅動之後,就驅動多關節機器手臂31以將冷卻板34回歸到初期位置。接下來,多關節機器手臂或帶式輸送機等之未圖示的搬運手段,如圖1A所示般地,將一體物UP搬運到平台12上方之既定位置的話,分開手段50就驅動直動馬達51及夾頭壓缸52如圖1A中的兩點鏈線所示般地,利用一對握持構件52A來握持住黏合膜片AS。然後,分開手段50就驅動直動馬達51來抽拉黏合膜片AS而從母材WKB形成複數個保持對象物WK(分開工序)。此時,各保持對象物WK是以分別對應於支承面12A上的各親水部12F的方式,來擴大彼此之間的間隔。
接下來,支承手段10就驅動直動馬達11,如圖1C所示般地,將平台12予以上昇,利用支承面12A來支承保持對象物WK(支承工序)。此時,各個保持對象物WK係藉由被供給到各個親水部12F的水WT而被分別支承在該各個親水部12F。然後,硬化手段30就驅動多關節機器手臂31及未圖示的冷卻手段,如圖1C所示般地,將冷卻板34靠近黏合膜片AS,從保持對象物WK側來對於水WT實施冷卻處理而使該水WT凍結,而以支承面12A來保持住該保持對象物WK(硬化工序)。此時,硬化手段30既可以將冷卻板34抵接到黏合膜片AS,也可以將冷卻板34不抵接到黏合膜片AS。此外,例如:因為水WT的凍結而導致該水WT的體積膨脹,因而使得保持對象物WK被朝向冷卻板34這一側推迫時,可以利用設置在冷卻板34與支承板32之間的彈簧35來減輕加諸到保持對象物WK的負荷。接下來,硬化手段30停止對於未圖示的冷卻手段進行驅動,並且對於多關節機器手臂31進行驅動,來將冷卻板34回歸到初期位置。然後,剝離手段40對於直動馬達11進行驅動,如圖1D所示般地,將平台12下降而從保持對象物WK來將黏合膜片AS予以剝離(剝離工序)。
從所有的保持對象物WK將黏合膜片AS剝離出來,且平台12回歸到初期位置的話,剝離手段40就停止對於直動馬達11的驅動,然後,分開手段50就對於直動馬達51及夾頭壓缸52進行驅動,來使握持構件52A回歸到初期位置。此外,不再被握持構件52A所支承之後的黏合膜片AS,則是被移送到使用者或未圖示的搬運手段之後,被廢棄。接下來,利用線圈加熱器或熱管的加熱側等之未圖示的加熱手段,來進行加熱或者進行自然解凍,而將凍結的水WT予以解凍(流體化工序)。此時,被親水部12F所支承之各個保持對象物WK,受到水WT的作用而被定位在既定的位置以及既定的角度。然後,流體供給手段20就驅動切換閥24、25,如圖1E所示般地,將減壓手段23與水槽21相連通,並且經由減壓側配管21B來將水槽21與凹部12B相連通之後,驅動該減壓手段23來將水槽21內的壓力予以下降(流體回收工序)。如此一來,原本在支承面12A上的水WT就被回收,保持對象物WK是以被定位在既定的位置和既定的角度的狀態,被支承於支承面12A。接下來,使用者或未圖示的搬運手段就從支承面12A上取出所有的保持對象物WK(除去工序),然後,反覆地實施上述同樣的工序。
根據以上所述的實施方式,是從藉由水WT而被支承在支承面12A上的保持對象物WK側來對於該水WT實施冷卻處理,因此,不必對於每一個具有支承面12A的構件(平台12、多孔質構件12D)實施冷卻處理,能夠極力地降低能源(電力)之無謂的消耗。
如上所述,用來實施本發明之最佳的構成、方法等,雖然是利用前述的記載內容來揭示出來,但是,本發明並不限定於此。換言之,雖然本發明主要是針對於特定的實施方式,揭示了其圖示且進行了說明,但是,本發明所屬之技術領域的同業者,在不脫離本發明的技術思想及目的的範圍內,也都可以容易想到針對於上述的實施方式,就形狀、材質、數量、其他之詳細的構成,再施加各種的變形。又,上述所揭示之對於形狀、材質等予以限定的記載,是為了要使得本發明更容易被理解起見,所做的舉例說明方式的記載,並不是用來限定本發明的範圍之記載,因此,以脫離這些形狀、材質等所涵蓋的部分限定或全部限定之構件的名稱來做的記載也是被包含在本發明內。
例如:支承手段10,也可以是將解凍後的水WT回收之後,利用減壓手段23或者與流體供給手段20不同個體之其他的減壓手段,來將保持對象物WK吸附保持在支承面12A上;而且直動馬達11也可以不要兼用作為剝離手段40;而且也可以在親水部12F形成有可供水WT通過的孔,而在疏水部12E並未形成有可供水WT通過的孔;而且也可以在親水部12F及疏水部12E之兩者都形成有可供水WT通過的孔;而且也可以將具有疏水性或親水性的薄片、膜片、膠帶等張貼在支承面12A,或者針對於支承面12A實施可以發揮疏水性或親水性的表面處理或鍍膜處理,來形成疏水部12E或親水部12F;而且也可以在支承面12A並未形成有疏水部12E或親水部12F。
流體供給手段20,也可以是利用噴嘴或軟管等的供給構件,從平台12的外側將水WT供給到支承面12A;也可以是在平台12設置與流路12C不同之其他的回收用流路,而從該回收用流路來回收水WT;而且也可以是不採用切換閥24、25,而是例如:將加壓手段22及減壓手段23予以個別地與水槽21相連接,而從水槽21個別地連接到凹部12B。
流體供給手段20所供給的流體,並不限定是水WT,也可以是酒精溶液或機油等的液體之外,也可以是凝膠體;而且也可以是利用冷卻處理即可昇華的單體氣體、混合氣體等之氣體,具體而言,也可以是例如:接著劑、乾冰、紫外線(UV)硬化型樹脂、水泥等,只要是利用硬化處理就可以硬化的物質即可,只要是可以變得比被實施硬化處理之前的狀態時更硬,因而可以獲得對於保持對象物WK之所期望的保持力的物質即可。此外,在本案中所稱的「硬度」,可以是指:以布氏硬度、維氏硬度、洛氏硬度等來表達的硬度;而且也可以是指:以楊氏模量、剛性率、拉伸強度、壓縮強度、剪切強度等來表達的硬度。
硬化手段30,也可以是利用冷卻空氣或冷卻氣體等的冷卻媒體來將水WT予以;而且如果流體是經由作為硬化處理的加熱處理就會硬化的物質,例如:熱硬化性樹脂、加熱硬化劑等的情況下,也可以採用:線圈加熱器或熱管的加熱側等的加熱手段;而且如果流體是經由作為硬化處理的紫外線或X射線等的能量射線之照射處理就會硬化的物質,例如:能量射線硬化性樹脂或能量射線硬化劑等的情況下,也可以採用:能夠照射出能量射線之高壓水銀燈或LED(發光二極體,Light Emitting Diode)燈等的能量射線照射手段;而且如果流體是經由作為硬化處理的乾燥處理就會硬化的物質,例如:黏著劑或水泥等的情況下,也可以採用:送風機或加熱手段,考慮流體的特性、特質、性質、材質、組成及構成、氣相氛圍的條件、其他的因素等的各種條件後,只要是能夠使流體硬化之手段的話即可採用;而且在前述實施方式中,雖然是從保持對象物WK之另外一面WK2側(上方側)來對於水WT實施冷卻處理,但是,也可以從例如:保持對象物WK的左方、前方、右斜後方、左斜前方、右斜上方或者左斜上方之所謂的保持對象物WK側,來對於水WT實施冷卻處理。
硬化手段30,也可以利用上述的冷卻手段或冷卻媒體,將水槽21內的水WT或配管21A、25A內的水WT直接冷卻,或者經由水槽21、配管21A、25A以及支承面12A之至少其中之一種來將水WT間接地冷卻,預先在支承手段10將保持對象物WK予以支承之前,就先實施流體前處理工序;而且也可以將實施硬化工序的冷卻手段與實施流體前處理的冷卻手段以相同的冷卻手段來構成;而且也可以不同的冷卻手段來構成。此外,如果是預先實施流體前處理工序的話,作為不至於使得流體硬化之程度的溫度,如果流體是水WT的情況下,也可以是2℃以下,而且也可以是3℃以上;如果流體是經由加熱處理就會硬化之物質的話,例如:也可以將該流體進行加熱到60℃或120℃的溫度之加熱處理,考慮流體的特性、特質、性質、材質、組成以及構成、氣相氛圍的條件、其他的因素等的各種條件後,只要是能夠使流體不至於硬化之溫度的話,無論是多少度(℃)皆可。
剝離手段40,也可以是不將平台12下降或者一邊將平台12下降的同時也將夾頭壓缸52上昇,而將黏合膜片AS從保持對象物WK剝離;而且也可以是在支承面12A內將保持對象物WK與黏合膜片AS進行相對旋轉而將黏合膜片AS從保持對象物WK剝離;而且也可以是利用超音波振動裝置或振動器等的振動手段來使平台12進行振動,來使得黏合膜片AS很容易從保持對象物WK剝離;而且也可以採用:不兼用作為支承手段10的驅動機器;而且也可以將單片狀或帶狀的黏合膠帶或黏著膠帶等的剝離用膠帶張貼到黏合膜片AS上,並且對於該剝離用膠帶施加張力而將黏合膜片AS從保持對象物WK剝離,並且將這種剝離手段與上述舉例說明的剝離手段一起併用或者取代上述舉例說明的剝離手段;而且本發明的保持裝置EA也可以是具備或不具備剝離手段40,如果是不具備剝離手段40的話,也可以利用其他的裝置來將黏合膜片AS從保持對象物WK剝離。
分開手段50,也可以是在黏合膜片AS的面內,對於黏合膜片AS施加朝往單一方向或朝往兩個方向以上的方向的張力,來擴大保持對象物WK之彼此的間隔;而且如果是使用隔介著黏合膜片AS來與保持對象物WK形成一體化之環形框架等的框架構件的話,也可以支承著框架構件來對於黏合膜片AS施加張力,藉此來擴大保持對象物WK之彼此的間隔;而且本發明的保持裝置EA也可以是具備或不具備分開手段50,如果是不具備分開手段50的話,也可以利用其他的裝置來將保持對象物WK之彼此的間隔予以擴大。
保持裝置EA,也可以是採用:可除去殘留在支承面12A上的流體或其他粉塵等的塵埃之刮板、雨刷或可將流體吹掉的鼓風機等的塵埃除去手段,而在將流體供給到支承面12A之前,或者從支承面12A回收了流體之後,從支承面12A上除去塵埃;而且也可以是具備:可對於母材WKB切割出貫穿在厚度方向上的切溝,或者對於該母材WKB切割出未貫穿厚度方向的切溝,而只要施加張力即可將母材WKB分裂成複數個保持對象物WK之切割刃或雷射切割機等的母材切斷手段;而且也可以是具備:可在母材WKB上形成只要施加張力即可將母材WKB分裂成複數個保持對象物WK之脆弱的改質層之雷射照射裝置或藥液投注手段等的脆弱層形成手段;而且也可以是具備:可對於母材WKB進行研削來使得該母材WKB的厚度變薄的研磨機或砂輪機等的研削手段;而且也可以是具備:對於已經被形成了未貫穿厚度方向的切溝的母材WKB,可從已經形成了該切溝的這一面的相反側面進行抵達該切溝為止的研削作業,而可以從母材WKB形成出複數個保持對象物WK之研磨機或砂輪機等的研削個別單片化手段。
保持裝置EA,也可以是在支承工序的前段實施流體供給工序;而且也可以是在支承工序的後段實施流體供給工序;而且也可以是在支承工序的前段與該支承工序的後段都實施流體供給工序;而且也可以是實施或不實施:流體前處理工序、分開工序、剝離工序、流體化工序、流體回收工序以及除去工序之中的至少一種工序。
母材WKB,也可以是被形成了貫穿厚度方向的切溝,且利用該切溝來形成有複數個保持對象物WK之母材WKB;而且也可以是被形成了未貫穿厚度方向的切溝,只要被施加張力即可分裂成複數個保持對象物WK之母材WKB;而且也可以是被形成了脆弱的改質層,只要被施加張力即可分裂成複數個保持對象物WK之母材WKB;而且也可以是沒有張貼黏合膜片AS之母材WKB。
保持對象物WK,可以是沒有張貼黏合膜片AS的保持對象物WK;而且也可以是並非從母材WKB形成的,而是一開始就被配置成隔開既定間隔的保持對象物WK。
一體物UP,也可以是黏合膜片AS支承於框架構件之一體物UP。
框架構件,除了環型框架以外,也可以是:非環狀(外周並未連繫在一起)的框架、或者圓形、橢圓形、多角形、其他形狀的框架。
在前述實施方式中,舉例說明的保持對象物,雖然是複數個保持對象物WK的例子,但是,保持對象物也可以是只有一個。
本發明中的手段以及工序,只要能夠發揮針對於這些手段及工序所說明的動作、功能或工序的話即可,並無任何限定,而且也完全沒有受到前述實施方式所示的單純只是一種實施方式的構成物、工序的限定。例如:支承工序,只要是利用支承面從保持對象物的其中一面側來支承該保持對象物之工序的話,無論是哪一種工序皆可,與申請專利當時的技術常識相對照的話,只要是落在其技術範圍內的話即可,並未受到任何的限定(其他的手段以及工序也是同樣)。
黏合膜片AS、母材WKB、保持對象物WK以及剝離用膠帶的材質、種別、形狀等,並未特別地限定。例如:黏合膜片AS、母材WKB、保持對象物WK以及剝離用膠帶,也可以是:圓形、橢圓形、三角形和四角形等之多角形、以及其他的形狀;黏合膜片AS以及剝離用膠帶,也可以是:感壓黏著性、感熱黏著性等的黏著形態的膜片和膠帶;如果是採用感熱黏著性之膜片和膠帶的話,只要設置可對於黏合膜片AS和剝離用膠帶進行加熱之適當的線圈加熱器或熱管的加熱側等的加熱手段,以適當的方法來進行黏著即可。再者,這種黏合膜片AS和剝離用膠帶,也可以是例如:只有黏著劑層之單層的膜片和膠帶、在基材與黏著劑層之間具有中間層的膜片和膠帶、在基材的上表面還有覆蓋層等之三層以上的膜片和膠帶;此外,也可以是可將基材從黏著劑層剝離之所謂的兩面黏合膜片的這種形式的膜片和膠帶;而兩面黏合膜片,也可以是單層或者具有複數個中間層的兩面黏合膜片,或者是不具中間層之單層或複數層的兩面黏合膜片。又,可以作為母材WKB以及保持對象物WK的例子,可以舉出例如:食品、樹脂容器、矽半導體晶圓或化合物半導體晶圓等的半導體晶圓、電路基板、光碟等的訊息記憶基板、玻璃板、鋼板、陶器、木板或樹脂等的單體物,而且也可以是由兩個以上的上述物品所形成的複合物;也能夠以任意的形態的構件或物品等來作為對象。再者,黏合膜片AS,變更其功能性、用途性的說法的話,也可以是例如:記載訊息用標籤、裝飾用標籤、保護膜片、晶圓切割用膠帶、切割貼片膜、晶片貼合膠帶、形成記錄層用樹脂膜片等之任意的膜片、薄膜、膠帶等。
前述實施方式中的驅動機器,除了可以採用:旋動馬達、直動馬達、線性馬達、單軸機器手臂、具有雙軸或三軸以上的關節之多關節機器手臂等的電動機器、氣壓缸、油壓缸、無桿氣缸以及旋轉缸等的致動器之外,也可以採用將這些裝置直接或間接地組合在一起的驅動機器。
前述實施方式中,如果是採用可將支承(保持)手段或支承(保持)構件等的被支承構件(被保持構件)予以支承(保持)的手段的話,係可以採用:利用機械夾頭或夾頭壓缸等的握持手段、庫侖力、黏合劑(黏合膜片、黏合膠帶)、黏著劑(黏著膜片、黏著膠帶)、磁力、伯努利吸附作用、吸引吸附、驅動機器等來支承(保持)被支承構件的構成方式;如果是採用可將切斷手段或切斷構件等的被切斷構件予以切斷,或者可在被切斷構件上形成切溝或切斷線之手段的話,也可以採用切刃、雷射切割機、離子光束、火力、熱、水壓、電熱線、吹噴氣體或液體等的方式來進行切斷的手段來取代或者同時併用上述舉例說明的例子;而且也可以利用組合了適當的驅動機器的手段,來移動將要進行切斷的物品而予以切斷;而且如果是採用彈推手段的話,也可以是利用彈簧、橡膠、樹脂或驅動機器等來構成彈推手段。
Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In addition, the X-axis, Y-axis, and Z-axis in this embodiment are in a relationship of being orthogonal to each other (perpendicularly intersecting), the X-axis and the Y-axis are axes in a predetermined plane, and the Z-axis is the same as the above-mentioned predetermined the plane orthogonal to the axis. Furthermore, in this embodiment, when viewed from the front direction of FIG. 1A to FIG. 1E parallel to the Y axis, it is used as a reference. When indicating the direction, the arrow direction of the Z axis indicates "up", and the opposite direction is "up". Indicates "down", the direction of the arrow on the X-axis is "left", the opposite direction is "right", the direction of the arrow on the Y-axis is "front", and the opposite direction is "rear". The holding device EA of the present invention includes the support means 10 for supporting the holding object WK from one surface WK1 side of the holding object WK by the
10:支承手段
11:直動馬達
11A:輸出軸
12:平台
12A:支承面
12B:凹部
12C:流路
12D:多孔質構件
12E:疏水部
12F:親水部
20:流體供給手段
21:水槽
21A:加壓側配管
21B:減壓側配管
22:加壓手段
23:減壓手段
24:切換閥
25:切換閥
25A:配管
30:硬化手段
31:多關節機器手臂
31A:前端臂部
32:支承板
32A:貫通孔
33:導引構件
33A:凸緣部
34:冷卻板
35:彈簧
40:剝離手段
50:分開手段
51:直動馬達
51A:輸出軸
52:夾頭壓缸
52A:握持構件
EA:保持裝置
AS:黏合膜片
UP:一體物
WK:保持對象物
WKB:母材
WT:水
10: Supporting means
11:
[圖1A]係本發明之一種實施方式的保持裝置之說明圖。 [圖1B]係本發明之一種實施方式的保持裝置之說明圖。 [圖1C]係本發明之一種實施方式的保持裝置之說明圖。 [圖1D]係本發明之一種實施方式的保持裝置之說明圖。 [圖1E]係本發明之一種實施方式的保持裝置之說明圖。 1A is an explanatory diagram of a holding device according to an embodiment of the present invention. 1B is an explanatory diagram of the holding device according to one embodiment of the present invention. [ Fig. 1C ] An explanatory diagram of the holding device according to one embodiment of the present invention. 1D is an explanatory diagram of the holding device according to one embodiment of the present invention. 1E is an explanatory diagram of a holding device according to one embodiment of the present invention.
10:支承手段 10: Supporting means
11A:輸出軸 11A: Output shaft
12:平台 12: Platform
12A:支承面 12A: bearing surface
25A:配管 25A: Piping
30:硬化手段 30: Hardening means
31:多關節機器手臂 31: Multi-joint robotic arm
32:支承板 32: support plate
34:冷卻板 34: Cooling Plate
35:彈簧 35: Spring
50:分開手段 50: Separate means
51:直動馬達 51: Direct motor
52:夾頭壓缸 52: Chuck Cylinder
52A:握持構件 52A: Holding member
AS:黏合膜片 AS: Adhesive Diaphragm
WK:保持對象物 WK: keep the object
WK1:其中一面 WK1: One Side
WK2:另外一面 WK2: The other side
WT:水 WT: water
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