TW202043815A

TW202043815A - 發光裝置

Info

Publication number: TW202043815A
Application number: TW108141920A
Authority: TW
Inventors: 笹岡慎平; 橋本俊幸; 勝俣敏伸; 庄功裕
Original assignee: 日商日亞化學工業股份有限公司
Priority date: 2018-11-21
Filing date: 2019-11-19
Publication date: 2020-12-01
Also published as: TWI821457B; JP7029077B2; JP2020087926A

Abstract

本發明提供一種能夠有效地抑制亮度不均並且能夠使點亮區域與非點亮區域之間之對比率更進一步提高之發光裝置。本發明之發光裝置具備：基板12，其配置有複數個光源11；區劃構件13，其具有環繞光源11之各者且具備頂部13a與傾斜面13b之壁部13A，將由壁部13A圍繞之區域作為一個區劃C，具備複數個區劃C；及擴散板14，其配置於光源11之上方，於與基板12對向之面上且俯視時與傾斜面13b重疊之區域，具有包圍光源11之第1凸部14a。

Description

發光裝置

本發明係關於一種發光裝置。

作為被用於液晶顯示器等直下式背光(back light)，已知面發光裝置。例如，作為面發光裝置之一例，於引用文獻1中記載之發光裝置係矩陣狀地配置有複數個光源，於複數個光源之上方，具有一體形成有曲面狀地突出之凸部之擴散板。藉此，於從面發光裝置之顯示面側觀察之情形時，能夠抑制亮度不均之產生。 [先前技術文獻] [專利文獻]

[專利文獻1]日本專利特開2012-221779號公報

[發明所欲解決之問題]

但係，於此種發光裝置中對光源進行局部調光(local dimming)之情形時，有時從點亮區域之光源射出而由擴散板等散射及導光後之光入射至與點亮區域鄰接之非點亮區域，使非點亮區域與點亮區域之對比率降低。又，於從面發光裝置之顯示面側觀察之情形時，尚無法充分地消除亮度不均，正在尋求獲得進而均勻之面發光之對策。本發明係鑒於上述問題而完成，提供一種能夠有效地抑制亮度不均並且使點亮區域與非點亮區域之間之對比率更進一步提高之發光裝置。 [解決問題之技術手段]

本申請包含以下之發明。一種發光裝置，其具備：基板，其配置有複數個光源；區劃構件，其具有環繞上述光源之各者且具備頂部與傾斜面之壁部，將由上述壁部圍繞之區域作為一個區劃，具備複數個上述區劃；及擴散板，其配置於上述光源之上方，於與上述基板對向之面上且俯視時與上述傾斜面重疊之區域，具有包圍上述光源之第1凸部。 [發明之效果]

根據本發明之一實施形態之發光裝置，能夠有效地抑制亮度不均，並且能夠使點亮區域與非點亮區域之間之對比率更進一步提高。

以下，適當參照圖式對本發明之實施形態進行說明。其中，以下說明之實施形態將本發明之技術思想具體化，只要無特定之記載，本發明便不限定於以下所示者。又，一實施形態、實施例中說明之內容進而能夠應用於其他實施形態、實施例。各圖式所示之構件之大小或位置關係等為了使得說明明確，有時進行了誇張。於本實施形態中，有時將光源之光提取面稱為上表面，將光提取面側稱為上方。

本發明之一實施形態之發光裝置如圖1A及B所示，具備複數個光源11、基板12、區劃構件13、及擴散板14。複數個光源11配置於基板12上。區劃構件13具有環繞光源11之各者且具備頂部13a與傾斜面13b之壁部13A。由具備頂部13a之壁部13A圍繞之範圍(即，區域及空間)被規定為一個區劃C，區劃構件13具備複數個區劃C。擴散板14配置於光源11之上方，於與基板12對向之面上且俯視時與傾斜面13b重疊之區域M，具有包圍光源11之第1凸部14a。該發光裝置作為面發光型之發光裝置而發揮作用。如此，藉由於從光源11射出並被照射至區劃構件13之傾斜面13b而反射之光集中之擴散板14中之區域、即俯視時與傾斜面重疊之區域M中配置第1凸部，從而能夠使集中之光有效地分散。藉此，於從光提取面側觀察發光裝置之情形時，能夠有效地抑制亮度不均。又，藉由將區劃構件13配置於適當部位，從而能夠防止從特定之光源11射出之光侵入至鄰接之區域。藉此，能夠有效地阻止或者減少光對鄰接之區域之侵入。其結果，於鄰接之區域為非點亮區域之情形時，能夠使對比率更進一步提高。

(光源11) 光源11係發出光之構件，例如包含自身發出光之發光元件本身、將發光元件用透光性樹脂等密封之元件、封裝有發光元件之表面安裝型發光裝置(亦稱為LED)等。例如，作為光源11，如圖1C所示，可列舉將發光元件15用密封構件21被覆者。光源亦可為使用了一個發光元件15者，但亦可為使用複數個發光元件而設為1個光源之元件。光源11亦可為具有任意之配光特性之元件，但為了於下述之由區劃構件13之壁部13A圍繞之各區劃C中亮度不均較少地發光，較佳為寬配光。特別是，光源11之各者較佳為具有蝙蝠翼(batwing)配光特性。藉此抑制向光源11之正上方向射出之光量，將各個光源之配光擴寬，將擴寬後之光照射至壁部13A及底面13c，從而能夠抑制由壁部13A圍繞之各區劃C中之亮度不均。此處，蝙蝠翼配光特性係被定義為，將光軸L設為0°，於與0°相比配光角之絕對值更大之角度下具有與0°相比發光強度更強之發光強度分佈。再者，光軸L如圖1C所示，被定義為穿過光源11之中心，與下述之基板12之平面上之線垂直地相交之線。特別是，作為具有蝙蝠翼配光特性之光源11，例如，可列舉如圖1C所示使用了於上表面具有光反射膜20之發光元件15者。藉此，向發光元件15之上方向之光被光反射膜20反射，發光元件15之正上方之光量被抑制，能夠獲得蝙蝠翼配光特性。光反射膜20能夠直接形成於發光元件15，故不需要以其他途徑組合用於設為蝙蝠翼配光之特殊之透鏡，能夠將光源11之厚度變薄。

形成於發光元件15之上表面之光反射膜20亦可為銀、銅等金屬膜、介電多層膜(DBR膜)、其等之組合等之任一個。光反射膜20較佳為對於發光元件15之發光波長，具有相對於入射角之反射率角度依賴性。具體而言，光反射膜20之反射率較佳為設定為與垂直入射相比斜入射變得更低。藉此，發光元件正上方之亮度之變化變緩慢，能夠抑制發光元件正上方成為暗點等極端地變暗。光源11例如可列舉直接安裝於基板之發光元件15之高度為100 μm～500 μm者。可列舉光反射膜20之厚度為0.1 μm～3.0 μm者。即便包含下述之密封構件21，光源11之厚度亦能夠設為0.5 mm～2.0 mm左右。複數個光源11較佳為能夠相互獨立地驅動，以能夠進行按每個光源之調光控制(例如，局部調光或者HDR)之方式被搭載於下述之基板12上。

(發光元件15) 作為發光元件15，能夠利用公知之元件。例如，較佳為使用發光二極體作為發光元件。發光元件能夠選擇任意波長之元件。例如，作為藍色、綠色之發光元件，能夠使用利用了氮化物系半導體者。又，作為紅色之發光元件，能夠使用GaAlAs、AlInGaP等。進而，亦可使用由除此以外之材料構成之半導體發光元件。所使用之發光元件之組成及發光顏色、大小、個數等能夠根據目的而適當選擇。發光元件15可列舉如圖1C所示以橫跨設置於基板12之上表面之正負一對導體配線18A、18B之方式經由接合構件19而被覆晶(flip chip)安裝者。但，發光元件15不僅可覆晶安裝，亦可被面朝上(face up)安裝。接合構件19係用於將發光元件15固定於基板或者導體配線之構件，可列舉絕緣性之樹脂或者導電性之構件等。於發光元件15被覆晶安裝於基板上之情形時，使用導電性之構件。具體而言可列舉含Au合金、含Ag合金、含Pd合金、含In合金、含Pb-Pd合金、含Au-Ga合金、含Au-Sn合金、含Sn合金、含Sn-Cu合金、含Sn-Cu-Ag合金、含Au-Ge合金、含Au-Si合金、含Al合金、含Cu-In合金、金屬與助焊劑(flux)之混合物等。

(密封構件21) 密封構件21以保護發光元件免受外部環境影響並且光學地控制從發光元件輸出之光等為目的被覆發光元件。密封構件21由透光性之材料形成。作為該材料，能夠使用環氧樹脂、聚矽氧樹脂或者將其等混合而成之樹脂等透光性樹脂、玻璃等。其等之中，考慮耐光性及成形之容易性，較佳為使用聚矽氧樹脂。於密封構件21中，亦可包含吸收來自發光元件之光而發出與來自發光元件之輸出光不同之波長之光之螢光體等波長轉換材料、用於使來自發光元件之光擴散之擴散劑、與發光元件之發光顏色對應之著色劑等。螢光體、擴散劑及著色劑等能夠使用於該領域中公知者。密封構件21亦可與基板12直接接觸。密封構件21能夠被調整為能夠進行印刷、分注器(dispenser)塗佈等之黏度，並藉由加熱處理、光照射而使其硬化。作為密封構件21之形狀，例如亦可形成為大致半球形狀、於剖視時縱長(於剖視時，與X方向之長度相比Z方向之長度更長之形狀)之凸形狀、於剖視時扁平之凸形狀(於剖視時，與Z方向之長度相比X方向之長度更長之形狀)、於俯視時圓形狀或者橢圓形狀。密封構件21亦可於發光元件15之下表面與基板12之上表面之間，作為底部填料(underfill)21a而被配置。

(基板12) 基板12係用於載置複數個光源11之構件，如圖1C所示，於其上表面，具有用於向發光元件15等光源11供應電力之導體配線18A、18B。較佳為於導體配線18A、18B之中不進行電性連接之區域中被覆有被覆構件28。作為基板12之材料，只要係能夠將至少一對導體配線18A、18B絕緣分離之材料即可。例如，可列舉陶瓷、樹脂、複合材料等。作為陶瓷，例如可列舉氧化鋁、莫來石、鎂橄欖石、玻璃陶瓷、氮化物系(例如，AlN)、碳化物系(例如，SiC)、LTCC等。作為樹脂，可列舉酚樹脂、環氧樹脂、聚醯亞胺樹脂、BT樹脂、聚鄰苯二甲醯胺(PPA)、聚對苯二甲酸乙二酯(PET)等。作為複合材料，可列舉對上述之樹脂混合了玻璃纖維、SiO₂ 、TiO₂ 、Al₂ O₃ 等無機填料而成者、玻璃纖維增強樹脂(玻璃環氧樹脂)、於金屬構件形成有絕緣層之金屬基板等。基板12之厚度能夠適當選擇，亦可為能夠以卷對卷(roll to roll)方式製造之柔性基板或者硬性基板之任一個。硬性基板亦可為能夠彎曲之薄型硬性基板。導體配線18A、18B亦可由任意材料形成，只要係導電性構件即可，通常能夠使用被用作電路基板等之配線層者。於導體配線之表面，亦可形成有鍍膜、光反射膜等。被覆構件28較佳為由絕緣性之材料形成。材料可列舉與作為基板材料而例示之材料同樣之材料。被覆構件藉由使用使上述之樹脂含有白色系之填料等者，能夠防止光之洩露或者吸收，使發光裝置之光提取效率提高。

(區劃構件13) 區劃構件13如圖1A、1B及1D等所示，具有環繞光源11之各者且具備頂部13a與傾斜面13b之壁部13A。將由包含頂部13a之壁部13A圍繞之範圍(區域及空間)設為一個區劃C，區劃構件13係具有複數個區劃C之構件。再者，於俯視時，頂部13a能夠視為鄰接之區劃C之邊界。區劃構件13較佳為於區劃C內具有底面13c。換言之，區劃構件13由底面13c與壁部13A構成區劃C。底面13c於區劃C內於大致中央配置有貫通孔13d。較佳為如圖1A等所示，於貫通孔13d內，配置光源11。貫通孔13d之形狀及大小係光源11之全部露出之形狀及大小即可，較佳為設定為貫通孔13d之外緣僅位於光源11之附近。藉此，於區劃構件13具有反射性之情形時，即便於底面13c亦能夠使來自光源之光反射，能夠使光之提取效率提高。

頂部13a係壁部13A之最高之部位，較佳為由環繞鄰接之區域之至少2個壁部13A構成。頂部13a可為平面，但較佳為係由環繞鄰接之區域之至少2個壁部13A構成之棱之形狀。即，如圖1A等所示，構成頂部13a之至少2個壁部13A之縱截面較佳為構成銳角三角形者，更佳為構成銳角等腰三角形者。銳角三角形或者銳角等腰三角形之銳角、即頂部之角度(於圖1E中，α)較佳為例如設為30°以上且未達90°。藉由設為如此之範圍，能夠使區劃構件13所占之空間及區域減少，能夠減小區劃構件13之高度，能夠實現發光裝置之小型化及薄型化。區劃構件13之頂部13a間之間距P能夠根據所使用之光源之大小、意圖之發光裝置之大小及性能等而適當調整。例如，可列舉1 mm～50 mm，較佳為5 mm～20 mm，更較佳為6 mm～15 mm。

環繞光源11之壁部13A之傾斜面13b較佳為由以從底面13c及基板12之上表面附近向上部擴寬之方式傾斜之面構成。壁部13A之角度(於圖1E中，γ)例如可列舉45°～60°。又，例如，如圖4所示，傾斜面亦可具有於上下方向上傾斜角不同之上部傾斜面13b1(U)與下部傾斜面13b2(L)。該等傾斜面之角度能夠於上述之範圍中適當設定。例如，上部傾斜面13b1之角度(於圖1E中，與γ相等之角度)亦可比下部傾斜面13b2之角度小，但較佳為如圖4所示，上部傾斜面13b1之角度比下部傾斜面13b2之角度大。區劃構件13本身之高度、即從區劃構件13之底面13c之下表面至頂部13a為止之長度為8 mm以下，於設為更薄型之發光裝置之情形時較佳為設為1 mm～4 mm左右，將至擴散板14之距離設為8 mm左右以下，於設為更薄型之發光裝置之情形時較佳為設為2 mm～4 mm左右。藉此，能夠將包含擴散板14等光學構件之背光單元設為極薄型。區劃構件13之厚度可為恆定，亦可根據部位而變動，但較佳為構成上側傾斜面之區劃構件13與構成下側傾斜面之區劃構件13相比厚度更小。區劃構件13之厚度例如可列舉100 μm～300 μm。

區劃構件13環繞光源11而構成之區劃C之形狀、即由壁部13A劃分之區域之形狀於俯視時例如可為圓形、橢圓形等，但為了使複數個光源高效地配置，較佳為三角形、四邊形、六邊形等多邊形。藉此，易於根據面發光裝置之發光面之面積而將發光區域用壁部13A劃分為任意之數量，能夠將發光區域高密度地配置。由壁部13A劃分之區劃C之數量能夠任意地設定，能夠根據發光裝置之期望之尺寸而對壁部13A之形狀及配置、區劃C數等進行變更。區劃構件13能夠根據基板12上配置之光源11之數量及位置，設為於俯視時例如3個區劃C鄰接而3個頂部之端集中於1點之形狀、如圖1B所示4個區劃C鄰接而4個頂部集中之形狀、6個區劃C鄰接而6個頂部集中於1點之形狀等各種形狀。

區劃構件13較佳為配置於基板12之上，較佳為區劃構件13之底面13c之下表面與基板12之上表面被固定。特別是，較佳為將貫通孔13d之周圍使用光反射性之接著構件來固定，以免來自光源11之射出光入射至基板12與區劃構件13之間。例如，更佳為沿著貫通孔13d之外緣環狀地配置光反射性之接著構件。接著構件亦可為雙面膠帶，亦可為熱熔型之接著片材，亦可為熱硬化樹脂及熱塑樹脂等樹脂系之接著劑。該等接著構件較佳為具有較高之難燃性。但，區劃構件13對基板12上之固定亦可利用螺絲固定等。

區劃構件13較佳為具有反射性之構件。藉此，能夠使從光源11射出之光藉由壁部13A及底面13c高效地反射。特別是，於壁部13A如上述般具有傾斜之情形時，從光源11射出之光被照射至壁部13A，能夠使光向上方向反射。因此，即便於鄰接之區劃C為非點亮之情形時，亦能夠使對比率更進一步提高。又，能夠更高效地進行光向上方向之反射。區劃構件13亦可使用含有由氧化鈦、氧化鋁、氧化矽等金屬氧化物粒子構成之反射材料之樹脂等而成形，亦可於使用不含有反射材料之樹脂成形之後，於表面設置反射材料。較佳為以對於來自光源11之射出光之反射率為70%以上之方式設定。

區劃構件13能夠藉由使用了模具之成形、基於光造形之成形方法等而形成。作為使用了模具之成形方法，能夠應用射出成形、擠出成形、壓縮成形、真空成形、壓空成形、衝壓成形等成形方法。例如，藉由使用由PET等形成之反射片材進行真空成形，能夠形成一體地形成有底面13c與壁部13A之區劃構件13。區劃構件13於列方向、行方向或者矩陣狀地將複數個區劃C排列。例如，如圖1B所示，能夠設為在光源11於X方向配置5個，於Y方向上配置5個，矩陣狀地配置了合計25個之基板之上，由壁部13A環繞各光源11，規定了俯視呈大致正方形之25個區劃C，於區劃C之大致中央之底面13c，具有光源11載置用之貫通孔13d。

(擴散板14) 擴散板14係使入射之光擴散而使其透過之構件，較佳為於複數個光源11之上方配置1個。擴散板14於與基板12對向之面上且俯視時與傾斜面13b重疊之區域M，具有包圍光源11之第1凸部14a。如上述般，於傾斜面13b具有上部傾斜面與下部傾斜面之情形時，較佳為於俯視時，於與上部傾斜面重疊之區域具有第1凸部。換言之，第1凸部可被配置於於俯視時與傾斜面13b重疊之區域M之中之中央部分，但較佳為偏向於與頂部13a接近。於本申請說明書中，包圍可為連續完全環繞光源11，亦可為被分斷為複數個而環繞光源11。

就第1凸部14a而言，區劃C之形狀、即由壁部13A劃分之區域之形狀於俯視時例如為三角形、四邊形、六邊形等多邊形之情形時，較佳為構成沿著其之形狀。例如，可列舉如圖1B所示般，於俯視時，構成1個區塊之壁部13A以環繞光源11之方式配置為四邊形之情形時，第1凸部14a連續或者分斷，配置為四邊形之環狀。第1凸部14a之高度(厚度，於圖1E中，T)能夠設為構成1個區塊之擴散板之最薄之部分之厚度(例如，圖1E中，t)之5%～30%，較佳為9%～20%。第1凸部14a之寬度(圖1E中之W)可列舉區域M之寬度之10%～90%，較佳為20%～70%。例如，就擴散板14之厚度而言，於區劃內，最薄之部分之厚度t為0.2 mm～5 mm，較佳為0.5 mm～2 mm，第1凸部14a之高度T為0.05 mm～2 mm，較佳為0.1 mm～0.6 mm，第1凸部14a之寬度W可列舉0.1 mm～1 mm，較佳為0.2 mm～0.7 mm。

第1凸部14a亦可為圓頂狀、丘狀、柱狀、錐台狀等各種形狀，但例如較佳為具有沿著第1凸部之中心線左右對稱之剖面形狀，更佳為如圖1E等所示，具有左右對稱之圓頂狀。

擴散板14較佳為實質上相對於基板12平行地配置。例如，擴散板14之光提取面側之面亦可具有凹凸，但更佳為平坦並且該面實質上相對於基板12平行地配置。於具有凹凸之情形時，例如，能夠設為0.01 mm～0.1 mm之凹凸。能夠藉由凹凸而使入射之光擴散。

擴散板14例如能夠由聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、丙烯酸系樹脂、聚乙烯樹脂等，對可見光而言光吸收少之材料構成。為了使入射之光擴散，擴散板14亦可於擴散板14中使折射率不同之材料分散。作為折射率不同之材料，例如能夠從聚碳酸酯樹脂、丙烯酸系樹脂等選擇並使用。擴散板14之厚度、光擴散之程度能夠適當設定，作為光擴散片材、擴散膜(diffuser film)等，能夠利用市售之構件。

例如，如圖2A～2D所示，擴散板34、44除了第1凸部34a、44a外，亦可於與基板12對向之面上且俯視時與光源11重疊之區域，具有第2凸部34b、44b。第2凸部34b、44b之平面形狀亦可僅配置於與光源重疊之區域、或者以與其對應之形狀配置，能夠將與光源重疊之區域配置於中央，設為與該區域對應之相似形狀。作為第2凸部之平面形狀，例如可列舉圓形、多邊形或者圓角多邊形之形狀等。又，第2凸部之俯視時之外緣之位置例如於將與光源重疊之區域之面積設為100%之情形時，能夠設為以110%以上之面積環繞光源之位置。第2凸部之外緣較佳為與第1凸部相隔。但，較佳為第2凸部34b、44b係將與光源11重疊之區域配置於中央，與該區域對應之相似形狀，並且係具有以與第1凸部相隔距離D之程度接近第1凸部之部分之形狀，更佳為如圖2C所示般，其外緣為圓形。例如，第2凸部之俯視之大小可列舉直徑(於圖2D中，WW)為間距P之10%～80%，可列舉30%～70%。具體而言，可列舉0.3 mm～35 mm，較佳為1.5 mm～15 mm，更較佳為1.8 mm～10 mm。距離D例如可列舉0 mm～4 mm，較佳為1 mm～3 mm。

第2凸部34b、44b較佳為與光源重疊之區域為最厚之形狀，更佳為於光源之中心之正上方為最厚之形狀。例如，可列舉碗狀、錐狀、錐台狀、柱狀等各種形狀，但較佳為光源之中心或者大致中心為最厚之錐狀或者錐台狀。於該情形時，從光源之中心或者大致中心朝向其外周之面於剖視時，可為向基板側凸出之曲線，亦可為如圖2A所示向光提取面側凹陷之曲線(於圖2A、2D中，34b)，亦可如圖2B所示為直線(於圖2B中，44b)。又，第2凸部較佳為穿過最厚膜之剖面形狀為左右對稱之形狀。第2凸部34b、44b之最厚部分之擴散板之厚度(於圖2D中，TT)能夠設為構成一個區塊之擴散板之最薄之部分之厚度(例如，於圖1E及圖2D中，t)之200%～600%，較佳為400%～600%。從其他觀點而言，第2凸部34之最厚之部分之擴散板之厚度TT可列舉2 mm～5 mm，較佳為2 mm～3.5 mm。

(其他構件) 本實施形態之發光裝置亦可具備反射構件等。 (反射構件) 例如，擴散板14亦可於上表面，如圖3A所示，於光源11之上方，較佳為於光源11之正上方，分別配置有第1反射部26。第1反射部26亦可如圖3B所示，設置於擴散板14之與基板對向之面。於光源11之上方區域、特別是正上方區域中，擴散板14與光源11之距離變得最短。因此，該區域中之亮度變高。擴散板14與光源11之距離越短，則與無被配置光源11之區域之正上方之區域之亮度不均變得越顯著。從而，藉由將第1反射部26設置於擴散板14之表面，而反射光源11之指向性較高之光之一部分，向光源11方向返回，從而能夠減輕亮度不均。

第1反射部26能夠由包含光反射材料之材料形成。例如可列舉包含光反射材料之樹脂及/或有機溶劑等。作為光反射材料，例如可列舉氧化鈦、氧化鋁、氧化矽等金屬氧化物粒子。樹脂及有機溶劑能夠考慮所使用之金屬氧化物粒子、製造之發光裝置所要求之特性等而適當選擇。其中，作為樹脂，較佳為使用以丙烯酸酯樹脂、環氧樹脂等為主成分之透光性且光硬化性之樹脂。第1反射部26亦可於構成其之材料中，進而含有顏料、光吸收材料、螢光體等。第1反射部26能夠設為規定之條紋狀、島狀等各種形狀或者樣式(pattern)。第1反射部26之形成方法例如亦可為印刷法、噴墨法、噴霧器法等該領域中公知之任一方法。第1反射部之厚度例如可列舉10 μm～100 μm。

發光裝置亦可於擴散板之上方，具備選自由將來自光源之光轉換為不同波長之光之波長轉換片材、稜鏡片材及偏光片材構成之群中之至少1種。具體而言，如圖3B所示，於擴散板14之上方相隔規定距離或者於擴散板14之上表面，直接或者間接地配置波長轉換片材22、稜鏡片材(第1稜鏡片材23及第2稜鏡片材24)、偏光片材25等光學構件，進一步於其上配置液晶面板，能夠設為用作直下型背光用光源之面發光型發光裝置。該等光學構件之積層之順序能夠任意地設定。

(波長轉換片材22) 波長轉換片材22亦可配置於擴散板14之上表面或者下表面之任一者，但較佳為如圖3B所示，配置於上表面。波長轉換片材22吸收從光源11射出之光之一部分，發出與來自光源11之射出光之波長不同之波長之光。例如，波長轉換片材22能夠設為吸收來自光源11之藍色光之一部分而發出黃色光、綠色光及/或紅色光，射出白色光之發光裝置。波長轉換片材22與光源11之發光元件相隔，故能夠使用難以於發光元件之附近使用之對熱或光強度耐性差之螢光體等。藉此，能夠使作為發光裝置之背光之性能提高。波長轉換片材22具有片材形狀或者層形狀，包含上述之螢光體等。

(第1稜鏡片材23及第2稜鏡片材24) 第1及第2稜鏡片材23、24於其表面具有於規定之方向上延伸之複數個稜鏡排列而成之形狀。例如，於x方向和與x方向成直角之y方向上二維地觀察片材之平面，第1稜鏡片材23能夠具有於y方向上延伸之複數個稜鏡，第2稜鏡片材24能夠具有於x方向上延伸之複數個稜鏡。稜鏡片材能夠使從各種方向入射之光向朝向與發光裝置對向之顯示面板之方向折射。藉此，能夠使從發光裝置之發光面射出之光主要向與上表面垂直之方向射出，提昇從正面觀察發光裝置之情形時之亮度。

(偏光片材25) 偏光片材25例如能夠使與於顯示面板、例如液晶顯示面板之背光側配置之偏光板之偏光方向一致之偏光方向之光選擇性地透過，使與該偏光方向垂直之方向之偏光向第1及第2稜鏡片材23、24側反射。從偏光片材25返回之偏光之一部分藉由第1及第2稜鏡片材23、24及波長轉換片材22、擴散板14再次被反射。此時，偏光方向變化，例如，被轉換為具有液晶顯示面板之偏光板之偏光方向之偏光，再次入射至偏光片材25，射出至顯示面板。藉此，能夠使從發光裝置射出之光之偏光方向一致，使對顯示面板之亮度提高有效之偏光方向之光高效地射出。偏光片材25、第1及第2稜鏡片材23、24等能夠使用市售之片材作為背光用之光學構件。 [產業上之可利用性]

本發明之發光裝置能夠利用於顯示裝置之背光用光源、照明裝置之光源等各種發光裝置。

11:光源 12:基板 13:區劃構件 13A:壁部 13a:頂部 13b:壁部 13b1:上部傾斜面 13b2:下部傾斜面 13c:底面 13d:貫通孔 14、34、44:擴散板 14a、34a、44a:第1凸部 34b、44b:第2凸部 15:發光元件 18A、18B:導體配線 19:接合構件 20:光反射膜 21:密封構件 21a:底部填料 22:波長轉換片材 23:第1稜鏡片材 24:第2稜鏡片材 25:偏光片材 26:第1反射部 28:被覆構件 C:區劃 L:光軸 M:區域 P:間距 T:高度 TT:厚度 t:厚度 W:寬度 α:角度 γ:角度

圖1A係本發明之一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。圖1B係圖1A之發光裝置之概略俯視圖。圖1C係圖1A之發光裝置之發光元件周邊之局部放大概略剖視圖。圖1D係用於說明圖1A之發光裝置之一區劃中之擴散板與區劃構件之位置關係之概略俯視圖。圖1E係圖1A之發光裝置之區劃構件附近之局部放大概略剖視圖。圖2A係本發明之另一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。圖2B係本發明之又一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。圖2C係用於說明圖2A及2C發光裝置之一區劃中之擴散板與區劃構件之位置關係之概略俯視圖。圖2D係圖2A之發光裝置中之擴散板之局部放大概略剖視圖。圖3A係本發明之又一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。圖3B係本發明之再一實施形態之發光裝置之概略剖視圖。圖4係圖1A之發光裝置之其他區劃構件附近之局部放大概略剖視圖。

11:光源

12:基板

13A:壁部

13a:頂部

13b:傾斜面

13d:貫通孔

14:擴散板

14a:第1凸部

C:區劃

M:區域

P:間距

Claims

一種發光裝置，其具備：基板，其配置有複數個光源；區劃構件，其具有環繞上述光源之各者且具備頂部與傾斜面之壁部，將由上述壁部圍繞之區域作為一個區劃，具備複數個上述區劃；及擴散板，其配置於上述光源之上方，於與上述基板對向之面上且俯視時與上述傾斜面重疊之區域，具有包圍上述光源之第1凸部。
如請求項1之發光裝置，其中上述第1凸部具有上述擴散板之最薄之厚度之10%～30%之厚度。
如請求項1或2之發光裝置，其中上述第1凸部具有沿著上述第1凸部之中心線而左右對稱之剖面形狀。
如請求項1或2之發光裝置，其中上述一個區劃為俯視四邊形，上述第1凸部於上述一個區劃內為俯視四邊形之環狀。
如請求項1或2之發光裝置，其中上述傾斜面具有於上下方向上傾斜角不同之上部傾斜面與下部傾斜面，俯視時於與上述上部傾斜面重疊之區域具有上述第1凸部。
如請求項1或2之發光裝置，其中上述擴散板進而於與上述基板對向之面上且俯視時與上述光源重疊之區域，具有第2凸部。
如請求項6之發光裝置，其中上述第2凸部具有上述擴散板之最薄之厚度之400%～600%之厚度。
如請求項6之發光裝置，其中上述第2凸部於上述光源之中心之正上方為最厚膜。
如請求項8之發光裝置，其中上述第2凸部之穿過上述最厚膜之剖面形狀左右對稱。
如請求項6之發光裝置，其中上述第2凸部之俯視之外形為圓形。