TW202041938A - 透鏡及發光裝置 - Google Patents
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Abstract
一種透鏡,底部及頂部分別凹設有第一表面及第二表面。於底部定義一參考點,並定義通過參考點的水平軸及垂直軸。第一表面於水平軸及垂直軸定義的假想平面投影為依序連接的第一至第四線段。參考點至第一線段及第二線段之間的第一轉折點的方向,與水平軸之間形成第一參考角,第一參考角的角度小於15度;參考點至第二線段與第三線段之間的第二轉折點的方向,與水平軸之間形成第二參考角,第二參考角的角度介於2~40度;以及參考點至第三線段與第四線段之間的第三轉折點的方向,與水平軸之間形成第三參考角,第三參考角的角度介於20~88度。
Description
本發明有關於背光裝置,特別是一種用於背光源的透鏡以及具有透鏡的發光裝置。
以點光源(例如LED)作為背光源的直下式背光模組中,為了使得光強度均勻地分佈,通常是以尺寸較小的點光源,以陣列形式配置於基板上。點光源之間的必須安排的較小,以避免點光源之間形成明顯的亮/暗區。
若以大功率點光源的配置來減少點光源數量時,需另外以透鏡對每一光源的光形進行處理,使得光線透過透鏡後可以轉換為側向光。
現有的透鏡包含折射式及反射式。折射式係以入光面及出光面將進行二次折射之後,轉向至側向方光。反射式則是在二次折射之間再增加一道反射結構,以在第二次折射之前,先以反射結構將光線的方向改變為側向,在經由第二次折射調整方向。
現有的折射式或反射式透鏡,仍有相當程度的正向漏光或背向漏光,不論是正向漏光或背向漏光,都會在點光源上方形成一個亮區。因此,實際配置上仍然會尺寸較小、功率較低但數量較多的點光源來形成光源陣列,以使前述亮區不會太過明顯。
本發明提出一種透鏡及發光裝置,係可改善光形,減少正向及背向漏光,並縮小發光半強角度(full width at half maximum, FWHM)範圍。
本發明至少一實施例提出一種透鏡,包含相對的一底部以及一頂部;底部凹設有一第一表面,頂部凹設有一第二表面,且底部以及頂部的邊緣以一第三表面連接;於底部定義一參考點,並定義通過參考點的一水平軸以及一垂直軸,水平軸平行於底部,垂直軸垂直於底部,且水平軸以及垂直軸定義一假想平面。
其中,第一表面於假想平面投影為依序連接的一第一線段、一第二線段、一第三線段以及一第四線段,第一線段延伸自水平軸,且第四線段連接於垂直軸,第一線段以及第二線段連接於一第一轉折點,第二線段與第三線段連接於一第二轉折點,第三線段與第四線段連接於一第三轉折點;第一線段、第二線段、第三線段以及第四線段滿足下列關係:
參考點至第一轉折點的方向,與水平軸之間形成一第一參考角,第一參考角的角度小於15度;
參考點至第二轉折點的方向,與水平軸之間形成一第二參考角,第二參考角的角度介於2度至40度;以及
參考點至第三轉折點的方向,與水平軸之間形成一第三參考角,第三參考角的角度介於20度至88度。
於本發明至少一實施例中,第一參考角小於5度,第二參考角介於5度至30度,且第三參考角介於30度至85度。
於本發明至少一實施例中,參考點至第二表面的一外週緣的方向,與水平軸之間形成一第四參考角,第四參考角與第二參考角的角度差值,介於正負10度之間。
於本發明至少一實施例中,角度差值為零。
於本發明至少一實施例中,第二線段的平均斜率小於第一線段的平均斜率,第三線段的平均斜率大於第二線段的平均斜率,且第四線段的平均斜率小於第三線段的平均斜率。
於本發明至少一實施例中,第一線段為一曲線或一直線,第二線段為一直線或一曲線,第三線段為一直線或一曲線,且第四線段為一直線。
於本發明至少一實施例中,第一表面具有一上頂點,第二表面具有一下頂點,上頂點及下頂點分別位於垂直軸,且保持一間隔距離。
於本發明至少一實施例中,以垂直軸為對稱軸,第一表面於假想平面投影形成另一組線段,與第一線段、第二線段、第三線段以及第四線段為軸對稱,且兩組線段於上頂點連接。
於本發明至少一實施例中,第一表面與第二表面是以垂直軸為依據輻射對稱型態。
於本發明至少一實施例中,定義垂直於垂直軸以及水平軸的一縱向軸,第一表面呈現長凹槽型態,且為以縱向軸為依據的軸對稱型態。
於本發明至少一實施例中,以參考點為一座標原點,第一轉折點、第二轉折點、第三轉折點以及第四轉折點於水平軸與垂直軸的一座標值關係,為垂直軸的座標值等水平軸的座標值的m倍,且第一轉折點的m值為0.03~0.13,第二轉折點的m值為0.17~0.87,第三轉折點的m值為1.7~8.51。
本發明至少一實施例又提出一種發光裝置,包含一基板、一光源以及如前所述的透鏡。基板具有一上表面;光源設置於基板的上表面;透鏡的底部固定於基板,並覆蓋於光源,且位於參考點。
在本發明的透鏡及發光裝置中,係將入光的第一表面由外緣至中心分別以不同平均曲率的曲面(對應於第一線段、第二線段、第三線段及第四線段部分)接收光線並折射,以處理以不同參考角入光的光線。因此不同參考角入光的光線都可以經由或不經由反射後經過第二次折射,集中於側向出光。因此,本發明可以有效地減少正向漏光或被向漏光的強度,而達成良好光形。
在圖式中,為了清楚起見,放大了部分元件、區域等的寬度。在整份說明書中相同的元件符號表示相同的元件。應當理解,當諸如元件被稱為在另一個元件「上」或「連接到」另一個元件時,其可以直接在另一元件上或與另一元件連接,或者中間元件也可以存在。相反地,當元件被稱為「直接在另一個元件上」或「直接連接到」另一個元件時,不存在中間元件。
應當理解,儘管術語「第一」、「第二」、「第三」等在整份說明書中可以用於敘述各種元件、部件、區域或部分。但是這些元件、部件、區域、及/或部分不應受到這些術語的限制。這些術語僅用於將一個元件、部件、區域或部分與另一個元件、部件、區域、層或部分區分開。因此,下面討論的「第一元件」、「部件」、「區域」或「部分」可以被稱為第二元件、部件、區域或部分而不脫離本文的教示。
此外,諸如「下」或「底板」和「上」或「頂面」的相對術語可以在本文用於敘述一個元件與另一個元件的關係,如圖所示。應當理解,相對術語旨在包括除了圖中所示的方位之外的裝置的不同方位。例如,如果一個圖式中的裝置翻轉,則被敘述為在其他元件的「下」側的元件將被定向在其他元件的「上」側。因此,例示性用語「下」可以包括「下」和「上」的取向,取決於圖式的特定取向。
請參閱圖1以及圖2所示,為本發明實施列所揭露的一種發光裝置1,包含一基板100、一光源200以及一透鏡300。
如圖1與圖2所示,基板100用於作為設置基礎,以供光源200以及透鏡300設置於其上。基板100同時提供必要電路(圖未示),以供應驅動電力至光源200。此外,基板100的上表面110也可以配置必要的光學結構,以對光線進行反射或擴散,例如於上表面110配置一白反射片,並於基板100上方設置擴散板。
如圖1以及圖2所示,光源200設置於基板100的上表面110,用於在上表面110上發出光線。光源200為點發光形式,可為但不限定於發光二極體。光源200發出光線的方向範圍,涵蓋直接沿著上表面110的法線,至接近平行於上表面110的方向;也就是說光源200發出光線的方向包含正向發光以及側向發光。
如圖1、圖2以及圖3所示,透鏡300具有二次折射功能,於光線進入透鏡300時對光線進行第一次折射,再於光線離開透鏡300時進行第二次折射。
如圖1、圖2以及圖3所示,透鏡300具有相對的一底部310以及一頂部320。底部310固定於基板100,並覆蓋於光源200上。底部310凹設有一第一表面S1,頂部320凹設有一第二表面S2,且底部310以及頂部320的邊緣以一第三表面S3連接,使第三表面S3環繞透鏡300的側向。透鏡300為具有良好透光特性的材質所製成,前述的材質包含但不限定於PMMA(壓克力)、PC(聚碳酸酯)或PS(聚苯乙烯),以模具進行模造射出成形或CNC切削加工成形。
如圖1、圖2以及圖3所示,第一表面S1定義一容置空間,且光源200位於容置空間中。光源200發出的光線由第一表面S1進入透鏡300,而經由或不經由第二表面S2反射,而朝向第三表面S3出光,以使光源200發出的光線被導引至透鏡300的側向出光,而在基板100的上表面110形成均勻的亮度分佈。
如圖3所示,於底部310定義一參考點Ref,並定義通過參考點Ref的一水平軸X以及一垂直軸Y,水平軸X平行於底部310,垂直軸Y垂直於底部310,且水平軸X以及垂直軸Y可定義一假想平面XY。光源200位於參考點Ref,第一表面S1的一上頂點UP以及第二表面S2的一下頂點DP分別位於垂直軸Y,且保持一間隔距離。
如圖3所示,第一表面S1於假想平面XY投影為一第一線段C1、一第二線段C2、一第三線段C3以及一第四線段C4。第一線段C1、第二線段C2、第三線段C3以及第四線段C4依序連接,第一線段C1延伸自水平軸X,且第四線段C4連接於垂直軸Y及上頂點UP。第一線段C1以及第二線段C2連接於一第一轉折點CP1,第二線段C2與第三線段C3連接於一第二轉折點CP2,第三線段C3與第四線段C4連接於一第三轉折點CP3,且第四線段C4與垂直軸Y連接於上頂點UP。
結合參照圖2與圖3,以垂直軸Y為對稱軸,第一表面S1於假想平面XY投影形成另一組線段,與第一線段C1、第二線段C2、第三線段C3以及第四線段C4為軸對稱,且兩組線段於上頂點UP連接。
如圖3以及圖4所示,前述第一線段C1、第二線段C2、第三線段C3以及第四線段C4滿足下列關係,使得光源200發出的光線由第一表面S1入光後,可以朝向第三表面S3出光,減少透過第二表面S2而由頂部320出光的出光量。圖3以及圖4中以虛線代表光線,並省略表示透鏡300實體部分的剖面線,以使圖式能夠簡潔呈現。
如圖3以及圖4所示,參考點Ref至第一轉折點CP1的方向,與水平軸X之間形成一第一參考角θ1,第一參考角θ1的角度小於15度(θ1<15°),較佳為小於5度(θ1<5°)。第一線段C1可為曲線或直線,於第一線段C1為直線的場合,第一線段C1可以是平行於垂直軸Y,亦即垂直於水平軸X。第一表面S1對應於第一線段C1的部分,是用於處理出光仰角較小的光線,使光線以趨近於水平(平行於水平軸X)的方向經由第三表面S3朝透鏡300側向出光。
如圖3以及圖4所示,參考點Ref至第二轉折點CP2的方向,與水平軸X之間形成一第二參考角θ2,第二參考角θ2的角度介於2度至40度(2°≦θ2≦40°),較佳為介於5度至30度(5°≦θ2≦30°);前述第二參考角θ2的下限值,主要取決於第一參考角θ1的設定值,第二參考角θ2需大於第一參考角θ1。第二線段C2同樣可為曲線或直線,並且第二線段C2的平均斜率小於第一線段C1的平均斜率。第一表面S1對應於第二線段C2的部分,是用於處理出光仰角略大的光線,使光線以較大的入射角入射第二表面S2,而被第二表面S2全反射為趨近於水平後,再經由第三表面S3朝透鏡300側向出光。
如圖3以及圖4所示,參考點Ref至第三轉折點CP3的方向,與水平軸X之間形成一第三參考角θ3,第三參考角θ3的角度介於20度至88度(20°≦θ3≦88°),較佳為介於30度至85度(30°≦θ3≦85°);前述第三參考角θ3的下限值,主要取決於第二參考角θ2的設定值,第三參考角θ3需大於第二參考角θ2。第三線段C3為曲線,並且第三線段C3的平均斜率大於第二線段C2的平均斜率。第一表面S1對應於第三線段C3的部分,是用於處理出光仰角更大的光線,使光線能以較大的入射角入射第二表面S2,而被第二表面S2全反射為趨近於水平後,再經由第三表面S3朝透鏡300側向出光。
如圖3以及圖4所示,第一表面S1由第三轉折點CP3至上頂點UP的部份為第四線段C4,第四線段C4的部份用於供出光仰角接近接近90度的入射,並進行較大幅度的折射,而被第二表面S2全反射為趨近於水平後,再經由第三表面S3朝透鏡300側向出光。第四線段C4為直線,且平均斜率小於第三線段C3的平均斜率。第四線段C4為直線有利於加工,避免上頂點UP以及第四線段C4因為加工公差對光學表現造成影響。
此外,關於第一表面S1與第二表面S2的相對關係部分,由參考點Ref至第二表面S2的外週緣的方向,與水平軸X之間形成一第四參考角θ4。第四參考角θ4與第二參考角θ2的角度差值,介於正負10度之間,較佳為第四參考角θ4等於第二參考角θ2,亦即角度差值為零。
如圖5所示,第一表面S1與第二表面S2可以是以垂直軸Y為依據輻射對稱型態,亦即以垂直軸Y為依據,取任意包含垂直軸Y的假想平面XY,都可以得到依據垂直軸Y互為軸對稱的兩組第一線段C1、第二線段C2、第三線段C3以及第四線段C4。換句話說,第一表面S1與第二表面S2都呈現內凹的圓錐孔型態,且二圓錐孔的尖點,亦即如圖3所示的上頂點UP及下頂點DP都位於垂直軸Y上,並且相隔一間隔距離而不連通。
以下進一步舉一具體範例說明。透鏡300為輻射對稱型態,頂部320及底部310呈現圓形,且頂部320直徑為30m,底部310直徑為26mm;透鏡300高度為8mm。以參考點Ref為座標原點,各線段以及各轉折點於水平軸X與垂直軸Y上的相對關係說明如表一所示。表一
如表一所示,第一線段C1的一端位於水平軸X上,座標值為(3.50, 0),另一端為第一轉折點CP1,座標值為(3.50, 0.20),第一線段C1的斜率為無限大(設定第一線段C1為直線),亦即第一線段C1平行於垂直軸Y,而垂直於水平軸X。此時,第一參考角θ1的角度,約為3.3度,落在小於15度或小於5度的範圍內。此時,第一線段C1相對於水平軸X的相對角,則為90度。
如表一所示,第二線段C2的一端以第一轉折點CP1與第一線段C1連接,另一端為第二轉折點CP2,第二轉折點CP2的座標值為(1.50, 0.60)。第二線段C2的斜率為0.20(設定第二線段C2為直線),亦即由第一線段C1到第二線段C2的斜率變化趨勢為減少。此時,第二參考角θ2的角度,約為21.8度,落在2度至40度或5度至30度的範圍內。第二線段C2相對於水平軸X的相對角,則為11.3度。
如表一所示,第三線段C3的一端以第二轉折點CP2與第二線段C2連接,另一端為第三轉折點CP3,第三轉折點CP3的座標值為(0.54, 1.40)。第三線段C3的斜率為0. 83(設定第三線段C3為直線),亦即由第二線段C2到第三線段C3的斜率變化趨勢為增加。此時,第三參考角θ3的角度,約為68.9度,落在20度至88度或30度至85度的範圍內。第三線段C3相對於水平軸X的相對角,則為39.8度。
如表一所示,第四線段C4的一端以第三轉折點CP3與第三線段C3連接,另一端為上頂點UP,上頂點UP的座標值為(0.00, 1.70)。第四線段C4的斜率為0. 56(設定第四線段C4為直線),亦即由第三線段C3到第四線段C4的斜率變化趨勢為減少。此時,第四線段C4相對於水平軸X的相對角,則為29.1度。
前述的尺寸、相對位置關係,僅為例示,並非用以限定本發明具體實施的態樣。由表一的比較以及前述說明可知,第一線段C1、第二線段C2、第三線段C3以及第四線段C4的斜率變化趨勢,係為減少、增加再減少,以確保不同出光仰角的光線,都可以先被第一表面S1折射至趨近水平的方向,而直接經由第三表面S3出光,或大角度落在第二表面S2上而被第二表面S2全反射至第三表面S3出光。第二表面S2的曲率配置,主要係配合第二線段C2、第三線段C3以及第四線段C4,使得被折射而投射至第二表面S2的光線都可以被全反射至水平方向,減少透過頂部320的正向漏光。
如表二以及圖6所示,以參考點Ref為座標原點,各轉折點於水平軸X與垂直軸Y的座標值關係,也可以用Y=mX表示。亦即,於垂直軸Y的座標值滿足為水平軸X的座標值的m倍。第一轉折點CP1、第二轉折點CP2以及第三轉折點CP3分別具有不同m值範圍。如表二所示,第一轉折點CP1的座標值中,m=Y/X的比例可以為0.03~0.13,對應的第一參考角θ1範圍為0.15度至7.48度;第二轉折點CP2的座標值中,m=Y/X的比例可以為0.17~0.87,對應的第二參考角θ2範圍為9.83度至40.89度;第三轉折點CP3的座標值中,m=Y/X的比例可以為1.7~8.51,對應的第三參考角θ3範圍為59.55度至83.30度。表二
如圖7所示,係透過上述的第一表面S1配置,應用透鏡300的發光裝置1的出光分佈。圖7中標記的角度係出光方向與正向的夾角,亦即出光方向與垂直軸Y的夾角。圖中可見,由透鏡300出光的發光半強角度(full width at half maximum, FWHM)集中於90度,且發光半強角度落於14度的範圍內,亦即出光集中指向於側向,而有較小的正向漏光。此外,前述發光半強角度峰值也落在90度以下,從而降低背向漏光。因此,不論是光源200的正向或背向(接近0度或大於90度),光強度都偏低而無明顯雜訊,可有效減緩光源200上方過亮問題。
如圖8所示,透鏡300的結構不限定輻射對稱型態。定義垂直於垂直軸Y以及水平軸X的一縱向軸Z,第一表面S1在XZ平面上的投影呈現接近橢圓形或橄欖形的形態,換句話說,第一表面S1呈現長凹槽型態,而非依據垂直軸Y形成輻射對稱的錐孔,而是以縱向軸Z為依據的軸對稱型態。
在本發明的透鏡300及發光裝置1中,係將入光的第一表面S1由外緣至中心分別以不同平均曲率的曲面(對應於第一線段C1、第二線段C2、第三線段C3及第四線段C4部分)接收光線並折射,以處理以不同參考角入光的光線。因此不同參考角入光的光線都可以經由或不經由反射後經過第二次折射,集中於側向出光。因此,本發明可以有效地減少正向漏光或被向漏光的強度,而達成良好光形。
1:發光裝置100:基板110:上表面200:光源300:透鏡310:底部320:頂部S1:第一表面S2:第二表面S3:第三表面Ref:參考點X:水平軸Y:垂直軸UP:上頂點DP:下頂點C1:第一線段C2:第二線段C3:第三線段C4:第四線段CP1:第一轉折點CP2:第二轉折點CP3:第三轉折點θ1:第一參考角θ2:第二參考角θ3:第三參考角θ4:第四參考角Z:縱向軸
圖1為本發明實施例的剖面示意圖。 圖2為圖1的局部放大圖。 圖3為本發明實施例的局部剖面示意圖。 圖4為本發明實施例的另一剖面示意圖。 圖5為本發明實施例的立體圖。 圖6為本發明實施例的另一局部剖面示意圖。 圖7為本發明實施例的光形分佈曲線圖。 圖8為本發明另一實施例中,部分結構的立體圖。
300:透鏡
S1:第一表面
S2:第二表面
Ref:參考點
X:水平軸
Y:垂直軸
UP:上頂點
DP:下頂點
C1:第一線段
C2:第二線段
C3:第三線段
C4:第四線段
CP1:第一轉折點
CP2:第二轉折點
CP3:第三轉折點
θ 1:第一參考角
θ 2:第二參考角
θ 3:第三參考角
Claims (12)
- 一種透鏡,包含: 相對的一底部以及一頂部;該底部凹設有一第一表面,該頂部凹設有一第二表面,且該底部以及該頂部的邊緣以一第三表面連接;於該底部定義一參考點,並定義通過該參考點的一水平軸以及一垂直軸,該水平軸平行於該底部,該垂直軸垂直於該底部,且該水平軸以及該垂直軸定義一假想平面; 其中,該第一表面於該假想平面投影為依序連接的一第一線段、一第二線段、一第三線段以及一第四線段,該第一線段延伸自該水平軸,且該第四線段連接於該垂直軸,該第一線段以及該第二線段連接於一第一轉折點,該第二線段與該第三線段連接於一第二轉折點,該第三線段與該第四線段連接於一第三轉折點;該第一線段、該第二線段、該第三線段以及該第四線段滿足下列關係: 該參考點至該第一轉折點的方向,與該水平軸之間形成一第一參考角,該第一參考角的角度小於15度; 該參考點至該第二轉折點的方向,與該水平軸之間形成一第二參考角,該第二參考角的角度介於2度至40度;以及 該參考點至該第三轉折點的方向,與該水平軸之間形成一第三參考角,該第三參考角的角度介於20度至88度。
- 如請求項1所述的透鏡,其中,該第一參考角小於5度,該第二參考角介於5度至30度,且該第三參考角介於30度至85度。
- 如請求項1所述的透鏡,其中,該參考點至該第二表面的一外週緣的方向,與該水平軸之間形成一第四參考角,該第四參考角與該第二參考角的角度差值,介於正負10度之間。
- 如請求項3所述的透鏡,其中,該角度差值為零。
- 如請求項1所述的透鏡,其中,該第二線段的平均斜率小於該第一線段的平均斜率,該第三線段的平均斜率大於該第二線段的平均斜率,且第四線段的平均斜率小於該第三線段的平均斜率。
- 如請求項1所述的透鏡,其中,該第一線段為一曲線或一直線,第二線段為一直線或一曲線,該第三線段為一直線或一曲線,且該第四線段為一直線。
- 如請求項1所述的透鏡,其中,該第一表面具有一上頂點,該第二表面具有一下頂點,該上頂點及該下頂點分別位於該垂直軸,且保持一間隔距離。
- 如請求項7所述的透鏡,其中,以該垂直軸為對稱軸,該第一表面於該假想平面投影形成另一組線段,與該第一線段、該第二線段、該第三線段以及該第四線段為軸對稱,且該兩組線段於該上頂點連接。
- 如請求項7所述的透鏡,其中,該第一表面與該第二表面是以該垂直軸為依據輻射對稱型態。
- 如請求項7所述的透鏡,其中,定義垂直於該垂直軸以及水平軸的一縱向軸,該第一表面呈現長凹槽型態,且為以該縱向軸為依據的軸對稱型態。
- 如請求項1所述的透鏡,其中,以該參考點為一座標原點,該第一轉折點、該第二轉折點、該第三轉折點以及該第四轉折點於該水平軸與該垂直軸的一座標值關係,為該垂直軸的該座標值等該水平軸的座標值的m倍,且該第一轉折點的m值為0.03~0.13,該第二轉折點的m值為0.17~0.87,該第三轉折點的m值為1.7~8.51。
- 一種發光裝置,包含: 一基板,具有一上表面; 一光源,設置於該基板的該上表面;以及 如請求項1至請求項11任一項所述的透鏡,其中,該透鏡的該底部固定於該基板,並覆蓋於該光源,且該位於該參考點。
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