TW202004542A - 一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法和裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明提供了一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法和裝置，所述方法應用於同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖的裝置，所述裝置包括顯示單元和感測單元，所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊；所述方法包括以下步驟：接收用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊；當檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡相匹配時，判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則完成螢幕解鎖，否則螢幕解鎖失敗。這樣，有效提升了螢幕解鎖的安全性，並增強了用戶操作體驗。
Description
本發明涉及電子設備領域，特別涉及一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法和裝置。
隨著科技的發展和技術的進步，觸控顯示面板已經廣泛應用在需要進行人機交互介面的裝置中，如工業電腦的操作螢幕、平板電腦、智慧手機的觸控螢幕等等。由於這些裝置在使用過程中通常伴隨著大量的使用者資訊，因而使用者資訊安全的保護就顯得尤為重要。在眾多的資訊安全保護方式中，指紋識別加密是其中的重要一項。
目前，電子設備的開機解鎖通常包括滑屏解鎖和指紋解鎖兩者方式。滑屏解鎖是通過將用戶輸入的滑動軌跡與預先設置的滑動軌跡進行比對，若匹配則完成電子設備解鎖，由於滑屏解鎖方式並未引入使用者生理特徵資訊識別，存在著較大的安全隱患。指紋解鎖是將當前採集到的使用者指紋資訊與預先存儲好的指紋資訊進行比對，若兩者匹配則完成電子設備解鎖，相較于滑屏解鎖而言，指紋解鎖的方式安全性得到了很大的提升。
然而，目前的顯示面板技術，不論是液晶顯示幕(LCD)、有源陣列式有機發光二極體(AMOLED)顯示幕、或微發光二極體(micro-LED)顯示幕，皆是以薄膜電晶體(TFT)結構掃描並驅動單一像素，以實現屏上像素陣列之顯示功能。形成TFT開關功能的主要結構為半導體場效電晶體 (FET)，其中熟知的半導體層主要材料有非晶矽、多晶矽、氧化銦鎵鋅(IGZO)、或是混有碳納米材料的有機化合物等等。由於光偵測二極體(Photo Diode)的結構亦可採用此類半導體材料製備，且生產設備也相容於TFT陣列的生產設備，所製備的光敏二極體又可直接與TFT集成並以TFT實現對光敏二極體進行掃描與驅動功能，因此近年來TFT光偵測二極體開始以TFT陣列製備方式作生產，並廣泛應用在X光感測平板器件，如中華人民共和國專利CN103829959B、CN102903721B所描述。
相較于傳統結晶材料製備的影像感測器件，上述TFT光偵測陣列薄膜材料之光禁帶寬度(Band gap)皆以可見光為主要吸收範圍，因此較易受環境可見光之干擾形成雜訊，導致信號雜訊比(SNR)較低。受限於此，TFT光感測陣列初期的應用乃是以X光感測平板器件應用為主，主要原因即為X光屬短波長光且准直性高，X光影像先入射到感測平板上配置之光波長轉換材料，將X光影像轉換較長波長之可見光再直接於感測平板內部傳輸至TFT光偵測陣列薄膜上，避免了周圍環境之可見光形成雜訊干擾，如上述中華人民共和國專利CN103829959B、CN102903721B所描述。
若將此類熟知的TFT可見光偵測陣列薄膜配置在顯示幕結構內，可作為將光偵測功能集成在顯示幕之一種實現方案。然而受限於顯示幕的厚度以及顯示像素開口孔徑等因素，光偵測二極體陣列感測的真實影像已是發生繞射等光學失真之影像，且因光學信號穿透顯示幕多層結構，並且在光學顯示信號、觸摸感測信號並存的情況下，欲從低信噪比場景提取有用光學信號具備很高的困難度，技術困難等級達到近乎單光子成像之程度，必須藉由藉由相關演算法依光波理論運算重建方能解析出原始影像。為了避開此一技術難點，熟知將可見光感測器薄膜配置在原顯示幕結構內會需要額外的光學增強器件，或是僅將光感測器薄膜配置在顯示幕側邊內，利用非垂直反射到達側邊之光線進行光影像重建，例如：中華人民共和國專利CN101359369B所述。然而雖然此類技術可避開了弱光成像的技術難點，額外的光學器件增加了光偵測顯視屏的厚度，在顯視屏側邊的配置方式則無法滿足使用者的全屏體驗。
簡言之，目前的電子設備對於使用者指紋資訊的採集依然是通過相應感測器實現，用戶只能將手指放置在螢幕之外的特定位置（例如蘋果手機HOME鍵），以便使用者指紋資訊能夠被下方的感測器所採集，操作位置固定，用戶感官體驗差。
綜上所述，提供一種在用戶進行滑屏解鎖的同時，同步進行使用者指紋資訊認證的螢幕解鎖方案，就顯得尤為必要。
為此，需要提供一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖的技術方案，用於解決現有的螢幕解鎖方式存在著安全性不高、用戶操作空間有限、體驗差等問題。
為實現上述目的，發明人提供了一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，所述方法應用於同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖的裝置，所述裝置包括顯示單元和感測單元，所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊；所述方法包括以下步驟：
接收用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊；
當檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡相匹配時，判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則完成螢幕解鎖，否則螢幕解鎖失敗。
進一步地，所述感測單元為光偵測陣列薄膜，所述光偵測陣列薄膜包括PxQ個像素偵測區，每一像素偵測區對應設置一像素偵測結構，每一像素偵測結構包括一個以上薄膜電晶體所組成的一組用於像素薄膜電路以及一光偵測單元；所述光偵測單元包括光敏二極體或光敏電晶體。
進一步地，所述光偵測薄膜為光敏二極體所形成的陣列，所述光敏二極體包括光敏二極體感應區，所述光敏二極體感應區內設置有光敏二極體層，所述光敏二極體層包括p型半導體層、i型半導體層、n型半導體層，p型半導體層、i型半導體層、n型半導體層自上而下堆疊設置，所述i型半導體層為微晶矽結構或非結晶矽化鍺結構。
進一步地，所述光偵測薄膜為光敏電晶體所形成的陣列，所述光敏電晶體包括光敏電晶體感應區，所述光敏電晶體感應區設置有光敏薄膜電晶體，所述光敏薄膜電晶體包括柵極、源極、漏極、絕緣層、光吸收半導體層；所述光敏薄膜電晶體為倒立共平面式結構，所述倒立共平面式結構包括：所述柵極、絕緣層、源極縱向自下而上設置，所述漏極與所述源極橫向共面設置；絕緣層包裹所述柵極，以使得柵極與源極、柵極與漏極之間均不接觸；源極和漏極之間間隙配合，源極和漏極橫向之間形成光敏漏電流通道，所述光吸收半導體層設置於光敏漏電流通道內。
進一步地，所述指紋識別區包括多個指紋識別子區域，每一指紋識別子區域的下方對應設置一感測單元；所述方法包括：
接收使用者對指紋識別子區域的啟動指令，開啟所述指紋識別子區域的下方的感測單元；
或者，接收使用者對指紋識別子區域的關閉指令，關閉所述指紋識別子區域的下方的感測單元。
進一步地，所述顯示單元為自發光二極體顯示幕，所述裝置還包括蓋板玻璃、觸控式螢幕、光學膠、光學器件；
所述蓋板玻璃、觸控式螢幕、自發光二極體顯示幕、光學膠、光學器件、感測單元自上而下設置；所述觸控式螢幕貼合于蓋板玻璃的下表面，所述光學膠貼合于自發光二極體顯示幕的下表面；所述光學膠的折射率小於蓋板玻璃的折射率，所述自發光二極體顯示幕包括多個顯示像素；所述裝置還包括處理器；
所述接收用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊包括：
處理器在觸控式螢幕偵測到使用者手指的觸控信號時，發送顯示驅動信號至自發光二極體顯示幕；
顯示像素在接收到處理器顯示驅動信號時，發出光信號，所述光信號在蓋板玻璃的上表面發生反射，形成反射光信號；
光學膠改變反射光信號的光路，對反射光信號中在光學膠的入射角大於第一臨界角的反射光信號進行過濾，得到第一反射光信號，並使得第一反射光信號進入光學器件；所述第一臨界角為反射光信號能夠在光學膠表面發生全反射的臨界角；
光學器件改變第一反射光信號的光路，對第一反射光信號中在光學器件表面的入射角小於第一臨界角的第一反射光信號進行過濾，得到第二反射光信號，並使得第二反光信號以小於預設角度的入射角進入感測單元；所述第二臨界角為反射光信號能夠在蓋板玻璃上表面發生全反射的臨界角；
處理器根據感測單元接收的第二反射光信號生成指紋資訊並輸出。
進一步地，所述自發光二極體顯示幕包括MxN個顯示像素；所述方法包括：
處理器根據預設時序電信號依次驅動顯示幕上單個顯示像素或顯示像素陣列發出光信號，以在蓋板玻璃的上表面形成光點或光點組合掃描使用者手指部位，形成反射光信號。
發明人還提供了一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖裝置，所述裝置包括顯示單元、感測單元、處理器和電腦程式，所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊；
所述感測單元用於接收使用者在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊；
所述電腦程式被處理器執行時實現以下步驟：
當檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡相匹配時，判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則完成螢幕解鎖，否則螢幕解鎖失敗。
進一步地，所述顯示單元為自發光二極體顯示幕，所述裝置還包括蓋板玻璃、觸控式螢幕、光學膠、光學器件；
所述蓋板玻璃、觸控式螢幕、自發光二極體顯示幕、光學膠、光學器件、感測單元自上而下設置；所述觸控式螢幕貼合于蓋板玻璃的下表面，所述光學膠貼合于自發光二極體顯示幕的下表面；所述光學膠的折射率小於蓋板玻璃的折射率，所述自發光二極體顯示幕包括多個顯示像素；
所述處理器用於在觸控式螢幕偵測到使用者手指的觸控信號時，發送顯示驅動信號至自發光二極體顯示幕；
所述顯示像素用於在接收到處理器顯示驅動信號時，發出光信號，所述光信號在蓋板玻璃的上表面發生反射，形成反射光信號；
所述光學膠用於改變反射光信號的光路，對反射光信號中在光學膠的入射角大於第一臨界角的反射光信號進行過濾，得到第一反射光信號，使得第一反射光信號進入光學器件；所述第一臨界角為反射光信號能夠在光學膠表面發生全反射的臨界角；
所述光學器件用於改變第一反射光信號的光路，對第一反射光信號中在光學器件表面的入射角小於第一臨界角的第一反射光信號進行過濾，得到第二反射光信號，並使得第二反射光信號以小於預設角度的入射角進入感測單元；所述第二臨界角為反射光信號能夠在蓋板玻璃上表面發生全反射的臨界角；
所述處理器用於根據感測單元接收的第二反射光信號生成指紋資訊並輸出。
進一步地，所述光學器件包括遮光式光學器件和相位變化式光學器件，所述遮光式光學器件包括週期性針孔陣列、或是非週期性針孔陣列，所述相位變化式光學器件包括折射率呈週期性變化的光子晶體結構或微透鏡陣列結構、或是折射率呈非週期性變化的漫散射結構。
區別于現有技術，上述技術方案所述的同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法和裝置，所述方法應用於同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖的裝置，所述裝置包括顯示單元和感測單元，所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊；所述方法包括以下步驟：接收用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊；當檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡相匹配時，判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則完成螢幕解鎖，否則螢幕解鎖失敗。這樣，在用戶進行滑屏解鎖操作時，同步進行使用者指紋資訊的採集和認證，一方面採用雙重認證的方式有效提升了螢幕解鎖的安全性，另一方面使用者無需在特定按鍵上進行操作即可實現指紋資訊的採集，有效提升了用戶體驗。
為詳細說明技術方案的技術內容、構造特徵、所實現目的及效果，以下結合具體實施例並配合附圖詳予說明。
如圖13所示，為本發明的一實施例涉及的同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法的流程圖。所述方法應用於同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖的裝置，所述裝置包括顯示單元和感測單元。所述裝置為具有觸摸顯示幕的電子設備，如是手機、平板電腦、個人數位助理等智慧移動設備，還可以是個人電腦、工業裝備用電腦等電子設備。
所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊。所述顯示單元乃是以有源陣列薄膜電晶體作為掃描驅動與傳輸資料的顯示幕，包括AMOLED顯示幕、LCD液晶顯示幕、微發光二極體顯示幕、量子點顯示幕、或是電子墨水顯示幕。
在本實施方式中，感測單元的覆蓋的範圍與觸控顯示幕的大小相適配，這樣可以使得無論用戶手指在顯示幕上如何滑動，感測單元都可以捕捉到使用者的指紋資訊。所述滑動軌跡為使用者手指在顯示單元上的運動軌跡，可以是單指操作，也可以是多指操作。用戶手指的運動軌跡包括但不限於線條、圖形、漢字等。當滑動軌跡是用戶通過多個手指進行操作時，若多個手指在滑動過程中同時處於指紋識別區內，則感測單元會對這些手指對應的指紋資訊均進行採集。
在另一些實施例中，感測單元還可以為多個，只需滿足多個感測單元拼接成與顯示單元相適配的大小、並置於顯示單元的下方即可。相較於大面積的感測單元，小面積更加容易生產加工，這樣有利於節約生產成本。
在另一些實施例中，優選的，指紋識別區還可以是小於顯示幕大小的一塊區域，例如占顯示幕整體大小的1/2或1/4，優選的，指紋識別區的形狀為矩形，矩形的大小位於顯示單元的中心，感測單元的大小與指紋識別區大小相適配。在這一實施例中，當用戶手指在顯示幕上滑動過程中，若手指位於指紋識別區之外，則指紋資訊不會被識別，因為指紋識別區之外的區域並未設置感測單元；當用戶手指滑動至指紋識別區內時，感測單元將對使用者的指紋資訊進行捕捉。由於感測單元只占顯示單元的部分面積，相較于全屏覆蓋的方式，可以有效節約生產成本。
所述方法包括以下步驟：
首先進入步驟S1301接收使用者在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊。
在某些實施例中，所述顯示單元包括觸控單元；所述步驟“接收使用者手指在顯示單元上的滑動軌跡”包括：感測單元或觸控單元接收使用者手指在顯示單元上的滑動軌跡，生成滑動軌跡資訊，並對所述滑動軌跡資訊進行存儲。所述觸控單元可以為觸控式螢幕，所述觸控式螢幕可以用於感知用戶在其上的觸摸操作，所述觸摸操作包括滑動軌跡操作。滑動軌跡資訊和指紋資訊既可以均由感測單元獲取得到，也可以是滑動軌跡資訊由觸控單元識別獲得，指紋資訊由感測單元捕捉得到。簡言之，對於具有觸控式螢幕的終端而言，滑動軌跡資訊由感測單元或觸控單元捕捉獲得，有效提高了裝置的應用範圍。
而後進入步驟S1302判斷檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡是否相匹配，若是則進入步驟S1303判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則進入步驟S1304完成螢幕解鎖。若滑動軌跡與預設滑動軌跡不匹配，或者採集到的指紋資訊與預設指紋資訊不匹配，則進入步驟S1305螢幕解鎖失敗。
所述預設指紋資訊為使用者事先錄入存儲的指紋資訊，用於與使用者執行螢幕解鎖操作時採集到的指紋資訊進行比對。預設指紋資訊可以存儲於裝置的存儲單元，如手機的記憶體、電腦的硬碟中，也可以存儲於伺服器的存儲單元中，當需要獲取預設指紋資訊時，只需讓裝置與伺服器建立通訊連接，而後再從伺服器獲取預設指紋資訊即可。所述通訊連接包括有線通訊連接或無線通訊連接。
指紋資訊的比對可以通過指紋識別演算法來實現，指紋識別演算法可以實現存儲於裝置的存儲單元中，當感測單元採集到指紋識別區上的指紋資訊後，裝置的處理器調用存儲單元中的指紋識別演算法，將同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊進行比對，進而判斷兩者是否匹配。指紋識別演算法包括對指紋圖像進行預處理、資料特徵提取、特徵匹配、指紋識別等步驟，可以用多種演算法來實現，這些演算法都是成熟的現有技術，現已被應用于各個加密解密領域，此處不再展開贅述。
在本實施方式中，所述方法還包括：當判定滑動軌跡與預設滑動軌跡不匹配，或者採集到的指紋資訊與預設指紋資訊不匹配時，發出提示資訊。所述提示資訊包括聲音提示資訊、圖像提示資訊、光線提示資訊、視頻提示資訊中的一種或多種。以指紋資訊不匹配為例，“採集到的指紋資訊與預設指紋資訊不匹配”通常包含以下兩種情況：一種是指紋識別失敗，即存儲單元中預先存儲了該指紋資訊，但是在同步採集使用者的指紋資訊時，由於使用者手指端部與螢幕接觸不是很充分，使得所採集的指紋資訊並不是很全，導致指紋識別失敗；另一種情況是存儲單元中並未存儲有與該指紋資訊相匹配的預設指紋資訊。
針對第一種情況，裝置在未識別到與同步採集的指紋資訊相匹配的預設指紋資訊時，會發出聲音提示資訊或圖像提示資訊。所述聲音提示資訊包括提示使用者再次輸入指紋（如再次執行滑屏操作）的語音提示資訊，所述圖像提示資訊包括提示使用者再次輸入指紋（如再次執行滑屏操作）的彈窗提示資訊。當同步採集到使用者輸入的指紋資訊的次數超過預設次數，且均未識別到與同步採集的指紋資訊相匹配的預設指紋資訊時，則認定存儲單元中並未存儲有該指紋資訊相匹配的預設指紋資訊，即上述所說的另外一種情況。
針對第二種情況，即存儲單元中並未存儲有與該指紋資訊相匹配的預設指紋資訊時，裝置同樣可以發出圖像提示資訊，例如彈窗提示使用者當前指紋資訊未錄入；也可以發出視頻提示資訊，所述視頻提示資訊中包含了如何錄入新的指紋資訊的教程，使用者可以依據視頻提示資訊完成新的指紋資訊的錄入。當然，提示資訊還可以通過振動、光感提示等方式來實現。簡言之，提示資訊只是為了讓使用者儘快瞭解到“沒有與本次同步採集的指紋資訊相匹配的指紋資訊”的情況，至於提示資訊形式的選擇可以根據不同廠家的設置進行相應的調整。
在某些實施例中，當顯示單元為LCD液晶顯示幕或電子墨水顯示幕時，所述感測單元的下方還設置有背光單元，所述感測單元設置於背光單元和LCD液晶顯示幕之間、或者設置於背光單元和電子墨水顯示幕之間。由於LCD液晶顯示幕不屬於自發光元件，因而在安裝時需要在感測單元的下方增加背光單元。背光單元可以為LCD背光模組，也可以為其他具有自發光功能的電子元件。在另一些實施例中，當所述顯示單元為AMOLED顯示幕時，由於OLED顯示幕屬於自發光元件，因而無需設置背光單元。通過上述兩種方案的設置，可以有效滿足不同廠家的生產需求，提高終端的適用範圍。
在某些實施例中，所述指紋識別區包括多個指紋識別子區域，每一指紋識別子區域的下方對應設置一感測單元。所述裝置還包括感測單元控制電路，所述方法還包括：接收使用者對指紋識別子區域的啟動指令，感測單元控制電路開啟所述指紋識別子區域的下方的感測單元，以及接收使用者對指紋識別子區域的關閉指令，感測單元控制電路關閉所述指紋識別子區域的下方的感測單元。
以指紋識別區的數量為兩個為例，兩個指紋識別子區域可以一上一下或一左一右均勻分佈於螢幕中，也可以以其他排列方式分佈於螢幕中。下面對具有兩個指紋識別子區域的終端的應用過程做具體說明：在使用過程中，接收使用者觸發的啟動信號，將兩個指紋識別子區域下方的光偵測器件（即感測單元）都設置成開啟狀態。優選的實施例中，兩個指紋識別子區域構成的範圍覆蓋了整個顯示幕，這樣可以保證當兩個指紋識別子區域下方的光偵測器件都設置成開啟狀態時，進入顯示幕的光信號可以被下方的TFT影像感測陣列薄膜（即感測單元）所吸收，從而捕捉到使用者的指紋資訊。
在其他實施例中，兩個指紋識別子區域構成的範圍也可以占整個顯示幕面積的2/3、3/4等。當然，使用者也可以根據自身喜好，設置某一個指紋識別子區域下方的光偵測器件開啟，另一個指紋識別子區域下方的光偵測器件關閉。在不需要對終端進行操作時，還可以將兩個指紋識別子區域下方的光偵測器件均設置為關閉狀態。簡言之，各個指紋識別子區域下方的光偵測器件下方處於開啟或關閉，可以根據使用者自身喜好進行設置。
如圖1所示，觸摸顯示幕自上而下包括蓋板玻璃、觸控式螢幕、自發光二極體顯示像素組合，在觸摸顯示幕的下方可以置入光偵測陣列薄膜（即感測單元），從而實現對使用者的生理特徵（如指紋資訊）進行偵測識別。以指紋識別為例，圖1所示的結構在實現指紋資訊採集時至少存在著以下問題： (1) 位於手指正下方的顯示像素照射到手指後，在蓋板玻璃的上表面會發生光穿透、光反射以及光散射等不同光學現象，不論是指紋的凸紋或是凹紋，真正能形成亮、暗的有效反射光信號非常微弱，要區分出指紋的凸紋或是凹紋更是難上加難；(2) 受限於蓋板玻璃、觸控式螢幕、顯示幕等結構的材料與相關厚度，即使反射光信號夠強，當經過了蓋板玻璃、觸控式螢幕、顯示幕，到達光偵測陣列薄膜後，光強度強度已經嚴重減弱（通常削減了95%以上），同時反射光信號在經過顯示幕的TFT開口也會發生光學失真現象，影響了指紋資訊的採集； (3) 自發光二極體顯示幕的每個顯示像素其發光准直性低，即發光角度很廣，這些大角度發光容易與相鄰或間隔的像素光源所要照射的指紋發生干擾，導致採集到的指紋資訊不準確。
為了解決上述光偵測結構在偵測生理特徵資訊時，由於進入光偵測陣列薄膜的反射光信號強度削減嚴重，導致捕捉的生理特徵資訊紋路區分不明顯、資訊採集不準確的問題，本發明提供了一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖裝置，所述裝置能夠應用於偵測、識別生理特徵資訊，如指紋、掌紋等。
如圖7所示，所述裝置自上而下包括蓋板玻璃、觸控式螢幕、自發光二極體顯示幕2、光學膠4、光學器件5、光偵測陣列薄膜3；所述觸控式螢幕貼合于蓋板玻璃的下表面，所述光學膠4貼合于自發光二極體顯示幕2的下表面；所述光學膠4的折射率小於蓋板玻璃的折射率，所述自發光二極體顯示幕包括多個顯示像素。為了便於說明，本發明的所有附圖將蓋板玻璃和觸控式螢幕簡化為一體，記為蓋板玻璃/觸控式螢幕1，在描述光路變化時，將光路在蓋板玻璃/觸控式螢幕1表面發生的變化簡化為光路在蓋板玻璃表面所發生的變化。
當將光偵測陣列薄膜配置在顯示幕結構的下方時，藉由單個顯示像素或顯示像素陣列（可以是一行或一列顯示像素，也可以是週期性變化或非週期變化排列的多個顯示像素）作為光源照射到蓋板玻璃上方的指紋後，光線將發生反射。由於照射到指紋凸紋的光線大部分被凸紋皮膚所吸收，而凹紋與蓋板玻璃之間的空氣間隙能讓照射到凹紋的光線部分反射，因此光偵測陣列薄膜的光敏像素能夠接收到指紋凹、凸紋的不同亮、暗特徵，光偵測陣列薄膜可以根據反射光信號表現出的亮暗特徵重構出指紋的凸紋與凹紋影像。
請參閱圖2，本發明的顯示幕為自發光二極體顯示幕，顧名思義，其是由自發光二極體像素陣列所組成的顯示幕，如有機發光二極體(OLED)顯示幕、微發光二極體(micro-LED)顯示幕等。所述顯示幕包括MxN個顯示像素，為了便於對每個顯示像素發出光信號的光路變化進行詳細說明，本發明將顯示幕上第N行第M列的顯示像素記為Pmn，其他顯示像素的光路變化同理可得。為了更好地描述顯示像素的光路變化，本發明涉及的自發光二極體顯示幕的厚度小於蓋板玻璃厚度的1/10，且顯示幕與蓋板玻璃的折射率較為接近，因而在計算光路變化時，反射光信號在顯示幕表面發生的變化相較于蓋板玻璃而言，可以忽略不計，以便簡化說明。
請參閱圖3，為本發明的一實施例涉及的單一顯示像素發光反射的光路變化示意圖。圖3中上方圓圈表示單一顯示像素Pmn發出橫截面的半徑小於RC
的光束的俯視圖，半徑為RC
的光線對應到蓋板玻璃上表面的入射角為θc，如圖3中虛線對應的位置。
由於蓋板玻璃折射率n2 大約為 1.5，空氣折射率n1 大約為1.0，因此當第(m , n)個顯示像素的光源以大角度向上照射時，照射到蓋板玻璃表面入射角度θ大於θc（θc= sin-1(n1/n2) ）的光線會發生全反射。假設θc對應到圓座標r軸的投影長度為Rc，在以所述第(m , n)個發光顯示像素位置Pmn為原點、以Rc為半徑的虛線圓外的光線，為能夠在蓋板玻璃上表面發生全反射的光射線。當在蓋板玻璃上表面入射角度大於θc的光射線照射在接觸于蓋板玻璃上表面的指紋的凸紋時，由於凸紋肌膚的折射率已經破壞了原有全反射的條件，導致相對凸紋位置的反射信號無法在蓋板玻璃內發生全反射，使得部分反射光信號通過蓋板玻璃下表面進入光偵測陣列薄膜形成亮紋。相對地，由於指紋的凹紋與蓋板玻璃之間存在空氣間隙，因此對於凹紋位置的反射光信號會維持全反射，而無法抵達光偵測陣列薄膜而形成暗紋。
簡言之，相較於在圖3虛線圓以內的光射線，即蓋板玻璃的上表面的入射角度大於θc的光射線，更能作為偵測有空氣間隙的指紋凹紋區域。因此一個有效的光學式顯示幕下指紋識別技術，需要以 Rc 作為特徵尺寸，以有效的照光組合去照射或是掃描蓋板玻璃上的手指部位，才可得到針對指紋影像的高敏感反射區。假設觸摸蓋板玻璃的厚度為h，則Rc = h‧tan-1(θc)。
當顯示幕上的第(m , n)個顯示像素的光源發出的光束以大角度向上照射時，雖然照射到蓋板玻璃的上表面的入射角度θ大於θc的射線
（θc= sin-1(n1/n2)），對間隔著空氣間隙的指紋凹紋會有較為精准的全反射，然而照射到蓋板玻璃表面過大的入射角度，全反射回到光偵測陣列薄膜的光傳遞路徑也越來越長，這將導致有用的光影像資訊也衰減得更加嚴重，當這一部分反射光信號到達到光偵測陣列薄膜時，已成為不帶有可參考價值的雜訊干擾。因此也需要定義出第(m , n)個顯示像素作為光源照射位於蓋板玻璃上方的指紋時，最大可用資訊的光偵測範圍。
請參閱圖4和圖5，由於光學膠的折射率（n3）的折射率小於蓋板玻璃的折射率（n2），因此在蓋板玻璃的上表面發生第一全反射（以下簡稱“全反射1”）進入光學膠表面的光射線中，入射角度φ大於φc的射線會在光學膠表面發生第二全反射（以下簡稱“全反射2”），φc= sin-1(n3/n2)。假設φc對應到圓座標r軸的投影長度為Rc’ = h‧tan-1(φc)，在以所述第(m , n)個顯示像素位置Pmn為原點、2Rc’為半徑的虛線圓外的光線，即為能夠在光學膠表面發生全反射2的光射線。而對於能夠在光學膠表面發生全反射2的光射線，相較於在以2Rc’為半徑的虛線圓以內的光射線而言，由於反射光信號路徑過長，已經不帶有具備高精度指紋資訊之光射線，因此將被折射率n3 ＜ n2 的光學膠以全反射2的方式過濾掉。
綜合圖4和圖5可知，對於單個顯示像素而言，其出的光束中能夠發生全反射1與全反射 2的光束，是具備較高精度指紋資訊對應的光信號。以此為依據，可以定義出在實現屏下指紋識別技術時，以自發光二極體顯示幕的第(m , n)個顯示像素作為光源照射指紋後，光偵測陣列薄膜可以採集到相對靈敏與有效指紋區域，乃是以所述第(m , n)個顯示像素位置Pmn為原點、Rc至2Rc’範圍為半徑的虛線同心圓環狀帶光束區域，若投影到圓座標r方向，則是Rc ＜ r ＜ 2Rc’的區域範圍，即為光偵測陣列薄膜能夠從自發光二極體顯示幕的單一顯示像素發出的光源中取得的最適合的指紋光學資訊，具體如圖6所示。
對於大於2Rc’區域以外的光射線，如前所述，可以採用相應折射率的光學膠進行過濾，即使得大於2Rc’區域以外的光射線在光學膠表面發生全反射，而不會進入到光偵測陣列薄膜中，進而影響到指紋資訊影像的採集。而對於小於Rc區域的光射線，本發明是通過在光偵測陣列薄膜上方設置光學器件的方式進行過濾。在本實施方式中，所述光學器件4包括遮光式光學器件和相位變化式光學器件，所述遮光式光學器件包括週期性針孔陣列、或是非週期性針孔陣列，所述相位變化式光學器件包括折射率呈週期性變化的光子晶體結構或微透鏡陣列結構、或是折射率呈非週期性變化的漫散射結構。
優選的，所述針孔的形狀可以是圓孔或方孔，光學器件可以通過編碼孔徑(coded aperture)的壓縮取樣方法得到，以指紋識別為例，指紋資訊識別僅需亮、暗兩個灰階的應用要求，通過對空間頻率的濾波設計 (在本實施例中，具體是需要過濾顯示像素照射到蓋板玻璃表面θ＜θc 以及θ＞φc 的光射線) ，將光學器件的編碼孔徑設計為具有導光功能之器件，可以實現在Rc ＜ r ＜ 2Rc’區域高解析度的亮、暗光信號擷取，以及使得經過光學器件的反射光信號以盡可能垂直方向（入射角度小於預設角度）射入光偵測陣列薄膜。編碼孔徑(coded aperture)的壓縮取樣方法的參考文獻如下：Stephen R. Gottesman 所著“Coded apertures：past, present, and future application and design,”(Proceeding of SPIE, Vol. 6714, 2007) ，本篇文章以簡單的一維模型說明編碼孔徑可廣泛應用在需要高解析度、廣視角、的薄型光學器件的設計方法。簡言之，通過編碼孔徑(coded aperture)的壓縮取樣方法，可以根據預定的參數要求（即要求通過光學器件後過濾掉r＜Rc區域範圍的光射線）設計出相應的光學器件，具體步驟為現有技術，此處不再贅述。
在另一些實施例中，光學器件也可以採用數位全息術設計得到，通過數位全息術 (或稱計算器產生全息術)，可以根據預定的參數要求（即要求通過光學器件後過濾掉r＜Rc區域範圍的光射線）設計出相應的光學器件，具體步驟可以參考如下文獻：M. A. Seldowitz, J. P. Allebach, and D.W. Sweeney, “Synthesis ofdigital holograms by direct binary search,” Appl. Opt. 26, 2788–2798 (1987)。本篇文獻提出可以使用計算器以特定演算法設計出相應的數位全息術光學器件，進而實現具有高解析度的輸出影像。
在本實施方式中，所述裝置自上而下包括蓋板玻璃、觸控式螢幕、自發光二極體顯示幕、光學膠、光學器件、光偵測陣列薄膜；所述觸控式螢幕貼合于蓋板玻璃的下表面，所述光學膠貼合于自發光二極體顯示幕的下表面；所述光學膠的折射率小於蓋板玻璃的折射率，所述自發光二極體顯示幕包括多個顯示像素；所述裝置還包括處理器；所述方法包括以下步驟：
首先進入步驟S801處理器在觸控式螢幕偵測到使用者手指的觸控信號時，發送顯示驅動信號至自發光二極體顯示幕。以指紋資訊識別為例，當觸控式螢幕檢測到用戶手指置於蓋板玻璃的上表面時，則觸發所述觸控信號。
而後進入步驟S802顯示像素在接收到處理器顯示驅動信號時，發出光信號，所述光信號在蓋板玻璃的上表面發生反射，形成反射光信號。由於顯示幕和蓋板玻璃具有一定的透光度，因而顯示像素發出的光信號在蓋板玻璃的上表面不僅會發生反射，也會發生透射，即直接透過蓋板玻璃的上表面進入到空氣中，而只有在蓋板玻璃的上表面發生反射的光信號才會最終進入到光偵測陣列薄膜時，進而形成對應的影像信號，因而本發明是針對反射光信號進行進一步篩選處理。
而後進入步驟803光學膠改變反射光信號的光路，對反射光信號中在光學膠的入射角大於第一臨界角的反射光信號進行過濾，得到第一反射光信號，並使得第一反射光信號進入光學器件。所述第一臨界角為反射光信號能夠在光學膠表面發生全反射的臨界角。簡言之，就是通過折射率小於蓋板玻璃的光學膠，過濾光線路徑過長的光信號，即r＞2Rc’區域的光射線。
而後進入步驟S804光學器件改變第一反射光信號的光路，對第一反射光信號中在光學器件表面的入射角小於第一臨界角的第一反射光信號進行過濾，得到第二反射光信號，並使得第二反光信號以小於預設角度的入射角進入感測單元（即光偵測陣列薄膜）。所述第二臨界角為反射光信號能夠在蓋板玻璃上表面發生全反射的臨界角。簡言之，就是通過光學器件過濾r＜Rc區域的光射線，並使得經過光學器件的光線（光線在坐標軸上對應的半徑r滿足Rc ＜ r ＜ 2Rc’）盡可能垂直地射入光偵測陣列薄膜，提高光通量以便指紋特徵資訊被更好地捕捉。
而後進入步驟S805處理器根據光偵測陣列薄膜接收的第二反射光信號生成指紋資訊並輸出。即針對每一個顯示像素發出的光束均擷取出滿足Rc ＜ r ＜ 2Rc’區域範圍內的光束，而後再對各個顯示像素在這一區域內的光信號進行信號疊加，重建出完整的生理特徵識別影像資訊（如指紋影像資訊）並輸出。
在某些實施例中，所述顯示幕包括MxN個顯示像素，所述方法包括：處理器根據預設時序電信號依次驅動顯示幕上單個顯示像素或顯示像素陣列發出光信號，以在蓋板玻璃的上表面形成光點或光點組合掃描指紋特徵部位，形成反射光信號。例如顯示幕上的顯示像素第一行為P11
，P12
… P1N
，第二行為P21
，P22
… P2N
，以此類推，第N行為PM1
，PM2
… PMN
。通過預設時序電信號，處理器可以是逐行、逐列驅動顯示幕上顯示像素，也可以是驅動週期性變化離散顯示像素（如先驅動第一行P11 、
P13 、
P15 ，
再驅動第二行P21 、
P23 、
P25
，再驅動第三行P31 、
P33 、
P35
,，以此類推），當然也可以依次驅動非週期變化排列的多個顯示像素。簡言之，驅動顯示幕上各個顯示像素發光的順序可以根據實際需要進行選擇。
在某些實施例中，所述光偵測陣列薄膜包括PxQ個像素偵測區，每一像素偵測區對應設置一像素偵測結構，每一像素偵測結構包括一個以上薄膜電晶體所組成的一組用於像素薄膜電路以及一光偵測單元；所述光偵測單元包括光敏二極體或光敏電晶體。對於每一個光偵測單元而言，有以下幾種實現方式：
實施例一：
所述TFT影像感測陣列薄膜（即光偵測陣列薄膜）為光敏二極體所形成的陣列，所述光敏二極體所形成的陣列包括光敏二極體感應區。現有的液晶顯示(LCD)面板或有機發光二極體(OLED)顯示面板，皆是以TFT結構驅動掃描單一像素，以實現面板上像素陣列的顯示功能。形成TFT開關功能的主要結構為半導體場效電晶體 (FET)，其中熟知的半導體層材料主要有非晶矽、多晶矽、氧化銦鎵鋅(IGZO)、或是混有碳納米材料之有機化合物等等。由於光感測二極體的結構亦可採用此類半導體材料製備，且生產設備也相容於TFT陣列的生產設備，因此近年來TFT光偵測二極體（即光敏二極體）開始以TFT陣列製備方式進行生產。現有的光敏二極體的具體結構可以參考美國專利US6943070B2、中華人民共和國專利 CN204808361U中對光偵測陣列薄膜結構的描述。TFT影像感測陣列薄膜的生產工藝與顯示面板TFT結構不同的是：原本在顯示面板的像素開口區域，在生產工藝上改為光感測區域。其TFT製備方式可以採用薄型玻璃為基材，亦可採用耐高溫塑性材料為基材，如美國專利US6943070B2所述。
現有的TFT影像感測陣列薄膜易受周圍環境光或者顯示幕像素所發出的可見光的反射、折射等因素影響，造成光學干擾，嚴重影響內嵌於顯示面板下方的TFT影像感測陣列薄膜的信號雜訊比（SNR），為了提高信號雜訊比，如圖9所示，本發明的光偵測單元做了進一步改進，使得改進後的TFT影像感測陣列薄膜可以偵測識別使用者身體部分反射回的紅外信號。具體結構如下：
所述光敏二極體層包括p型半導體層、i型半導體層、n型半導體層，p型半導體層、i型半導體層、n型半導體層自上而下堆疊設置，所述i型半導體層為微晶矽結構或非結晶矽化鍺結構。所述微晶矽結構為矽烷與氫氣通過化學氣相沉積成膜的半導體層，微晶矽的結構的結晶度大於40%，且其禁帶寬度小於1.7 eV。所述非結晶矽化鍺結構為矽烷、氫氣與鍺烷通過化學氣相沉積成膜的非結晶半導體層，且其禁帶寬度小於1.7 eV。
禁帶寬度(Band gap)是指一個帶隙寬度(單位是電子伏特(eV))，固體中電子的能量是不可以連續取值的，而是一些不連續的能帶，要導電就要有自由電子存在，自由電子存在的能帶稱為導帶（能導電），被束縛的電子要成為自由電子，就必須獲得足夠能量從價帶躍遷到導帶，這個能量的最小值就是禁帶寬度。禁帶寬度是半導體的一個重要特徵參量，其大小主要決定於半導體的能帶結構，即與晶體結構和原子的結合性質等有關。
在室溫下（300K），鍺的禁帶寬度約為0.66ev，矽烷中含有鍺元素，當摻入鍺元素後，會使得i型半導體層的禁帶寬度下降，當滿足小於1.7 eV時，說明i型半導體層可以接收可見光至紅外光（或近紅外光）波長範圍內的光信號。通過調整化學氣象沉積的GeH4濃度，可以將含有非晶或微晶矽化鍺結構的光敏二極體的操作波長範圍擴展到光波長 600nm 到2000 nm 的範圍。
實施例二：
在採用實施例一的基礎上，為了提高光電轉換之量子效率，非晶矽光電二極體也可採用雙結以上p型/i型/n型結構堆疊形成。該光電二極體第一結層p型/i型/n型材料仍然為非晶矽結構，第二結層以上p型/i型/ n型材料可以為微晶結構、多晶結構或是摻有可擴展光敏波長範圍之化合物材料。簡言之，可以採用多組p型/i型/n型結構上下堆疊來實現組成光敏二極體結構，對於每一個p型/i型/n型結構，則採用實施例一所描述的光敏二極體結構。
實施例三：
在採用實施例一或實施例二的基礎上，對於每一個p型/i型/n型結構而言，其所包含的p型半導體層可以為大於兩層的多層結構。例如p型半導體層為三層結構，自上而下包括第一p型半導體層（p1層）、第二p型半導體層（p2層）、第三p型半導體層（p3層）。其中，p1層可以採用非結晶結構且重摻雜硼（含硼濃度為標準工藝的兩倍以上）；p2和p3採用微晶結構，且正常摻雜硼（按照標準工藝濃度摻雜），依靠厚度減薄的 p2 層和p3層減少對光線的吸收，使得光線盡可能多地進入i層並被i層所吸收，提高光電轉換率；另一方面p2 層和p3層採用正常的硼摻雜可以有效避免由於p1 層的重摻雜導致劣化內建電位。當p型半導體層包括為其他層數的多層結構與此類似，此處不再贅述。
同樣的，n型半導體層也可以為大於兩層的多層結構。例如n型半導體層為三層結構，自上而下包括第一n型半導體層（n1層）、第二n型半導體層（n2層）、第三n型半導體層（n3層）。其中，n3層可以採用非結晶結構且重摻雜磷（含磷量為標準工藝兩倍以上）；n1和n2採用微晶結構，且正常摻雜磷（按照標準生產工藝），依靠厚度減薄的 n1 層和n2層減少對光線的吸收，使得光線盡可能多地進入i層並被i層所吸收，提高光電轉換率；另一方面n1 層和n2層採用正常的磷摻雜可以有效避免由於n3 層的重摻雜導致劣化內建電位。當n型半導體層包括為其他層數的多層結構與此類似，此處不再贅述。
實施例四：
TFT影像感測陣列薄膜（即光偵測陣列薄膜）為光敏電晶體所形成的陣列，所述光敏電晶體所形成的陣列包括光敏電晶體感應區，所述光敏電晶體感應區設置有光敏薄膜電晶體。如圖10所示，所述光敏薄膜電晶體包括柵極101、源極102、漏極103、絕緣層104、光吸收半導體層105；所述光敏薄膜電晶體為倒立共平面式結構，所述倒立共平面式結構包括：所述柵極101、絕緣層104、源極102縱向自下而上設置，所述漏極103與所述源極102橫向共面設置；絕緣層104包裹所述柵極101，以使得柵極101與源極102、柵極101與漏極103之間均不接觸；源極102和漏極103之間間隙配合，源極102和漏極103橫向之間形成光敏漏電流通道，所述光吸收半導體層105設置於光敏漏電流通道內。
一般藉由柵極電壓控制TFT操作在關閉狀態時，源極到漏極之間不會有電流通過；然而當TFT受光源照射時，由於光的能量在半導體激發出電子-空穴對，TFT結構的場效應作用會使電子-空穴對分離，進而使TFT產生光敏漏電流。這樣的光敏漏電流特性讓TFT陣列可應用在光偵測或光偵測之技術上。相較於一般採用TFT漏電流作光敏薄膜電晶體之器件，本發明以倒立共平面型場效電晶體結構將光吸收半導體層配置于最上方吸光層，大幅增加了光電子的激發，提高了光電轉換效率。
如圖12所示，為本發明一實施方式涉及的光偵測單元的製備方法的流程圖。所述方法用於製備實施例六的光敏薄膜電晶體（即光偵測單元），具體包括以下步驟：
首先進入步驟S1201在像素薄膜電晶體的基材上通過化磁控濺射鍍膜出柵極。像素薄膜電晶體的基材可以採用硬板，也可以採用柔性材料（如聚醯亞胺）；
而後進入步驟S1202在所述柵極的上方通過化學氣相沉積或是磁控濺射鍍膜出絕緣層；
而後進入步驟S1203在所述絕緣層的上方通過化學氣相沉積鍍膜出源極和漏極的n型摻雜半導體層，並通過磁控濺射鍍膜出源極和漏極的金屬層，通過黃光蝕刻工藝定義出預設結構的源極和漏極，得到源極和漏極橫向共面，且間隙配合，並使得源極和漏極橫向之間形成光敏漏電流通道；
而後進入步驟S1204在所述光敏漏電流通道內化學氣相沉積鍍膜出光吸收半導體層。
實施例五：
以熟知的場效電晶體結構而言，作為掃描驅動與資料傳輸開關的TFT 不需特別針對源極和漏極之間收集光電流的結構作設計；然而對場效電晶體應用在光敏漏電流的偵測上，如果被光線激發的電子-空穴對被場效分離後，受電場驅動的飄移(Drift)路徑太長，極有可能在光電子未能順利抵達電極之前，就已經與空穴作再結合(Recombination)，或是被光吸收半導體層本身的懸空鍵結(Dangling Bond)缺陷給捕獲，無法有效地貢獻作光偵測的光電流輸出。為了改善光敏漏電流受源極與漏極之間通道長度的影響，以達到可增加吸收光半導體面積卻不致於劣化光電轉換效率的目的，本實施例中對實施例四的源極和漏極進行一步改進，提出了一源極與漏極的新型結構。
如圖11所示，所述源極和漏極的數量均為多個，源極和源極之間相互並聯，漏極和漏極之間相互並聯；所述源極和漏極之間間隙配合，源極和漏極橫向之間形成光敏漏電流通道包括：相鄰的源極之間形成第一間隙，一個漏極置於所述第一間隙內，相鄰的漏極之間形成第二間隙，一個源極置於所述第二間隙內，源極和漏極之間交錯設置且間隙配合。每一源極與相鄰的漏極之間的距離小於電子飄移距離，所述電子飄移距離為電子在場效作用下能夠生存的距離。這樣，在每一個偵測像素裡，所屬同一像素的多個源極都相互並聯，且所屬同一像素的多個漏極也都相互並聯，可以有效降低光激發電子與空穴再複合的機率，提高了場效應作用下電極收集光電子的成功機率，最大化地改善了TFT漏電流光敏薄膜電晶體的光敏度。
在逐步製備實施例五的光敏薄膜電晶體（即光偵測單元）的過程，其大體步驟與製備實施例四的光敏薄膜電晶體類似。區別在於，在製備源極和漏極時，步驟S1203中“通過黃光蝕刻工藝定義出預設結構的源極和漏極，得到源極和漏極橫向共面，且間隙配合，並使得源極和漏極橫向之間形成光敏漏電流通道”包括：通過黃光蝕刻工藝定義出源極電極組和漏極電極組，每一個源極電極組包括多個源極，源極和源極之間相互並聯；每一個漏極電極組包括多個漏極，漏極和漏極之間相互並聯；相鄰的源極之間形成第一間隙，一個漏極置於所述第一間隙內，相鄰的漏極之間形成第二間隙，一個源極置於所述第二間隙內，源極和漏極之間交錯設置且間隙配合。
在某些實施例中，所述光偵測陣列薄膜用於接收偵測觸發信號，處於光偵測狀態，並接收偵測部位（如指紋、眼球、虹膜等）反射的光信號以捕捉使用者的偵測部位資訊；以及用於接收光源觸發信號，處於發出光源（如紅外光源）狀態。優選的，光源觸發信號與偵測觸發信號交替切換，並符合一預設頻率。以光偵測陣列薄膜為光敏二極體所形成的陣列為例，在實際應用過程中，可藉由藉由TFT作掃描驅動外加一偏壓（包括正向偏壓，或零偏壓或負偏壓）在p型/i型/ n型光電二極體之間，實現TFT影像感測陣列薄膜發出紅外光功能。
具體地，可交替在p型/i型/ n型紅外光敏二極體之間施加正向偏壓，或零偏壓或負偏壓，以觸發所述第一觸發信號或第二觸發信號。以紅外光敏二極體所形成的陣列有10列像素點陣為例，在第一週期內對p型/i型/ n型紅外光敏二極體施加正向偏壓，使得10列像素點陣均處於發出紅外光狀態；在第二週期內對p型/i型/ n型紅外光敏二極體施加零偏壓或負偏壓，使得10列像素點陣均處於紅外光偵測狀態，用於捕捉使用者眼球反射回的紅外光資訊，並生成相應的紅外圖像輸出；在第三週期內又對p型/i型/ n型紅外光敏二極體施加正向偏壓，使得10列像素點陣均處於發出紅外光狀態，反復交替，以此類推。進一步地，光源觸發信號（即第一觸發信號）與偵測觸發信號（即第二觸發信號）交替切換，切換的頻率符合一預設頻率。相鄰的週期之間的時間間隔可以根據實際需要而設置，優選時間間隔可以設置為TFT陣列驅動掃描每一幀 (Frame) 紅外光敏二極體陣列至少能接收到一幀完整的影像信號所需的時間，即預設頻率為每經過上述時間間隔進行一次切換。
上述技術方案所述的同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法和裝置，所述方法應用於同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖的裝置，所述裝置包括顯示單元和感測單元，所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊；所述方法包括以下步驟：接收用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊；當檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡相匹配時，判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則完成螢幕解鎖，否則螢幕解鎖失敗。這樣，在用戶進行滑屏解鎖操作時，同步進行使用者指紋資訊的採集和認證，一方面採用雙重認證的方式有效提升了螢幕解鎖的安全性，另一方面使用者無需在特定按鍵上進行操作即可實現指紋資訊的採集，有效提升了用戶體驗。
需要說明的是，儘管在本文中已經對上述各實施例進行了描述，但並非因此限制本發明的專利保護範圍。因此，基於本發明的創新理念，對本文所述實施例進行的變更和修改，或利用本發明說明書及附圖內容所作的等效結構或等效流程變換，直接或間接地將以上技術方案運用在其他相關的技術領域，均包括在本發明的專利保護範圍之內。
1‧‧‧蓋板玻璃/觸控式螢幕
2‧‧‧自發光二極體顯示幕
21‧‧‧顯示像素
3‧‧‧光偵測陣列薄膜
31‧‧‧光敏像素
4‧‧‧光學膠
5‧‧‧光學器件
101‧‧‧柵極
102‧‧‧源極
103‧‧‧漏極
104‧‧‧絕緣層
105‧‧‧光吸收半導體層
圖1所繪示為本發明的一實施例涉及的光偵測陣列薄膜應用結構的示意圖。
圖2所繪示為本發明的一實施例涉及的自發光二極體顯示幕的顯示像素的示意圖。
圖3所繪示為本發明的一實施例涉及的單一顯示像素發光反射的光路變化示意圖。
圖4所繪示為本發明的一實施例涉及的設置光學膠後單一顯示像素發光反射的光路變化示意圖。
圖5所繪示為本發明的一實施例涉及的設置光學膠和光學器件後單一顯示像素發光反射的光路變化示意圖。
圖6所繪示為本發明的一實施例涉及的單一顯示像素對應的有效發光區域的示意圖。
圖7所繪示為本發明的一實施例涉及的同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖裝置的結構示意圖。
圖8所繪示為本發明的一實施例涉及的採集指紋資訊方法的流程圖。
圖9所繪示為本發明的一實施例涉及的光偵測單元的結構示意圖。
圖10所繪示為本發明另一實施例涉及的光偵測單元的結構示意圖。
圖11所繪示為本發明另一實施例涉及的源極和漏極的結構示意圖。
圖12所繪示為本發明另一實施例涉及的光偵測單元的製備流程圖。
圖13所繪示為本發明的一實施例涉及的同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法的流程圖。
S1301~S1305‧‧‧流程圖步驟
Claims (10)
- 一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，其特徵在於，所述方法應用於同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖的裝置，所述裝置包括顯示單元和感測單元，所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊；所述方法包括以下步驟： 接收用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊； 當檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡相匹配時，判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則完成螢幕解鎖，否則螢幕解鎖失敗。
- 如申請專利範圍第1項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，其特徵在於，所述感測單元為光偵測陣列薄膜，所述光偵測陣列薄膜包括PxQ個像素偵測區，每一像素偵測區對應設置一像素偵測結構，每一像素偵測結構包括一個以上薄膜電晶體所組成的一組用於像素薄膜電路以及一光偵測單元；所述光偵測單元包括光敏二極體或光敏電晶體。
- 如申請專利範圍第2項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，其特徵在於，所述光偵測薄膜為光敏二極體所形成的陣列，所述光敏二極體包括光敏二極體感應區，所述光敏二極體感應區內設置有光敏二極體層，所述光敏二極體層包括p型半導體層、i型半導體層、n型半導體層，p型半導體層、i型半導體層、n型半導體層自上而下堆疊設置，所述i型半導體層為微晶矽結構或非結晶矽化鍺結構。
- 如申請專利範圍第2項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，其特徵在於，所述光偵測薄膜為光敏電晶體所形成的陣列，所述光敏電晶體包括光敏電晶體感應區，所述光敏電晶體感應區設置有光敏薄膜電晶體，所述光敏薄膜電晶體包括柵極、源極、漏極、絕緣層、光吸收半導體層；所述光敏薄膜電晶體為倒立共平面式結構，所述倒立共平面式結構包括：所述柵極、絕緣層、源極縱向自下而上設置，所述漏極與所述源極橫向共面設置；絕緣層包裹所述柵極，以使得柵極與源極、柵極與漏極之間均不接觸；源極和漏極之間間隙配合，源極和漏極橫向之間形成光敏漏電流通道，所述光吸收半導體層設置於光敏漏電流通道內。
- 如申請專利範圍第1項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，其特徵在於，所述指紋識別區包括多個指紋識別子區域，每一指紋識別子區域的下方對應設置一感測單元；所述方法包括： 接收使用者對指紋識別子區域的啟動指令，開啟所述指紋識別子區域的下方的感測單元； 或者，接收使用者對指紋識別子區域的關閉指令，關閉所述指紋識別子區域的下方的感測單元。
- 如申請專利範圍第1項或第2項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，其特徵在於，所述顯示單元為自發光二極體顯示幕，所述裝置還包括蓋板玻璃、觸控式螢幕、光學膠、光學器件； 所述蓋板玻璃、觸控式螢幕、自發光二極體顯示幕、光學膠、光學器件、感測單元自上而下設置；所述觸控式螢幕貼合于蓋板玻璃的下表面，所述光學膠貼合于自發光二極體顯示幕的下表面；所述光學膠的折射率小於蓋板玻璃的折射率，所述自發光二極體顯示幕包括多個顯示像素；所述裝置還包括處理器； 所述接收用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊包括： 處理器在觸控式螢幕偵測到使用者手指的觸控信號時，發送顯示驅動信號至自發光二極體顯示幕； 顯示像素在接收到處理器顯示驅動信號時，發出光信號，所述光信號在蓋板玻璃的上表面發生反射，形成反射光信號； 光學膠改變反射光信號的光路，對反射光信號中在光學膠的入射角大於第一臨界角的反射光信號進行過濾，得到第一反射光信號，並使得第一反射光信號進入光學器件；所述第一臨界角為反射光信號能夠在光學膠表面發生全反射的臨界角； 光學器件改變第一反射光信號的光路，對第一反射光信號中在光學器件表面的入射角小於第一臨界角的第一反射光信號進行過濾，得到第二反射光信號，並使得第二反光信號以小於預設角度的入射角進入感測單元；所述第二臨界角為反射光信號能夠在蓋板玻璃上表面發生全反射的臨界角； 處理器根據感測單元接收的第二反射光信號生成指紋資訊並輸出。
- 如申請專利範圍第6項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖方法，其特徵在於，所述自發光二極體顯示幕包括MxN個顯示像素；所述方法包括： 處理器根據預設時序電信號依次驅動顯示幕上單個顯示像素或顯示像素陣列發出光信號，以在蓋板玻璃的上表面形成光點或光點組合掃描使用者手指部位，形成反射光信號。
- 一種同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖裝置，其特徵在於，所述裝置包括顯示單元、感測單元、處理器和電腦程式，所述顯示單元上設置有指紋識別區，所述感測單元位於所述指紋識別區的下方，用於獲取指紋識別區上的指紋資訊； 所述感測單元用於接收使用者在所述指紋識別區上的滑動軌跡，同步採集使用者手指對應的指紋資訊； 所述電腦程式被處理器執行時實現以下步驟： 當檢測到用戶在所述指紋識別區上的滑動軌跡與預設滑動軌跡相匹配時，判斷同步採集的指紋資訊與預設指紋資訊是否匹配，若是則完成螢幕解鎖，否則螢幕解鎖失敗。
- 如申請專利範圍第8項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖裝置，其特徵在於，所述顯示單元為自發光二極體顯示幕，所述裝置還包括蓋板玻璃、觸控式螢幕、光學膠、光學器件； 所述蓋板玻璃、觸控式螢幕、自發光二極體顯示幕、光學膠、光學器件、感測單元自上而下設置；所述觸控式螢幕貼合于蓋板玻璃的下表面，所述光學膠貼合于自發光二極體顯示幕的下表面；所述光學膠的折射率小於蓋板玻璃的折射率，所述自發光二極體顯示幕包括多個顯示像素； 所述處理器用於在觸控式螢幕偵測到使用者手指的觸控信號時，發送顯示驅動信號至自發光二極體顯示幕； 所述顯示像素用於在接收到處理器顯示驅動信號時，發出光信號，所述光信號在蓋板玻璃的上表面發生反射，形成反射光信號； 所述光學膠用於改變反射光信號的光路，對反射光信號中在光學膠的入射角大於第一臨界角的反射光信號進行過濾，得到第一反射光信號，使得第一反射光信號進入光學器件；所述第一臨界角為反射光信號能夠在光學膠表面發生全反射的臨界角； 所述光學器件用於改變第一反射光信號的光路，對第一反射光信號中在光學器件表面的入射角小於第一臨界角的第一反射光信號進行過濾，得到第二反射光信號，並使得第二反射光信號以小於預設角度的入射角進入感測單元；所述第二臨界角為反射光信號能夠在蓋板玻璃上表面發生全反射的臨界角； 所述處理器用於根據感測單元接收的第二反射光信號生成指紋資訊並輸出。
- 如申請專利範圍第9項所述之同步驗證指紋資訊的螢幕解鎖裝置，其特徵在於，所述光學器件包括遮光式光學器件和相位變化式光學器件，所述遮光式光學器件包括週期性針孔陣列、或是非週期性針孔陣列，所述相位變化式光學器件包括折射率呈週期性變化的光子晶體結構或微透鏡陣列結構、或是折射率呈非週期性變化的漫散射結構。
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