TW201837439A - 光檢測裝置 - Google Patents
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Abstract
本發明之光檢測裝置具備：封裝體，其設置有窗部；法布裡-珀羅干涉濾光片，其在封裝體內，使自窗部入射之光透過；及光檢測器，其在封裝體內，檢測已透過法布裡-珀羅干涉濾光片之光。法布裡-珀羅干涉濾光片具有：基板，其具有窗部側之第1表面及光檢測器側之第2表面；第1層構造體，其配置於第1表面，設置有第1鏡部及第2鏡部；及透鏡部，其一體地設置於第2表面側，且將已透過第1鏡部及第2鏡部之光集光於光檢測器。
Description
本發明係關於一種具備法布裡-珀羅干涉濾光片之光檢測裝置。
已知悉具備以下部分之光檢測裝置，即：封裝體，其設置有窗部；法布裡-珀羅干涉濾光片，其在封裝體內，且使自窗部入射之光透過；光檢測器，其在封裝體內，且檢測透過法布裡-珀羅干涉濾光片之光(例如參照專利文獻1)。 [先前技術文獻] [專利文獻] [專利文獻1]日本特開2016-211860號公報
[發明所欲解決之問題] 在如上述之光檢測裝置中，期望利用光檢測器有效地檢測透過法布裡-珀羅干涉濾光片之光。尤其是，在如使用泛用之光源，並分析來自被測定物之反射光之情形下，由於反射光之光量容易變小，故重要的是有效地檢測光。 為了有效地檢測光，而考量使用受光區域大之光電二極體等之光檢測器。然而，若使用受光區域大之光檢測器，則有在自光檢測器輸出之信號中雜訊成分變大之虞。 本發明之目的在於提供一種可實現高感度且高精度之檢測之光檢測裝置。 [解決問題之技術手段] 一態樣之光檢測裝置具備：封裝體，其設置有使光入射之窗部；法布裡-珀羅干涉濾光片，其配置於封裝體內，且使自窗部入射之光透過；及光檢測器，其以與法布裡-珀羅干涉濾光片離開之狀態配置於封裝體內，且檢測已透過法布裡-珀羅干涉濾光片之光；且法布裡-珀羅干涉濾光片具有：基板，其具有窗部側之第1表面及光檢測器側之第2表面；第1層構造體，其配置於第1表面，設置有隔著空隙彼此對向且彼此之距離設為可變之第1鏡部及第2鏡部；及透鏡部，其一體地設置於第2表面側，且將已透過第1鏡部及第2鏡部之光集光於光檢測器。 在上述之光檢測裝置中，法布裡-珀羅干涉濾光片具有將已透過第1鏡部及第2鏡部之光集光於光檢測器之透鏡部。藉此，即便使用受光區域小之光檢測器，仍能夠使透過第1鏡部及第2鏡部之光有效地入射至該受光區域。即，使用受光區域小之光檢測器，能夠在自光檢測器輸出之信號中減少雜訊成分，且有效地檢測透過法布裡-珀羅干涉濾光片之光。此處，若光檢測器之受光區域變小，則針對透鏡部相對於光檢測器之位置(尤其是垂直於光軸之方向之位置)要求高精度。在上述之光檢測裝置中，由於透鏡部位於第1鏡部及第2鏡部之後段，故與透鏡部位於第1鏡部及第2鏡部之前段之情形相比，透鏡部與光檢測器之距離變小，而緩和針對透鏡部相對於光檢測器之位置所要求之精度。又，由於透鏡部一體地設置於構成法布裡-珀羅干涉濾光片之基板之第2表面側，故和透鏡部與法布裡-珀羅干涉濾光片別體地安裝於支持構件(例如，在封裝體內，以法布裡-珀羅干涉濾光片與光檢測器離開之狀態支持法布裡-珀羅干涉濾光片之支持構件)之情形相比，在透鏡部相對於光檢測器之位置不易產生偏移。根據以上內容，根據上述之光檢測裝置可實現高感度且高精度之檢測。 在一態樣之光檢測裝置中，透鏡部可形成於基板中之第2表面側之部分。在該構成中，由於在基板與透鏡部之間不存在介面，故能夠抑制光學性損失，且能夠防止透鏡部之剝落等。又，在半導體製造製程中，能夠高位置精度且容易地形成透鏡部。 在一態樣之光檢測裝置中，透鏡部可直接或間接地設置於第2表面。根據該構成，與透鏡部形成於基板之一部分之情形相比，能夠提高法布裡-珀羅干涉濾光片之應力均衡。且，能夠增大透鏡部可採用之形狀(透鏡面之曲率等)之自由度。 在一態樣之光檢測裝置中，可行的是，法布裡-珀羅干涉濾光片更具有配置於第2表面且構成為與第1層構造體對應之第2層構造體，在第2層構造體形成有供透過第1鏡部及第2鏡部之光通過之開口，透鏡部可配置於開口內。根據該構成，即便透鏡部與基板為別體，仍能夠抑制在透鏡部之位置產生偏移。且，能夠抑制法布裡-珀羅干涉濾光片之厚度變大，且藉由例如以透鏡部配置於開口內之份額增大透鏡部之厚度而能夠提高透鏡部之集光功能。再者，藉由將透鏡部之整體配置於開口內，而能夠防止透鏡部之破損及污染。 在一態樣之光檢測裝置中，可行的是，法布裡-珀羅干涉濾光片更具有配置於第2表面且構成為與第1層構造體對應之第2層構造體，在第2層構造體形成有供透過第1鏡部及第2鏡部之光通過之開口，透鏡部可以封閉開口之方式安裝於第2層構造體。根據該構成，在法布裡-珀羅干涉濾光片中，能夠提高基板之第1表面側與第2表面側之間之應力均衡。且，能夠增大透鏡部50可採用之形狀(透鏡面之曲率等)之自由度。 在一態樣之光檢測裝置中，在自光之入射方向觀察之情形下，透鏡部之外緣可位於較窗部之外緣更靠內側，且位於較光檢測器之受光區域之外緣更靠外側。根據該構成，能夠使透過第1鏡部及第2鏡部之光有效地入射至光檢測器之受光區域。 [發明之效果] 根據本發明，能夠提供一種可實現高感度且高精度之光檢測裝置。
以下，針對本發明之實施形態，參照圖式詳細地說明。此外，在各圖中對於相同或相當之部分賦予相同符號，且省略重複之部分。 [第1實施形態] ［光檢測裝置之構成］ 如圖1所示，光檢測裝置1A具備封裝體2。封裝體2係具有管座3及蓋4之CAN封裝體。蓋4係由側壁5及頂壁6一體地構成。頂壁6在平行於線L之方向與管座3對向。管座3及蓋4包含例如金屬，彼此被氣密地接合。 在管座3之內面3a利用例如接著劑固定有配線基板7。作為配線基板7之基板材料可使用例如矽、陶瓷、石英、玻璃、及塑膠等。在配線基板7安裝有光檢測器8、及熱阻器等之溫度補償用元件(省略圖示)。光檢測器8在封裝體2內配置於線L上。更具體而言，光檢測器8以其受光區域之中心線與線L一致之方式配置於封裝體2內。光檢測器8係例如使用InGaAs等之量子型感測器、及使用熱電堆或熱測量器等之熱型感測器等之紅外線檢測器。當檢測紫外、可視、及近紅外之各波長頻帶之光時，作為光檢測器8可使用例如矽光電二極體等。此外，光檢測器8之受光區域可由1個受光部構成，或可由複數個受光部構成。具有由複數個受光部構成之受光區域之光檢測器8可為例如光電二極體陣列、CCD圖像感測器、及CMOS圖像感測器等。又，複數個光檢測器8可安裝於配線基板7。在此情形下，能夠將複數個光檢測器8之受光部之集合捕捉為受光區域。 在配線基板7上利用例如接著劑固定有複數個間隔件(支援部)9。複數個間隔件9以夾著或包圍光檢測器8及溫度補償用元件之方式配置於封裝體2內。作為各間隔件9之材料可使用例如矽、陶瓷、石英、玻璃、及塑膠等。在複數個間隔件9上利用例如接著劑固定有法布裡-珀羅干涉濾光片10A。法布裡-珀羅干涉濾光片10A在封裝體2內配置於線L上。更具體而言，法布裡-珀羅干涉濾光片10A以該光透過區域10a之中心線與線L一致之方式配置於封裝體2內。間隔件9以法布裡-珀羅干涉濾光片10A與光檢測器8離開之狀態(亦即，以在法布裡-珀羅干涉濾光片10A與光檢測器8之間形成有空間之狀態)支持法布裡-珀羅干涉濾光片10A。即，法布裡-珀羅干涉濾光片10A與光檢測器8以彼此離開之狀態配置於封裝體2內。此外，間隔件9可與配線基板7一體地構成。又，法布裡-珀羅干涉濾光片10A可不由複數個間隔件9支持，而由1個間隔件9支持。又，間隔件9可與法布裡-珀羅干涉濾光片10A一體地構成。 在管座3固定有複數個引線接腳11。更具體而言，各接腳11以維持與管座3之間之電性絕緣性及氣密性之狀態貫通管座3。在各接腳11利用引線12電性連接有設置於配線基板7之電極墊、光檢測器8之端子、溫度補償用元件之端子、及法布裡-珀羅干涉濾光片10A之端子之各者。藉此，可實現電信號相對於光檢測器8、溫度補償用元件、及法布裡-珀羅干涉濾光片10A各自之輸入/輸出等。此外，接腳11和與光檢測器8電性連接之配線基板7上之電極墊可採用由引線12電性連接之構成。 在封裝體2形成有開口2a。更具體而言，開口2a以其中心線與線L一致之方式形成於蓋4之頂壁6。在頂壁6之內面6a以封閉開口2a之方式配置有光透過構件13。光透過構件13到達開口2a內及側壁5之內面5a而將開口2a氣密地密封。光透過構件13至少使光檢測裝置1A之測定波長範圍之光透過。光透過構件13之光入射面13a在開口2a中與頂壁6之外表面成為大致同一平面。如上述之光透過構件13係藉由以使開口2a朝向下側之狀態在蓋4之內側配置玻璃粒料，並使該玻璃粒料熔融而形成。即，光透過構件13包含熔融玻璃。在封裝體2中，光透過構件13中之位於開口2a內之部分作為使光自外部入射至封裝體2內之窗部15而發揮功能。此外，包含例如玻璃、石英、矽、鍺、及塑膠等之板狀之光透過構件13可以封閉開口2a之方式氣密地固定於頂壁6之內面6a。在此情形下，開口2a內之區域作為窗部15而發揮功能。即，與有無光透過構件13無關，開口2a內之區域作為窗部15而發揮功能。該等光透過構件13可利用包含樹脂等之接著劑氣密地接著於頂壁6之內面6a。 在光透過構件13之光出射面13b(在平行於線L之方向與光入射面13a對向之面)利用例如接著劑固定有板狀之帶通濾波器14。帶通濾波器14使光檢測裝置1A之測定波長範圍之光選擇性地透過。帶通濾波器14具有包含例如TiO2
、Ta2
O5
等之高折射材料與SiO2
、MgF2
等之低折射材料之組合之介電體多層膜。此外，帶通濾波器14可利用例如蒸鍍等形成於光透過構件13之光出射面13b。又，光透過構件13本身可具有帶通濾波器之功能。 自平行於線L之方向(光相對於窗部15之入射方向)觀察時之各部之位置關係及大小關係係如以下般。如圖2所示，窗部15之中心線(亦即開口2a之中心線)、光透過構件13之中心線、帶通濾波器14之中心線、法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之中心線、及光檢測器8之受光區域8a之中心線與線L一致。窗部15之外緣、光透過構件13之外緣、光透過區域10a之外緣、及受光區域8a之外緣係例如圓形狀。帶通濾波器14之外緣、法布裡-珀羅干涉濾光片10A之外緣、及光檢測器8之外緣係例如矩形狀。 窗部15之外緣(亦即開口2a之內緣)位於較光透過構件13之外緣、帶通濾波器14之外緣、及法布裡-珀羅干涉濾光片10A之外緣更靠內側，且位於較光透過區域10a之外緣、及受光區域8a之外緣更靠外側。受光區域8a之外緣位於較光透過區域10a之外緣更靠內側。帶通濾波器14之外緣位於較光透過構件13之外緣更靠內側，且位於較法布裡-珀羅干涉濾光片10A之外緣更靠外側。此外，所謂「當自特定之方向觀察時一個外緣位於較其他之外緣更靠內側」係意味著「當自特定之方向觀察時其他之外緣包圍一個外緣」、及「當自特定之方向觀察時其他之外緣包含一個外緣」。又，所謂「當自特定之方向觀察時一個外緣位於較其他之外緣更靠外側」係意味著「當自特定之方向觀察時一個外緣包圍其他之外緣」、及「當自特定之方向觀察時一個外緣包含其他之外緣」。 在如以上般構成之光檢測裝置1A中，若光自外部經由窗部15、光透過構件13及帶通濾波器14入射至法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a，則使具有特定之波長之光選擇性地透過。透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之光係入射至光檢測器8之受光區域8a，由光檢測器8予以檢測。 ［法布裡-珀羅干涉濾光片之構成］ 如圖3及圖4所示，法布裡-珀羅干涉濾光片10A中，使相應於第1鏡部與第2鏡部之距離之光透過之光透過之區域10a係設置於線L上。光透過區域10a為例如圓柱狀之區域。在光透過區域10a中，極高精度地控制第1鏡部與第2鏡部之距離。即，光透過區域10a係法布裡-珀羅干涉濾光片10A中之為了使具有特定之波長之光選擇性地透過而可將第1鏡部與第2鏡部之距離控制為特定之距離的區域，且係具有可供相應於第1鏡部與第2鏡部之距離之特定之波長之光透過的區域。 法布裡-珀羅干涉濾光片10A具備矩形板狀之基板21。基板21具有在平行於線L之方向上彼此對向之第1表面21a及第2表面21b。第1表面21a係窗部15側(亦即光入射側)之表面。第2表面21b係光檢測器8側(亦即光出射側)之表面。在第1表面21a配置有第1層構造體30。在第2表面21b配置有第2層構造體40。 第1層構造體30係藉由將第1防反射層31、第1積層體32、第1中間層33及第2積層體34依此順序積層於第1表面21a而構成。在第1積層體32與第2積層體34之間，藉由框狀之第1中間層33形成有空隙(氣隙)S。基板21包含例如矽、石英、及玻璃等。在基板21包含矽之情形下，第1防反射層31及第1中間層33包含例如氧化矽。第1中間層33之厚度例如為數十nm～數十μm。 第1積層體32中之與光透過區域10a對應之部分作為第1鏡部35而發揮功能。第1積層體32係藉由複數個多晶矽層與複數個氮化矽層逐層交替地積層而構成。構成第1鏡部35之多晶矽層及氮化矽層各自之光學厚度較佳者係中心透過波長之1/4之整數倍。此外，第1鏡部35可不經由第1防反射層31而直接配置於第1表面21a。 第2積層體34中之與光透過區域10a對應之部分作為第2鏡部36而發揮功能。第2鏡部36在平行於線L之方向隔著空隙S與第1鏡部35對向。第2積層體34係藉由複數個多晶矽層與複數個氮化矽層逐層交替地積層而構成。構成第2鏡部36之多晶矽層及氮化矽層各自之光學厚度較佳者係中心透過波長之1/4之整數倍。 在第1積層體32及第2積層體34中可配置有氧化矽層而取代氮化矽層。又，作為構成第1積層體32及第2積層體34之各層之材料除使用上述之材料外，還可使用氧化鈦、氧化鉭、氧化鋯、氟化鎂、氧化鋁、氟化鈣、矽、鍺、及硫化鋅等。 在第2積層體34中在與空隙S對應之部分形成有自第2積層體34之與第1中間層33為相反側之表面34a至空隙S之複數個貫通孔34b。複數個貫通孔34b形成為實質上對第2鏡部36之功能不施與影響之程度。複數個貫通孔34b係用於利用蝕刻去除第1中間層33之一部分而形成空隙S者。 在第1鏡部35以包圍光透過區域10a之方式形成有第1電極22。在第1鏡部35以包含光透過區域10a之方式形成有第2電極23。第1電極22及第2電極23係藉由以下方式而形成，即：在第1積層體32中之最靠近空隙S之多晶矽層摻雜雜質而低電阻化。在第2鏡部36形成有第3電極24。第3電極24在平行於線L之方向隔著空隙S與第1電極22及第2電極23對向。第3電極24係藉由以下方式而形成，即：在第2積層體34中之最靠近空隙S之多晶矽層摻雜雜質而低電阻化。此外，第2電極23之大小較佳的是包含光透過區域10a之整體之大小，但可與光透過區域10a之大小大致相同。 在第1層構造體30設置有一對第1端子25及一對第2端子26。一對第1端子25夾著光透過區域10a而彼此對向。各第1端子25配置於自第2積層體34之表面34a至第1積層體32之貫通孔內。各第1端子25經由配線22a與第1電極22電性連接。一對第2端子26在與一對第1端子25彼此對向之方向垂直之方向夾著光透過區域10a而彼此對向。各第2端子26配置於自第2積層體34之表面34a至第1中間層33之內部之貫通孔內。各第2端子26經由配線23a與第2電極23電性連接且經由配線24a與第3電極24電性連接。 在第1積層體32之第1中間層33側之表面32a設置有溝渠27、28。溝渠27以包圍配線23a之與第2端子26之連接部分之方式呈環狀延伸。溝渠27將第1電極22與配線23a電性絕緣。溝渠28沿第1電極22之內緣呈環狀延伸。溝渠28將第1電極22與第1電極22之內側之區域(亦即第2電極23存在之區域)電性絕緣。在第2積層體34之表面34a設置有溝渠29。溝渠29以包圍第1端子25之方式呈環狀延伸。溝渠29將第1端子25與第3電極24電性絕緣。各溝渠27、28、29內之區域可為絕緣材料，亦可為空隙。 第2層構造體40係藉由第2防反射層41、第3積層體42、第2中間層43及第4積層體44按照以上之順序積層於第2表面21b而構成。第2防反射層41、第3積層體42、第2中間層43及第4積層體44分別具有與第1防反射層31、第1積層體32、第1中間層33及第2積層體34相同之構成。如此，第2層構造體40具有以基板21為基準而與第1層構造體30對稱之積層構造。即，第2層構造體40構成為與第1層構造體30對應。第2層構造體40具有抑制基板21之翹曲等之功能。 在第3積層體42、第2中間層43及第4積層體44以包含光透過區域10a之方式形成有開口40a。開口40a之中心線與線L一致。開口40a係例如圓柱狀之區域，具有與光透過區域10a大致相同之直徑。開口40a在光出射側開口，開口40a之底面到達第2防反射層41。開口40a使透過第1鏡部35及第2鏡部36之光通過。第3積層體42可不經由第2防反射層41而直接配置於第2表面21b。 在第4積層體44之光出射側之表面形成有遮光層45。遮光層45包含例如鋁等。在遮光層45之表面及開口40a之內面形成有保護層46。保護層46包含例如氧化鋁。此外，藉由將保護層46之厚度設為1～100 nm(較佳者係30 nm左右)，而能夠無視保護層46之光學性影響。且，保護層46亦可省略。 透鏡部50一體地設置於基板21之第2表面21b側。透鏡部50形成於基板21中之第2表面21b側之部分。透鏡部50之光出射面50a由第2表面21b之一部分構成。透鏡部50之中心線(亦即光出射面50a之中心線)與線L一致。當自平行於線L之方向觀察時，透鏡部50之外緣位於較封裝體2之窗部15之外緣更靠內側，且位於較光檢測器8之受光區域8a之外緣更靠外側(參照圖2)。此處，透鏡部50具有與光透過區域10a大致相同之直徑。光出射面50a在開口40a之底面由第2防反射層41及保護層46覆蓋。透鏡部50將透過第1鏡部35及第2鏡部36之光集光至光檢測器8之受光區域8a。 透鏡部50構成為菲涅耳透鏡。作為一例，在透鏡部50之直徑為750 μm左右，基板21包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。且，菲涅耳透鏡之圓之圈數為3～60圈，凹凸之高度為1～25 μm，圓與圓之間隔為5～150 μm。如上述之透鏡部50係藉由利用3D遮罩等將抗蝕劑在基板21之第2表面21b圖案化並回蝕而形成。 此外，如圖5所示，透鏡部50可構成為在光出射側具有凸出之光出射面50a之凸透鏡。作為一例，在透鏡部50之直徑為750 μm左右，基板21包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。又，朝光出射側凸出之光出射面50a之高度為60～80 μm。如上述之透鏡部50係藉由利用3D遮罩等將抗蝕劑在基板21之第2表面21b圖案化並回蝕而形成。 在如以上般構成之法布裡-珀羅干涉濾光片10A中，若經由一對第1端子25及一對第2端子26對第1電極22與第3電極24之間施加電壓，則相應於該電壓之靜電力在第1電極22與第3電極24之間產生。因該靜電力而第2鏡部36被拉拔至固定於基板21之第1鏡部35側，而調整第1鏡部35與第2鏡部36之距離。如此，在法布裡-珀羅干涉濾光片10A中，第1鏡部35與第2鏡部36之距離設為可變。 透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光之波長依存於光透過區域10a之第1鏡部35與第2鏡部36之距離。因而，藉由調整施加至第1電極22與第3電極24之間之電壓，而能夠適宜地選擇透過之光之波長。此時，第2電極23與第3電極24為相同電位。因而，第2電極23作為用於在光透過區域10a中將第1鏡部35及第2鏡部36保持為平坦之補償電極而發揮功能。 在光檢測裝置1A中，例如，藉由一面使施加至法布裡-珀羅干涉濾光片10A之電壓變化(亦即，一面在法布裡-珀羅干涉濾光片10A中使第1鏡部35與第2鏡部36之距離變化)，一面在光檢測器8檢測透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之光，而能夠獲得分光光譜。此時，在法布裡-珀羅干涉濾光片10A中，透過第1鏡部35及第2鏡部36之光由透鏡部50集光至光檢測器8之受光區域8a。 此外，在法布裡-珀羅干涉濾光片10A中，還能夠將光透過區域10a(如上述般，係法布裡-珀羅干涉濾光片10A中之為了使具有特定之波長之光選擇性地透過而可將第1鏡部35與第2鏡部36之距離控制為特定之距離的區域，且係具有相應於第1鏡部35與第2鏡部36之距離之特定之波長之光可透過的區域)捕捉為當自平行於線L之方向觀察時與第1電極22之內側之區域(亦即，作為補償電極而發揮功能之第2電極23存在之區域)對應之區域，或還能夠捕捉為當自平行於線L之方向觀察時與開口40a對應之區域。 ［作用及效果］ 在光檢測裝置1A中，法布裡-珀羅干涉濾光片10A具有將透過第1鏡部35及第2鏡部36之光集光至光檢測器8之透鏡部50。藉此，即便使用受光區域8a小之光檢測器8，仍能夠使透過第1鏡部35及第2鏡部36之光有效地入射至該受光區域8a。即，使用受光區域8a小之光檢測器8，能夠在自光檢測器8輸出之信號中減少雜訊成分，且有效地檢測透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光。此處，若光檢測器8之受光區域8a變小，則針對透鏡部50相對於光檢測器8之位置(尤其是垂直於光軸之方向之位置)要求高精度。在光檢測裝置1A中，由於透鏡部50位於第1鏡部35及第2鏡部36之後段，故與透鏡部50位於第1鏡部35及第2鏡部36之前段之情形相比，透鏡部50與光檢測器8之距離變小，而緩和針對透鏡部50相對於光檢測器8之位置所要求之精度。又，由於透鏡部50一體地設置於構成法布裡-珀羅干涉濾光片10A之基板21之第2表面21b側，故和透鏡部50與法布裡-珀羅干涉濾光片10A別體地安裝於間隔件9之情形相比，在透鏡部50相對於光檢測器8之位置不易產生偏移。根據以上內容，根據光檢測裝置1A可實現高感度且高精度之檢測。 作為一例，針對法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之直徑為750 μm，光檢測器8之受光區域8a之直徑為100 μm之情形進行說明。在此情形下，若在法布裡-珀羅干涉濾光片10A不設置透鏡部50，則透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之光中僅直徑為100 μm之範圍入射至光檢測器8之受光區域8a。即，僅能夠利用透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之光之一部分。 相對於此，若在法布裡-珀羅干涉濾光片10A設置有透鏡部50，則透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之光之大致全部入射至光檢測器8之受光區域8a。即，能夠利用透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之光之大致全部。尤其是，在如使用泛用之光源，並分析來自被測定物之反射光之情形下，由於反射光之光量容易變小，故如上述般有效地檢測光極為重要。 惟，若光檢測器8之受光區域8a之直徑為100 μm，則針對由透鏡部50集光之光之集光位置必須具有±50 μm以下之精度，亦即針對透鏡部50相對於光檢測器8之受光區域8a之位置亦必須具有相同之精度。在法布裡-珀羅干涉濾光片10A中，藉由透鏡部50一體地設置於基板21之第2表面21b側，而可實現如上述之精度。 此外，藉由使封裝體2之窗部15具有透鏡功能，而在光檢測裝置1A中亦可實現高感度之檢測。然而，窗部15之直徑，若考量蓋4相對於管座3之安裝精度，則為例如1500 μm般必須較法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a之直徑充分大。又，針對窗部15相對於光檢測器8之受光區域8a之位置必須具有±50 μm左右之精度。因而，若在蓋4相對於管座3之安裝中不實施主動對準，則有光不入射至光檢測器8之受光區域8a之虞。如此，由於透鏡部大型化，且必須主動對準，故窗部15具有透鏡功能之構成與透鏡部50一體地設置於基板21之第2表面21b側之構成相比，成本優點為小。 又，在光檢測裝置1A中，由於透鏡部50一體地設置於構成法布裡-珀羅干涉濾光片10A之基板21之第2表面21b側，故當安裝法布裡-珀羅干涉濾光片10A時只要僅考量相對於光檢測器8之對準即可。因而，與將透鏡部50與法布裡-珀羅干涉濾光片10A別體地安裝於間隔件9之情形相比，能夠使組裝顯著地容易化。又，在半導體製造製程中，在如以晶圓級別製造法布裡-珀羅干涉濾光片10A之情形下，由於透鏡部50亦可以晶圓級別一體地設置於基板21之第2表面21b側，故能夠容易地製造具有小型且位置精度高之透鏡部50之法布裡-珀羅干涉濾光片10A。 又，在光檢測裝置1A中，透鏡部50形成於基板21中之第2表面21b側之部分。在該構成中，由於在基板21與透鏡部50之間不存在介面，故能夠抑制光學性損失，且能夠防止透鏡部50之剝落等。又，在半導體製造製程中，能夠高位置精度且容易地形成透鏡部50。又，在基板21包含矽之情形下，透鏡部50之折射率成為3.5。如此，由於能夠由高折射率材料形成透鏡部50，故可縮短光檢測器8與法布裡-珀羅干涉濾光片10A之距離，而追求光檢測裝置1A之小型化。再者，由於透鏡部50之光出射面50a位於開口40a之底面，故能夠防止光出射面50a之破損及污染。 又，在光檢測裝置1A中，當自光之入射方向觀察時，透鏡部50之外緣位於較窗部15之外緣更靠內側，且位於較光檢測器8之受光區域8a之外緣更靠外側。利用該構成能夠使透過第1鏡部35及第2鏡部36之光有效地入射至光檢測器8之受光區域8a。例如，在透鏡一體地設置於光檢測器8之受光區域8a上之構成中難以獲得如上述之效果。藉由將具有與法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光透過區域10a同等或其以上之大小之透鏡部50一體地設置於法布裡-珀羅干涉濾光片10A側，而能夠使透過法布裡-珀羅干涉濾光片10A之光之檢測效率最大化。 [第2實施形態] 如圖6所示，光檢測裝置1B在法布裡-珀羅干涉濾光片10B之構成上與上述之光檢測裝置1A主要不同。如圖7所示，法布裡-珀羅干涉濾光片10B中，透鏡部50與基板21別體地構成。透鏡部50在光出射側具有凸出之光出射面50a、及平坦之光入射面50b。透鏡部50之光入射面50b以封閉開口40a之狀態，藉由例如接著劑而固定於保護層46之光檢測器8側之表面。即，透鏡部50以封閉開口40a之方式安裝於第2層構造體40。此外，亦可對用於將透鏡部50安裝於第2層構造體40之接著劑使用光學樹脂，將該光學樹脂填滿開口40a內。 透鏡部50之中心線與線L一致。自平行於線L之方向觀察之情形時，透鏡部50之外緣位於較封裝體2之窗部15之外緣更靠內側，且位於較光檢測器8之受光區域8a之外緣更靠外側。此處，透鏡部50具有大於光透過區域10a之直徑。作為一例，在透鏡部50之直徑為1000 μm左右，且透鏡部50包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。又，朝光出射側凸出之光出射面50a之高度為50～400 μm。 此外，如圖8所示，透鏡部50可構成為菲涅耳透鏡。作為一例，在透鏡部50之直徑為1000 μm左右、透鏡部50之基板之厚度為200 μm，且透鏡部50包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。且，菲涅耳透鏡之圓之圈數為10圈以上，凹凸之高度為40 μm以下，圓與圓之間隔為50 μm以下。又，在如圖7及圖8所示之構成中，透鏡部50可不經由保護層46而安裝於第2層構造體40。 在如以上般構成之光檢測裝置1B中亦然，由於透鏡部50一體地設置於基板21之第2表面21b側，故與上述之光檢測裝置1A相同地可實現高感度且高精度之檢測。 又，在光檢測裝置1B中，透鏡部50以封閉開口40a之方式安裝於第2層構造體40。利用該構成，在法布裡-珀羅干涉濾光片10B中，能夠提高基板21之第1表面21a側與第2表面21b側之間之應力均衡。且，能夠增大透鏡部50可採用之形狀(光出射面50a等之透鏡面之曲率等)之自由度。此外，可構成為由透鏡部50不完全封閉開口40a，而將開口40a之內部與外部連通。在此情形下，能夠抑制產生因開口40a內之空氣之膨脹及收縮所致之應力。 又，在光檢測裝置1B中，由於透鏡部50位於複數個間隔件9之間(參照圖6)，法布裡-珀羅干涉濾光片10B之重心變低，故能夠提高法布裡-珀羅干涉濾光片10B之穩定性。 又，當將透鏡部50安裝於第2層構造體40時，由於能夠以開口40a為對準之基準，故能夠高精度且容易地安裝透鏡部50。 又，在半導體製造製程中，在以晶圓級別製造法布裡-珀羅干涉濾光片10B之情形下，藉由透鏡部50亦以晶圓級別安裝，而能夠容易地製造具有小型且位置精度高之透鏡部50之法布裡-珀羅干涉濾光片10B。 [第3實施形態] 如圖9所示，光檢測裝置1C在法布裡-珀羅干涉濾光片10C之構成上與上述之光檢測裝置1A主要不同。如圖10所示，在法布裡-珀羅干涉濾光片10C中，透鏡部50與基板21別體地構成。透鏡部50配置於開口40a內，且設置於保護層46上。即，透鏡部50經由第2防反射層41及保護層46間接地設置於基板21之第2表面21b。此外，透鏡部50可不經由第2防反射層41及保護層46而直接設置於基板21之第2表面21b。 透鏡部50構成為菲涅耳透鏡。作為一例，透鏡部50之直徑為750 μm左右。且，菲涅耳透鏡之圓之圈數為10～50圈，凹凸之高度為5～40 μm，圓與圓之間隔為5～50 μm。如上述之透鏡部50可利用以下之方法形成，即：利用3D遮罩將抗蝕劑(樹脂)圖案化之方法、及利用模具之方法等。 此外，如圖11所示，透鏡部50可構成為在光出射側具有凸出之光出射面50a之凸透鏡。作為一例，透鏡部50之直徑為750 μm左右。又，朝光出射側凸出之光出射面50a之高度為100～400 μm。如以上之透鏡部50可利用以下之方法形成，即：利用3D遮罩將抗蝕劑(樹脂)圖案化之方法、利用通常之遮罩將抗蝕劑(樹脂)圖案化並固化之方法、及利用模具之方法等。 又，如圖12及圖13所示，可利用例如接著劑將與基板21別體地構成之透鏡部50固定於開口40a內。在此情形下亦然，透鏡部50可經由第2防反射層41及保護層46間接地設置於基板21之第2表面21b，或可不經由第2防反射層41及保護層46而直接設置於基板21之第2表面21b。 如圖12所示，在透鏡部50構成為菲涅耳透鏡之情形下，作為一例，在透鏡部50之直徑為750 μm左右，透鏡部50之基板之厚度為200 μm，透鏡部50包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。且，菲涅耳透鏡之圓之圈數為5圈以上，凹凸之高度為30 μm以下，圓與圓之間隔為80 μm以下。 如圖13所示，在透鏡部50構成為凸透鏡之情形下，作為一例，在透鏡部50之直徑為750 μm左右，透鏡部50包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。又，朝光出射側凸出之光出射面50a之高度為50～400 μm。 在如以上般構成之光檢測裝置1C中亦然，由於透鏡部50一體地設置於基板21之第2表面21b側，故可與上述之光檢測裝置1A相同地可實現高感度且高精度之檢測。 又，在光檢測裝置1C中，透鏡部50直接或間接地設置於基板21之第2表面21b。利用該構成，與透鏡部50形成於基板21之一部分之情形相比，能夠提高法布裡-珀羅干涉濾光片10C之應力均衡。且，能夠增大透鏡部50可採用之形狀(光出射面50a等之透鏡面之曲率等)之自由度。 又，在光檢測裝置1C中，透鏡部50配置於開口40a內。利用該構成，即便透鏡部50與基板21為別體，仍能夠抑制在透鏡部50之位置產生偏移。且，能夠抑制法布裡-珀羅干涉濾光片10C之厚度變大，且藉由例如以透鏡部50配置於開口40a內之份額增大透鏡部50之厚度而能夠提高透鏡部50之集光功能。再者，藉由將透鏡部50之整體配置於開口40a內，而能夠防止透鏡部50之破損及污染。 又，當將透鏡部50安裝於基板21之第2表面21b時，由於能夠以落於開口40a之方式以開口40a為對準之基準，故能夠高精度且容易地安裝透鏡部50。 又，在半導體製造製程中，在以晶圓級別製造法布裡-珀羅干涉濾光片10C之情形下，藉由透鏡部50亦以晶圓級別安裝，而能夠容易地製造具有小型且位置精度高之透鏡部50之法布裡-珀羅干涉濾光片10C。 此外，如圖14及圖15所示，可在基板21之第2表面21b不構成第2層構造體40。在此情形下亦然，與透鏡部50形成於基板21之一部分之情形相比，能夠提高法布裡-珀羅干涉濾光片10C之應力均衡。且，能夠增大透鏡部50可採用之形狀(光出射面50a等之透鏡面之曲率等)之自由度。 如圖14所示，在透鏡部50構成為凸透鏡之情形下，作為一例，在透鏡部50之直徑為1000 μm左右，透鏡部50包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。又，朝光出射側凸出之光出射面50a之高度為50～400 μm。此外，可在基板21之第2表面21b側以包圍透鏡部50之方式形成有遮光層45。 如圖15所示，在透鏡部50構成為菲涅耳透鏡之情形下，作為一例，在透鏡部50之直徑為1000 μm左右，透鏡部50之基板之厚度為200 μm，透鏡部50包含矽之情形下，透鏡部50之折射率為3.5。且，菲涅耳透鏡之圓之圈數為10圈以上，凹凸之高度為40 μm以下，圓與圓之間隔為50 μm以下。此外，可在基板21之第2表面21b側以包圍透鏡部50之方式形成有遮光層45。 ［變化例］ 以上，針對本發明之第1實施形態、第2實施形態及第3實施形態進行了說明，但本發明並不限定於上述之各實施形態。例如，針對各構成之材料及形狀並不限定於上述之材料及形狀，可採用各種材料及形狀。 又，透鏡部50只要一體地設置於基板21之第2表面21b側即可。即，透鏡部50只要在各法布裡-珀羅干涉濾光片10A、10B、10C之製造之時點，作為各法布裡-珀羅干涉濾光片10A、10B、10C之一部分設置於第1鏡部35及第2鏡部36之後段即可。 第2層構造體40若構成為與第1層構造體30對應，則可不具有以基板21為基準而與第1層構造體30為對稱之積層構造。與不設置第2層構造體40之情形相比，若第2層構造體40具有能夠抑制基板21之翹曲等之層構造，則該第2層構造體40可謂構成為與第1層構造體30對應。 又，帶通濾波器14可設置於光透過構件13之光入射面13a，亦可設置於光透過構件13之光入射面13a及光出射面13b之兩者。 又，當自平行於線L之方向觀察時，各法布裡-珀羅干涉濾光片10A、10B、10C之光透過區域10a之外緣可位於較窗部15之外緣更靠外側。在此情形下，自窗部15入射之光中之進入光透過區域10a之光之比例增大，自窗部15入射之光之利用效率變高。又，即便窗部15相對於光透過區域10a之位置稍許偏移，但由於自窗部15入射之光進入光透過區域10a，故仍可緩和光檢測裝置1A、1B、1C之組裝時之位置精度之要求。此外，窗部15之外緣可位於較光透過區域10a之外緣更靠外側，在此情形下，能夠增多自窗部15能夠擷取入之光量，而可緩和光檢測器8相對於窗部15之位置精度之要求。 ［參考例］ 如圖16所示，法布裡-珀羅干涉濾光片100具備：第1基板101、第2基板102、第1鏡部103、第2鏡部104、第1電極105、第2電極106、及透鏡部107。在法布裡-珀羅干涉濾光片100中，例如以線L為中心線設定有光透過區域110a。 第1基板101與第2基板102在平行於線L之方向彼此重合。第1基板101之表面101a與第2基板102之表面102a接合。第1鏡部103設置於第1基板101中之與光透過區域110a對應之部分。第2鏡部104設置於第2基板102中之與光透過區域110a對應之部分。第1鏡部103與第2鏡部104在平行於線L之方向隔著空隙S彼此對向。第1電極105以當自平行於線L之方向觀察時包圍第1鏡部103之方式設置於第1基板101。第2電極106以當自平行於線L之方向觀察時包圍第2鏡部104之方式設置於第2基板102。第1電極105與第2電極106在平行於線L之方向隔著空隙S彼此對向。 在第2基板102之與第1基板101為相反側之表面102b以當自平行於線L之方向觀察時包圍第2鏡部104及第2電極106之方式形成有槽102c。第2基板102中之由槽102c包圍之部分能夠以形成有槽102c之部分作為膜片狀之保持部102d而在平行於線L之方向變位。此外，可藉由在第2基板102之表面102a以當自平行於線L之方向觀察時包圍第2鏡部104及第2電極106之方式形成有槽，而構成膜片狀之保持部102d。又，可藉由在第1基板101之與第2基板102為相反側之表面101b、或在第1基板101之表面101a以當自平行於線L之方向觀察時包圍第1鏡部103及第1電極105之方式形成有槽，而構成膜片狀之保持部。在此情形下，第1基板101中之由該槽包圍之部分能夠以形成有該槽之部分作為膜片狀之保持部，而平行於線L之方向變位。又，取代膜片狀之保持部，可由以線L為中心呈放射狀配置之複數個樑構成保持部。 在法布裡-珀羅干涉濾光片100中，若對第1電極105與第2電極106之間施加電壓，則相應於該電壓之靜電力在第1電極105與第2電極106之間產生。因該靜電力而第2基板102中之由槽102c包圍之部分被拉拔至第1基板101側，而調整第1鏡部103與第2鏡部104之距離。而且，具有相應於第1鏡部103與第2鏡部104之距離之波長之光自第1基板101側朝向第2基板102側透過第1鏡部103及第2鏡部104。 透鏡部107一體地設置於第2基板102之表面102b側。透鏡部107將透過第1鏡部103及第2鏡部104之光集光。透鏡部107作為菲涅耳透鏡直接或間接地設置於表面102b。此外，透鏡部107可作為凸透鏡直接或間接地設置於表面102b。又，透鏡部107可作為菲涅耳透鏡或凸透鏡形成於第2基板102中之表面102b側之部分。 作為一例，透過第1鏡部103及第2鏡部104之光由透鏡部107集光至收容法布裡-珀羅干涉濾光片100之封裝體內或配置於該封裝體外之光檢測器(以與法布裡-珀羅干涉濾光片100離開之狀態配置之光檢測器)。根據如以上般構成之法布裡-珀羅干涉濾光片100，由於透鏡部107一體地設置於第2基板102之表面102b側，故在後段之光檢測器中可實現高感度且高精度之檢測。 以下，針對法布裡-珀羅干涉濾光片100之具體的構成進行說明。第1基板101及第2基板102係利用例如鈉玻璃、結晶性玻璃、石英玻璃、鉛玻璃、鉀玻璃、硼矽酸玻璃、或無鹼玻璃等之各種玻璃、或水晶等分別形成為矩形板狀。第1基板101之厚度為例如500 μm左右。第2基板102之厚度為例如200 μm左右。第1基板101之表面101a與第2基板102之表面102a可利用例如電漿聚合膜等彼此接合。 在第1基板101形成有在平行於線L之方向隔著空隙S與第2基板102之表面102a對向之表面101c及表面101d。表面101c以線L為中心線形成於圓形狀。表面101d以當自平行於線L之方向觀察時包圍表面101c之方式以線L為中心線形成為圓環狀。第1基板101之表面101c與第2基板102之表面102a之距離小於第1基板101之表面101d與第2基板102之表面102a之距離。在第2基板102中用於構成膜片之槽102c以線L為中心線形成為圓環狀。第1基板101之表面101c及表面101d係藉由自表面101a側對第1基板101實施蝕刻而形成。第2基板102之槽102c係藉由自表面102b側對第2基板102實施蝕刻而形成。 第1鏡部103形成於第1基板101之表面101c。第2鏡部104形成於第2基板102之表面102a。第1鏡部103及第2鏡部104係例如金屬膜、介電體多層膜、或其等之複合膜，分別以線L為中心線形成為圓形膜狀。 第1電極105形成於第1基板101之表面101d。第2電極106形成於第2基板102之表面102a。第1電極105及第2電極106由例如金屬材料形成，分別以線L為中心線呈圓環狀延伸。第1電極105例如經由配線(省略圖示)電性連接於設置於第1基板101中之可自外部取放之區域的電極墊(省略圖示)。該配線例如設置於形成於第1基板101之表面101a之槽內。第2電極106例如經由配線(省略圖示)電性連接於設置於第2基板102中之可自外部取放之區域的電極墊(省略圖示)。該配線例如設置於形成於第2基板102之表面102a之槽內。 透鏡部107例如由矽、樹脂、及玻璃等形成。透鏡部107由例如光學樹脂與第2基板102之表面102a中之槽102c之內側之區域接合。當自平行於線L之方向觀察時，透鏡部107之外緣包含第1鏡部103之外緣及第2鏡部104之外緣。在第1基板101之表面101b形成有具有開口108a之遮光層108。遮光層108由例如金屬材料形成。開口108a以線L為中心線形成為圓形狀，作為縮窄入射至光透過區域110a之光之光圈而發揮功能。可在第1基板101之表面101b中之至少與第1鏡部103對向之區域(亦即，至少開口108a之內側之區域)、及第2基板102之表面102b中之至少與第2鏡部104對向之區域(亦即，至少與透鏡部107對向之區域)分別形成有防反射層。
1A‧‧‧光檢測裝置
1B‧‧‧光檢測裝置
1C‧‧‧光檢測裝置
2‧‧‧封裝體
2a‧‧‧開口
3‧‧‧管座
3a‧‧‧內面
4‧‧‧蓋
5‧‧‧側壁
5a‧‧‧內面
6‧‧‧頂壁
6a‧‧‧內面
7‧‧‧配線基板
8‧‧‧光檢測器
8a‧‧‧受光區域
9‧‧‧間隔件/支持部
10A‧‧‧法布裡-珀羅干涉濾光片
10B‧‧‧法布裡-珀羅干涉濾光片
10C‧‧‧法布裡-珀羅干涉濾光片
10a‧‧‧光透過區域/區域
11‧‧‧接腳
12‧‧‧引線
13‧‧‧光透過構件
13a‧‧‧光入射面
13b‧‧‧光出射面
14‧‧‧帶通濾波器
15‧‧‧窗部
21‧‧‧基板
21a‧‧‧第1表面
21b‧‧‧第2表面
22‧‧‧第1電極
22a‧‧‧配線
23‧‧‧第2電極
23a‧‧‧配線
24‧‧‧第3電極
24a‧‧‧配線
25‧‧‧第1端子
26‧‧‧第2端子
27‧‧‧溝渠
28‧‧‧溝渠
29‧‧‧溝渠
30‧‧‧第1層構造體
31‧‧‧第1防反射層
32‧‧‧第1積層體
32a‧‧‧表面
33‧‧‧第1中間層
34‧‧‧第2積層體
34a‧‧‧表面
34b‧‧‧貫通孔
35‧‧‧第1鏡部
36‧‧‧第2鏡部
40‧‧‧第2層構造體
40a‧‧‧開口
41‧‧‧第2防反射層
42‧‧‧第3積層體
43‧‧‧第2中間層
44‧‧‧第4積層體
45‧‧‧遮光層
46‧‧‧保護層
50‧‧‧透鏡部
50a‧‧‧光出射面
50b‧‧‧光入射面
100‧‧‧法布裡-珀羅干涉濾光片
101‧‧‧第1基板
101a‧‧‧表面
101b‧‧‧表面
101c‧‧‧表面
101d‧‧‧表面
102‧‧‧第2基板
102a‧‧‧表面
102b‧‧‧表面
102c‧‧‧槽
102d‧‧‧保持部
103‧‧‧第1鏡部
104‧‧‧第2鏡部
105‧‧‧第1電極
106‧‧‧第2電極
107‧‧‧透鏡部
108‧‧‧遮光層
108a‧‧‧開口
110a‧‧‧光透過區域
L‧‧‧線
S‧‧‧空隙/氣隙
圖1係第1實施形態之光檢測裝置之剖視圖。 圖2係圖1所示之光檢測裝置之平面圖。 圖3係圖1所示之光檢測裝置之法布裡-珀羅干涉濾光片之平面圖。 圖4係沿圖3所示之IV-IV線之法布裡-珀羅干涉濾光片之剖視圖。 圖5係圖4所示之法布裡-珀羅干涉濾光片之變化例之剖視圖。 圖6係第2實施形態之光檢測裝置之剖視圖。 圖7係圖6所示之光檢測裝置之法布裡-珀羅干涉濾光片之剖視圖。 圖8係圖7所示之法布裡-珀羅干涉濾光片之變化例之剖視圖。 圖9係第3實施形態之光檢測裝置之剖視圖。 圖10係圖9所示之光檢測裝置之法布裡-珀羅干涉濾光片之剖視圖。 圖11係圖10所示之法布裡-珀羅干涉濾光片之變化例之剖視圖。 圖12係圖10所示之法布裡-珀羅干涉濾光片之變化例之剖視圖。 圖13係圖10所示之法布裡-珀羅干涉濾光片之變化例之剖視圖。 圖14係圖10所示之法布裡-珀羅干涉濾光片之變化例之剖視圖。 圖15係圖10所示之法布裡-珀羅干涉濾光片之變化例之剖視圖。 圖16係法布裡-珀羅干涉濾光片之參考例之剖視圖。
Claims (6)
- 一種光檢測裝置，其具備： 封裝體，其設置有使光入射之窗部； 法布裡-珀羅干涉濾光片，其配置於前述封裝體內，且使自前述窗部入射之前述光透過；及 光檢測器，其以與前述法布裡-珀羅干涉濾光片離開之狀態配置於前述封裝體內，且檢測透過前述法布裡-珀羅干涉濾光片之前述光；且 前述法布裡-珀羅干涉濾光片具有： 基板，其具有前述窗部側之第1表面及前述光檢測器側之第2表面； 第1層構造體，其配置於前述第1表面，設置有隔著空隙彼此對向且彼此之距離設為可變之第1鏡部及第2鏡部；及 透鏡部，其一體地設置於前述第2表面側，且將透過前述第1鏡部及前述第2鏡部之前述光集光於前述光檢測器。
- 如請求項1之光檢測裝置，其中前述透鏡部形成於前述基板中之前述第2表面側之部分。
- 如請求項1之光檢測裝置，其中前述透鏡部直接或間接地設置於前述第2表面。
- 如請求項3之光檢測裝置，其中前述法布裡-珀羅干涉濾光片更具有： 第2層構造體，其配置於前述第2表面，且構成為與前述第1層構造體對應；且 在前述第2層構造體形成有供透過前述第1鏡部及前述第2鏡部之前述光通過之開口； 前述透鏡部配置於前述開口內。
- 如請求項1之光檢測裝置，其中前述法布裡-珀羅干涉濾光片更具有： 第2層構造體，其配置於前述第2表面，且構成為與前述第1層構造體對應；且 在前述第2層構造體形成有供透過前述第1鏡部及前述第2鏡部之前述光通過之開口； 前述透鏡部以封閉前述開口之方式安裝於前述第2層構造體。
- 如請求項1至5中任一項之光檢測裝置，其中自前述光之入射方向觀察之情形時，前述透鏡部之外緣位於較前述窗部之外緣更靠內側，且位於較前述光檢測器之受光區域之外緣更靠外側。
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