TW201726560A - 氫水生成裝置及氫水生成方法 - Google Patents

Abstract

本發明的課題為提供一種氫水生成裝置，使氫在過飽和的狀態下包含於液體，可穩定地維持如此的過飽和的狀態，進而可容易安裝於飲水機等。 本發明的解決手段為一種氫水生成裝置，使氫溶解於水並生成氫水而自取出口吐出氫水。其特徵在於包含：產生氫之氫產生手段；來自氫產生手段的氫以氫氣泡而給予水並進行加壓送水之加壓型氣體溶解手段；導引藉由加壓型氣體溶解手段生成的氫水並儲存之溶解槽；連接溶解槽及取出口之管狀路徑；自該管狀路徑分岔而使氫水循環於加壓型氣體溶解手段之連接路徑，以加壓型氣體溶解手段、溶解槽、管狀路徑及連接路徑當作循環路徑，至少在充滿氫之後使氫水循環，在飽和狀態下使氫包含於氫水，並且使氫水重複循環於加壓型氣體溶解手段並將氫氣泡壓壞當作奈米氣泡。

Description

氫水生成裝置及氫水生成方法

本發明是關於氫水生成裝置及氫水生成方法，特別是關於在過飽和的狀態下使氫包含於液體，可穩定地維持提供如此的過飽和的狀態之氫水生成裝置及氫水生成方法。

近年來將氫(氫氣)填充於水或茶的飲料之清涼飲料水等被販賣。其目的為藉由攝取填充於飲料的氫氣使存在於人類的體內的活性氧還原。

另一方面得知，活性氧在以檸檬酸循環(citric acid cycle)製作ATP(腺苷三磷酸：adenosine triphosphate)時發揮重要的作用等對維持生命為必須，並且也擔負排除侵入到體內的異物的任務。而且，在生物體內的反應等不被使用的活性氧通常藉由存在於細胞內的酵素分解。但是，並非所有的活性氧都藉由酵素分解，剩餘的活性氧不被分解而會存在。其結果，由於剩餘的活性氧而使細胞損傷，會成為招致癌或生活習慣病(lifestyle disease)等的疾病及老化等的原因。因此，排除剩餘的活性氧被要求以維持健康。

因此，近年來氫作為排除如此的剩餘的活性氧的物質被使用。氫由於其分子量極小，故容易被身體內吸收，進而因與活性氧反應的話會變化成水，因此具有安全性高等的理由。而且，在為數眾多的活性氧之中特別是也僅選擇羥基自由基(hydroxyl radical)進行還原，不給予對身體有用的活性氧影響。

如此，填充了氫氣的飲料的攝取達成預防疾病或增進健康之有用的效果。因此，以將氫溶解於液體為目的，種種的手段被公開。

例如在專利文獻1揭示有：於在密閉容器(A)中在加壓狀態下使飲料水與氫氣或包含氫氣的混合氣體接觸並使氫溶解於該飲料水並生成氫水的方法中，容器(A)內的氫水為了利用而被排出，在容器(A)的內壓降低的時間點停止排出，然後藉由將全新的飲料水填充於密閉狀態的容器(A)使容器(A)的內壓上升，再度使氫溶解於填充於容器(A)內的飲料水之氫水的生水方法。

而且在專利文獻2揭示有：一種氫水，為供飲料的氫水，其特徵在於：藉由使將氫氣溶解成飽和狀態的溶解水通過孔口(orifice)的小孔並釋放壓力而溶解的氫氣以微細的氣泡使其產生，藉由將該微細的氣泡導引至網構件並使其通過網構件而使其微細化，使其成粒徑為1μm~50μm左右的微細氣泡，含有該粒徑為1μm~50μm左右的氫氣的微氣泡(microbubble)。

進而在專利文獻3揭示有：一種氫水製造裝置，其特徵在於由如下的構件構成：使空氣中的水分結露並生成凝縮的結露水之結露裝置；藉由對該結露水使氫產生反應發生，生成溶解了活性氫的氫水之氫水化處理裝置；自該氫水除去雜質，當作氫水之濾器單元(filter unit)；儲存該氫水，當作飲料水供給之飲料水供給器(drinking water server)。 

而且在專利文獻4揭示有：一種加氫水的製造裝置，氫以微細氣泡大量包含，包含：(A)、管體；(B)、形成於管體的一方的端部，以高壓供給原料水之原料水供給系；(C)、水密結合於管體，對由原料水供給系供給的原料水略直角地供給氫之氫供給系；(D)、在管體內於前述氫供給系的下游形成於管體的縱向，使自原料水供給系供給至管體的原料水，與自氫供給系供給至管體的氫的混合流體擴散用之擴散室；(E)、被填充於擴散室，具有規定的孔徑，所供給的氫以微細氣泡使其通過用之多孔元件；(F)、形成於管體的他方的端部，排出所製造的加氫水之排出口。

進而在專利文獻5揭示有：一種氫水的連續製造裝置，其特徵在於包含如下的構件而構成：水供給部；氫供給部；自前述各供給部接受水與氫的供給並吐出氫混入水之氣液混合泵(pump)；自氣液混合泵吐出的氫混入水被攪拌之攪拌部；來自攪拌部的氫混入水形成規定的滯流並將溶解氫以外的氫放出之放氣穩定槽。

進而在專利文獻6揭示有：一種氫水製造裝置，包含：用以使氫溶解於儲存的水之容器；藉由氫化鎂的水解產生氫之氫產生部；將藉由該氫產生部產生的氫供給至前述容器之氫供給管；將被加壓的氫溶解於儲存於前述容器的水而成的氫水供給至外部之氫水供給管。

而且在專利文獻7揭示有：一種氣體溶解裝置，其特徵在於藉由如下的構件構成：藉由使加壓液體與加壓氣體接觸而使氣體溶解於液體之加壓型氣體溶解機構；設置於在液體流道中該加壓型氣體溶解機構之後的降壓機構，降壓機構是為了藉由使加壓液體流到複數根毛細管的內側而使液體降壓而構成。

 [專利文獻1] 日本國特開2013-126650號公報  [專利文獻2] 日本國特許第5342156號公報  [專利文獻3] 日本國特開2013-94757號公報  [專利文獻4] 日本國特開2007-237161號公報  [專利文獻5] 日本國特開2008-6365號公報  [專利文獻6] 日本國特開2013-22567號公報  [專利文獻7] 日本國特開平8-89771號公報

氫水為了得到其效果而得到充分高的氫濃度，可將其穩定地維持較理想，但一般生成高濃度的氫水很困難，而且即使例如在飽和狀態下使氫溶解也會簡單地使氫氣擴散成氣相而降低了氫濃度。

本發明是鑑於上述的情況所進行的創作，其目的在於提供一種氫水生成裝置及氫水生成方法，使氫在過飽和的狀態下包含於液體，可穩定地維持如此的過飽和的狀態。

本發明的氫水生成裝置是使氫溶解於水並生成氫水而自取出口吐出氫水，其特徵在於包含：產生氫之氫產生手段；來自前述氫產生手段的氫以氫氣泡(hydrogen bubble)而給予水並進行加壓送水之加壓型氣體溶解手段；導引藉由前述加壓型氣體溶解手段生成的氫水並儲存之溶解槽；連接前述溶解槽及前述取出口之管狀路徑；自該管狀路徑分岔而使前述氫水循環於前述加壓型氣體溶解手段之連接路徑，以前述加壓型氣體溶解手段、前述溶解槽、前述管狀路徑及前述連接路徑當作循環路徑，至少在充滿氫之後使前述氫水循環，在飽和狀態下使氫包含於前述氫水，並且使前述氫水重複循環於前述加壓型氣體溶解手段並將前述氫氣泡壓壞當作奈米氣泡(nanobubble)。

依照如此的發明，因可生成在飽和狀態的氫水更包含氫的奈米氣泡的氫水，故可在過飽和的狀態下包含氫，並且可將其穩定地維持。

在上述的發明中也可以其特徵在於：前述溶解槽將來自前述加壓型氣體溶解手段的前述氫水與氫一起加壓儲存。依照如此的發明，在藉由溶解槽儲存的氫水中也能維持過飽和的狀態。

在上述的發明中也可以其特徵在於：前述溶解槽在至少其一部分給予濾器(filter)而維持前述氫氣泡。依照如此的發明，可容易維持氫水的過飽和的狀態。

在上述的發明中也可以其特徵在於：前述加壓型氣體溶解手段包含隔膜泵(diaphragm pump)。依照如此的發明，可使氫以氫氣泡而給予水並進行加壓送水容易，可生成過飽和的狀態的氫水。

而且，依照本發明的氫水生成方法是使氫溶解於水並生成氫水而自取出口吐出氫水，其特徵在於在包含如下構件的氫水生成裝置中：產生氫之氫產生手段；來自前述氫產生手段的氫以氫氣泡而給予水並進行加壓送水之加壓型氣體溶解手段；導引藉由前述加壓型氣體溶解手段生成的氫水並儲存之溶解槽；連接前述溶解槽及前述取出口之管狀路徑；自該管狀路徑分岔而使前述氫水循環於前述加壓型氣體溶解手段之連接路徑，以前述加壓型氣體溶解手段、前述溶解槽、前述管狀路徑及前述連接路徑當作循環路徑，至少在充滿氫之後使前述氫水循環，在飽和狀態下使氫包含於前述氫水，並且使前述氫水重複循環於前述加壓型氣體溶解手段並將前述氫氣泡壓壞當作奈米氣泡。

依照如此的發明，因可生成在飽和狀態的氫水更包含氫的奈米氣泡之過飽和的狀態的氫水，故可在過飽和的狀態下包含氫，並且可穩定地維持氫水的過飽和的狀態。

在上述的發明中也可以其特徵在於：給予前述溶解槽至少200nm以下的平均直徑的氫氣泡。依照如此的發明，可容易維持氫水的過飽和的狀態。

以下就本發明的氫水生成裝置具體地進行說明。

如圖1所示，氫水生成裝置1包含：產生氫之氫產生手段2；將該氫加壓並使其溶解於液體之加壓型氣體溶解手段3；溶解及儲存溶解了氫的液體之溶解槽4；藉由使該液體流到管狀路徑之細管5a而使該液體降壓之降壓移送手段5。

此處，降壓移送手段5防止在連接溶解槽4及取出口10的細管5a中因來自取出口10的氫水的吐出動作而造成細管5a內的壓力變動，使層流形成於其中。例如雖然降壓移送手段5的細管5a也取決於流過內部的液體的壓力，但比較長條且直徑小的較佳，也可以為在管狀路徑之細管5a的取出口近旁包含給予收攏或擴大管徑的推拔(taper)之壓力調整部。

而且，在氫水生成裝置1中其特徵在於：設細管5a的內徑為Xmm，設藉由加壓型氣體溶解手段3施加的壓力為YMPa時，使層流形成於細管5a內，且X/Y的值為1.00~12.00，進而X/Y的值為3.30~10.0較佳，4.00~6.67更佳。在過飽和的狀態下包含氫的液體藉由在層流狀態下流過如此的條件的細管5a中而被降壓移送，可穩定地維持過飽和的狀態而進行移送。此處，[過飽和的狀態]是指在某溫度中存在於氫的液體中的量比根據該溫度中的溶解度的量還多的狀態。也就是說，在飽和氫量的液體更混合有微細的氫氣的氣泡也可以。但是，在氫水之上以氣相分離的氫氣所產生的層不包含於存在於液體中的量。

再者，氫產生手段2具有電解裝置21，更具備離子交換裝置22。而且，電解裝置21是藉由電解而產生氫，例如可使用以固體高分子膜(PEM)方式為大家所熟知的裝置。此外，離子交換裝置22是使用離子交換樹脂等進行離子交換，包含於氫產生手段2較佳。此外，作為氫產生手段2也能藉由電解以外，惟使用電解較佳。若是電解，例如不使用氫氣鋼瓶(hydrogen cylinder)，可在約1MPa以下的低的壓力且在現場使用氫。而且，電解裝置21也可以為固體高分子膜(PEM)方式以外。

作為液體為水或茶、咖啡等的飲料，如上述為了藉由電解得到氫，至少包含水。此外，藉由使用水當使氫溶解時，可使其他的成分的影響成最小限度。之後液體是以水進行說明。

若一併參照圖2的話，由氫水生成裝置1的液體吸入口7吸入水(S1)，使來自氫產生手段2的氫合流並經由加壓型氣體溶解手段3的吸入口8以泵3a將氫混合於水(S2’)後進行加壓送水。使據此被加壓的氫溶解(S2)後，由該吐出口9吐出氫水。所吐出的氫水的一部分被分解(S2”)，藉由離子交換裝置22進行離子交換(S3)並送至電解裝置21。在電解裝置21中使用已被離子交換的氫水進行電解(S4)產生氫，使其與通過氫供給管24被送至加壓型氣體溶解手段3的吸入口8的水合流。而且，藉由電解產生的氧通過氧排出口25排出到氫水生成裝置1之外。

自加壓型氣體溶解手段3的吐出口9吐出未被分離的氫水在加壓狀態下被儲存於溶解槽4。也就是說，氫在溶解槽4中在加壓狀態下被溶解於水(S5)。儲存於溶解槽4的氫水藉由在降壓移送手段5之細管5a內維持層流狀態而流動而被降壓(S6)。

此處，已被降壓的氫水可藉由變換閥(change-over valve)11經由連接路徑12導引到加壓型氣體溶解手段3(S7’)。也就是說，可使氫水循環(S7)，可藉由加壓型氣體溶解手段3更進一步使氫混合於氫水並進行加壓送水並使其溶解。另一方面，也可藉由變換閥11將已被降壓的氫水導引至取出口10，使其吐出到外部(S8)。

而且，降壓移送手段5之細管5a的內徑X為1.0mm以上5.0mm以下較佳，比1.0mm大3.0mm以下更佳，2.0mm以上3.0mm以下最佳。藉由以如此的範圍，可在一條細管5a的管內形成層流，同時使其降壓。也就是說，可不使溶解的氫氣化而維持高濃度。此外，細管5a為雙管等也可以。

再者，20℃中的加壓型氣體溶解手段3的壓力Y以0.10~1.0MPa為佳，0.15~0.65MPa較佳，0.20~0.55MPa更佳，0.23~0.50MPa最佳。藉由以如此的範圍的壓力，可容易將氫溶解於水，可容易得到飽和狀態的氫水，並且可使藉由通常的泵進行的加壓為可能。而且，加壓型氣體溶解手段3將吐出口9的方向設置為朝上較佳。據此，可提高泵壓送效率，並提高氫的溶解效率。

進而，氫水生成裝置1如上述可藉由加壓型氣體溶解手段3加壓並將溶解了氫的水經由連接路徑12送至加壓型氣體溶解手段3，使其循環。據此，可提高氫的溶解濃度。

特別是如上述，在經由加壓型氣體溶解手段3、溶解槽4、管狀路徑之細管5a及連接路徑12的循環路徑中，各路徑或溶解槽4等取得氣密性，以使空氣等的其他的氣體不混入較佳。也就是說，氫與水填滿於該循環路徑，可防止其他的氣體的混入。據此，在形成於循環系路徑內的氣相的層中可提高氫的分壓，可高高地維持接觸該氣相的水的氫濃度。例如在溶解槽4中，由在過飽和的狀態下包含氫的水排出氫並能在上部以氣相的層儲存氫氣，而在這種氣相的層中可提高氫的分壓。

而且，藉由在加壓型氣體溶解手段3中一邊冒泡(bubbling)一邊進行加壓送水，不僅使氫溶解於氫水，也能以微細的氣泡使其存在。特別是可藉由使氫水循環並對氫進行加壓送水而使氫的氣泡更細小，生成奈米氣泡。藉由得到奈米氣泡，可長時間將氫氣的氣泡保持於氫水中，可容易得到並維持上述的過飽和的狀態。也就是說，到奈米氣泡自氫水浮起並移動至氣相的層為止的時間長，另一方面，氫水的氫濃度一降低就迅速地溶解於氫水而可高高地維持氫水的氫濃度。

再者，氫水生成裝置1具備控制氫產生手段2與加壓型氣體溶解手段3的控制機構6。控制機構6藉由電源插頭61連接於電源。而且，控制機構6藉由配線62連接於氫產生手段2，藉由配線63與加壓型氣體溶解手段3連接，可控制氫產生手段2及加壓型氣體溶解手段3的各自的動作。

進而，氫水生成裝置1藉由控制機構6控制氫產生手段2與加壓型氣體溶解手段3，以成為氫產生手段2與加壓型氣體溶解手段3的操作時間以5~60分鐘，且該操作時間的1~5倍的停止時間之反復較佳。操作時間進而以10~30分鐘較佳，以10~20分鐘更佳。而且，停止時間以操作時間的2~4倍更佳，以3倍最佳。藉由如此的控制，可在飽和狀態下能量效率(energy efficiency)佳地使氫溶解於液體，並且可維持氫水的過飽和的狀態。

而且，加壓型氣體溶解手段3的泵3a可同時將氫及水加壓並一邊冒泡一邊進行加壓送水，未被特別限定，但可適合使用隔膜泵。可藉由使用隔膜泵，將加壓型氣體溶解手段3配設於更小的空間。

再者，溶解槽4具有對裝置內的液體的總量1/3左右的容量較佳，配設複數個溶解槽4也可以。在圖1中具備兩個溶解桶41及42，而溶解桶41在內部包含由多孔體(porous body)等構成的微濾器(microfilter)，溶解桶42在內部包含活性碳濾器(activated carbon filter)，據此可更穩定地維持氫水的過飽和的狀態。

而且，作為溶解槽4只要能在加壓下溶解氫，形狀等就未被特別限定，微濾器或活性碳(碳)濾器為其他的濾器也可以。再者，溶解槽4自溶解桶41及42各個的上側取入溶解有氫的氫水，由下側送出較佳。據此，可將氫氣積存於溶解桶41及42中的上部並將氫水與氫氣分離，可僅將氫水送出到降壓移送手段5，可防止僅將氫氣送出到降壓移送手段5。

如圖3所示，例如氫水生成裝置1可連接於飲水機(water server)100而使用。也就是說，自飲水機100經由液體吸入口7將水吸入到氫水生成裝置1，藉由氫水生成裝置1使其循環，在過飽和的狀態下由取出口10使包含氫的氫水吐出而使用。此時，若自液體吸入口7取入空氣，則因會使循環路徑內的氣相中的氫分壓降低，故始終不使飲水機100缺水以能防止循環路徑內的氣相中的氫分壓降低較佳。若具備儲存槽(reservoir tank)，則在主槽(main tank)的更換時也不會缺水故較佳。

使用氫水生成裝置1進行了利用約30分鐘的循環的氫水的生成的結果，在使其由取出口10吐出的氫水中500nm以下的奈米氣泡被光學地觀察到，接著使其運轉3天的結果，200nm左右的奈米氣泡被光學地觀察到。也就是說，可隨著時間減小氫氣泡的平均直徑。藉由氫氣泡以奈米氣泡，可拉長到自氫水浮起為止的時間，可持續很長的期間容易維持過飽和的狀態。

在成為過飽和的狀態的氫水中，包含於氫水的氫的濃度在7℃下2.0~8.0ppm較佳。據此可容易維持氫水的過飽和的狀態。此外，也能使用溫水而使用於淋浴或入浴，惟此情形會使在過飽和的狀態下的氫濃度降低。

而且，降壓移送手段5之細管5a在不妨礙本發明的功效的範圍中可使用在使氫水流動時可使用的構件，例如可使用聚丙烯(polypropylene)製的細管。而且，在細管5a的外部蒸鍍鋁等，當作無氫的洩漏的構造較佳。

以下就本發明使用實施例更進一步詳細地說明，但本發明不是被限定於該等實施例。 [實施例]

(實施例1) 如圖3所示，將氫水生成裝置1連接於市面上販賣的飲水機100，使其進行了30分鐘的運轉。據此，氫水約循環4次。降壓移送手段5之細管5a使用內徑2mm長度1.6m的聚丙烯製的細管。加壓型氣體溶解手段3的壓力以0.41MPa，氫產生量以21cm³ /min，水的流量以730cm³ /min。藉由30分鐘的運轉得到的氫水中的氫濃度成為在7℃下6.5ppm，維持了過飽和的狀態。

(實施例2) 將氫水生成裝置1連接於自來水管，使其進行了30分鐘的運轉。據此，氫水約循環4次。降壓移送手段5之細管5a使用內徑2mm長度1.6m的聚丙烯製的細管。加壓型氣體溶解手段3的壓力以0.25MPa，氫產生量以21cm³ /min，水的流量以730cm³ /min。藉由30分鐘的運轉得到的氫水中的氫濃度成為在11℃下2.6ppm，維持了過飽和的狀態。

(實施例3) 如圖3所示，將氫水生成裝置1連接於市面上販賣的飲水機100，使其進行了30分鐘的運轉。據此，氫水約循環4次。降壓移送手段5之細管5a使用內徑2mm長度2.0m的聚丙烯製的細管。加壓型氣體溶解手段3的壓力以0.60MPa，氫產生量以15cm³ /min，水的流量以460cm³ /min。藉由30分鐘的運轉得到的氫水中的氫濃度成為在7℃下3.4ppm，維持了過飽和的狀態。

(實施例4) 如圖3所示，將氫水生成裝置1連接於市面上販賣的飲水機100，使其進行了30分鐘的運轉。據此，氫水約循環4次。降壓移送手段5之細管5a使用內徑2mm長度1.4m的聚丙烯製的細管。加壓型氣體溶解手段3的壓力以0.20MPa，氫產生量以30cm³ /min，水的流量以550cm³ /min。藉由30分鐘的運轉得到的氫水中的氫濃度成為在7℃下2.7ppm，維持了過飽和的狀態。

(實施例5) 如圖3所示，將氫水生成裝置1連接於市面上販賣的飲水機100，使其進行了30分鐘的運轉。據此，氫水約循環4次。降壓移送手段5之細管5a使用內徑3mm長度2.5m的聚丙烯製的細管。加壓型氣體溶解手段3的壓力以0.25MPa，氫產生量以20cm³ /min，水的流量以700cm³ /min。藉由30分鐘的運轉得到的氫水中的氫濃度成為在7℃下3.0ppm，維持了過飽和的狀態。

(比較例1) 如圖3所示，將氫水生成裝置1連接於市面上販賣的飲水機100，使其進行了30分鐘的運轉。據此，氫水約循環4次。降壓移送手段5之細管5a使用內徑2mm長度0.4m的聚丙烯製的細管。將加壓型氣體溶解手段3的壓力降低到0.05MPa，氫產生量以21cm³ /min，水的流量以960cm³ /min。藉由30分鐘的運轉得到的氫水中的氫濃度成為在7℃下1.6ppm，無法維持過飽和的狀態。

(比較例2) 如圖3所示，將氫水生成裝置1連接於市面上販賣的飲水機100，使其進行了30分鐘的運轉。據此，氫水約循環4次。降壓移送手段5之細管5a使用內徑3mm長度0.8m的聚丙烯製的細管。將加壓型氣體溶解手段3的壓力降低到0.08MPa，氫產生量以21cm³ /min，水的流量以900cm³ /min。藉由30分鐘的運轉得到的氫水中的氫濃度成為在7℃下1.8ppm，無法維持過飽和的狀態。

如以上，實施例1~實施例5都可得到過飽和狀態的氫水，且可持續地維持。另一方面，在比較例1及2中無法得到過飽和狀態的氫水。

1‧‧‧氫水生成裝置
2‧‧‧氫產生手段
3‧‧‧加壓型氣體溶解手段
3a‧‧‧泵
4‧‧‧溶解槽
5‧‧‧降壓移送手段
5a‧‧‧細管
6‧‧‧控制機構
7‧‧‧液體吸入口
8‧‧‧吸入口
9‧‧‧吐出口
10‧‧‧取出口
11‧‧‧變換閥
12‧‧‧連接路徑
21‧‧‧電解裝置
22‧‧‧離子交換裝置
24‧‧‧氫供給管
25‧‧‧氧排出口
41、42‧‧‧溶解桶
61‧‧‧電源插頭
62、63‧‧‧配線
100‧‧‧飲水機

圖1是顯示本發明的氫水生成裝置之方塊圖。 圖2是顯示本發明的氫水生成製程之流程圖。 圖3是顯示本發明的氫水生成裝置的使用的一例之方塊圖。

1‧‧‧氫水生成裝置

2‧‧‧氫產生手段

3‧‧‧加壓型氣體溶解手段

3a‧‧‧泵

4‧‧‧溶解槽

5‧‧‧降壓移送手段

5a‧‧‧細管

6‧‧‧控制機構

7‧‧‧液體吸入口

8‧‧‧吸入口

9‧‧‧吐出口

10‧‧‧取出口

11‧‧‧變換閥

12‧‧‧連接路徑

21‧‧‧電解裝置

22‧‧‧離子交換裝置

24‧‧‧氫供給管

25‧‧‧氧排出口

41、42‧‧‧溶解桶

61‧‧‧電源插頭

62、63‧‧‧配線

Claims (6)

1. 一種氫水生成裝置，使氫溶解於水並生成氫水而自取出口吐出氫水，其特徵在於包含： 產生氫之氫產生手段； 來自該氫產生手段的氫以氫氣泡而給予水並進行加壓送水之加壓型氣體溶解手段； 導引藉由該加壓型氣體溶解手段生成的氫水並儲存之溶解槽； 連接該溶解槽及該取出口之管狀路徑；以及 自該管狀路徑分岔而使該氫水循環於該加壓型氣體溶解手段之連接路徑， 以該加壓型氣體溶解手段、該溶解槽、該管狀路徑及該連接路徑當作循環路徑，至少在充滿氫之後使該氫水循環， 在飽和狀態下使氫包含於該氫水，並且使該氫水重複循環於該加壓型氣體溶解手段並將該氫氣泡壓壞當作奈米氣泡。
2. 如申請專利範圍第1項之氫水生成裝置，其中該溶解槽將來自該加壓型氣體溶解手段的該氫水與氫一起加壓儲存。
3. 如申請專利範圍第2項之氫水生成裝置，其中該溶解槽在至少其一部分給予濾器而維持該氫氣泡。
4. 如申請專利範圍第1項至第3項中任一項之氫水生成裝置，其中該加壓型氣體溶解手段包含隔膜泵。
5. 一種氫水生成方法，使氫溶解於水並生成氫水而自取出口吐出氫水，其特徵在於在包含如下構件的氫水生成裝置中： 產生氫之氫產生手段； 來自該氫產生手段的氫以氫氣泡而給予水並進行加壓送水之加壓型氣體溶解手段； 導引藉由該加壓型氣體溶解手段生成的氫水並儲存之溶解槽； 連接該溶解槽及該取出口之管狀路徑；以及 自該管狀路徑分岔而使該氫水循環於該加壓型氣體溶解手段之連接路徑， 以該加壓型氣體溶解手段、該溶解槽、該管狀路徑及該連接路徑當作循環路徑，至少在充滿氫之後使該氫水循環， 在飽和狀態下使氫包含於該氫水，並且使該氫水重複循環於該加壓型氣體溶解手段並將該氫氣泡壓壞當作奈米氣泡。
6. 如申請專利範圍第5項之氫水生成方法，其中給予該溶解槽至少200nm以下的平均直徑的氫氣泡。