TW201636508A - 低溫泵 - Google Patents

Abstract

本發明提供一種提高低溫泵的吸留極限之低溫泵。本發明的低溫泵(10)具備：將屏蔽件空腔(33)分隔為屏蔽件空腔上部(33a)與屏蔽件空腔下部(33b)之頂部低溫板(41)。放射屏蔽件(30)具有：將屏蔽件外側間隙(20)與屏蔽件空腔下部(33b)連通之屏蔽件主狹縫(36)。放射屏蔽件(30)可以具有屏蔽件輔助狹縫(37)，該屏蔽件輔助狹縫(37)係在低溫泵(10)的軸向上形成於與屏蔽件主狹縫(36)不同之位置，且用於將屏蔽件外側間隙(20)與屏蔽件空腔下部(33b)連通。屏蔽件輔助狹縫(37)可以在軸向上形成於頂部低溫板(41)與屏蔽件主狹縫(36)之間。

Description

低溫泵

本申請主張基於2015年3月31日於日本申請的日本專利申請第2015-073196、2015-073197號的優先權。該日本申請的全部內容藉由參閱援用於本說明書中。

本發明係有關一種低溫泵。

低溫泵係藉由冷凝或吸附將氣體捕捉到冷卻至超低溫的低溫板的真空泵。如此，低溫泵對安裝了低溫泵之真空腔室進行排氣。

低溫泵一般具備：冷卻至某一溫度之第1低溫板及冷卻至比第1低溫板更低的溫度之第2低溫板。第1低溫板包括放射屏蔽件。隨著低溫泵的使用，在第2低溫板上氣體的冷凝層會成長。冷凝層可與放射屏蔽件、或第1低溫板的某一部分接觸。如此一來，在該接觸場所氣體再度氣化而導致低溫泵內部的壓力上升。之後，低溫泵就無法充分發揮真空腔室的排氣這一原來的作用。因此，在冷凝層與第1低溫板接觸的時刻的氣體吸留量賦予低溫泵之吸留極限。

(先前技術文獻) (專利文獻)

專利文獻1：國際公開第2005/050018號

本發明之一態樣的示例性目的之一在於提高低溫泵的吸留極限。

依本發明的一態樣，提供一種低溫泵系統，其具備：低溫泵容器，係具有低溫泵吸氣口；冷凍機，備具備容納於前述低溫泵容器之高溫冷卻台和低溫冷卻台；放射屏蔽件，其在前述低溫泵吸氣口具有屏蔽件主開口且用於界定與前述屏蔽件主開口在軸向上連續之屏蔽件空腔，係與前述高溫冷卻台熱耦合且將前述低溫冷卻台收容在前述屏蔽件空腔，並在其與前述低溫泵容器之間形成屏蔽件外側間隙；及複數個低溫板，各低溫板係分別與前述低溫冷卻台熱耦合且與前述放射屏蔽件非接觸地配設於前述屏蔽件空腔，前述複數個低溫板係包括：將前述屏蔽件空腔分隔為屏蔽件空腔上部與屏蔽件空腔下部的頂部低溫板，前述放射屏蔽件進一步具有：屏蔽件主狹縫，用於將前述屏蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通；及屏蔽件輔助狹 縫，在前述軸向上形成於與前述屏蔽件主狹縫不同之位置，且用於將前述蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通。

依本發明的一形態，提供一種低溫泵，其具備：低溫泵容器，係具有低溫泵吸氣口；冷凍機，係具備容納於前述低溫泵容器的高溫冷卻台和低溫冷卻台；放射屏蔽件，其在前述低溫泵吸氣口具有屏蔽件主開口且用於界定與前述屏蔽件主開口在軸向上連續之屏蔽件空腔，係與前述高溫冷卻台熱耦合且將前述低溫冷卻台收容在前述屏蔽件空腔，並在其與前述低溫泵容器之間形成屏蔽件外側間隙；及複數個低溫板，各低溫板係分別與前述低溫冷卻台熱耦合且與前述放射屏蔽件非接觸地配設於前述屏蔽件空腔，前述複數個低溫板係包括：頂部低溫板，用於將前述屏蔽件空腔分隔為屏蔽件空腔上部與屏蔽件空腔下部；及第1下方低溫板，配設於前述屏蔽件空腔下部，前述放射屏蔽件進一步具有：將前述屏蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通之屏蔽件主狹縫，在前述頂部低溫板與前述放射屏蔽件之間形成徑向間隔，前述第1下方低溫板具備第1下方低溫板外周端，在該第1下方低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成第1徑向間隔，前述第1徑向間隔比前述徑向間隔更寬。

另外，將本發明的構成要件或表現形式在方法、裝置及系統等之間相互替換的技術亦作為本發明之方式有效。

依本發明，能夠提高低溫泵的吸留極限。

10‧‧‧低溫泵

12‧‧‧吸氣口

16‧‧‧冷凍機

18‧‧‧低溫泵容器

20‧‧‧屏蔽件外側間隙

22‧‧‧第1冷卻台

24‧‧‧第2冷卻台

30‧‧‧放射屏蔽件

31‧‧‧屏蔽件主開口

32‧‧‧板構件

33‧‧‧屏蔽件空腔

33a‧‧‧屏蔽件空腔上部

33b‧‧‧屏蔽件空腔下部

34‧‧‧屏蔽件底部

36‧‧‧屏蔽主狹縫

37‧‧‧屏蔽輔助狹縫

38‧‧‧屏蔽件上部

40‧‧‧屏蔽件下部

41‧‧‧頂部低溫板

41a‧‧‧頂部低溫板外周端

42‧‧‧第1下方低溫板

42a‧‧‧第1下方低溫板外周端

42b‧‧‧第1下方低溫板側表面

43‧‧‧第2下方低溫板

43a‧‧‧第2下方低溫板外周端

43b‧‧‧第2下方低溫板側表面

44‧‧‧底部低溫板

44a‧‧‧底部低溫板外周端

44b‧‧‧底部低溫板中心開口

45‧‧‧連接低溫板

50‧‧‧徑向間隙

52‧‧‧第1徑向間隔

54‧‧‧第2徑向間隔

56‧‧‧中心空間部

58‧‧‧底部間隙

60‧‧‧環狀空間部

62‧‧‧軸向低溫板間隔

第1圖係示意表示本發明的一實施形態之低溫泵的主要部分之俯視圖。

第2圖係示意表示第1圖所示之低溫泵A-A線截面。

第3圖係示意表示本發明的一實施形態之低溫泵的一結構性特徵之部分剖面圖。

第4圖係示意表示本發明的一實施形態之低溫泵的一結構性特徵之部分剖面圖。

第5圖係示意表示本發明的一實施形態之低溫泵的一結構性特徵之部分剖面圖。

以下，參閱附圖對本發明的實施形態進行詳細說明。另外，在說明中，對相同要件賦予相同符號，並適當省略重複說明。並且，以下敘述的結構為示例，並不對本發明的範圍做任何限定。

首先，對完成本發明的一實施形態的原委與其概要進行說明。

具有複數個第2低溫板的低溫泵中，取決於各第2低溫板的配置場所，每一個第2低溫板上的冷凝層的成長的 速度不同。如果某一第2低溫板接近低溫泵吸氣口等的氣體入口，則許多氣體可從氣體入口到達該第2低溫板，因此堆積在該第2低溫板的冷凝層會快速成長。相反的，堆積在遠離氣體入口之另一第2低溫板的冷凝層會緩慢成長。

複數個第2低溫板可以包括：面對低溫泵吸氣口的頂部低溫板。頂部低溫板可以使用大型平板構件，該大型平板構件是以將放射屏蔽件內的空腔分隔為低溫泵吸氣口側之空腔上部、其相反側的空腔下部之方式配設於該空腔。但是，頂部低溫板，尤其頂部低溫板的外周，為了維持溫度差而與放射屏蔽件成為非接觸。空腔上部直接從吸氣口接收氣體，因此在頂部低溫板的前表面冷凝層會快速成長。另一方面，在空腔下部冷凝層的成長緩慢。因此，在空腔上部成長的冷凝層與放射屏蔽件接觸時，也許在空腔下部在冷凝層的周圍還留有空餘處。

如此，在某一場所成長的冷凝物塊與第1低溫板接觸時，也許在其他場所在冷凝層與第1低溫板之間還留有空餘處、亦即能夠容納冷凝層的容積。這係指低溫泵的吸留極限存在潛在的餘力。

藉由減少未被利用的空餘處，將低溫泵內部空間的利用率提高，能夠提高低溫泵的吸留極限。理想的是，如果冷凝物在所有場所同時與第1低溫泵接觸，則此時未被利用的空餘處消失(亦即，低溫泵內完全被冷凝層填滿)，低溫泵的吸留極限成為最大化。

為了減少空餘處，期望縮小每一個第2低溫板的冷凝層的成長速度的差別，亦即要求冷凝層成長速度的均一化。與此同時或取而代之，期望將與每一個第2低溫板相鄰之冷凝物容納容積按照在該第2低溫板的冷凝層成長速度進行調整。

決定在某一第2低溫板的冷凝層成長速度之主要因素在於，與該第2低溫板相對應之氣體入口的開口面積。例如，氣體入口越寬，冷凝層越快速成長。此外，冷凝層成長速度亦會受到氣體入口與第2低溫板的相對位置關係(例如，氣體入口與第2低溫板的距離，及/或第2低溫板相對於氣體入口的角度位置)的影響。例如，第2低溫板越接近氣體入口，冷凝層越快速成長。第2低溫板的角度位置越接近氣體入口的法線，冷凝層越快速成長。

因此，依據本發明的一實施形態，將低溫泵設計成，使冷凝層在某一第2低溫板與另一第2低溫板上實質均一化的速度進行成長。例如，使頂部低溫板與配置於屏蔽件空腔下部的某一第2低溫板具有均一化的冷凝層成長速度。或者，使配置於屏蔽件空腔下部的某一第2低溫板與另一第2低溫板具有均一化的冷凝層成長速度。例如，在一實施形態中，將朝向屏蔽件空腔下部的氣體進入路徑及/或屏蔽件空腔下部的低溫板配置設計成使冷凝層的成長均一化。

此外，在某一第2低溫板的冷凝層成長速度越大，可以在該第2低溫板的周圍形成有越大的冷凝層容納容積。 可以設定該第2低溫板與其他低溫板(第1低溫板、及/或另一第2低溫板)的幾何學相對位置(例如，低溫板間的距離、及/或低溫板間所呈的角度)，以實現上述情況。

如此一來，可實際上使用低溫泵的未被利用的餘力，而提高低溫泵內部空間的利用率。因此，能夠提高低溫泵的吸留極限。

第1圖是示意表示本發明的一實施形態之低溫泵10的局部的俯視圖，第2圖是示意表示第1圖所示之低溫泵10的A-A線剖面圖。

低溫泵10例如安裝於真空處理裝置之真空腔室，並用於將真空腔室內部的真空度提高至所希望的製程所要求的程度。安裝有低溫泵10的真空處理裝置例如為濺鍍裝置。

低溫泵10具有用於接收氣體的吸氣口12。待排氣的氣體從安裝有低溫泵10的真空腔室通過吸氣口12進入低溫泵10的內部空間。

另外，以下為了便於理解低溫泵10的構成要件的位置關係，有時使用“軸向”、“徑向”等用語。軸向表示通過吸氣口12的方向(第2圖中沿表示中心線C的一點鏈線的方向)，徑向表示沿吸氣口12的方向(與中心線C垂直的方向)。為了方便起見，有時將在軸向上相對靠近吸氣口12的方向稱作“上”，相對遠離的方向稱作“下”。亦即，有時將相對遠離低溫泵10的底部的方向稱作“上”，相對靠近的方向稱作“下”。在徑向上，有 時將靠近吸氣口12的中心(第2圖中為中心軸C)的方向稱作“內”，將靠近吸氣口12的周緣的方向稱作“外”。另外，這種表現形式與低溫泵10安裝於真空腔室時的配置無關。例如，低溫泵10亦可以在鉛直方向使吸氣口12朝下而安裝於真空腔室。

此外，有時將圍繞軸向之方向稱作“周方向”。周方向為沿吸氣口12的第2方向，且為與徑向正交之切線方向。

低溫泵10具備冷凍機16、至少一個第1低溫板、至少一個第2低溫板及低溫泵容器18。

冷凍機16例如係吉福德-麥克馬洪式冷凍機(所謂的GM冷凍機)等超低溫冷凍機。冷凍機16係具備第1冷卻台22、第1壓缸23、第2冷卻台24及第2壓缸25的二段式冷凍機。第1壓缸23係將冷凍機16的室溫部連接於第1冷卻台22。第2壓缸25為將第1冷卻台22連接於第2冷卻台24的連接部分。

圖示之低溫泵10為所謂的臥式低溫泵。臥式低溫泵通常係指冷凍機16配設成與低溫泵10的中心軸C交叉(通常為正交)的低溫泵。以冷凍機16的第1壓缸23、第1冷卻台22、第2壓缸25及第2冷卻台24依序沿低溫泵10的徑向排列之方式配設冷凍機16。

另外，本發明亦同樣能夠適用於所謂的立式低溫泵。立式低溫泵係指冷凍機沿低溫泵的軸向配設的低溫泵。

冷凍機16構成為將第1冷卻台22冷卻至第1冷卻溫 度，將第2冷卻台24冷卻至第2冷卻溫度。第2冷卻溫度低於第1冷卻溫度。因此，第1冷卻台22和第2冷卻台24分別可以稱為高溫冷卻台和低溫冷卻台。

第1冷卻台22與第1低溫板熱耦合，並將第1低溫板冷卻至第1冷卻溫度。第2冷卻台24與第2低溫板熱耦合，並將第2低溫板冷卻至第2冷卻溫度。第1冷卻台22和第1低溫板被冷卻至例如65K~120K左右，被冷卻至80K~100K為較佳，第2冷卻台24和第2低溫板被冷卻至例如10K~20K左右。

低溫泵容器18係容納第1低溫板和第2低溫板的低溫泵10的殼體。並且，低溫泵容器18容納冷凍機16的低溫部，亦即容納第1壓缸23、第1冷卻台21、第2壓缸25及第2冷卻台24。低溫泵容器18為將其內部空間保持為氣密之真空容器。低溫泵容器18安裝於冷凍機16的室溫部。

低溫泵容器18具備：用於劃定吸氣口12之吸氣口凸緣19。吸氣口凸緣19從低溫泵容器18的前端遍及全周朝向徑向外側延伸。低溫泵10使用吸氣口凸緣19安裝於真空腔室。

第1低溫板具備放射屏蔽件30及入口低溫板(例如板構件32)。放射屏蔽件30具有屏蔽件主開口31。屏蔽件主開口31在俯視觀察時包括於吸氣口12。放射屏蔽件30在其內部界定屏蔽件空腔33。屏蔽件空腔33與屏蔽件主開口31在軸向連續。放射屏蔽件30在軸向上與屏蔽件 主開口31相反的一側具備屏蔽件底部34。屏蔽件空腔33在屏蔽件底部34終止。放射屏蔽件30的詳細內容將後述。

入口低溫板為了保護第2低溫板免受來自低溫泵10外部的輻射熱而配設於屏蔽件主開口31。低溫泵10的外部熱源例如為安裝有低溫泵10的真空腔室內的熱源。並且，在入口低溫板的表面捕捉於第1冷卻溫度下冷凝的氣體(例如水)。

入口低溫板不僅限制輻射熱的進入，還限制朝向屏蔽件空腔33的氣體分子進入。入口低溫板占據吸氣口12的開口面積的一部分(例如大部分)，以將通過屏蔽件主開口31朝向屏蔽件空腔33流入的氣體限制成所希望的量。

入口低溫板係具備：用於在屏蔽件主開口31形成入口開口部的有孔構件。入口開口部為形成於有孔構件的至少一個開口(例如小孔32a)。有孔構件可以為覆蓋屏蔽件主開口31的單一板構件32。代替單一板構件32，入口低溫板例如可以具備複數個小板，或者具備形成為同心圓狀或格柵狀的百葉窗或人字形構造。

放射屏蔽件30朝向軸向上方超過吸氣口凸緣19而延伸，因此入口低溫板在軸向位於吸氣口凸緣19的上方。因此，放射屏蔽件30的前端及入口低溫板位於低溫泵容器18的外部。如此，放射屏蔽件30朝向安裝有低溫泵10的真空腔室延伸。藉由將放射屏蔽件30朝向上方延伸，能夠在軸向擴大屏蔽件空腔33、亦即冷凝層的容納 容積。但是，該延伸部分的軸向長度被設定為不致干擾真空腔室(或在真空腔室與低溫泵10之間的閘閥)。

板構件32係橫跨屏蔽件主開口31的一片平板(例如圓板)。板構件32的尺寸(例如直徑)與屏蔽件主開口31的尺寸幾乎相等。放射屏蔽件30的前端與板構件32之間在軸向及/或徑向亦可以具有些許的間隙。

板構件32的前表面露出於低溫泵10的外部空間。在板構件32上貫穿有：容許從低溫泵10的外部朝向內部的氣體流動的複數個小孔32a。圖示之板構件32的中心部具有小孔32a，且在外周部不具有小孔32a。但是，板構件32的外周部亦可以形成小孔32a。小孔32a有規則地排列。小孔32a分別在正交的兩個直線方向上等間隔地設置而形成小孔32a的格子。作為代替方案，小孔32a亦可以分別在徑向及周方向上等間隔地設置。

小孔32a的形狀例如係圓形，但不限於此，小孔32a亦可以係具有矩形的其他形狀的開口、直線狀或曲線狀延伸的狹縫、或者形成於板構件32的外周的缺口。小孔32a的大小明顯小於屏蔽件主開口31。

板構件32在其外周部安裝於接合塊29。接合塊29係從放射屏蔽件的前端朝向徑向內側突出的凸部，在周方向上等間隔(例如每隔90°)地形成。板構件32藉由適當的方法固定於接合塊29。例如，接合塊29及板構件32具有螺栓孔(未圖示)，板構件32藉由螺栓緊固於接合塊29。

在板構件32的背面及放射屏蔽件30的內表面可以實施提高輻射率之表面處理，例如黑體處理。藉此，板構件32的背面及放射屏蔽件30的內表面的輻射率幾乎等於1。黑色表面例如可以藉由在銅基材的表面鍍黑色鉻而形成，亦可以藉由黑色塗裝而形成。這種黑色表面有助於吸收進入到低溫泵10之熱量。

另一方面，為了反射來自外部的輻射熱，在板構件32的前表面及第2低溫板可以實施降低輻射率之表面處理。這種低輻射率的表面亦可以藉由例如在銅基材的表面鍍鎳而形成。

第2低溫板的詳細內容將後述，其係具備頂部低溫板41、第1下方低溫板42、第2下方低溫板43、底部低溫板44及連接低溫板45。這些第2低溫板分別與第2冷卻台24熱耦合，且與放射屏蔽件30及板構件32非接觸地配設於屏蔽件空腔33。頂部低溫板41將屏蔽件空腔33分隔為屏蔽件空腔上部33a、屏蔽件空腔下部33b。

冷凍機16的第1冷卻台22直接安裝於放射屏蔽件30的側部外表面。如此一來，放射屏蔽件30與第1冷卻台22熱耦合，因此被冷卻至第1冷卻溫度。另外，放射屏蔽件30亦可以經由適當的傳熱構件安裝於第1冷卻台22。並且，冷凍機16的第2冷卻台24及第2壓缸25從放射屏蔽件30的側部插入到屏蔽件空腔33。如此一來，放射屏蔽件30將第2冷卻台24收容在屏蔽件空腔33。

放射屏蔽件30是為了保護第2低溫板免受來自低溫 泵容器18的輻射熱而設置的。放射屏蔽件30位於低溫泵容器18與第2低溫板之間，且內含第2低溫板。放射屏蔽件30具有稍微小於低溫泵容器18的直徑。因此，放射屏蔽件30與低溫泵容器18之間形成有屏蔽件外側間隙20，放射屏蔽件30並未與低溫泵容器18接觸。

放射屏蔽件30在其側部具有至少一個副開口。副開口將屏蔽件外側間隙20與屏蔽件空腔33連通。例如，放射屏蔽件30具有屏蔽件主狹縫36及至少一個屏蔽件輔助狹縫37。屏蔽件輔助狹縫37在軸向上形成於與屏蔽件主狹縫不同之位置。屏蔽件主狹縫36及屏蔽件輔助狹縫37分別個別地將屏蔽件外側間隙20與屏蔽件空腔下部33b連通。這些複數個氣體流入口有助於屏蔽件空腔下部33b中的冷凝層成長速度的均一化。

屏蔽件主狹縫36可以是形成於放射屏蔽件30的某一軸向位置的1個以上之周方向細長開口。複數個細長開口可以在周方向離散地形成。同樣，屏蔽件輔助狹縫37可以是形成於放射屏蔽件30的某一軸向位置的1個以上的周方向細長開口。

屏蔽件輔助狹縫37在軸向上形成於頂部低溫板41與屏蔽件主狹縫36之間。這種輔助氣體流入口將氣體從屏蔽件外側間隙20引導至形成於頂部低溫板41的正下方之空餘空間(亦即屏蔽件空腔下部33b的上方區域)。屏蔽件輔助狹縫37有助於屏蔽件空腔下部33b中的冷凝層成長速度的均一化。

放射屏蔽件30包含複數個零件，其整體呈筒狀形狀。放射屏蔽件30具備屏蔽件上部38及屏蔽件下部40。屏蔽件上部38係兩端開放的圓筒，且包圍屏蔽件空腔上部33a。屏蔽件下部40係具有屏蔽件底部34的有底圓筒，且包圍屏蔽件空腔下部33b。另外，放射屏蔽件30亦可以係具有屏蔽件主狹縫36之單一的有底圓筒構件。

屏蔽件主狹縫36設定在屏蔽件上部38的下端與屏蔽件下部40的上端之間。屏蔽件主狹縫36位於軸向中央部，且沿周方向包圍冷凍機16的第2冷卻台24。

屏蔽件主狹縫36具有主狹縫寬度，屏蔽件輔助狹縫37具有輔助狹縫寬度。主狹縫寬度比輔助狹縫寬度更寬。在此，狹縫寬度係指與周方向正交的方向的狹縫尺寸(例如，第2圖中用兩個箭頭表示的狹縫寬度)。例如，主狹縫寬度亦可以係屏蔽件上部38的下端與屏蔽件下部40的上端的距離。輔助狹縫寬度亦可以係屏蔽件輔助狹縫37的軸向尺寸。

屏蔽件上部38的直徑稍小於屏蔽件下部40的直徑。並且，屏蔽件上部38的下端位於比屏蔽件下部40的上端更靠軸向上方。如此一來，屏蔽件主狹縫36露出於吸氣口12。因此，能夠增加從吸氣口12通過屏蔽件外側間隙20進入到屏蔽件主狹縫36的氣體。這將加快屏蔽件空腔下部33b中的冷凝層的成長，因此能夠使屏蔽件空腔下部33b中的冷凝層成長速度接近於屏蔽件空腔上部33a中的冷凝層成長速度。

另外，屏蔽件上部38亦可以係與屏蔽件下部40相同的直徑，屏蔽件上部38的直徑亦可以係大於屏蔽件下部40的直徑。此外，屏蔽件上部38亦可以進入屏蔽件下部40，即屏蔽件上部38的下端可以位於比屏蔽件下部40的上端更靠軸向下方。屏蔽件主狹縫36亦可以位於冷凍機16的軸向上方或軸向下方。

屏蔽件上部38分割成2個構件，亦即屏蔽件上部主體38a及屏蔽件環狀構件38b。屏蔽件環狀構件38b安裝於屏蔽件上部主體38a的軸向下端，並沿周方向延伸。屏蔽件環狀構件38b係將屏蔽件上部主體38a在軸向連接於屏蔽件下部40之連接構件。屏蔽件輔助狹縫37貫穿設置於屏蔽件環狀構件38b。這種分割結構能夠賦予製造上的優點。例如，在不具有屏蔽件輔助狹縫37的放射屏蔽件安裝屏蔽件環狀構件38b，藉此能夠追加屏蔽件輔助狹縫37。

另外，屏蔽件上部38亦可以係單一構件。屏蔽件輔助狹縫37亦可以形成於屏蔽件下部40。亦可以在屏蔽件上部38及屏蔽件下部40的至少一者設有複數個輔助狹縫37。

頂部低溫板41係與軸向垂直地配置的圓板狀構件。頂部低溫板41的前表面隔著屏蔽件空腔下部33a與板構件32的背面對置。頂部低溫板41的中心部直接安裝於冷凍機16的第2冷卻台24的上表面。第2冷卻台24位於低溫泵10的屏蔽件空腔33的中心部。如此一來，屏蔽件 空腔上部33a賦予較大的冷凝層容納容積。在頂部低溫板41的前表面未設置活性碳等的吸附劑。另外，可以在頂部低溫板41的背面設有吸附劑。

頂部低溫板41比較大。從頂部低溫板41的中心到頂部低溫板外周端41a的徑向距離46，係從屏蔽件主開口31的中心到放射屏蔽件30的前端的徑向距離的70%以上。亦即，頂部低溫板41的半徑係屏蔽主開口31的半徑的70%以上。並且，頂部低溫板41的直徑係屏蔽主開口31的直徑的98%以上。如此一來，頂部低溫板41能夠確實地與放射屏蔽件30成為非接觸。頂部低溫板41的軸向投影面積可以係從屏蔽件主開口31的50%至95%為止的面積，較佳為從73%至90%的面積。

頂部低溫板41在其與放射屏蔽件30之間形成徑向間隙50。在頂部低溫板外周端41a與屏蔽件上部38(例如，屏蔽件上部主體38a)之間形成徑向間隙50。頂部低溫板外周端41a在軸向位於屏蔽件主狹縫36的上方。頂部低溫板41係與軸向垂直的平板，因此頂部低溫板41整體在軸向位於屏蔽件主狹縫36的上方。

除了頂部低溫板41外之其他的第2低溫板，亦即第1下方低溫板42、第2下方低溫板43、底部低溫板44及連接低溫板45都配設於屏蔽件空腔下部33b。

頂部低溫板41、第1下方低溫板42、第2下方低溫板43及底部低溫板44各自的中心位於低溫泵10的中心軸C上。頂部低溫板41、第1下方低溫板42、第2下方 低溫板43及底部低溫板44以同軸配設。連接低溫板45在中心軸C的兩側沿中心軸C配設。

第1下方低溫板42和第2下方低溫板43配設於頂部低溫板41的下方。第1下方低溫板42在軸向配設於頂部低溫板41與底部低溫板44之間。第2下方低溫板43在軸向配設於第1下方低溫板42與底部低溫板44(或者屏蔽件底部34)之間。

這些2個低溫板的形狀與頂部低溫板41的形狀不同。第1下方低溫板42具有圓錐台側面的形狀，亦即所謂的傘狀的形狀。第2下方低溫板43亦同樣為傘狀。在各下方低溫板設有活性碳等的吸附劑。吸附劑例如黏著於下方低溫板的背面。因此，下方低溫板的前表面作為冷凝面，且背面作為吸附面而發揮作用。

第1下方低溫板42具有第1直徑47，第2下方低溫板43具有第2直徑48。第2直徑48比第1直徑47更大。亦即，第2下方低溫板43為比第1下方低溫板42更大型的傘狀低溫板。

但是，第1下方低溫板42和第2下方低溫板43的直徑都小於頂部低溫板41的直徑。第1下方低溫板42配設成，比頂部低溫板外周端41a的沿軸向平行的切線(沿軸向平行的頂部低溫板41的投影線)66在徑向上更靠內側(參閱第4圖)。第2下方低溫板43配設成，比頂部低溫板外周端41a的沿軸向平行的切線66在徑向上更靠內側。同樣地，第1下方低溫板42和第2下方低溫板43的 直徑都小於底部低溫板44的直徑。

第1下方低溫板42在其與放射屏蔽件30之間形成第1徑向間隔52。第1徑向間隔52形成於第1下方低溫板外周端42a與屏蔽件上部38(例如，屏蔽件環狀構件38b)之間。第1徑向間隔52比徑向間隔50更寬。如此一來，較大的環狀冷凝層容納容積形成於頂部低溫板41的軸向正下方。該容積係屏蔽件空腔下部33b的一部分。

該空餘空間在其上部通過徑向間隔50與屏蔽件空腔上部33a連通，且在該空間的軸向中央部通過屏蔽件輔助狹縫37與屏蔽件外側間隙20連通，且在該空間的下部通過屏蔽件主狹縫36與屏蔽件外側間隙20連通。並且，該空間在軸向上方與頂部低溫板41的背面相鄰，且在徑向外側與屏蔽件上部38相鄰，且在徑向外側與第1下方低溫板側表面42b相鄰。

第1下方低溫板側表面42b為圓錐狀的傾斜面，第1下方低溫板側表面42b的徑向最外側具有第1下方低溫板外周端42a。第1下方低溫板外周端42a也是第1下方低溫板42的軸向下端。另外，第1下方低溫板側表面42b亦可以係圓筒面。從第1下方低溫板側表面42b的軸向上端朝向徑向內側具有第1下方低溫板中心部42c。第1下方低溫板中心部42c直接安裝於冷凍機16的第2冷卻台24的上表面，且與第2冷卻台24熱耦合。

第1下方低溫板外周端42a以無法從屏蔽件主開口31看見之方式被頂部低溫板41覆蓋。如此，第1下方低 溫板外周端42a相對於頂部低溫板外周端41a位於徑向的非常內側。藉此，能夠擴展頂部低溫板41正下方的空間。

第1下方低溫板外周端42a在軸向上位於頂部低溫板41與屏蔽件主狹縫36之間。因此，第1下方低溫板42與屏蔽件輔助狹縫37同樣，位於屏蔽件主狹縫36的上方。藉此，第1下方低溫板42能夠有效地接收從屏蔽件輔助狹縫37進入之氣體。並且，從屏蔽件主狹縫36朝向屏蔽件空腔下部33b傾斜向下進入的氣體的大部分通過第1下方低溫板外周端42a的下側。因此，能夠使該氣體朝向第2下方低溫板43。

第2下方低溫板43在其與放射屏蔽件30之間形成第2徑向間隔54。在第2下方低溫板外周端43a與屏蔽件下部40之間形成第2徑向間隔54。第2徑向間隔54比徑向間隔50更寬。如此一來，形成有較大的環狀冷凝層容納容積。該容積為屏蔽件空腔下部33b的一部分，且與頂部低溫板41正下方的空間一起形成環狀空間部60。

該空餘空間在其上部在徑向外側通過屏蔽件主狹縫36與屏蔽件外側間隙20連通，且在該空間的上部在徑向內側與中心空間部56連通，並在該空間的下部與底部間隙58連通。該空間在徑向外側與屏蔽件下部40相鄰，且在徑向內側與第2下方低溫板側表面43b和連接低溫板45相鄰，且在軸向下方與底部低溫板44和屏蔽件底部34相鄰。

第2下方低溫板側表面43b係圓錐狀的傾斜面，第2下方低溫板側表面43b的徑向最外側具有第2下方低溫板外周端43a。從第2下方低溫板側表面43b的軸向上端朝向徑向內側具有第2下方低溫板中心部43c。第2下方低溫板中心部43c也是第2下方低溫板43的軸向上端。第2下方低溫板中心部43c安裝於連接低溫板45。第2下方低溫板43經由連接低溫板45與第2冷卻台24熱耦合。

底部低溫板44係與軸向垂直地配置的圓板狀構件。底部低溫板44在其兩面可具備吸附劑。底部低溫板44係在其與屏蔽件底部34之間形成底部間隙58。

底部低溫板44具備：在軸向位於屏蔽件主狹縫36的下方的底部低溫板外周端44a。底部低溫板44靠近於屏蔽件底部34。從底部低溫板外周端44a到放射屏蔽件30(例如屏蔽件底部34)的距離65為與屏蔽件主狹縫36的寬度相同的程度(例如2倍以內)。藉此，能夠將某一程度的氣體引導至底部間隙58。並且，底部低溫板44具有底部低溫板中心開口44b。

連接低溫板45從第2冷卻台24朝向底部低溫板44延伸，並且將底部低溫板44與第2冷卻台24熱耦合。連接低溫板45的上端安裝於第2冷卻台24，且下端安裝於底部低溫板44。

連接低溫板45係將第2冷卻台24的徑向兩側朝向軸向延伸的一組細長板狀構件。在這些板狀構件相對向的內表面之間形成中心空間部56。中心空間部56係與連接低 溫板45的內表面在徑向相鄰且與第2冷卻台24的下方在軸向相鄰。並且，中心空間部56亦能夠作為冷凝層容納容積利用。

除了上述說明之外，低溫泵10進一步安裝若干顯著的結構特徵。並且，這些特徵亦有助於提高吸留極限。接著，參閱第3圖至第5圖，對這些特徵進行說明。

如第3圖所示，第1下方低溫板42的軸向下端與第2下方低溫板43的軸向上端的軸向低溫板間隔62，係從頂部低溫板41的中心到頂部低溫板外周端41a的徑向距離的40%以上。亦即，軸向低溫板間隔62係頂部低溫板41的直徑的20%以上。如此，藉由隔開2個低溫板，能夠在屏蔽件空腔下部33b提供在軸向較大的冷凝層容納容積。

環狀空間部60形成於頂部低溫板外周端41a與底部低溫板外周端44a之間。低溫板外周端41a隔著環狀空間部60與底部低溫板外周端44a直接相對向。頂部低溫板41位於屏蔽件主狹縫36的上方，因此環狀空間部60帶來朝向屏蔽件主狹縫36的軸向兩側擴展之較大的冷凝層容納容積。

從頂部低溫板外周端41a到底部低溫板外周端44a的軸向間隙63，係從頂部低溫板41的中心到從頂部低溫板外周端41a的徑向距離(例如頂部低溫板41的半徑)以上。這有助於擴大環狀空間60。並且，軸向間隙63比從頂部低溫板外周端41a到屏蔽件底部34的軸向距離更 短。如此一來，能夠將底部低溫板44配置成與屏蔽件底部34成為非接觸。

中心空間部56通過第1下方低溫板42與第2下方低溫板43的軸向低溫板間隔62而與環狀空間部60連通。能夠在中央空間部56從環狀空間部60接收氣體，因此能夠有效地利用中心空間部56作為冷凝層容納容積。

並且，中心空間部56藉由底部低溫板中心開口44b與底部間隙58連通。這亦有助於氣體朝向中心空間部56流入。

如第4圖所示，環狀空間部60包括低溫板無配置區域(cryopanel-less zone)64。關於徑向，低溫板無配置區域64被劃定在：第2下方低溫板外周43a的沿軸向平行的切線67與頂部低溫板外周端41a的沿軸向平行的切線66之間。關於軸向，低溫板無配置區域64被劃定在頂部低溫板41與底部低溫板44(或者第2下方低溫板43)之間。低溫板無配置區域64為朝向周方向延伸的環狀區域。

第1下方低溫板外周端42a位於比低溫板無配置區域64更靠徑向內側，因此第1下方低溫板42位於比低溫板無配置區域64更靠徑向內側。並且，連接低溫板45位於比低溫板無配置區域64更靠徑向內側。在低溫泵10中，插入於低溫板無配置區域64的低溫板並不存在。

典型的低溫泵，為了增加氣體吸留量而將複數個低溫板緊密地排列。此時，低溫板彼此的間隙相當窄。冷凝層 在低溫板上成長時，冷凝容易集中在低溫板間隙的入口。造成入口被冷凝層堵塞，而在低溫板間隙的深部存留空餘處。因此，只要是基於將多數低溫板緊密地排列的常識性設計，就無法充分提高低溫泵內部空間的利用效率。

與此相對，在低溫泵10，將少數第2低溫板配置於低溫板無配置區域64的外部，以確保低溫板無配置區域64。藉此，能夠提高低溫泵內部空間的利用率，且能夠提高低溫泵10的吸留極限。

另外，低溫板無配置區域64亦可以被劃定在第1下方低溫板外周端42a的沿軸向平行的切線68與頂部低溫板外周端41a的沿軸向平行的切線66之間。第2下方低溫板外周端43a可以位於比低溫板無配置區域64更靠徑向內側。

在某一第2低溫板的冷凝層成長速度與位於該第2低溫板的附近的氣體流入口的大小(例如狹縫寬度)相關聯。例如，狹縫寬度越大，面對該狹縫的第2低溫板冷凝層越快速成長。並且，冷凝層成長速度亦會受到氣體流入口與第2低溫板的距離的影響。距離越小，氣體冷凝越集中在該第2低溫板，而使冷凝層越快速成長。

因此，將從某一氣體流入口至第2低溫板為止的距離按照該氣體流入口的大小進行調整，能夠調整在該第2低溫板的冷凝層成長速度。例如，將面對寬廣的氣體流入口的第2低溫板配置成遠離該寬廣的氣體流入口，將面對另一狹窄的氣體流入口的另一第2低溫板配置成接近該狹窄 的氣體流入口。如此，由氣體流入口的大小差異引起的2個第2低溫板的冷凝層成長速度差與由距離引起的冷凝層成長速度相互抵消。如此一來，能夠使2個第2低溫板的冷凝層成長速度均一化。

從屏蔽件主狹縫36到第2下方低溫板43的第2距離(例如，第3圖所示之屏蔽件主狹縫36的法線70)，是比從屏蔽件輔助狹縫37到第1下方低溫板42的第1距離(例如，第2圖所示之第1徑向間隔52)更長。除此之外，如上所述，屏蔽件主狹縫36的寬度比屏蔽件輔助狹縫37更寬。如此，在第1下方低溫板42與第2下方低溫板43能夠縮小冷凝層的成長速度之差。

第2低溫板相對於氣體流入口的角度位置亦會對第2低溫板的冷凝層成長速度帶來影響。例如，如果第2低溫板位於狹縫的法線上(亦即，如果低溫板與狹縫相對)，則冷凝層會快速成長。相反，如果第2低溫板位於偏離狹縫的法線的場所，則冷凝層會緩慢成長。

如第3圖所示，第2下方低溫板43配設成與屏蔽件主狹縫36的法線70交叉。如此一來，第2下方低溫板43配置於屏蔽件主狹縫36的正面。這有助於促進第2下方低溫板43的氣體冷凝。另外，第1下方低溫板42亦可配設成與屏蔽件輔助狹縫37的法線交叉。

相對於徑向的屏蔽件輔助狹縫37的法線的角度(圖示之實施形態，法線與徑向一致，角度為零)是小於相對於徑向的屏蔽件主狹縫36的法線70的角度。如此一來， 屏蔽件輔助狹縫37的法線朝向徑向或接近徑向的方向，且屏蔽件主狹縫36的法線70朝向遠離徑向的方向或軸向。藉此，使從屏蔽件輔助狹縫37進入的氣體朝向第1下方低溫板42，使從屏蔽件主狹縫36進入的氣體朝向第2下方低溫板43。

此外，屏蔽件主狹縫36的法線70與第2下方低溫板側表面43b的法線的角度(圖示之實施形態，兩者一致，角度為零)亦可以小於屏蔽件主狹縫36的法線70與第1下方低溫板側表面42b的法線的角度。此外，屏蔽件輔助狹縫37的法線與第1下方低溫板側表面42b的法線的角度，亦可以小於屏蔽件主狹縫37的法線與第2下方低溫板側表面43b的法線(圖示之實施形態，屏蔽件主狹縫36的法線70)的角度。如此一來，可在屏蔽件輔助狹縫37的正面配置第1下方低溫板42，在屏蔽件主狹縫36的正面配置第2下方低溫板43。

“吸留極限值(gas capacity limit value)”的參數可以為了設計低溫板彼此的冷凝層成長速度的均一化而使用。吸留極限值基於狹縫與低溫板的距離及相對於狹縫的低溫板的角度位置來計算。

可由下式計算關於某一低溫板與某一氣體流入口的組合的吸留極限值。

吸留極限值=L/(S．cosθ)

其中，L表示狹縫寬度，S表示狹縫與低溫板之代表點的距離，θ表示相對於狹縫的低溫板之代表點的角度位 置。

該吸留極限值越大，則在該低溫板的冷凝層成長速度越大。只要各低溫板的吸留極限值為相同程度，則冷凝層在各低溫板會一致地成長。

作為例子，參閱第5圖，依以下順序計算屏蔽件主狹縫36與第2下方低溫板43的組合的第2主狹縫吸留極限值。首先，用線段L連結屏蔽件主狹縫36的截面兩端。從線段L的中心(亦即屏蔽件主狹縫36的中心)拉出法線R(亦即屏蔽件主狹縫36的法線)。作出中心位於直線R上、通過線段L的兩端且與第2下方低溫板43接觸的圓P。將第2下方低溫板43與圓P的切點設為第2下方低溫板43的“代表點”。拉出連結線段L的中心與第2下方低溫板43的代表點84的線段S。

此時，可由下式定義第2主狹縫吸留極限值。

第2主狹縫吸留極限值=l/(s．cosθ)

其中，l表示線段L的長度(亦即主狹縫寬度)，s表示線段S的長度(亦即屏蔽件主狹縫36與第2下方低溫板43的代表點的距離)，θ表示法線R與線段S的角度(亦即第2下方低溫板43之代表點相對於屏蔽件主狹縫36的角度位置)。另外，第5圖的情況，線段S與法線R一致，因此θ=90°。

另外，某一低溫板的“代表點”可以為在該低溫板的端點或中央點等任意位置。

亦以同樣的方法計算屏蔽件主狹縫36與第1下方低 溫板42的組合的第1主狹縫吸留極限值。此時，作出中心位於直線R上、通過線段L的兩端且與第1下方低溫板42接觸的圓P’。將第1下方低溫板42與P’的切點設為第1下方低溫板42的“代表點”。拉出連結線段L的中心與第1下方低溫板42的代表點86的線段S’。圖示之實施形態，代表點86與第1下方低溫板外周端42a一致。可以由下式計算第1主狹縫吸留極限值。

第1主狹縫吸留極限值=l/(s’‧cosθ’)

其中，s’表示線段S’的長度(亦即屏蔽件主狹縫36與第1下方低溫板42的代表點的距離)，θ’表示法線R與線段S’之角度(亦即第1下方低溫板42之代表點相對於屏蔽件主狹縫36的角度位置)。另外，為了簡明化，在第5圖中省略圓P’及線段S’的圖示。

以相同之方式，根據輔助狹縫寬度、從屏蔽件輔助狹縫37到第1下方低溫板42的距離、及第1下方低溫板42相對於屏蔽件輔助狹縫37的角度位置計算屏蔽件輔助狹縫37與第1下方低溫板42的組合的第1輔助縫吸留極限值。根據輔助狹縫寬度、從屏蔽件輔助狹縫37到第2下方低溫板43的距離、及第2下方低溫板43相對於屏蔽件輔助狹縫37的角度位置計算屏蔽件輔助狹縫37與第2下方低溫板43的組合的第2輔助狹縫吸留極限值。

在低溫泵10中，第1合計吸留極限值與第2合計吸留極限值實質上相等。第1合計吸留極限值為第1輔助狹縫吸留極限值與第1主狹縫吸留極限值之和。第2合計吸 留極限值為第2輔助狹縫吸留極限值與第2主狹縫吸留極限值之和。如此，藉由以各低溫板的吸留極限值之和相等之方式設計低溫泵，能夠在低溫板間使冷凝層成長速度均一化。

第1合計吸留極限值與第2合計吸留極限值之差，可以為第1合計吸留極限值的例如5%以內、3%以內或1%以內。

以下說明基於上述結構的低溫泵10的動作。在低溫泵10工作時，首先，在其開始工作前用其他適當的粗抽泵將真空腔室內部粗抽至例如1Pa左右。之後，使低溫泵10工作。第1冷卻台22及第2冷卻台24藉由冷凍機16的驅動而被冷卻，與其等熱耦合之第1低溫板及第2低溫板亦被冷卻。第1低溫板及第2低溫板分別被冷卻至第1冷卻溫度及第2冷卻溫度。

從真空腔室朝向低溫泵10的氣體的一部分與板構件32碰撞，其他一部分通過板構件32的小孔32a進入到屏蔽件空腔上部33a。並且，氣體的其他一部分從板構件32的周圍的屏蔽件外側間隙20通過屏蔽件主狹縫36或屏蔽件輔助狹縫37進入到屏蔽件空腔下部33b。

在第1冷卻溫度下蒸汽壓充分降低的第1種氣體(例如水)冷凝在第1低溫板的表面。在第2冷卻溫度下蒸汽壓充分降低的第2種氣體(例如氬)冷凝在第2低溫板的表面。即使在第2冷卻溫度下其蒸汽壓仍無法充分降低的第3種氣體(例如氫)，藉由在第2低溫板上冷卻後的吸 附劑進行吸附。如此一來，低溫泵10能夠將真空腔室排氣，而實現所希望的真空度。

在低溫泵10中，藉由安裝各種結構性特徵，使第2種氣體的冷凝層成長速度均一化。因此，能夠避免僅在特定的低溫板(例如頂部低溫板41)集中冷凝第2種氣體。可在低溫板一致地進行第2種氣體的冷凝，因此低溫泵內部空間的利用率極高。第2種氣體的冷凝層成長而與第1低溫板接觸時，屏蔽件空腔33幾乎不會存留空餘。因此，能夠提高低溫泵10的吸留極限。

以上，根據實施例對本發明進行了說明。但本發明不限定於上述實施形態，所屬領域技術具有通常知識者可以理解能夠實施各種設計變更，且能夠有各種變形例，這種變形例亦包括在本發明的範圍內。

例如，可以在頂部低溫板與入口低溫板之間設有至少一個追加的第2低溫板。可以在底部低溫板與屏蔽件底部之間設有至少一個追加的第2低溫板。追加的第2低溫板亦可以為比頂部低溫板及/或底部低溫板更小型(例如小徑)。

頂部低溫板及與該頂部低溫板相鄰之至少一個第2低溫板(例如第1下方低溫板)亦可以形成為一體的低溫板構件。底部低溫板及與該底部低溫板相鄰之至少一個第2低溫板(例如第2下方低溫板)亦可以形成為一體的低溫板構件。

亦可未設有底部低溫板及第2下方低溫板中的至少一 者。第2下方低溫板可兼作為底部低溫板。或者，亦可未設有底部低溫板及第2下方低溫板這兩者。與此同時或取而代之，可未設有第1下方低溫板。

放射屏蔽件30等的第1低溫板、及/或頂部低溫板41等的第2低溫板的與軸向垂直的截面，可以為非圓形，例如可以為矩形等的多角形或橢圓。

本發明的實施形態也能夠如下表現。

1. 一種低溫泵，其特徵為，具備：低溫泵容器，係具有低溫泵吸氣口；冷凍機，係具備容納於前述低溫泵容器之高溫冷卻台和低溫冷卻台；放射屏蔽件，其在前述低溫泵吸氣口具有屏蔽件主開口且用於界定從前述屏蔽件主開口沿軸上向連續之屏蔽件空腔，係與前述高溫冷卻台熱耦合且將前述低溫冷卻台收容在前述屏蔽件空腔，並在其與前述低溫泵容器之間形成屏蔽件外側間隙；及複數個低溫板，各低溫板係分別與前述低溫冷卻台熱耦合且與前述放射屏蔽件非接觸地配設於前述屏蔽件空腔，前述複數個低溫板包括：將前述屏蔽件空腔分隔為屏蔽件空腔上部與屏蔽件空腔下部之頂部低溫板，前述放射屏蔽件進一步具有：屏蔽件主狹縫，將前述屏蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通；及屏蔽件輔助狹縫，在前述軸向上形成於與前述屏蔽件主狹縫不同之 位置，且用於將前述屏蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通。

2. 如實施形態1所述之低溫泵，其特徵為，前述屏蔽件輔助狹縫係在前述軸向上形成於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。

3. 如實施形態2所述之低溫泵，其特徵為，前述放射屏蔽件具備：包圍前述屏蔽件空腔上部之屏蔽件上部、及包圍前述屏蔽件空腔下部的屏蔽件下部，前述屏蔽件主狹縫係界定在前述屏蔽件上部的下端與前述屏蔽件下部的上端之間，前述屏蔽件輔助狹縫係貫穿設置於前述屏蔽件上部的下端。

4. 如實施形態1至3中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，在前述頂部低溫板與前述放射屏蔽件之間形成徑向間隙，前述複數個低溫板進一步包括：配設於前述屏蔽件空腔下部的第1下方低溫板，前述第1下方低溫板具備第1下方低溫板外周端，在該第1下方低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成第1徑向間隔的，前述第1徑向間隔比前述徑向間隔更寬。

5. 如實施形態4所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板外周端以無法從前述屏蔽主開口看見之方式被前述頂部低溫板覆蓋。

6. 如實施形態4或5所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板外周端在前述軸向上位於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。

7. 如實施形態4至6中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述放射屏蔽件係在前述軸向上在與前述屏蔽件主開口相反的一側具備屏蔽件底部，前述複數個低溫板進一步包括：在前述軸向上配設於前述第1下方低溫板與前述屏蔽件底部之間的第2下方低溫板。

8. 如實施形態7所述之低溫泵，其特徵為，前述屏蔽件主狹縫具有主狹縫寬度，前述屏蔽件輔助狹縫具有輔助狹縫寬度，前述主狹縫寬度比前述輔助狹縫寬度更寬，從前述屏蔽件主狹縫到前述第2下方低溫板的第2距離比從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第1下方低溫板的第1距離更長。

9. 如實施形態8所述之低溫泵，其特徵為，根據前述輔助狹縫寬度、前述第1距離及前述第1下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第1輔助狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、從前述屏蔽件主狹縫到前述第1下方低溫板的距離及前述第1下方低溫板相對於前述屏蔽件主狹縫的角度位置來求出第1主狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、前述第2距離及 前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2主狹縫吸留極限值，根據前述輔助狹縫寬度、從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第2下方低溫板的距離及前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2輔助狹縫吸留極限值，前述第1輔助狹縫吸留極限值與前述第1主狹縫吸留極限值之和的第1合計吸留極限值，是等於前述第2主狹縫吸留極限值與前述第2輔助狹縫吸留極限值之和的第2合計吸留極限值。

10. 如實施形態7至9中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板具有第1直徑，前述第2下方低溫板具有第2直徑，前述第2直徑比前述第1直徑更大。

11. 如實施形態7至10中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述第2下方低溫板配設成與前述屏蔽件主狹縫的法線交叉。

12. 如實施形態7至11中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板具有前述第1下方低溫板側表面，前述第2下方低溫板具有前述第2下方低溫板側表面，前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第 1下方低溫板側表面的法線的角度更小，前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第1下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度更小。

13. 如實施形態1至12中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，相對於徑向的前述屏蔽件輔助狹縫的法線的角度，是比相對於徑向的前述屏蔽件主狹縫的法線的角度更小。

14. 一種低溫泵，其特徵為，具備：低溫泵容器，係具有低溫泵吸氣口；冷凍機，係具備容納於前述低溫泵容器的高溫冷卻台和低溫冷卻台；放射屏蔽件，其在前述低溫泵吸氣口具有屏蔽件主開口且用於界定從前述屏蔽件主開口沿軸向連續之屏蔽件空腔，係與前述高溫冷卻台熱耦合且將前述低溫冷卻台收容在前述屏蔽件空腔，並在其與前述低溫泵容器之間形成屏蔽件外側間隙；及複數個低溫板，各低溫板係分別與前述低溫冷卻台熱耦合且與前述放射屏蔽件非接觸地配設於前述屏蔽件空腔，前述複數個低溫板包括：頂部低溫板，將前述屏蔽件空腔分隔為屏蔽件空腔上部與屏蔽件空腔下部；及第1下方低溫板，配設於前述屏蔽件空腔下部，前述放射屏蔽件進一步具有：將前述屏蔽件外側間隙 與前述屏蔽件空腔下部連通之屏蔽件主狹縫，在前述頂部低溫板與前述放射屏蔽件之間形成徑向間隙，前述第1下方低溫板具備第1下方低溫板外周端，在該第1下方低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成第1徑向間隔的，前述第1徑向間隔比前述徑向間隙更寬。

15. 如實施形態14所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板外周端以無法從前述屏蔽主開口看見之方式被前述頂部低溫板覆蓋。

16. 如實施形態14或15所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板外周端在前述軸向上位於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。

17. 如實施形態14至16中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述放射屏蔽件進一步具有屏蔽件輔助狹縫，該屏蔽件輔助狹縫在前述軸向形成於與前述屏蔽件主狹縫不同之位置，且用於將前述屏蔽件外側間隙與屏蔽件空腔下部連通。

18. 如實施形態17所述之低溫泵，其特徵為，前述屏蔽件輔助狹縫在前述軸向上形成於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。

19. 如實施形態18所述之低溫泵，其特徵為，前述放射屏蔽件具備：包圍前述屏蔽件空腔上部的屏蔽件上部、及包圍前述屏蔽件空腔下部的屏蔽件下部， 前述屏蔽件主狹縫係界定在前述屏蔽件上部的下端與前述屏蔽件下部的上端之間，前述屏蔽件輔助狹縫係貫穿設置於前述屏蔽件上部的下端。

20. 如實施形態17至19中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，相對於徑向的前述屏蔽件輔助狹縫的法線的角度，是比相對於徑向的前述屏蔽件主狹縫的法線的角度更小。

21. 如實施形態17至20中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述放射屏蔽件在前述軸向上與前述屏蔽件主開口相反的一側具備屏蔽件底部，前述複數個低溫板進一步包括：在前述軸向上配設於前述第1下方低溫板與前述屏蔽件底部之間的第2下方低溫板。

22. 如實施形態21所述之低溫泵，其特徵為，前述屏蔽件主狹縫具有主狹縫寬度，前述屏蔽件輔助狹縫具有輔助狹縫寬度，前述主狹縫寬度比前述輔助狹縫寬度更寬，從前述屏蔽件主狹縫到前述第2下方低溫板的第2距離，是比從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第1下方低溫板的第1距離更長。

23. 如實施形態22所述之低溫泵，其中，根據前述輔助狹縫寬度、前述第1距離及前述第1下 方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第1輔助狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、從前述屏蔽件主狹縫到前述第1下方低溫板的距離及前述第1下方低溫板相對於前述屏蔽件主狹縫的角度位置來求出第1主狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、前述第2距離及前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2主狹縫吸留極限值，根據前述輔助狹縫寬度、從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第2下方低溫板的距離及前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2輔助狹縫吸留極限值，前述第1輔助狹縫吸留極限值與前述第1主狹縫吸留極限值之和的第1合計吸留極限值，是等於前述第2主狹縫吸留極限值與前述第2輔助狹縫吸留極限值之和的第2合計吸留極限值。

24. 如實施形態21至23中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板具有第1直徑，前述第2下方低溫板具有第2直徑，前述第2直徑比前述第1直徑更大。

25. 如實施形態21至24中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述第2下方低溫板配設成與前述屏蔽件主狹縫的法線交叉。

26. 如實施形態21至25中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為， 前述第1下方低溫板具有第1下方低溫板側表面，前述第2下方低溫板具有第2下方低溫板側表面，前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第1下方低溫板側表面的法線的角度更小，前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第1下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度更小。

27. 如實施形態1至26中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述頂部低溫板具備：在前述軸向位於前述屏蔽件主狹縫的上方的頂部低溫板外周端，前述複數個低溫板進一步包括底部低溫板，該底部低溫板具備：在前述軸向位於前述屏蔽件主狹縫的下方的底部低溫板外周端，前述頂部低溫板外周端，係在其與前述底部低溫板外周端之間形成環狀空間部，並且隔著前述環狀空間部與前述底部低溫板外周端直接相對向。

28. 如實施形態27所述之低溫泵，其特徵為，從前述頂部低溫板外周端到前述底部低溫板外周端的軸向距離，係從前述頂部低溫板的中心到前述底部低溫板外周端的徑向距離以上。

29. 如實施形態27或28所述之低溫泵，其特徵為，前述放射屏蔽件係具備：用於劃定前述屏蔽件主開口 的屏蔽件前端，從前述頂部低溫板的中心到前述頂部低溫板外周端的徑向距離，係從前述屏蔽件主開口的中心到前述屏蔽件前端的徑向距離的70%以上。

30. 如實施形態27至29中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，從前述頂部低溫板外周端到前述放射屏蔽件的距離，係前述屏蔽件主狹縫寬度的2倍以內。

31. 如實施形態27至30中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為，前述複數個低溫板進一步包括：在前述軸向上配設於前述頂部低溫板與前述底部低溫板之間的第1下方低溫板、及在前述軸向上配設於前述第1下方低溫板與前述底部低溫板之間的第2下方低溫板，前述第1下方低溫板的軸向下端與前述第2下方低溫板的軸向上端的軸向低溫板間隔，係從前述頂部低溫板的中心到前述頂部低溫板外周端的徑向距離的40%以上。

32. 如實施形態31所述之低溫泵，其特徵為，前述第1下方低溫板以無法從前述屏蔽主開口看見之方式被前述頂部低溫板覆蓋。

33. 如實施形態31或32所述之低溫泵，其特徵為，前述第2下方低溫板配設成，比前述頂部低溫板外周端的沿軸向平行的切線在徑向上更靠內側。

34. 如實施形態27至33中任一實施形態所述之低溫 泵，其特徵為，前述冷凍機是沿徑向配設，前述複數個低溫板進一步包括連接低溫板，該連接低溫板係從前述低溫冷卻台朝向前述底部低溫板延伸，且用於將前述底部低溫板與前述低溫冷卻台熱耦合，形成有中心空間部，該中心空間部在徑向與前述連接低溫板的內表面相鄰且在前述軸向與前述低溫冷卻台的下方相鄰。

35. 如實施形態34所述之低溫泵，其特徵為，前述複數個低溫板進一步包括：在前述軸向配設於前述頂部低溫板與前述底部低溫板之間的第1下方低溫板、及在前述軸向配設於前述第1下方低溫板與前述底部低溫板之間的第2下方低溫板，前述中心空間部係通過前述第1下方低溫板的軸向下端與前述第2下方低溫板的軸向上端的軸向低溫板間隔而與前述環狀空間連通。

36. 如實施形態34或35所述之低溫泵，其特徵為，前述放射屏蔽件在前述軸向上在與前述屏蔽件主開口相反的一側具備屏蔽件底部，前述底部低溫板具有底部低溫板中心開口，前述中心空間部係通過前述底部低溫板中心開口而與前述屏蔽件底部和前述底部低溫板的底部間隙連通。

37. 如實施形態27至36中任一實施形態所述之低溫泵，其特徵為， 前述複數個低溫板進一步包括：在前述軸向配設於前述頂部低溫板與前述底部低溫板之間的第1下方低溫板、及在前述軸向配設於前述第1下方低溫板與前述底部低溫板之間的第2下方低溫板，在前述頂部低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成徑向間隙，前述第1下方低溫板具備第1下方低溫板外周端，在該第1下方低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成比前述徑向間隙更寬的第1徑向間隔；前述第2下方低溫板具備第2下方低溫板外周端，在該第2下方低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成比前述徑向間隙更寬的第2徑向間隔，前述環狀空間部包括低溫板無配置區域，該低溫板無配置區域被劃定在：前述第1下方低溫板外周端與前述第2下方低溫板外周端中的一方的沿前述軸向平行的切線與前述頂部低溫板外周端的沿前述軸向平行的切線之間，前述第1下方低溫板外周端與前述第2下方低溫板外周端中的另一方，係位於比前述低溫板無配置區域在徑向上更靠內側。

10‧‧‧低溫泵

12‧‧‧吸氣口

16‧‧‧冷凍機

18‧‧‧低溫泵容器

19‧‧‧吸氣口凸緣

20‧‧‧屏蔽件外側間隙

22‧‧‧第1冷卻台

23‧‧‧第1壓缸

24‧‧‧第2冷卻台

25‧‧‧第2壓缸

29‧‧‧接合塊

30‧‧‧屏蔽件主開口

31‧‧‧屏蔽件開口端

32‧‧‧板構件

33‧‧‧屏蔽件空腔

33a‧‧‧屏蔽件空腔上部

33b‧‧‧屏蔽件空腔下部

34‧‧‧屏蔽件底部

36‧‧‧屏蔽件主狹縫

37‧‧‧屏蔽件輔助狹縫

38‧‧‧屏蔽件上部

38a‧‧‧屏蔽件上部主體

38b‧‧‧屏蔽件環狀構件

40‧‧‧屏蔽件下部

41‧‧‧頂部低溫板

41a‧‧‧頂部低溫板外周端

42‧‧‧第1下方低溫板

42a‧‧‧第1下方低溫板外周端

42b‧‧‧第1下方低溫板側表面

42c‧‧‧第1下方低溫板中心部

43‧‧‧第2下方低溫板

43a‧‧‧第2下方低溫板外周端

43b‧‧‧第2下方低溫板側表面

43c‧‧‧第2下方低溫板中心部

44‧‧‧底部低溫板

44a‧‧‧底部低溫板外周端

44b‧‧‧底部低溫板中心開口

45‧‧‧連接低溫板

46‧‧‧徑向距離

47‧‧‧第1直徑

48‧‧‧第2直徑

50‧‧‧徑向間隙

52‧‧‧第1徑向間隔

54‧‧‧第2徑向間隔

56‧‧‧中心空間部

58‧‧‧底部間隙

60‧‧‧環狀空間部

Claims (26)

1. 一種低溫泵，其特徵為，具備：低溫泵容器，係具有低溫泵吸氣口；冷凍機，係具備容納於前述低溫泵容器的高溫冷卻台和低溫冷卻台；放射屏蔽件，其在前述低溫泵吸氣口具有屏蔽件主開口且用於界定與前述屏蔽件主開口在軸向連續之屏蔽件空腔，係與前述高溫冷卻台熱耦合且將前述低溫冷卻台收容在前述屏蔽件空腔，並在其與前述低溫泵容器之間形成屏蔽件外側間隙；及複數個低溫板，各低溫板係分別與前述低溫冷卻台熱耦合且與前述放射屏蔽件非接觸地配設於前述屏蔽件空腔，前述複數個低溫板係包括：將前述屏蔽件空腔分隔為屏蔽件空腔上部與屏蔽件空腔下部的頂部低溫板，前述放射屏蔽件進一步具有：屏蔽件主狹縫，用於將前述屏蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通；及屏蔽件輔助狹縫，在前述軸向上形成於與前述屏蔽件主狹縫不同之位置，且用於將前述屏蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通。
2. 如申請專利範圍第1項所述之低溫泵，其中，前述屏蔽件輔助狹縫係在前述軸向上形成於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。
3. 如申請專利範圍第2項所述之低溫泵，其中， 前述放射屏蔽件係具備：包圍前述屏蔽件空腔上部的屏蔽件上部、及包圍前述屏蔽件空腔下部的屏蔽件下部，前述屏蔽件主狹縫係界定在前述屏蔽件上部的下端與前述屏蔽件下部的上端之間，前述屏蔽件輔助狹縫係貫穿設置於前述屏蔽件上部的下端。
4. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之低溫泵，其中，在前述頂部低溫板與前述放射屏蔽件之間形成徑向間隙，前述複數個低溫板進一步包括：配設於前述屏蔽件空腔下部的第1下方低溫板，前述第1下方低溫板係具備第1下方低溫板外周端，在該第1下方低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成第1徑向間隔，前述第1徑向間隔比前述徑向間隔更寬。
5. 如申請專利範圍第4項所述之低溫泵，其中，前述第1下方低溫板外周端以無法從前述屏蔽主開口看見之方式被前述頂部低溫板覆蓋。
6. 如申請專利範圍第4項所述之低溫泵，其中，前述第1下方低溫板外周端係在前述軸向上位於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。
7. 如申請專利範圍第4項所述之低溫泵，其中，前述放射屏蔽件係在前述軸向上在與前述屏蔽件主開口相反的一側具備屏蔽件底部， 前述複數個低溫板進一步包括：在前述軸向上配設於前述第1下方低溫板與前述屏蔽件底部之間的第2下方低溫板。
8. 如申請專利範圍第7項所述之低溫泵，其中，前述屏蔽件主狹縫具有主狹縫寬度，前述屏蔽件輔助狹縫具有輔助狹縫寬度，前述主狹縫寬度比前述輔助狹縫寬度更寬，從前述屏蔽件主狹縫到前述第2下方低溫板的第2距離，是比從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第1下方低溫板的第1距離更長。
9. 如申請專利範圍第8項所述之低溫泵，其中，根據前述輔助狹縫寬度、前述第1距離及前述第1下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第1輔助狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、從前述屏蔽件主狹縫到前述第1下方低溫板的距離及前述第1下方低溫板相對於前述屏蔽件主狹縫的角度位置來求出第1主狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、前述第2距離及前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2主狹縫吸留極限值，根據前述輔助狹縫寬度、從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第2下方低溫板的距離及前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2輔助狹縫吸留極限值，前述第1輔助狹縫吸留極限值與前述第1主狹縫吸留極限值之和的第1合計吸留極限值，是等於前述第2主狹 縫吸留極限值與前述第2輔助狹縫吸留極限值之和的第2合計吸留極限值。
10. 如申請專利範圍第7項所述之低溫泵，其中，前述第1下方低溫板具有第1直徑，前述第2下方低溫板具有第2直徑，前述第2直徑比前述第1直徑更大。
11. 如申請專利範圍第7項所述之低溫泵，其中，前述第2下方低溫板配設成與前述屏蔽件主狹縫的法線交叉。
12. 如申請專利範圍第7項所述之低溫泵，其中，前述第1下方低溫板具有前述第1下方低溫板側表面，前述第2下方低溫板具有前述第2下方低溫板側表面，前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第1下方低溫板側表面的法線的角度更小，前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第1下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度更小。
13. 如申請專利範圍第1至3項中任一項所述之低溫泵，其中，相對於徑向的前述屏蔽件輔助狹縫的法線的角度，是比相對於徑向的前述屏蔽件主狹縫的法線的角度更小。
14. 一種低溫泵，其特徵為，具備：低溫泵容器，係具有低溫泵吸氣口； 冷凍機，係具備容納於前述低溫泵容器的高溫冷卻台和低溫冷卻台；放射屏蔽件，其在前述低溫泵吸氣口具有屏蔽件主開口且用於界定與前述屏蔽件主開口在軸向連續之屏蔽件空腔，係與前述高溫冷卻台熱耦合且將前述低溫冷卻台收容在前述屏蔽件空腔，並在其與前述低溫泵容器之間形成屏蔽件外側間隙；及複數個低溫板，各低溫板係分別與前述低溫冷卻台熱耦合且與前述放射屏蔽件非接觸地配設於前述屏蔽件空腔，前述複數個低溫板係包括：頂部低溫板，將前述屏蔽件空腔分隔為屏蔽件空腔上部與屏蔽件空腔下部；及第1下方低溫板，配設於前述屏蔽件空腔下部，前述放射屏蔽件進一步具有：將前述屏蔽件外側間隙與前述屏蔽件空腔下部連通之屏蔽件主狹縫，在前述頂部低溫板與前述放射屏蔽件之間形成徑向間隔，前述第1下方低溫板係具備第1下方低溫板外周端，在該第1下方低溫板外周端與前述放射屏蔽件之間形成第1徑向間隔，前述第1徑向間隔比前述徑向間隔更寬。
15. 如申請專利範圍第14項所述之低溫泵，其中，前述第1下方低溫板外周端以無法從前述屏蔽主開口看見之方式被前述頂部低溫板覆蓋。
16. 如申請專利範圍第14或15項所述之低溫泵，其 中，前述第1下方低溫板外周端係在前述軸向上位於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。
17. 如申請專利範圍第14或15項所述之低溫泵，其中，前述放射屏蔽件進一步具有屏蔽件輔助狹縫，該屏蔽件輔助狹縫係在前述軸向形成於與前述屏蔽件主狹縫不同之位置，且用於將前述屏蔽件外側間隙與屏蔽件空腔下部連通。
18. 如申請專利範圍第17項所述之低溫泵，其中，前述屏蔽件輔助狹縫係在前述軸向上形成於前述頂部低溫板與前述屏蔽件主狹縫之間。
19. 如申請專利範圍第18項所述之低溫泵，其中，前述放射屏蔽件係具備：包圍前述屏蔽件空腔上部的屏蔽件上部、及包圍前述屏蔽件空腔下部的屏蔽件下部，前述屏蔽件主狹縫係界定在前述屏蔽件上部的下端與前述屏蔽件下部的上端之間，前述屏蔽件輔助狹縫貫穿設置於前述屏蔽件上部的下端。
20. 如申請專利範圍第17項所述之低溫泵，其中，相對於徑向的前述屏蔽件輔助狹縫的法線的角度，是比相對於徑向的前述屏蔽件主狹縫的法線的角度更小。
21. 如申請專利範圍第17項所述之低溫泵，其中，前述放射屏蔽件係在前述軸向上與前述屏蔽件主開口 相反的一側具備屏蔽件底部，前述複數個低溫板進一步包括：在前述軸向上配設於前述第1下方低溫板與前述屏蔽件底部之間的第2下方低溫板。
22. 如申請專利範圍第21項所述之低溫泵，其中，前述屏蔽件主狹縫具有主狹縫寬度，前述屏蔽件輔助狹縫具有輔助狹縫寬度，前述主狹縫寬度比前述輔助狹縫寬度更寬，從前述屏蔽件主狹縫到前述第2下方低溫板的第2距離，是比從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第1下方低溫板的第1距離更長。
23. 如申請專利範圍第22項所述之低溫泵，其中，根據前述輔助狹縫寬度、前述第1距離及前述第1下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第1輔助狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、從前述屏蔽件主狹縫到前述第1下方低溫板的距離及前述第1下方低溫板相對於前述屏蔽件主狹縫的角度位置來求出第1主狹縫吸留極限值，根據前述主狹縫寬度、前述第2距離及前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2主狹縫吸留極限值，根據前述輔助狹縫寬度、從前述屏蔽件輔助狹縫到前述第2下方低溫板的距離及前述第2下方低溫板相對於前述屏蔽件輔助狹縫的角度位置來求出第2輔助狹縫吸留極限值，前述第1輔助狹縫吸留極限值與前述第1主狹縫吸留 極限值之和的第1合計吸留極限值，是等於前述第2主狹縫吸留極限值與前述第2輔助狹縫吸留極限值之和的第2合計吸留極限值。
24. 如申請專利範圍第21項所述之低溫泵，其中，前述第1下方低溫板具有第1直徑，前述第2下方低溫板具有第2直徑，前述第2直徑比前述第1直徑更大。
25. 如申請專利範圍第21項所述之低溫泵，其中，前述第2下方低溫板配設成與前述屏蔽件主狹縫的法線交叉。
26. 如申請專利範圍第21項所述之低溫泵，其中，前述第1下方低溫板具有第1下方低溫板側表面，前述第2下方低溫板具有第2下方低溫板側表面，前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件主狹縫的法線與前述第1下方低溫板側表面的法線的角度更小，前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第1下方低溫板側表面的法線的角度，是比前述屏蔽件輔助狹縫的法線與前述第2下方低溫板側表面的法線的角度更小。