TW201539057A - 偏光元件及圖像顯示裝置 - Google Patents
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Abstract
根據本發明之實施形態,提供一種可實現相機性能優異之圖像顯示裝置之偏光元件。本發明之實施形態之偏光元件係由包含二色性物質之樹脂膜構成,且具有局部脫色之脫色部。脫色部於波長350nm下之吸光度為2.5以下。於一實施形態中,脫色部對應於搭載之圖像顯示裝置之相機孔部。
Description
本發明係關於一種偏光元件及圖像顯示裝置。
行動電話、筆記型個人電腦(PC)等圖像顯示裝置通常搭載有相機。為了提高此種圖像顯示裝置之相機性能,而進行有各種研究(例如專利文獻1)。然而,隨著智慧型手機、觸控面板式之資訊處理裝置之急速普及,業界期望進一步提高相機性能。
[專利文獻1]日本專利特開2011-81315號公報
本發明係為了解決上述先前之課題而完成者,其主要目的在於提供一種可實現相機性能優異之圖像顯示裝置之偏光元件。
本發明者等人著眼於搭載於圖像顯示裝置之偏光元件,發現藉由於偏光元件形成脫色部,且使該脫色部之特性最佳化而可達成上述目的,從而完成本發明。
本發明之偏光元件係由包含二色性物質之樹脂膜構成,且具有局部脫色之脫色部。脫色部於波長350nm下之吸光度為2.5以下。
於一實施形態中,上述脫色部係照射包含100pm~1000nm之波
長之光之雷射光而形成。
於一實施形態中,上述脫色部對應於搭載之圖像顯示裝置之相機孔部。
於一實施形態中,上述二色性物質為碘。
於一實施形態中,上述偏光元件之厚度為30μm以下。
根據本發明之另一態樣,提供一種偏光元件之製造方法。該偏光元件之製造方法包括如下步驟:對包含二色性物質之樹脂膜照射雷射光而形成脫色部。
於一實施形態中,上述雷射光包含100pm~1000nm之波長之光。
於一實施形態中,上述雷射為固體雷射。
根據本發明之又一態樣,提供一種圖像顯示裝置。該圖像顯示裝置具備上述偏光元件。
根據本發明之又一態樣,提供一種上述圖像顯示裝置之製造方法。該製造方法包括如下步驟:對以使包含二色性物質之樹脂膜成為表面側之方式積層而成之圖像顯示面板照射雷射光,而形成上述脫色部。
根據本發明,藉由於包含二色性物質之樹脂膜形成脫色部,且將該脫色部於紫外線區域下之吸光度控制在所需範圍內,從而不僅確保相機孔部之透過性,而且可使攝影時之亮度及色調最佳化,且防止圖像之變形,有助於所獲得之圖像顯示裝置之相機性能之提高。如此,根據本發明,不僅可提供影像或監控器等接收型電子裝置(例如具有攝影光學系統之相機裝置),亦可提供LED光或紅外線感測器等發送型電子裝置及確保對肉眼之透過性及光之直進性之圖像顯示裝置
1‧‧‧偏光元件
2‧‧‧脫色部
圖1係本發明之一實施形態之偏光元件之俯視圖。
以下,對本發明之較佳實施形態進行說明,但本發明並不限定於該等實施形態。
圖1係本發明之一實施形態之偏光元件之俯視圖。偏光元件1係由樹脂膜構成,且具有局部脫色之脫色部2。根據此種構成,與樹脂膜上機械(具體而言,藉由雕刻刀衝壓、使用繪圖器、射水機等而進行機械切削)形成孔之情形相比,可避免龜裂、剝層(層間剝離)、糊劑溢出等品質上之問題。
脫色部2於波長350nm下之吸光度為2.5以下,較佳為2.3以下,更佳為2.1以下。關於吸光度之下限,例如為1.2。藉由脫色部具有此種吸光度,不僅賦予脫色部所需之透明性,而且亦可於使用脫色部作為圖像顯示裝置之相機孔部之情形時實現就亮度及色調兩者之觀點而言非常優異之攝影性能。推測此種吸光度可藉由使脫色部中構成樹脂膜之樹脂(例如聚乙烯醇系樹脂)與碘之錯合物以適當比例崩解,進而使碘錯合物亦以適當比例崩解而實現。
上述樹脂膜包含二色性物質。作為二色性物質,例如可列舉:碘、有機染料等。該等可單獨使用,或組合兩種以上使用。較佳為使用碘。碘係藉由下述特定之雷射照射,而其與構成樹脂膜之樹脂(例如聚乙烯醇系樹脂)之錯合物以適當比例崩解,其結果,可形成具有適合用作相機孔之特性之脫色部。
作為形成上述樹脂膜之樹脂,可使用任意適當之樹脂。較佳為使用聚乙烯醇系樹脂(以下,稱為「PVA系樹脂」)。如上所述,PVA系樹脂與碘之錯合物藉由特定之雷射照射而以適當比例崩解,其結果,可形成具有適合用作相機孔之特性之脫色部。作為PVA系樹脂,
例如可列舉:聚乙烯醇、乙烯-乙烯醇共聚物。聚乙烯醇係藉由使聚乙酸乙烯酯皂化而獲得。乙烯-乙烯醇共聚物係藉由使乙烯-乙酸乙烯酯共聚物皂化而獲得。PVA系樹脂之皂化度通常為85莫耳%以上且未達100莫耳%,較佳為95.0莫耳%~99.95莫耳%,進而較佳為99.0莫耳%~99.93莫耳%。皂化度可依據JIS K 6726-1994而求出。藉由使用此種皂化度之PVA系樹脂,可獲得耐久性優異之偏光元件。於皂化度過高之情形時,有造成凝膠化之虞。
PVA系樹脂之平均聚合度可視目的而適當選擇。平均聚合度通常為1000~10000,較佳為1200~4500,進而較佳為1500~4300。再者,平均聚合度可依據JIS K 6726-1994而求出。
偏光元件(脫色部除外)較佳為於波長380nm~780nm之範圍內顯現吸收二色性。偏光元件(脫色部除外)之單體透過率(Ts)較佳為40%以上,更佳為41%以上,進而較佳為42%以上,尤佳為43%以上。再者,單體透過率之理論上之上限為50%,實用上限為46%。又,單體透過率(Ts)係藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定且經可見度修正之Y值,例如,可使用顯微分光系統(Lambda Vision製造,LVmicro)進行測定。偏光元件(脫色部除外)之偏光度較佳為99.8%以上,更佳為99.9%以上,進而較佳為99.95%以上。
偏光元件之厚度可設定為任意適當之值。關於厚度,具代表性的是1μm~80μm左右,較佳為30μm以下。厚度越薄,越可良好地形成脫色部。例如於下述雷射光照射中,每單位膜厚之吸光度較高,而可高效率地形成脫色部。
於圖示例中,於樹脂膜之上端部中央部形成有小圓形之脫色部2,但脫色部之配置、形狀、尺寸等可適當設計。較佳為根據搭載之圖像顯示裝置之相機孔部之位置、形狀、尺寸等而設計。具體而言,以不使脫色部對應於搭載之圖像顯示裝置之顯示畫面之方式進行設
計。
上述脫色部之透過率(例如23℃下之以波長550nm之光所測得之透過率)較佳為46%以上,更佳為60%以上,進而較佳為75%以上,尤佳為90%以上。若為此種透過率,則可確保作為脫色部所需之透明性。其結果,於使用脫色部作為圖像顯示裝置之相機孔部之情形時,可防止對相機之攝影性能造成不良影響。
上述脫色部之雙折射RPVA較佳為0.035以下,更佳為0.032以下,進而較佳為0.030以下。脫色部之雙折射RPVA之下限例如為0.010。若脫色部之雙折射RPVA為此種範圍,則不僅賦予脫色部所需之透明性,而且亦可於使用脫色部作為圖像顯示裝置之相機孔部之情形時實現就亮度及色調兩者之觀點而言非常優異之攝影性能。該效果可與上述利用紫外線區域下之吸光度之效果協同發揮。推測此種雙折射可藉由如上述般使脫色部中PVA系樹脂與碘之錯合物以適當比例崩解而實現。再者,雙折射RPVA係利用式:RPVA=nx-ny求出。此處,nx係膜面內之折射率成為最大之方向(即,遲相軸方向)之折射率,ny係膜面內與遲相軸正交之方向(即,進相軸方向)之折射率。
本發明之偏光元件可以任意適當之形態使用。具代表性的是偏光元件係至少於其單側積層保護膜(作為偏光膜)而使用。作為保護膜之形成材料,例如可列舉:二乙醯纖維素、三乙醯纖維素等纖維素系樹脂,(甲基)丙烯酸系樹脂、環烯烴系樹脂、聚丙烯等烯烴系樹脂,聚對苯二甲酸乙二酯系樹脂等酯系樹脂,聚醯胺系樹脂、聚碳酸酯系樹脂、該等之共聚物樹脂等。
亦可對保護膜之未積層偏光元件之面,作為表面處理層而實施硬塗層或抗反射處理、以擴散或防眩為目的之處理。關於表面處理層,例如較佳為以使偏光元件之加濕耐久性提高為目的而透濕度較低之層。硬塗處理係為了防止偏光膜表面之損傷等而實施。硬塗層例如
可利用將由利用丙烯酸系、聚矽氧系等適宜之紫外線硬化型樹脂所形成之硬度或滑動特性等優異之硬化皮膜附於偏光膜表面之方式形成。作為硬塗層,較佳為鉛筆硬度為2 H以上。抗反射處理係為了防止外光於偏光膜表面之反射而實施,且可藉由形成依據先前之如下類型等之低反射層而達成,即例如日本專利特開2005-248173號公報所揭示之利用由光之干涉作用消除反射光之效果而防止反射的薄層型、或如日本專利特開2011-2759號公報所揭示之藉由將微細構造賦予表面而顯現低反射率的構造型。防眩處理係為了防止外光於偏光膜表面反射而阻礙偏光膜透過光之視認等而實施,例如,可利用根據噴砂方式或壓紋加工方式之粗面化方式或調配透明微粒子之方式等適宜方式,而對保護膜之表面賦予微細凹凸構造,藉此實施。防眩層亦可兼作用以使偏光膜透過光擴散而擴大視角等之擴散層(視角擴大功能等)。
保護膜之厚度較佳為20μm~100μm。關於保護膜,具代表性的是經由接著層(具體而言為接著劑層、黏著劑層)積層於偏光元件。關於接著劑層,具代表性的是由PVA系接著劑形成。關於黏著劑層,具代表性的是由丙烯酸系黏著劑形成。
上述偏光元件較佳為藉由如下方式進行製造,即對包含二色性物質之樹脂膜實施脫色處理而形成上述脫色部。
上述包含二色性物質之樹脂膜較佳為藉由對上述樹脂膜實施染色等處理而製造。再者,樹脂膜亦可為形成於樹脂基材上之樹脂層(PVA系樹脂層)。根據此種形態,可獲得厚度較薄(例如10μm以下)之偏光元件。
上述染色較佳為藉由使樹脂膜吸附碘而進行。作為該吸附方法,例如可列舉:使樹脂膜浸漬於含有碘之染色液中之方法、於樹脂
膜塗佈該染色液之方法、向樹脂膜霧狀噴出該染色液之方法等。較佳為使樹脂膜浸漬於染色液中之方法。其原因在於:可良好地吸附碘。
上述染色液較佳為碘水溶液。碘之調配量相對於水100重量份,較佳為0.04重量份~5.0重量份。為了提高碘於水中之溶解度,較佳為於碘水溶液中調配碘化物。作為碘化物,例如可列舉:碘化鉀、碘化鋰、碘化鈉、碘化鋅、碘化鋁、碘化鉛、碘化銅、碘化鋇、碘化鈣、碘化錫、碘化鈦等。該等中,較佳為碘化鉀。碘化物之調配量相對於水100重量份,較佳為0.3重量份~15重量份。
染色液於染色時之液溫較佳為20℃~50℃。於使PVA系樹脂膜浸漬於染色液中之情形時,浸漬時間較佳為5秒鐘~5分鐘。
樹脂膜除染色以外,亦可適當實施用以製成偏光元件之處理。作為用以製成偏光元件之處理,例如可列舉:延伸處理、不溶化處理、交聯處理、清洗處理、乾燥處理等。再者,該等處理之次數、順序等並無特別限定。
作為上述延伸處理之延伸方法,可採用任意適當之方法。具體而言,可為自由端延伸,亦可為固定端延伸。
延伸方向可適當設定。於一實施形態中,沿長條狀之樹脂膜之長度方向進行延伸。於該情形時,具代表性的是採用使樹脂膜通過圓周速度不同之輥間而進行延伸之方法。於另一實施形態中,沿長條狀之樹脂膜之寬度方向進行延伸。於該情形時,具代表性的是採用使用拉幅延伸機而進行延伸之方法。再者,延伸方向可對應於所獲得之偏光元件之吸收軸方向。
延伸方式並無特別限定,可為濕式,亦可為乾式。延伸溫度例如可視延伸方式而適當設定。
關於延伸倍率,具代表性的是為3倍~7倍。延伸可以一階段進
行,亦可以多階段進行。於以多階段進行延伸之情形時,例如可組合上述自由端延伸與固定端延伸,亦可組合上述濕式延伸與乾式延伸。再者,於以多階段進行延伸之情形時,上述延伸倍率係各階段之延伸倍率之乘積。
如上所述,於樹脂膜為形成於樹脂基材上之樹脂層(PVA系樹脂層)之情形時,較佳為組合乾式延伸與濕式延伸。更具體而言,較佳為將樹脂基材與樹脂層(樹脂膜)之積層體進行乾式延伸,進而於硼酸水溶液中進行濕式延伸。再者,作為樹脂基材之具體例及詳細之延伸條件,例如記載於日本專利第4804588號公報中。該記載係作為參考被引用於本說明書中。
關於上述不溶化處理及交聯處理,具代表性的是藉由使樹脂膜浸漬於硼酸水溶液中而進行。關於上述清洗處理,具代表性的是藉由使樹脂膜浸漬於碘化鉀水溶液中而進行。上述乾燥處理中之乾燥溫度較佳為30℃~100℃。
上述脫色部較佳為對上述包含二色性物質之樹脂膜照射雷射光而形成。藉由雷射光照射,而可於所需之位置良好地形成具有所需形狀之脫色部。更詳細而言,近年來根據設計上之要求,而強烈要求使圖像顯示裝置之非圖像顯示部儘可能縮小,結果於使用脫色部作為相機孔之情形時,必然需要於偏光元件之最端部(例如最上端中央部)形成脫色部。於該情形時,若代替脫色部而欲機械形成孔作為相機孔,則有使偏光膜之端部形成切口之情形。作為結果,不論就機械強度之觀點而言,抑或商品價值之觀點而言,均有無法用作偏光膜之情形。藉由雷射光照射,可防止此種不良情況。又,即便為如上述般於樹脂膜上積層有保護膜之狀態,亦可形成脫色部。進而,亦可使量產性優異。
上述雷射光較佳為包含至少1500nm以下之波長之光。藉由包含
此種波長之雷射光,可形成脫色部。雷射光更佳為包含100pm~1000nm之波長之光,進而較佳為包含400nm~900nm之波長之光,尤佳為包含420nm~680nm之波長之光。於一實施形態中,雷射光係於如上述之範圍內具有峰值波長。藉由包含此種波長之雷射光,可達成面均勻性並且可形成脫色部。具體而言,可不對偏光元件周邊光學構件(例如上述保護膜)造成損傷(例如熱變形)而形成脫色部。更詳細而言,若為具有如上述之波長之雷射光,則使偏光元件與其周邊光學構件之吸光度之差變大。因此,周邊光學構件不會大量吸收光而偏光元件會吸收大量之光,而可防止對周邊光學構件造成損傷。又,可不對樹脂膜本身造成損傷而良好地形成脫色部。其結果,可確保所獲得之圖像顯示裝置(圖像顯示面板)之平面性,達成良好之模組設計。進而,藉由包含上述波長之雷射光,可良好地達成上述脫色部之透過率。此外,藉由包含上述波長之雷射光,可使PVA系樹脂與碘之錯合物及碘錯合物中之任一者以適當比例崩解,因此,作為結果,可形成具有適合用作相機孔之特性之脫色部。
作為上述雷射,例如可列舉:YAG(Yttrium Aluminum Garnet,釔鋁石榴石)雷射、YLF(Yttrium Lithium Fluoride,氟化釔鋰)雷射、YVO4雷射、鈦藍寶石雷射等固體雷射,包含氬離子雷射、氪離子雷射之氣體雷射,光纖維雷射、半導體雷射、染料雷射。較佳為使用固體雷射。
作為上述雷射,較佳為使用短脈衝雷射(照射具有1奈秒以下之脈衝寬度之光之雷射,例如微微秒雷射或飛秒雷射等)。為了抑制對樹脂膜造成熱損傷,尤佳為500微微秒以下(例如10微微秒~50微微秒)之脈衝寬度。藉由抑制熱損傷,可良好地抑制構成樹脂膜之樹脂(例如PVA系樹脂)之熔融。因此,可獲得無不均而具有非常優異之均勻性之脫色部,作為結果,可防止相機之圖像之變形。於一實施形態
中,亦可組合波長及/或脈衝寬度不同之雷射光之照射。所照射之雷射光之種類及照射順序可視目的而適當地設定。例如,與單獨照射微微秒雷射之情形相比,藉由於照射微微秒雷射後照射奈秒雷射,從而色相及透明性均得到改善。於該情形時,奈秒雷射較佳為比微微秒雷射短之波長(例如400nm~460nm)。
雷射光之照射條件可設定為任意適當之條件。例如於使用固體雷射(YVO4雷射)之情形時,脈衝能量較佳為10μJ~150μJ,更佳為25μJ~71μJ。掃描速度較佳為10mm/秒~10000mm/秒,更佳為100mm/秒~1000mm/秒。重複頻率可視所設定之掃描速度及脈衝能量,以可實現最佳之脫色狀態之方式適當地設定。重複頻率例如為100Hz~12480Hz。掃描間距較佳為10μm~50μm。雷射光於照射位置之光束形狀可視目的或脫色部所需之形狀而適當地設定。該光束形狀例如可為圓形,亦可為線狀。作為使光束形狀為特定形狀之方法,可採用任意適當之方法。例如可經由具有特定開口部之遮罩而進行雷射照射,亦可使用繞射光學元件等進行光束整形。例如於光束形狀為圓形之情形時,焦點直徑(點徑)較佳為50μm~60μm。根據如上述之條件,可不對偏光膜周邊構件或樹脂膜本身造成損傷而良好地形成脫色部。又,可良好地達成上述雙折射RPVA。進而,脈衝雷射之輸入能量較佳為20000μJ/mm2~100000μJ/mm2,更佳為25000μJ/mm2~75000μJ/mm2。若輸入能量過大,則有用於偏光元件之貼合之接著劑或黏著劑焦糊之情形。若輸入能量過小,則有脫色部之色相變黃,而透明性變得不充分之情形。再者,輸入能量E(μJ/mm2)係根據下述式求出。
E=(e×M)/(V×p)
e:脈衝能量(J)
M:重複頻率(Hz)
V:掃描速度(mm/秒)
p:掃描間距(mm)
雷射光之照射形態(掃描樣式)可視目的而適當地設定。雷射光例如可直線狀地進行掃描,可S字狀地進行掃描,可螺旋狀地進行掃描,亦可將該等組合。於一實施形態中,雷射光之照射可使掃描方向交叉而進行。藉由以上述方式進行雷射照射,可減少脫色部之不均,而提高均勻性。
較佳為上述雷射光包含與上述樹脂膜(偏光元件)之吸收軸大致同軸之偏光。藉由此種雷射光,可使偏光元件與其周邊光學構件之吸光度之差進一步增大,而可更良好地形成脫色部。
上述照射時,例如亦可驅動電流計鏡而掃描、定位雷射。又,為了獲得脫色部之面均勻性等,亦可使用使主要具有高斯分佈之雷射光強度均勻化之均化器(DOE:Diffractive Optical Element(繞射光學元件))。藉由採用此種構成,可形成均勻性更優異之脫色部。
再者,藉由照射X射線,亦可達成面均勻性,並且良好地形成上述脫色部。除此以外,例如亦可藉由發出波長100pm~1500nm之光之光源(例如氙氣(Xe)燈)、條碼列印用之加熱板等加熱機構等而形成脫色部。
本發明之圖像顯示裝置具備上述偏光元件。作為圖像顯示裝置,例如可列舉:液晶顯示裝置、有機EL裝置。具體而言,液晶顯示裝置具備包含液晶單元與配置於該液晶單元之單側或兩側之上述偏光元件的液晶面板。有機EL裝置具備於視認側配置有上述偏光元件之有機EL面板。偏光元件係以使其脫色部對應於搭載之圖像顯示裝置之相機孔部之方式進行配置。
於一實施形態中,上述圖像顯示裝置係藉由如下方式製造,即
對以使上述包含二色性物質之樹脂膜成為表面側之方式積層而成之圖像顯示面板(例如液晶面板、有機EL面板),(自表面側)照射雷射光而形成上述脫色部。藉由此種方法,可使脫色部之定位變容易。
以下,藉由實施例而對本發明具體地進行說明,但本發明並不受該等實施例之限定。再者,透過率之測定方法係如下所述。
[透過率(Ts)]
使用顯微分光系統(Lambda Vision股份有限公司,LVmicro)進行測定。再者,Ts係藉由JIS Z8701之2度視野(C光源)進行測定且經可見度修正之Y值。
[吸光度]
使用島津製作所公司製造之UV3150進行測定。
[實施例1]
使用固體雷射(波長:532nm),以脈衝寬度15微微秒、脈衝能量20μJ、掃描速度100mm/sec、重複頻率6240Hz、掃描間距20μm、輸入能量62400μJ/mm2、點徑55μm之照射條件,自視認側(第1保護膜側)對總厚166μm之附糊劑之偏光膜(黏著劑層(厚度20μm)/第2保護膜(厚度77μm)/偏光元件(厚度22μm)/第1保護膜(厚度47μm))照射雷射光。以上述方式,於偏光膜(偏光元件)形成脫色部。再者,第1保護膜係對TAC膜實施了抗反射處理者,第2保護膜具有自偏光元件側依序包含負二軸性膜(厚度35μm)/黏著劑層(厚度12μm)/正二軸性膜(厚度30μm)之積層構造
成功地僅使經雷射光照射之區域脫色。未照射部分於波長350nm下之吸光度為3.08,照射部分於波長350nm下之吸光度為2.17。又,未照射部分之透過率為44.0%,照射部分之透過率為66.2%。
又,利用WYKO(Bruker AXS股份有限公司製造)對照射區域之表
面形狀進行確認,結果無明顯之階差或凹凸,面均勻性優異。進而,利用目視對偏光膜之內部進行觀察,結果未確認有如龜裂之斷裂。
[實施例2]
以與實施例1相同之條件,自視認側(第1保護膜側)對總厚129μm之附糊劑之偏光膜(黏著劑層(厚度20μm)/第2保護膜(厚度57μm)/偏光元件(厚度5μm)/第1保護膜(厚度47μm))照射雷射光。以上述方式,於偏光膜(偏光元件)形成脫色部。再者,第1保護膜係對丙烯酸系膜實施了抗反射處理者,第2保護膜具有自偏光元件側依序包含負二軸性膜(厚度25μm)/黏著劑層(厚度12μm)/正二軸性膜(厚度20μm)之積層構造。
成功地僅使經雷射光照射之區域脫色。未照射部分於波長350nm下之吸光度為3.11,照射部分於波長350nm下之吸光度為1.98。又,未照射部分之透過率為43.7%,照射部分之透過率為83.1%。
又,利用WYKO(Bruker AXS股份有限公司製造)對照射區域之表面形狀進行確認,結果無明顯之階差或凹凸,面均勻性優異。進而,利用目視對偏光膜之內部進行觀察,結果未確認有如龜裂之斷裂。
[實施例3]
以與實施例1相同之條件,對與實施例1相同之偏光膜照射雷射光後,使用固體雷射(波長:447nm),以脈衝寬度11奈秒、脈衝能量30μJ、掃描速度100mm/sec、重複頻率6000Hz、掃描間距20μm、輸入能量90000μJ/mm2、點徑20μm之照射條件追加照射雷射光。以上述方式,於偏光膜(偏光元件)形成脫色部。
成功地僅使經雷射光照射之區域脫色。未照射部分於波長350nm下之吸光度為3.11,照射部分於波長350nm下之吸光度為1.51。又,未照射部分之透過率為43.7%,照射部分之透過率為89.1%。
又,利用WYKO(Bruker AXS股份有限公司製造)對照射區域之表
面形狀進行確認,結果無明顯之階差或凹凸,面均勻性優異。進而,利用目視對偏光膜之內部進行觀察,結果未確認有如龜裂之斷裂。
(比較例1)
藉由利用雕刻刀之加壓加工,而對實施例1所使用之附糊劑之偏光膜之一部分進行切削。
於經切削之周邊部分產生長度1mm以上之龜裂。
(比較例2)
藉由利用經加熱之雕刻刀之加壓加工,而對實施例1所使用之附糊劑之偏光膜之一部分進行切削。
於經切削之周邊部分未確認有龜裂,但產生由熱變形引起之階差,無法獲得面均勻性。
(比較例3)
使用二氧化碳(CO2)氣體雷射(波長:10.6μm),以脈衝能量0.8mJ、掃描速度300mm/sec、脈衝重複率3000Hz之照射條件照射雷射光,除此以外,以與實施例1相同之方式嘗試形成脫色部。
經照射雷射光之區域未脫色,於未照射部分及照射部分,吸光度(3.08)及透過率(44.0%)均相同。
又,對照射區域之表面形狀進行確認,結果產生用手指觸摸便可感知之明顯之凹凸(厚度變化),無法獲得面均勻性。再者,進行內部觀察,結果未確認有如龜裂之斷裂。
本發明之偏光元件可較佳地用於智慧型手機等行動電話、筆記型PC、平板PC等附帶相機之圖像顯示裝置(液晶顯示裝置、有機EL裝置)。
1‧‧‧偏光元件
2‧‧‧脫色部
Claims (10)
- 一種偏光元件,其係由包含二色性物質之樹脂膜構成,且具有局部脫色之脫色部,且該脫色部於波長350nm下之吸光度為2.5以下。
- 如請求項1之偏光元件,其中上述脫色部係照射包含100pm~1000nm之波長之光之雷射光而形成。
- 如請求項1之偏光元件,其中上述脫色部對應於搭載之圖像顯示裝置之相機孔部。
- 如請求項1之偏光元件,其中上述二色性物質為碘。
- 如請求項1之偏光元件,其厚度為30μm以下。
- 一種偏光元件之製造方法,其包括如下步驟:對包含二色性物質之樹脂膜照射雷射光而形成脫色部。
- 如請求項6之製造方法,其中上述雷射光包含100pm~1000nm之波長之光。
- 如請求項6之製造方法,其中上述雷射為固體雷射。
- 一種圖像顯示裝置,其包含如請求項1之偏光元件。
- 一種圖像顯示裝置之製造方法,其係如請求項9之圖像顯示裝置之製造方法,且包括如下步驟:對以使包含二色性物質之樹脂膜成為表面側之方式積層而成之圖像顯示面板照射雷射光,而形成上述脫色部。
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TW103113734A TW201539057A (zh) | 2014-04-15 | 2014-04-15 | 偏光元件及圖像顯示裝置 |
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TW103113734A TW201539057A (zh) | 2014-04-15 | 2014-04-15 | 偏光元件及圖像顯示裝置 |
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CN112035019A (zh) * | 2020-10-14 | 2020-12-04 | 上海创功通讯技术有限公司 | 一种显示屏及电子设备 |
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-
2014
- 2014-04-15 TW TW103113734A patent/TW201539057A/zh unknown
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CN112035019A (zh) * | 2020-10-14 | 2020-12-04 | 上海创功通讯技术有限公司 | 一种显示屏及电子设备 |
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