TW201531397A - 產生三維物件之技術（二） - Google Patents

Abstract

根據一實例，本發明提供用於產生一三維物件的裝置。該裝置包含有一建構材料分配器，其可在一第一軸線中雙向移動以在一支撐體上沉積一建構材料的連續層；以及一化劑分配器，其可在一不同於該第一軸線之第二軸線中雙向移動以遞送一化劑至建構材料之連續層的選定部分之上。

Description

產生三維物件之技術(二)

本發明係有關於產生三維物件之技術(二)。

發明背景

基於一種逐層堆疊的方式來產生三維物件之積層製造系統已被提出作為一種可產生少量三維物件之潛在的便利方法。

使用如此系統來產生一三維物件的時間係涉及建構材料的每一層可被遞送和被選擇性固化的速度。

依據本發明之一實施例，係特地提出一種用於產生一三維物件的裝置，其包含有：一建構材料分配器，其可在一第一軸線中雙向移動以在一支撐體上沉積一建構材料的連續層；以及一化劑分配器，其可在一不同於該第一軸線之第二軸線中雙向移動以遞送一化劑至建構材料之連續層的選定部分之上。

100‧‧‧系統

102‧‧‧支撐構件

104‧‧‧建構材料分配器

106‧‧‧化劑分配器

108a、108b‧‧‧建構材料分配器駐停區

110a、110b‧‧‧化劑分配器駐停區

112‧‧‧控制器

114‧‧‧記憶體

116‧‧‧指令

202~204、302‧‧‧方塊

400‧‧‧系統

402‧‧‧能量源

502‧‧‧方塊

600‧‧‧系統

602‧‧‧能量源

700‧‧‧系統

702‧‧‧能量源

800‧‧‧系統

802‧‧‧建構材料分配器

902~906‧‧‧方塊

1000‧‧‧系統

1002‧‧‧能量源

1100‧‧‧系統

1102‧‧‧能量源

1200‧‧‧系統

1202‧‧‧化劑分配器

1300‧‧‧系統

1302~1304‧‧‧方塊

1400‧‧‧系統

1402‧‧‧建構建材料支撐體

1404a、1404b‧‧‧滑架支撐體

1406‧‧‧化劑分配器

1408a、1408b‧‧‧連接構件

1410a‧‧‧第一駐停位置

1410b‧‧‧第二駐停位置

1412‧‧‧建構材料分配器

1414‧‧‧滑架桿

1416‧‧‧支撐臂

參考該等附圖實例現在將被描述，但僅藉由非限制性實例的方式，其中：圖1根據一實例係一積層製造系統之一部分的一 簡化無透視三維圖；圖2根據一實例係一流程圖，其概述了控制一積層製造系統的方法；圖3根據一實例係一流程圖，其概述了控制一積層製造系統的方法；圖4根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖；圖5根據一實例係一流程圖，其概述了控制一積層製造系統的方法；圖6根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖；圖7根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖；圖8根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖；圖9根據一實例係一流程圖，其概述了控制一積層製造系統的方法；圖10根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖；圖11根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖；圖12根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖；圖13根據一實例係一流程圖，其概述了控制一積 層製造系統的方法；以及圖14根據一實例係一積層製造系統之一部分的一簡化無透視三維圖。

較佳實施例之詳細說明

一些積層製造系統透過一建構材料，諸如一種粉狀的建構材料，其連續層的該選擇性固化來產生一三維物件。一些如此系統可透過選擇性地遞送一化劑至一建構材料層來固化一建構材料的各部分。某些系統，舉例來說，可使用一液體粘合劑以化學式地固化建構材料。其他的系統，舉例來說，可使用液體能量吸收劑、或聚結劑，當合適的能量，諸如紅外線能量，被施加時，其會導致建構材料固化。

透過建構材料其連續層的選擇性固化來產生一三維物件可能涉及若干個獨立的處理程序。一處理程序可以，舉例來說，將提供一建構材料層，於其該三維物件的一層將被產生。另一處理程序可以，舉例來說，將選擇性地遞送一個或多個化劑至一建構材料層的選定部分。在一些實例中，一另外的處理程序可以將能量提供給在其上一化劑已被遞送的建構材料。

重複這些處理程序使得一三維物件能被逐層地產生，透過建構材料其連續層之部分的選擇性固化。

把化劑遞送至一建構材料層的選定部分可由一化劑分配器來執行。在一實例中，一化劑分配器可以是一 列印頭，諸如熱列印頭或一壓電式列印頭。這樣的列印頭可以是相同於或類似於在噴墨列印系統中所使用的那些。在其他的實例中，一化劑分配器可以是一噴嘴或一噴嘴陣列。

現在參考圖1，其根據一實例圖示出一積層製造系統100之一部分的一簡化無透視三維圖。應當被理解的是，為了可清楚解釋的原因，並非一完整積層製造系統之所有的元件都有被圖示出。

該系統100包括一支撐構件102以支撐建構材料的連續層，其可由一建構材料分配器104來沉積。在一實例中，該支撐構件102可在z軸方向移動，舉例來說，以使在每次建構材料的一新層將被沉積時，它能夠被降低。在一實例中，該建構材料分配器可包括一軋輥。在其他的實例中，該建構材料分配器可包括一刮片。建構材料可以從一料斗或建構材料儲存區(圖中未示出)被供給到該建構材料分配器104。

該建構材料分配器104可沿著一第一軸線做雙向移動使得其在任一方向上移動的同時可沉積一建構材料層。如在圖1中所示，該第一軸線可以是該y軸。儘管在圖1中並未示出，該建構材料分配器104可以，在一實例中，被安裝或能夠安裝在一可移動的滑架或台架上。

該建構材料分配器104可直接在支撐構件102上沉積建構材料的一第一層，並且可在建構材料之一先前沉積的層上沉積建構材料的後續層。在一實例中，由該建構 材料分配器104所沉積的建構材料層的厚度約在90至110微米的範圍內，雖然在其他的實例中建構材料之更薄或更厚的層可被提供。

當該建構材料分配器104不沉積建構材料時，其可被安置，或駐停，在一駐停區之上方的一建構材料分配器駐停位置。在圖1中，一第一建構材料分配器駐停區108a被提供在鄰近於該支撐構件102的最左側邊緣(如在圖1中所示)，以及一第二建構材料分配器駐停區108b被提供在鄰近於該支撐構件102的最右側邊緣。然而，在其他的實例中，只有一單一建構材料分配器駐停區會被提供。

當該建構材料分配器104被安置在一駐停位置時，它不會阻礙沿著其軸線行進(即，如圖1中所示的x軸)之該化劑分配器106的移動。

該系統100還包括一化劑分配器106諸如包括一列印頭噴嘴陣列的一列印頭，或一列印頭陣列其每一個包括一列印頭噴嘴陣列。在一實例中，該化劑分配器106可以選擇性地遞送一液體粘合劑的滴液至一建構材料層的一個或多個部分。在其他的實例中，該化劑分配器106可以選擇性地遞送一聚結劑的液滴。該化劑分配器106可由一控制器112控制來遞送劑滴，依照由化劑控制遞送資料所界定的一圖案。該控制器可以取得化劑控制遞送資料，舉例來說，取自一三維物件處理系統。該化劑分配器106可包括一化劑供給，或者可連接到一分離的化劑供給，舉例來說，來自一分離的化劑罐或化劑容器。

該化劑分配器106可沿著一第二軸線雙向地移動使得它可以選擇性地把化劑沉積在一已沉積建構材料層的各部分，同時在任一方向上移動。正如在圖1中所示，該第二軸線可以是x軸。在一實例中，該第一和第二軸線可以是彼此正交的。在另一實例中，該第一和第二軸線可被佈置成一種傾斜的配置。

儘管在圖1中未被示出，該化劑分配器104可以，在一實例中，被安裝或可安裝在一可移動的滑架或台架上。在一實例中，該化劑分配器104可以可移除式地可插入至一合適的化劑分配器接收器或介面模組(圖中未示出)。

當該化劑分配器106不遞送化劑時，也可被安置在在一駐停區之上方的一駐停位置。在圖1中，一第一化劑分配器駐停區110a被提供在鄰近於該支撐構件102的最上側邊緣(如在圖1中所示)，以及一第二建構材料分配器駐停區110b被提供在鄰近於該支撐構件102的最下側邊緣。然而，在其他的實例中，只有一單一化劑分配器駐停區會被提供。然而，在該支撐體102的每一端提供一駐停區可免除該化劑分配器106在每一次操作之後就要返回到一單一駐停區的需求，這有助於降低產生一三維物件的每一層所要花的時間。

當該化劑分配器106被安置在一駐停位置時，它不會阻礙沿著其軸線行進(即，如圖1中所示的y軸)之該建構材料分配器106的移動。

使該建構材料分配器104沿著一第一軸線移動而 該化劑分配器106沿著一第二軸線移動有助於增加此一積層製造系統的效率。舉例來說，它可以使得當該建構材料分配器104沿著其軸線的任一方向移動時沉積建構材料，並且還可以使得當該化劑分配器104沿著其軸線的任一方向移動時遞送化劑至建構材料。如此一系統可以，舉例來說，有助於減少在沉積一建構材料層和在一建構材料層上沉積化劑之間的該延遲。

此外，當該化劑分配器106被安置在一駐停位置時，維護操作可被執行在該化劑分配器106上，同時該建構材料分配器106正在沉積一建構材料層。如果該化劑分配器106包括一列印頭，維護操作可能必須要在該列印頭上被間歇地進行。

可在該化劑分配器106上被執行的維護操作可包括，舉例來說，列印頭噴嘴的清洗操作，諸如噴嘴擦拭、吐出、清除、等等。一些維護操作可以以規則的時間間隔來被執行。一些維護操作可以在一預定的條件已被滿足後來被執行，舉例來說在一預定的時間長度之後、在一預定的劑量已被遞送之後、當化劑的一新供應被安裝時、等等。一些維護操作可在檢測到一問題或潛在問題時被執行，諸如一旦檢測出一列印頭噴嘴已變得阻塞、探測到一列印頭噴嘴未如預期的噴出、等等。

類似的維護操作可能必須被執行在其他類型的化劑分配器上，諸如噴嘴。

在一實例中，一駐停位置係位於一服務元件(圖 中未示出)的上方，諸如一吐出盂，這使該化劑分配器106將被控制以執行一諸如吐出或清除的服務操作。

在另一實例中，一駐停位置係位於一服務元件的上方，諸如一化劑分配器服務站(圖中未示出)。因此該化劑分配器106可由該服務站在其上執行一維護操作。如此一維護操作可以包括，舉例來說，列印頭噴嘴的一實體擦拭操作、列印頭噴嘴的封蓋、等等。在一實例中，當一維護操作正被該服務站執行時，該化劑分配器106可被控制以執行一吐出或清除操作。

在圖1中所示的該實例可被使用在一積層製造系統中，其使用一基於粉末之建構材料與一液體接著劑。

該系統控制器112控制該積層製造系統100的一般操作，其會被進一步地描述。在圖1所示的該實例中，該控制器112係一基於微處理器的控制器，其被耦合到一記憶體114，舉例來說透過一通信匯流排(圖中未示出)。該記憶體儲存有處理器可執行的指令116。該控制器112可以執行該等指令116，從而根據那些指令來控制該系統100的操作。

操作圖1的該系統100來產生一三維物件的一實例方法現在將另外參照圖2的該流程圖來進行說明。

在方塊202，該控制器112控制該建構材料分配器104沿著一第一軸線移動(即，如圖1所示的y軸)並沉積一建構材料層。該建構材料層將會直接被沉積在該支撐體102之上如果它是將被沉積之建構材料的第一層的話，或者將被 沉積在建構材料的一先前已沉積層之上如果它不是該第一層的話。一旦一建構材料層已經被沉積，該控制器112控制該建構材料分配器104被安置在一駐停位置(108a或108b)。在一實例中，該建構材料分配器104將被安置在一位於其行走路徑末端的駐停位置，換句話說，該建構材料分配器不須一定要返回到其初始起動的位置。其中該建構材料分配器104被安裝在一滑架上，藉由控制在其上它被安裝的滑架，該控制器112間接地控制該建構材料分配器104沿著該第一軸移動。

在方塊204，該控制器112控制該化劑分配器106沿著一第二軸線移動(即，如圖1所示的x軸)並沉積化劑至已沉積的該建構材料層上被選定部分。一旦該化劑分配器已遞送化劑至一建構材料層的選定部分，該控制器112控制該化劑分配器106被安置在一駐停位置。在一實例中，該化劑分配器106將被安置在一位於其行走路徑末端的駐停位置(110a或110b)中，換句話說，該化劑分配器106不須一定要返回到其初始起動的位置。其中該化劑分配器106被安裝在一滑架上，藉由控制在其上它被安裝的滑架，該控制器112間接地控制該化劑分配器106沿著該第二軸線移動。

舉例來說，該控制器112可以控制該建構材料分配器在沿著該第一軸線的一第一方向中移動的同時沉積建構材料的一第一層。然後該控制器112可以控制該化劑分配器在沿著該第二軸線的一第二方向中移動的同時遞送化劑至建構材料的該已沉積層的選定部分。然後該控制器112可 以控制該建構材料分配器在以一相反於該第一方向的方向移動的同時沉積建構材料的另外一層。然後該控制器112可以控制該化劑分配器在以一相反於該第二方向的方向移動的同時遞送化劑至建構材料的該已沉積層的選定部分。

只要有必要的話，該控制器112可重複該等方塊202和204以產生一三維物件。舉例來說，該控制器112可以根據界定有一將被產生之三維物件切片的資料來控制該系統100的操作。

操作圖1的該系統100來產生一三維物件的另一實例方法現在將另外參照圖3的該流程圖來進行說明。

在這方法中，一旦該控制器112已控制該系統100執行以如上所述的方塊202和204，該控制器112在方塊302會判定是否一維護操作要被執行在該化劑分配器106上，當它被安置在該駐停位置時。如果該控制器112判定一維護操作將要被執行，該控制器112會控制該系統100的元件以執行該維護操作。在一實例中，該控制器112可以控制該化劑分配器來執行一吐出或清除至一位於該駐停位置下方的吐出盂。在另一實例中，該控制器112可控制一化劑分配器服務站(圖中未示出)，以在該化劑分配器106上執行一維護操作。

現在參考圖4，其根據一實例係一積層製造系統400之一部分的一簡化無透視三維圖。在這個實例中，該化劑分配器106可以選擇性地把一液體聚結劑或能量吸收劑的液滴遞送至一建構材料層的一個或多個部分。

該系統400還包括一能量源402以施加能量到建構材料以根據其中化劑已被遞送或已經滲透之處造成建構材料各部分的固化。在一實例中，該能量源402是一紅外線(IR)或近紅外線光源。在一實例中，該能量源402可以是一單一能量源，其能夠均勻地把能量施加到被沉積在該支撐體102上建構材料的連續層。在一些實例中，該能量源402可包括一能量源陣列。

能量的該暫時性施加會導致該建構材料在其上聚結劑已被遞送或已經滲透的部分升溫到該建構材料的熔點之上並進行聚結。在冷卻時，其已聚結的該等部分會變成固體並形成正被產生之該三維物件的部分。根據一非限制性的實例，一合適的聚結劑可以是一種墨水型態配方，其包含炭黑，諸如，舉例來說，在市場上被稱為是CM997A的墨水配方，可購自Hewlett-Packard公司。在一實例中，如此一墨水可額外地包含一種紅外光吸收劑。在一實例中，如此一墨水可額外地包含一種近紅外光吸收劑。在一實例中，如此一墨水可額外地包含一可見光吸收劑。包含可見光增強劑之墨水的實例為基於染料的彩色墨水和基於顏料的彩色墨水，諸如在市場上被稱為是CE039A和CE042A的墨水，可購自Hewlett-Packard公司。

在一些實例中，該能量源420被配置成本質上係以一均勻的方式施加能量至一建構材料層的該整個表面上。在這些實施例中，該能量源420可被稱為是一未聚焦的能量源。在這些實施例中，一整個層可具有同時施加於其的能 量，這可有助於提升一三維物件被產生的速度。

在一實例中，當能量被施加至建構材料時，該建構材料分配器104可被安置在一駐停位置。在一實例中，當能量被施加至建構材料時，該化劑分配器106可被安置在一駐停位置。在一實例中，當能量正被施加至建構材料時，一維護操作可被執行在該化劑分配器106上。

操作圖4的該系統400來產生一三維物件的另一實例方法現在將另外參照圖5的該流程圖來進行說明。

在這方法中，一旦該控制器112已控制該系統100執行以如上所述的方塊202和204，該控制器112會在方塊502控制該能量源402施加能量至建構材料，以致使該建構材料在其上化劑已被遞送的部分進行聚結和固化。

在一另外的實例中，該控制器112可另外地控制該系統400以判定，如先前參考圖3的方塊302在以上所描述的，是否一維護操作將被執行在該化劑分配器106上，當它被安置在該駐停位置時。如果該控制器112判定一維護操作將要被執行，該控制器112會控制該系統400的元件以執行該維護操作。

現在參考圖6，其根據一實例展示出一積層製造系統600之一部分的一簡化無透視三維圖。在這個實例中，該化劑分配器106可以選擇性地把一液體聚結劑或能量吸收劑的液滴遞送至一建構材料層的一個或多個部分。

在這實例中，一能量源602被提供，其可是沿著y軸做雙向地移動，使得它在任一方向上移動的同時可以施 加能量至一建構材料層的一部分。在該圖示出的實例中，該能量源602被安裝在該建構材料分配器104的附近。在一實例中，該能量源602和該建構材料分配器104可被安裝在該相同的可移動滑架或台架(圖中未示出)上。

該能量源602可以是任何合適的能量源以根據其中化劑已被遞送或已經滲透的地方造成該建構材料的部分的固化。在一實例中，該能量源602是一紅外線(IR)或近紅外線光源。在一實例中，該能量源602可以是一單一能量源，其能夠均勻地把能量施加到被沉積在該支撐體102上建構材料的連續層。在一些實例中，該能量源602可包括一能量源陣列。

該能量源602可施加能量到一建構材料層的一條帶上，使得當該能量源602被移動過該支撐體102時，它可施加足夠的能量遍歷一建構材料層，以使該建構材料在其上化劑已被遞送的部分進行聚結和固化。當該能量源602以一方向移動過該支撐體102時，它可施加能量至在其上化劑已被遞送的建構材料，同時該建構材料分配器104會在能量已經被施加至其之建構材料該層的上面沉積建構材料的一新層。

現在參考圖7，其根據一實例圖示出一積層製造系統700之一部分的一簡化無透視三維圖。在本實例中，一額外的能量源702被提供使得該建構材料分配器104在沿著該y軸的一側具有一能量源602，並在沿著y軸的另一側有一能量源702。

在該建構材料分配器的任一側提供一能量源使得將被沉積的一建構材料層和將被施加到一建構材料層的能量兩者會和該等元件104、602、和702所正在移動的方向無關。舉例來說，當該等元件104、602、和702正朝著一方向移動時，該帶頭的能量源(602或702，取決於行進的方向)可以施加能量到化劑已經遞送至其上的一建構材料層同時該建構材料分配器104會於能量已經被施加至其之建構材料該層的上面正沉積建構材料的一新層。在一些實例中，該尾接的能量源(602或702，取決於行進的方向)可以，舉例來說，不被激活，或者可被激活以執行一預加熱功能。

現在參考圖8，其根據一實例圖示出一積層製造系統800之一部分的一簡化無透視三維圖。在本實例中，除了一建構材料分配器104和能量源602之外，一額外的建構材料分配器802被提供，使得該能量源602在沿著該y軸的一側具有該建構材料分配器104，並在沿著y軸的另一側有該建構材料分配器802。

在該能量源的任一側提供一建構材料分配器可使得將被沉積的一建構材料層和將被施加到一建構材料層的能量兩者會和該等元件104、602、和802所正在移動的方向無關。舉例來說，當該等元件104、602、和802正朝著一方向移動時，該能量源602可以施加能量到化劑已經遞送至其上的一建構材料層，同時該尾接的建構材料分配器(104或802，取決於行進的方向)正沉積一建構材料的新層。

分別操作圖6、圖7、和圖8的該等系統600、700、 或800來產生一三維物件的另一實例方法現在將另外參照圖9的該流程圖來進行說明。

在方塊902，該控制器112控制該建構材料分配器104和能量源(602、702)沿著一第一軸線移動(即如圖6、7、和8中所示的y軸)。該控制器112控制該建構材料分配器104以沉積一建構材料層。一旦一建構材料層已被沉積，該控制器112控制該建構材料分配器104和能量源(602、702)被安置於一駐停位置。其中該建構材料分配器104和能量源(602、702)被安裝在一滑架上，藉由控制在其上它被安裝的該滑架，該控制器112間接地控制該建構材料分配器104和能量源(602、702)可沿著該第一軸線移動。

在方塊904，該控制器112控制該化劑分配器106以沿著一第二軸線移動(即如圖6、7、和8中所示的x軸)並在已沉積之構建材料的該層上的選定部分沉積化劑。一旦該化劑分配器已把化劑遞送至一構建材料層的選定部分，該控制器112控制該化劑分配器106被安置於一駐停位置。其中該化劑分配器106係被安裝在一滑架上，藉由控制在其上它被安裝的該滑架，該控制器112間接地控制該化劑分配器106可沿著該第二軸線移動。

在方塊906，該控制器112控制該建構材料分配器104和能量源(602、702)沿著第一軸線移動(即如圖6、7、和8中所示的y軸)。

在圖6所示出的該實例中，其中只有一單一能量源被提供，該行進方向會和在方塊902中所移動的行進方向 相同。

在圖7所示出的該實例中，其中有兩個能量源被提供，該行進方向可以和在方塊902中所移動的行進方向相反。

該控制器112控制該能量源，或在有一個以上的能量源存在的情況下控制該帶頭能量源，以將能量施加到一建構材料分配器104層。與此同時，該控制器112控制該建構材料分配器104，以沉積建構材料的一新層。再次地，一旦一建構材料層已被沉積，該控制器112控制該建構材料分配器104和能量源(602、702)被安置於一駐停位置。

只要有必要的話，該控制器112可重複該等方塊904和906以產生一三維物件。

在一另外的實例中，該控制器112可另外地控制該等系統(600、700、800)，以判定，如先前參考圖3的方塊302在以上所描述的，是否一維護操作將被執行在該化劑分配器106上，當它被安置在該駐停位置時。如果該控制器112判定一維護操作將要被執行，該控制器112會如先前所描述的控制該系統400的元件以執行該維護操作。

現在參考圖10，其根據又另一實例展示出一積層製造系統1000之一部分的一簡化無透視三維圖。在本實例中，一能量源1002被提供，其可沿著x軸做雙向移動，使得當它在任一方向上移動的同時可施加能量到一建構材料層的一部分。在該圖示的實例中，該能量源1002被安裝在該化劑分配器106的附近。在一實例中，該能量源1002和化劑 分配器106可被安裝在同一個可移動的滑架或台架(圖中未示出)上。

現在參考圖11，其根據一另外的實例圖示出一積層製造系統1100之一部分的一簡化無透視三維圖。在本實例中，一額外的能量源1102被提供使得該化劑分配器104在沿著該x軸的一側具有一能量源1002，並在沿著x軸的另一側有該能量源1102。

在該化劑分配器106的任一側提供一能量源使得當能量被施加時將要被沉積至一建構材料層的選擇部分的化劑會和該等元件106、1002、和1102正在移動的方向無關。舉例來說，當該等元件106、1002、和1102正朝著一方向移動時，當該化劑分配器106正遞送化劑至該建構材料的該層的選擇部分的同時該尾接的能量源(1002或1102，取決於行進的方向)可以施加能量到化劑已經遞送至其上的一建構材料層。在一些實例中，該帶頭的能量源(1002或1102，取決於行進的方向)可以，舉例來說，不被激活，或者可被激活以執行一預加熱功能。

現在參考圖12，其根據一另外的實例圖示出一積層製造系統1200之一部分的一簡化無透視三維圖。在本實例中，一額外的化劑分配器1202被提供，使得該能量源1102在沿著該x軸的一側具有一化劑分配器106，並在沿著x軸的另一側有該化劑分配器1202。

在一能量源的任一側提供一化劑分配器使得當能量被施加時將要被沉積至一建構材料層的選擇部分的化 劑會和該等元件106、1102、和1202正在移動的方向無關。舉例來說，當該等元件106、1102、和1202正朝著一方向移動時，該帶頭的化劑分配器(1102或1202，取決於行進的方向)可以沉積化劑至一建構材料層的選擇部分同時該能量源1102正施加能量至建構材料的該層。

分別操作圖10、圖11、和圖12的該等系統1000、1100、或1200來產生一三維物件的另一實例方法現在將另外參照圖13的該流程圖來進行說明。

在方塊1302，該控制器112控制該建構材料分配器104沿著一第一軸線移動(即如圖1中所示的y軸)並控制該建構材料分配器104以沉積一建構材料層。一旦一建構材料層已被沉積，該控制器112控制該建構材料分配器104被安置於一駐停位置。。

在方塊1304，該控制器112控制該化劑分配器106和能量源(1002、1102)以沿著一第二軸線移動(即如圖1中所示的x軸)。該控制器112控制該化劑分配器106在已沉積之構建材料的該層上的選定部分沉積化劑。該控制器還控制該能量源(1002或1102，取決於行進的方向)以將能量施加到建構材料的該層。

在圖10所示出的該實例中，其中只有一單一能量源被提供，該行進方向會和在方塊902中所移動的行進方向相同。

在圖11或圖12所示出的該等實例中，其中有兩個能量源被提供，該行進方向可以和在方塊1302中所移動的 行進方向相反。

在方塊1304，該控制器112控制該能量源，或在有一個以上的能量源存在的情況下控制該帶頭能量源，以把能量施加到一建構材料分配器104層當該化劑分配器104106正在把化劑沉積一建構材料層的選擇部分時。

只要有必要的話，該控制器112可重複該等方塊1302和1304以產生一三維物件。

在一另外的實例中，該控制器112可另外地控制該系統1000、1100、或800以判定，如先前參考圖3的方塊302在以上所描述的，是否一維護操作將被執行在該化劑分配器106上，當它被安置在該駐停位置時。如果該控制器112判定一維護操作將要被執行，該控制器112會如先前所描述的控制該系統1000、1100、或800的元件以執行該維護操作。

根據以上的描述，一種展示出如何安置兩個正交滑架的實例實現方式被圖示於圖14中，其根據一實例係一積層製造系統1400之一部分的一簡化無透視三維圖。

該系統1400包括一建構材料支撐體1402。該系統1400更包括一第一滑架組件以允許一化劑分配器1406，諸如一聚結劑分配器，可在一第一軸線中(即如圖14中所示的y軸)雙向地移動，從一第一駐停位置1410a，通過該建構材料支撐體1402，到一第二駐停位置1410b。當移動過該建構材料支撐體1402時，該化劑分配器1406可被控制以遞送化劑至建構材料的選定部分，如之前所描述的。

該第一滑架組件包括，沿著該建構建材料支撐體1402相對邊緣之各自的滑架支撐體1404a和1404b。在一實例中，該等滑架支撐體1404可以是一種軌式結構，儘管在其他的實例中該等滑架支撐體1404可以是滑架桿、或其他合適的滑架支撐體元件。該化劑分配器1406被支撐在該等滑架支撐體1404a和1404b之上，透過各自的連接構件1408a和1408b上。一合適的驅動機制可被使用來移動該等連接構件1408，從而使該化劑分配器1406可雙向地沿著y軸移動。舉例來說，在一印表機控制器(圖中未示出)的控制之下，一馬達可以被使用來直接地或間接地驅動該等連接構件1408。

該系統1400包括一第二滑架組件以允許一建構材料分配器1412可在一第二軸線中(即如圖14中所示的x軸)雙向地移動，從鄰近於該建構材料支撐體1402之一邊緣的一駐停位置(圖中未示出)，通過該建構材料支撐體1402，到鄰近於該建構材料支撐體1402之該相對邊緣的一駐停位置(圖中未示出)。

該第二滑架機制包括在其上一支撐臂1416可雙向移動的一滑架桿1414。該支撐臂1416被連接到該建構材料分配器1412，使得當該支撐臂1416沿著該滑架桿1414被移動時，該建構材料分配器會在該建構材料支撐體1402上方被移動。一合適的驅動機制可被使用來移動該支撐臂1416，從而使該建構材料分配器1412可雙向地沿著x軸移動。舉例來說，在一印表機控制器(圖中未示出)的控制之下，一 馬達可以被使用來直接地或間接地驅動該支撐臂1416。

正如從圖14可以看出的，該第二滑架組件被安置在一個比該第一滑架組件要高的位置，使得當該化劑分配器1406或建構材料分配器1412的其中之一被安置在一各自的駐停位置時，該化劑分配器1406或建構材料分配器1412的另外一個可被控制成在移動過整個該建構材料支撐體1402時不受阻礙。

在其他的實例中，第一和第二滑架機制的其他安排可被提供。

可被理解的是，本文中所描述的實例可以以硬體的形式、或一種硬體和軟體的組合來被實現。任何如此的軟體可以以依電性或非依電性的儲存形式來被儲存，諸如，舉例來說，像一ROM的儲存裝置，不管其可擦除或可重寫與否，或者是以一記憶體的形式，諸如，舉例來說，RAM、記憶體晶片、裝置或積體電路或在一光學或磁性可讀媒體上，諸如，舉例來說，一CD、DVD、磁碟或磁帶。應當被理解的是，該等儲存裝置和儲存媒體是機器可讀取儲存的實例，其適合用於儲存一個或多個程式，當被執行時，可實現在本文中所描述的實例。因此，實例提供一程式，其包括可用於實現在任一前述請求項中所宣稱之一系統或方法的程式碼，亦提供一機器可讀取儲存，其儲存如此的一程式。

所有在本說明書(包括任何所附的請求項、摘要和附圖)中所揭露的該等特徵，和/或所揭露之任何方法或加 工過程之所有的步驟，可以以任何的組合方式被組合，除非在那些組合中至少一些如此的特徵和/或步驟是互斥的。

在本說明書(包括任何所附的請求項、摘要和附圖)中所揭露的每一個特徵，可被具有相同、等效或類似目的之可替換的特徵來替換，除非另外有明確的說明。因此，除非有另外明確的說明，所揭露之每一個特徵僅是一通用系列之等效或類似特徵的一實例而已。

100‧‧‧系統

102‧‧‧支撐構件

104‧‧‧建構材料分配器

106‧‧‧化劑分配器

108a、108b‧‧‧建構材料分配器駐停區

110a、110b‧‧‧化劑分配器駐停區

112‧‧‧控制器

114‧‧‧記憶體

116‧‧‧指令

Claims (15)

1. 用於產生一三維物件的裝置，其包含有：一建構材料分配器，其可在一第一軸線中雙向移動以在一支撐體上沉積一建構材料的連續層；以及一化劑分配器，其可在一不同於該第一軸線之第二軸線中雙向移動以遞送一化劑至建構材料之連續層的選定部分之上。
2. 如請求項1之裝置，其中該化劑分配器將遞送一化劑以致使在其上它被遞送的建構材料會形成該三維物件的一部分。
3. 如請求項1之裝置，其中該第一軸線係正交於該第二軸線。
4. 如請求項1之裝置，更包含有第一和第二駐停區，其鄰近於該支撐體沿著該第一軸線的相對邊緣，在其上該建構材料分配器可被駐停而不會妨礙該化劑分配器沿著該第二軸線的移動。
5. 如請求項4之裝置，更包含有第三和第四駐停區，其鄰近於該支撐體沿著該第二軸線的相對邊緣，在其上該化劑分配器可被駐停而不會妨礙該建構材料分配器沿著該第一軸線的移動。
6. 如請求項5之裝置，其中該化劑分配器係一列印頭，並更包含有一化劑分配器服務元件以致使當該化劑分配器被駐停在一駐停區中時一服務操作會被執行在該化 劑分配器上。
7. 如請求項1之裝置，更包含有一第一滑架，其可沿著該第一軸線移動，在其上被安裝或可安裝該建構材料分配器；以及一第二滑架，其可沿著該第二軸線移動，在其上被安裝或可安裝該化劑分配器。
8. 如請求項7之裝置，其中在該第一滑架上在該建構材料分配器的任一側被安裝或可安裝一能量源，使得當該第一滑架沿著該第一軸線被移動時，該帶頭的能量源可控制來把能量施加到在其上化劑已被沉積的建構材料，同時該建構材料分配器可控制來沉積建構材料的一新層。
9. 如請求項1之裝置，更包含有一控制器，以控制該建構材料分配器和該化劑分配器根據界定有一將被產生三維物件之切片的資料來產生一三維物件的連續層。
10. 用於產生一三維物件的裝置，其包含有：一建構材料分配器，其可在一第一軸線中雙向移動以在一支撐體上沉積一建構材料的連續層；一可移除式可插入的化劑分配器，其可在一正交於該第一軸線之第二軸線中雙向移動以遞送一化劑至建構材料之連續層的選定部分上；以及一控制器，以控制該建構材料分配器和化劑分配器根據界定有一將被產生三維物件之切片的資料來固化建構材料其連續層的部分。
11. 如請求項10之裝置，更包含有一滑架，其可沿著該第一 軸線移動，在其上被安裝或可安裝該建構材料分配器，並且在其上被安裝或可安裝鄰接於該建構材料分配器之一第一側的一第一能量源以及鄰接於該建構材料分配器之一第二側的一第二能量源。
12. 如請求項11之裝置，更包含有該控制器將控制該滑架沿著該第一軸線以一第一方向移動，將控制在該行進方向中的該帶頭能量源把能量施加到一建構材料層，並將控制該建構材料分配器把建構材料的一新層沉積到能量已被施加至其之該建構材料層的上方。
13. 如請求項12之裝置，其中該化劑分配器將遞送一化劑以致使在其上它被遞送之建構材料在來自該能量源的能量的施加時形成該三維物件的一部分。
14. 如請求項13之裝置，其中該化劑分配器係一列印頭，並更包含有一化劑分配器服務元件以致使當該化劑分配器被駐停在一駐停區中時一服務操作會被執行在該化劑分配器上。
15. 用於產生一三維物件的裝置，其包含有：一建構材料分配器，其可沿著一第一軸線雙向移動以在一支撐體上沉積一建構材料的連續層；一化劑分配器，其可沿著一正交於該第一軸線之第二軸線雙向移動以遞送一化劑至建構材料之連續層的選定部分之上；一控制器，以：控制該建構材料分配器當其沿著該第一軸線 以一第一方向移動的同時沉積建構材料的一第一層；控制該化劑分配器當其沿著該第二軸線以一第二方向移動的同時遞送化劑至建構材料之該沉積層的選定部分；控制該建構材料分配器當其以一相反於該第一方向的方向移動的同時沉積建構材料的一另外層；以及控制該化劑分配器當其以一相反於該第二方向的方向移動的同時遞送化劑至建構材料之該沉積層的選定部分。