TW201528317A - 使用電子束系統來檢查關注區域 - Google Patents

Abstract

一種用於使用一個或多個帶電粒子束來掃描基板的複數個關注區域的系統，該系統包括：具有帶電粒子光學的照射模組；用於引入在基板與帶電粒子光學間之相對移動的台；用於回應於由該一個或多個帶電粒子束掃描關注區域而收集從基板放射的電子之成像模組；且其中帶電粒子光學被配置以在掃瞄關注區域的期間實行帶電粒子束的反向移動，從而將基板與帶電粒子光學間所引入之相對移動在掃描關注區域的期間反向。

Description

使用電子束系統來檢查關注區域

電子束檢查工具表現出高的解析度但相對較慢。以高解析度電子束掃描整個晶圓是很冗長的且因此可能限制電子束系統的使用。

有日漸增加對於提供晶圓的高產量及高解析度檢查的系統和方法的需求。

用於使用電子束來檢查關注區域的方法與系統。

根據本發明的實施例，提供了一種用於使用一個或多個帶電粒子束來掃描基板的複數個關注區域的系統，該系統包括：具有帶電粒子光學的照射模組；用於引入在基板與帶電粒子光學間之相對移動的台；用於回應於由該一個或多個帶電粒子束掃描關注區域而收集從基板放射的電子之成像模組；且其中帶電粒子光學被配置以在掃瞄關注區域的期間實行帶電粒子束的反向移動，從而將基板與帶電粒子光學間 所引入之相對移動在掃描關注區域的期間反向。

根據本發明的實施例，關注區域的長度可以在介於0.25微米至2微米間的範圍，且在掃描關注區域的期間，移動的長度可以在介於0.25微米至200微米間的範圍。基板可以是晶圓或是光罩(reticle)、光罩(photomask)等等。

根據本發明的實施例，系統可包括帶電粒子光學，其被配置以移動帶電粒子束，在掃描關注區域的期間，以掃描圖案沿著第一方向及沿著向著相對於第一方向的第二方向，且其中帶電粒子束的反向移動的實行包括沿著第一方向移動帶電粒子束。

根據本發明的實施例，台可被配置以藉由以等速移動基板來引入相對移動；且其中帶電粒子光學被配置以在具有鋸齒牙形狀的控制信號之控制下，實行帶電粒子束的反向移動。

根據本發明的實施例，系統進一步包括控制器，其被配置為，對於帶電粒子束及關注區域的掃描之每個組合，產生用於回應台位置資訊而調整帶電粒子束之位置的控制信號。

根據本發明的實施例，帶電粒子光學是由以下組成之一群中之一個：產生單一帶電粒子束的單一帶電粒子柱(column)、多帶電粒子柱結構其中每個帶電粒子柱產生單一束、及產生複數個帶電粒子束的單一帶電粒子柱。

根據本發明的實施例，帶電粒子束可以是電子束。根據本發明的另一實施例，帶電粒子束是離子束。

根據本發明的實施例，系統可被配置以掃描在基板的整個表面上之一個或多個帶電粒子束。根據本發明的實施例，所有關注區域的整體區域可以是晶圓的區域的一小部分。根據本發明的另一實施例，至少一些關注區域可具有低於視野的百分之一的區域。

根據本發明的實施例，提供有用於掃描基板的複數個關注區域的方法，該方法包括：引入在基板與帶電粒子光學間之相對移動；在引入相對移動的期間，由一個或多個帶電粒子束掃描關注區域；其中掃描包括在掃描關注區域的期間實行帶電粒子束的反向移動，從而將基板及帶電粒子光學間所引入之相對移動反向；及回應於由一個或多個帶電粒子束之關注區域掃描，收集從基板放射的電子。

方法可包括移動帶電粒子束，在掃描關注區域的期間，以掃描圖案沿著第一方向及沿著向著相對於第一方向的第二方向，且其中帶電粒子束的反向移動的實行包括沿著第一方向移動帶電粒子束。

方法可包括藉由以等速移動基板來引入相對移動；且在具有鋸齒牙形狀的控制信號之控制下，實行帶電粒子束的反向移動。

方法可包括對於帶電粒子束及關注區域的掃描之每個組合，產生用於回應台位置資訊而調整帶電粒子束之位置的控制信號。

關注區域的長度可以在介於0.25微米至2微米間的範圍，且在掃描關注區域的期間，移動的長度可以在介於0.25 微米至200微米間的範圍。

帶電粒子光學可以是由以下組成之一群中之一個：產生單一帶電粒子束的單一帶電粒子柱(column)、多帶電粒子柱結構其中每個帶電粒子柱可產生單一束、及產生複數個帶電粒子束的單一帶電粒子柱。

基板可以是晶圓。

基板可以是光罩(reticle)。

帶電粒子束可以是電子束。

帶電粒子束可以是離子束。

掃描可包括掃描在基板的整個表面上之一個或多個帶電粒子束。

所有關注區域的整體區域可以是晶圓的區域的一小部分。

在至少一些關注區域可具有低於視野的百分之一的區域。

方法可包括回應於由一個或多個帶電粒子束之多個相同關注區域的掃瞄而收集從基板放射的電子；其中多個掃描中之至少兩個掃描彼此在至少一個圖像取得條件上不同。

至少兩個關注區域彼此在形狀及尺寸中之至少一個不同。

10‧‧‧系統

12‧‧‧槍

14‧‧‧照明透鏡

16‧‧‧分束器

18‧‧‧物體透鏡

22‧‧‧照射模組

24‧‧‧成像透鏡

28‧‧‧電子探測器

30‧‧‧成像器

31‧‧‧成像檢測器

32‧‧‧處理器

33‧‧‧記憶體

34‧‧‧位置控制器

35‧‧‧次要帶電粒子束

36‧‧‧台

38‧‧‧表面

39‧‧‧晶圓

40‧‧‧使用者介面

41‧‧‧主要帶電粒子束

42‧‧‧照射路徑

44‧‧‧孔

45‧‧‧聚焦圖像

46‧‧‧成像路徑

47‧‧‧成像模組

48‧‧‧軸

99‧‧‧電子光學

111-115‧‧‧區域

122‧‧‧機械掃描圖案

130‧‧‧關注區域

132‧‧‧視野

151-159‧‧‧線

160‧‧‧光柵掃描圖案

170‧‧‧圖形

171-179‧‧‧線

視為本發明的主張標的在本說明書的總結部分被特別地指出與清楚地主張。本發明，然而，對於組織及操作的方法兩者，連同目的、特徵、及其中的優點，可藉由參照至 以下實施方式而在與隨附圖式閱讀時最佳地理解，其中：第1圖圖示根據本發明之實施例的晶圓與系統；第2圖圖示根據本發明之實施例的晶圓、在晶圓的區域之機械移動圖案、及多個關注區域；第3圖圖示根據本發明之實施例的第一掃描圖案、第一掃描圖案之第一反向移動元素及掃瞄圖案之另一元素；第4圖圖示根據本發明之實施例的晶圓區域及多個關注區域；第5圖圖示根據本發明之實施例的系統及晶圓；且應理解為了描述的簡單與清晰，圖式中所示的元件並未必然依比例繪製。例如，一些元件的尺寸可能相對於其他元件被誇大以為了更清楚。此外，在認為適當時，元件符號在圖式上可被重複以指示相對應或類似的元件。

在以下實施方式中，許多特定細節被闡釋以為了提供對本發明透徹的理解。然而，所屬技術領域具有通常知識者將理解本發明可在沒有這些特定細節下實施。在其他實例中，為人熟知的方法、程序、與元件未被詳細描述以為了不混淆本發明。

視為本發明的主張標的在本說明書的總結部分被特別地指出與清楚地主張。本發明，然而，對於組織及操作的方法兩者，連同目的、特徵、及其中的優點，可藉由參照至以下實施方式而在與隨附圖式閱讀時最佳地理解。

應理解為了描述的簡單與清晰，圖式中所示的元件 並未必然依比例繪製。例如，一些元件的尺寸可能相對於其他元件被誇大以為了更清楚。此外，在認為適當時，元件符號在圖式上可被重複以指示相對應或類似的元件。

因為所示本發明之實施例可在大多數情況下，使用所屬技術領域具有通常知識者所熟知的電子元件及電路來實施，細節將不會以比被考量為如以上描繪更詳細延伸地解釋，以理解與認識本發明的基本概念且為了不模糊或分散本發明的教示。

說明書中對方法的任何參照應依能執行該方法的系統進行適用(mutatis mutandis)而應用且應依照儲存指令的非暫態電腦可讀取媒體進行適用而應用，該等指令一旦被電腦執行將造成該方法的執行。

說明書中對系統的任何參照應依可被該系統執行的方法進行適用(mutatis mutandis)而應用且應依照儲存可被該系統執行的指令之非暫態電腦可讀取媒體進行適用而應用。

說明書中對非暫態電腦可讀取媒體的任何參照應依能執行儲存於該非暫態電腦可讀取媒體中之指令的系統進行適用(mutatis mutandis)而應用且應依照可被電腦執行之方法，該電腦讀取儲存於該非暫態電腦可讀取媒體中之指令，而進行適用而應用。

根據本發明的實施例，有提供了用於由電子束掃描關注區域的方法與系統。所有關注區域的聚集尺寸相對於晶圓的整體尺寸是小的，且因此僅對關注區域的高解析度掃描 可加速檢查處理。再者，當使用包括反向移動元件之掃描圖案來移動晶圓時，關注區域可被掃描-從而允許較長的掃描週期而不降低機械移動的速度。

現參照至第1圖，其為根據本發明之實施例的單柱(column)、單束系統10的示意圖。系統10包括帶電粒子束照射模組22，其以舉例的方式，假定從帶電粒子槍12的孔44產生單一主要帶電粒子束41。然而，本發明的範疇並不限於單一帶電粒子束的產生，因此模組22可被配置以產生多個束。照射模組22與成像模組47形成電子光學99。

此外，本發明的範疇並不限於帶電粒子的特定類型，並且包括基本上所有類型的帶電粒子，包括電子和離子，如鎵或其他金屬離子。以舉例的方式，以下描述假定主要帶電粒子束包括電子。

模組22包括一個或多個照明透鏡14、分束器16，以及物體透鏡18，該等透鏡運作為元件聚焦。一般而言，該一個或多個透鏡14與分束器16磁性地操作，雖然透鏡及/或分束器亦可結合其他類型的操作，例如靜電操作或其中之組合。

束41跟著照射路徑42透過模組22，並沿著軸48，至晶圓39的表面38，軸48通常是與表面垂直的。

第2圖圖示晶圓39，機械掃描圖案122與在形成機械掃描圖案122的五個迭代期間被成像的五個區域(片)111-115。晶圓39被安裝在可移動台(於第1圖中所示之台36)上，其被假定為能夠轉換晶圓與三個垂直軸X、Y、與Z 平行，且XY平面被假定為水平的(如第1圖所示之軸X、Y與Z)。在此範例中，掃描圖案122由與Y軸平行之垂直方向121、及與X軸平行之垂直位移所組成。應注意到本發明不限於藉由何種方法晶圓的相對移動與電子束被提供。該一個或多個透鏡14、分束器16、與物體透鏡18形成束41進入聚焦圖像45，在此下文亦稱為在表面38上孔44的點45。第2圖亦圖示區域113，其具有細長的形狀(片)且包括多個關注區域130。

參照回第1圖-第1圖亦圖示在機械掃描晶圓39時在某個時間點上電子光學的視野132。

視野132可以是由電子光學沒有台39的機械移動所能觀看的最大區域，或者任何較小的區域。第1圖亦圖示關注區域130上點45的光柵掃描圖案160。根據本發明的實施例，點45被以連續的方式在一個方向上被掃瞄且在垂直方向位移。

參照回第1圖-點45產生反射、次要、及/或反向散射的電子作為電子的次要帶電粒子束35，其通過物體透鏡18、及分束器16。從點45的次要束跟著成像路徑46、經由成像透鏡24至電子檢測器28。電子檢測器28，一般由閃爍器晶體或粒狀閃爍器粉末構成的螢光幕轉換電子的次要束35至光輻射，其被成像器30成像，例如電荷耦合偵檢器(CCD)陣列。檢測器28和成像器30一般被合併為一個單元，且運作為次要束的成像檢測器31，產生指示束流的信號。替代地，成像檢測器31可包括雪崩光電二極體陣列，其直接地檢測次 要束35而不轉換至光。透鏡18和24、分束器16、和成像檢測器31包括用於系統10的成像模組47。由成像模組47產生的信號被傳送到耦合至記憶體33的處理器32。

處理器32被耦接至槍12、透鏡14、分束器16、物體透鏡18、成像透鏡24、和成像檢測器31，以便控制他們的操作和點45的聚焦，並且也以作為系統10的整體控制。應注意到，本發明並不限於在第1圖中所示之系統架構且可被由粒子束成像系統以各種配置來實施。

一般而言，台36以連續的方式且以固定速度沿著機械掃描圖案122在X-Y平面移動，而處理器32根據掃描圖案來掃描電子束(從而掃描點45)，其掃描關注區域且可跳過與關注區域不同的區域。

關注區域可被饋送至系統10或可被系統10檢測。這些關注區域可被系統的操作者或任何其他人或裝置饋送。他們可基於先前晶圓的掃描、基於設計資訊、基於光檢查或另一較粗略解析度處理的結果等等而被選擇。應注意本發明並不受關注區域的類型或他們被處理器32提供或產生之方式和方法所限制。

在本文以下，假定處理器32從系統的操作者經由使用者介面40接收操作參數，該使用者介面使得操作者能夠調整上述系統元件以及以下描述系統10的其他元件的設定。處理器32亦耦合至且操作位置控制器34。在處理器的命令下，控制器34能夠在垂直方向上調整台36。

根據本發明的實施例，電子光學被佈置以由電子束 掃描關注區域(從而點45)。一旦關注區域(130)被掃描，系統繼續掃描下一個關注區域。關注區域被掃瞄的順序可以被預先設置或部分隨機的。順序可考慮晶圓的機械移動(由台36的移動而使其成為可能)且可在彼此靠近的關注區域間跳躍(jump)電子束。

根據本發明的實施例，電子光學被配置以對每個關注區域重複：(i)導引電子束向著晶圓的關注區域130；關注區域130可為視野的小部分或是組成電子光學的整個視野或視野的部分；一邊移動晶圓39時，根據電子束(亦參照為主要帶電粒子束41)的第一掃描圖案(160)，沿著第一方向(例如第2圖中的垂直的方向121)來掃描關注區域(130)，使關注區域於第一週期間在假想固定點前通過-因此晶圓39所移動一距離的時間為第一週期，該距離等同於沿著第一方向之關注區域的長度。

換句話說，一般而言，關注區域被在X-Y平面中合成、結合的移動所掃描，其由以下移動元件組成：以一個方向(例如，Y方向)之台移動(晶圓移動)、電子束掃描移動，例如以光柵掃描圖案(例如，連續以一個方向掃描及以正交方向位移-第1圖所示之掃描圖案160)。

選擇地，位置補償移動可被提供，藉由移動電子束至經調整的開始位置，以補償位置誤差例如，台機械移動誤差。位置補償移動可由處理器32回應於台的位置的測量而定義，其被持續地實現，例如，由台干涉計元件(第1圖中未示出)。

根據本發明，額外的電子束移動在掃描期間被加入-在台移動方向的電子束的反向移動，以補償在電子束掃描移動期間在此方向的台的移位。由於電子束反向移動，在電子束掃描移動的期間，台可更快速的移動。因此台的速度可被增加，且從而整體產量增加而不減損掃描的品質。

舉例來說，如第1圖中所圖示之系統的操作可具有以下參數之特徵：台固定的速度-沒有停止掃描-可被提供每秒幾毫米，例如每秒0.1-100毫米；關注區域的長度或寬度可介於0.25微米至2微米，例如1微米；且在掃描關注區域的期間台的移動的長度可為介於0.25微米到200微米，例如30微米。

在許多情況下，在第一掃描期間(完成第一掃描圖案的時間)應長於該第一週期。例如-第一週期可能太短無法收集足夠的電腦以提供圖像足夠的信噪比。因此-有需要增長第一掃描期間-且此可，藉由允許電子束撞擊關注區域上一段延長的期間(相對於該第一週期)而不論機械移動，來完成而不降低機械掃描。此可藉由以第一掃描圖案掃描第一電子束來完成，該第一掃描圖案第一反向移動元件，其反向機械移動。此允許關注區域的掃描具有第一掃描期間較第一週期長。

第3圖圖示Y軸掃描控制信號(圖150)與X軸掃描控制信號(圖形170)。這些控制信號使得電子束45被沿著X與Y軸各別地掃描且示出電子束掃描移動與電子束反向移動的組合。

圖形170包括重複的系列(a)正向線(171、175、179)以從左至右掃描點、(b)水平部分(172與176)當垂直地於兩水平掃描線間移動點時不引入X軸位移及(c)負向線(173與177)以從右至左掃描點。

假設當掃描區域113時，晶圓39垂直地移動(從底部到頂部)，Y軸掃描控制信號150包括反向移動元件其反向台與晶圓的機械移動。假設在固定速度下移動-Y軸控制信號150包括交織的順序(a)用於反向晶圓的機械移動之正向線(151、153、155、157、159)與(b)用於實行第一掃描圖案160的垂直部分(162、164、166與168)的負向線(152、154、156、158)。

應注意其他電子束掃描圖案可被應用-例如掃描圖案可定向至晶圓的機械移動，可包括旋轉元件，及可包括與光柵掃描的形狀不同之多邊形。此外-移動可以是非固定速度的。

根據本發明的各種實施例，所有關注區域的整體區域是晶圓區域的一小部分(例如，1/Q，其中Q大於3)。

第一掃描期間可以至少是比第一周期長R倍，其中R可大於2。

雖然系統10被圖示於第1圖中為能夠以單一電子束掃描晶圓，其可被調適以多個電子束掃描晶圓。在第一圖中電子光學99或其元件的一些重複、額外的元件例如分束器及/或元件的移除可獲得所想要的結果。例如-雙柱電子光學可以能產生多個電子束。

第4圖圖示區域113為被兩個電子束掃描。區域113在其中心被虛擬線18虛擬的分割以提供區域113(1)與113(2)-一個區域113(1)被第一電子束掃描及第二區域113(2)被額外的，第二電子束掃描。為了解釋的簡潔，在第二區域131(2)中的關注區域被參照為額外的關注區域。

因此，系統可被配置以由第二電子束掃描額外的關注區區域，例如，雙單束柱配置。電子光學99被配置以對每個額外的關注區域重複：導引第二電子束向著晶圓的額外的關注區域；一邊移動晶圓時，根據第二電子束的第二掃描圖案，沿著第一方向來掃描額外的關注區域，使額外的關注區域於第二週期間在第二假想固定點前通過；其中第二掃描圖案包括第二反向移動部分其反向機械移動從而允許掃描額外的關注區域以具有較第二週期長的第二掃描期間。

根據本發明的實施例，系統可被配置以由一個或多個電子束掃描關注區域，例如，以多柱單束配置或由單一的多束柱，如本領域所為人熟知的。

第5圖圖示根據本發明實施例的方法200。

方法200是用於掃描基板的複數個關注區域。

方法200分由階段210和220。

步驟210可包括引入基板與帶電粒子光學間的相對移動。

步驟220當引入(210)相對移動時被執行。

步驟220可包括由一個或多個帶電粒子束掃描關注區域。掃描包括當掃描關注區域時實行帶電粒子束的反向移 動從而反向在基板與帶電粒子束間所引入之相對移動。

步驟220還可包括移動在不是反向移動之移動中之帶電粒子束及甚至移動在相同方向如該階段引入之相對移動之方向的移動中之帶電粒子束。

步驟220亦可包括掃描不是關注區域的區域。此可在當從一個關注區域移動到另一個時發生。

步驟220由步驟230接續，其回應於一個或多個帶電粒子束掃描關注區域來收集從基板的電子放射及產生指示所收集的電子的檢測信號。

步驟230由步驟240接續，其處理檢測信號。

根據本發明的實施例，處理器32可控制關注區域的掃瞄且可存取非暫態電腦可讀取媒體(例如記憶體33)且可讀取指令，該等指令使得處理器控制關注區域的掃描。非暫態電腦可讀取媒體可儲存指令，該等指令將使得系統執行方法200。

根據本發明的實施例，階段220可包括多次掃描相同的關注區域，其中至少兩個掃描在圖像取得條件例如聚焦平面、聚焦深度、束流、著陸能量(landing energy)、解析度、等等彼此不同。不同掃描可被用以重建關注區域的三維圖像。圖像取得條件是在圖像取得程序中曾被應用而可影響由圖像取得程序獲得之圖像的條件。

應注意不同的關注區域可以是一樣形狀和尺寸的。備選地-至少兩個關注區域可彼此在形狀及/或尺寸上不同。不同關注區域可部分地重疊或可能不重疊。關注區域的 形狀及/或尺寸可預先被決定、在關注區域的掃描處理時決定、可以是回應於掃描一個或多個關注區域的結果等等。

應注意圖像取得是在引入基板與帶電粒子光學間之相對移動的期間發生且因此增加方法的產量。可允許高達100%的抓取效率時間。

本發明亦可被實施於用於運行在電腦系統上的電腦程式中，其至少包括當運行於可程式裝置上時，用於實施根據本發明之方法的步驟之代碼部分，例如電腦系統或使得可程式裝置能夠實行根據本發明之裝置或系統的功能。電腦程式可使得存儲系統分配磁碟驅動至磁碟驅動組。

電腦程式是一系列指令，例如特定應用程式及/或作業系統。電腦程式可，例如，包括下列之一個或多個：子常式、函式、程序、物件方法、物件實作、可執行應用、小型應用程式、伺服小型應用程式、源代碼、目的碼、共享程式庫/動態載入程式庫及/或設計以執行於電腦系統上之其他系列的指令。

電腦程式可被內部地儲存於非暫態電腦可讀取媒體上。全部或是部分的電腦程式可被永久地、可移除地或遠端耦合至資訊處理系統地被提供於電腦可讀取媒體上。電腦可讀取媒體可包括，例如且不限於，任何數量之以下各項：磁性的存儲媒體包括磁碟與磁帶存儲媒體；光學存儲媒體例如光碟媒體(例如，CD ROM、CD R，等等)及數位光碟存儲媒體；非揮發記憶體存儲媒體包括基於半導體的記憶體單元例如快閃記憶體、EEPROM、EPROM、ROM；鐵磁數位記憶 體；MRAM；揮發性存儲媒體包括暫存器、緩衝器及快取、主要記憶體、RAM、等等。

電腦程序一般包括執行(運行)程式或部分的程式、當前程式值及狀態資訊、與被作業系統使用之資源以管理程序的執行。作業系統(OS)是管理電腦的資源的共享之軟體並提供程式人員用以存取那些資源的介面。作業系統處理系統資料與使用者輸入，並且藉由分配與管理任務與內部系統資源作為給使用者的服務與系統的程序來回應。

電腦系統可，例如，包括至少一個處理單元、相關聯的記憶體及一些輸入/輸出(I/O)裝置。當執行電腦程式時，電腦系統根據電腦程式處理資訊並經由I/O裝置產生結果輸出資訊。

在前述說明書中，本發明已參照至本發明之實施例的特定範例來描述。然而，很明顯的，各種修改與改變可在其中被完成而不悖離如隨附申請專利範圍中所闡釋之本發明的更寬廣之精神與範疇。

此外，在說明書與申請專利範圍中用語「前」、「後」、「頂部」、「底部」、「上」、「下」等等，若有的話，是用於描述的目的且不必然用於描述永久的相對位置。應理解用語被如此使用是在合適的狀況下可互換的，使得本文描述之發明的實施例，舉例而言，能夠操作於與那些圖示或本文中所描述不同的其他方向中。

如本文所討論之連接可以是適合自或往個別節點、單元或裝置傳輸信號的任意種類的連接，例如經由中介裝 置。因此，除非暗示或是另有說明，連接可，舉例而言，是直接連接或間接連接。連接可被圖示或是描述參照為單一連接、複數個連接、單向連接、或雙向連接。然而，不同實施例可改變連接的實施。例如，可使用分離的單向連接而不是雙向連接，反之亦然。此外，複數個連接可被單一連接取代，其序列地或以時間上選擇地方式傳輸多個信號。同樣地，攜帶多個信號的單一連接可被分離到攜帶這些信號的子集合之各種不同連接。因此，存在許多選項用於傳輸信號。

儘管在範例中以描述特定導電類型或電位極性，應理解導電類型及電位極性可以是相反的。

本文所述的每個信號可被設計為正或負邏輯。在負邏輯信號的情況下，信號是低態有效，其中邏輯上為真的狀態對應於邏輯位準0。在正邏輯信號的情況下，信號是高態有效，其中邏輯上為真的狀態對應於邏輯位準1。注意到本文所述之任何信號可被設計為負或正邏輯信號。因此，在替代實施例中，被描述為正邏輯信號的那些信號可被實施為負邏輯信號，且被描述為負邏輯信號的那些信號可被實施為正邏輯信號。

此外，用語「確立」或「設置」與「取消」(或「反確立」或「清除」)在本文中被個別使用當參照至使得信號、狀態位元、或類似設備使其邏輯上為真或邏輯上為假的狀態。如果邏輯上為真的狀態是邏輯位準1，則邏輯上為假的狀態是邏輯位準0。並且如果邏輯上為真的狀態是邏輯位準0，則邏輯上為真的狀態是邏輯位準1。

所屬技術領域具有通常知識者將理解在邏輯方塊間的邊界是僅只說明性的，且其他的實施例可合併邏輯方塊或電路元件或是在各種邏輯方塊或電路元件上施加功能的替代分解。因此，應理解本文所描繪的架構僅只是示例性的，並且事實上許多其他達成相通功能的架構可被實施。

任何元件的配置以達成相同功能是有效地「相關聯的」，使得所欲之功能被實現。因此，在此任意兩個元件被組合以達成特定功能可被視為彼此「相關聯的」使得所欲的功能被達成，而不論架構或中介元件。同樣地，如此相關聯的任意兩個元件也可被視為彼此「操作地連接的」，或是「操作地耦合的」，以達成所欲之功能。

此外，所屬技術領域具有通常知識者將理解到在前文所述之操作間的邊界僅是說明性的。多個操作可被結合為單一操作，單一操作可被分散於額外的操作中且操作可至少部分地在時間上重疊地被執行。此外，其他的實施例可包括特定操作的多個實例，且在各種其他實施例中操作的順序可被改變。

又例如，在一個實施例中，所示之範例可被實施為位於單一積體電路上或在相同裝置中之電路。或者，範例可被實施為彼此以適合方式交互連接之任意數量分開的積體電路或分開的裝置。

又例如，範例，或其中之部分，可實施為實體電路或可轉換成實體電路之邏輯代表的軟體或代碼，例如在任何合適類型的硬體描述語言中。

此外，本發明不限於實施在不可程式編輯的硬體中之實體裝置或是單元，但亦可被應用於能夠經由根據合適代碼操作，來實施所欲裝置功能的可程式編輯的裝置或單元中，例如大型電腦、迷你電腦、伺服器、工作站、個人電腦、筆記型電腦、個人數位助理、電子遊戲、汽車及其他嵌入式系統、手機、及各種其他無線裝置，一般在本申請案中稱為「電腦系統」。然而，其他修改，變化和替換也是可能的。說明書與圖示為，因此，將被視為說明性的而不是限制意義。

在申請專利範圍中，任何置於括號間之參照符號不應被解釋為限制申請專利範圍。「包括」一詞不排除申請專利範圍中所列之那些以外的其他元件或步驟的存在。此外，如本文所使用之用語「一(a)」或「一(an)」，被定義為一個或更多個。

此外，在申請專利範圍中之引介片語的使用例如「至少一個」及「一個或多個」，不應被解釋為暗示由不定冠詞「一(a)」或「一(an)」引介之另一申請專利範圍元件限制任意特定申請專利範圍包括此引介之發明的申請專利範圍元件僅包括一個此元件，即使當相同的申請專利範圍包括引介片語「一個或多個」或「至少一個」及不定冠詞例如「一(a)」或「一(an)」。

同樣也適用於定冠詞的使用。除非另有說明，用語例如「第一」和「第二」被用以任意的在這些用語所描述的元件間區別。因此，這些用語不一定意圖指示這些元件的時間或其他優先順序。特定措施被記載於彼此不同的申請專利 範圍中之純粹事實並不指示這些措施的結合不可被有利的使用。

儘管發明之特定特徵已在本文中說明與描述，許多修改、替換、改變、與均等現將為所屬技術領域具有通常知識者所能想到。因此，應理解隨附申請專利範圍係欲涵蓋所有這些修改與改變為落於本發明之真正精神內。

10‧‧‧系統

12‧‧‧槍

14‧‧‧照明透鏡

16‧‧‧分束器

18‧‧‧物體透鏡

22‧‧‧照射模組

24‧‧‧成像透鏡

28‧‧‧電子探測器

30‧‧‧成像器

31‧‧‧成像檢測器

32‧‧‧處理器

33‧‧‧記憶體

34‧‧‧位置控制器

35‧‧‧次要帶電粒子束

36‧‧‧台

38‧‧‧表面

39‧‧‧晶圓

40‧‧‧使用者介面

41‧‧‧主要帶電粒子束

42‧‧‧照射路徑

44‧‧‧孔

45‧‧‧聚焦圖像

46‧‧‧成像路徑

47‧‧‧成像模組

48‧‧‧軸

99‧‧‧電子光學

130‧‧‧關注區域

160‧‧‧光柵掃描圖案

Claims (30)

1. 一種用於使用一個或多個帶電粒子束掃描一基板的複數個關注區域的系統，該系統包括：一照射模組，該照射模組具有帶電粒子光學；一台，該台用於在該基板及該帶電粒子光學間引入一相對移動；一成像模組，該成像模組用於回應於由該一個或多個帶電粒子束之關注區域的一掃瞄而收集從該基板放射的電子；且其中該帶電粒子光學被配置以在該等關注區域的該掃描期間實行該帶電粒子束之反向移動，從而在該等關注區域的該掃描期間將該基板與該帶電粒子光學間所引入之相對移動反向。
2. 如請求項1所述之系統，其中該帶電粒子光學被配置以移動該帶電粒子束，在一掃瞄一關注區域的期間，以一掃描圖案沿著一第一方向及沿著向著相對於該第一方向的一第二方向，且其中該帶電粒子束的一反向移動的一實行包括沿著該第一方向移動該帶電粒子束。
3. 如請求項1所述之系統，其中該台被配置成以一等速移動該基板來引入該相對移動；且其中該帶電粒子光學被配置成在具有一鋸齒牙形狀的一控制信號之一控制下，實行該帶電粒子束的一反向移動。
4. 如請求項1所述之系統，進一步包括一控制器，其被配置成，對於帶電粒子束及一關注區域的一掃描之每個組合，產生用於回應於台位置資訊而調整該帶電粒子束之一位置的一控制信號。
5. 如請求項1所述之系統，其中該關注區域的一長度是介於0.25微米至2微米間，且在該關注區域的一掃描期間，台的一移動的一長度是介於0.25微米至200微米間。
6. 如請求項1所述之系統，其中該帶電粒子光學是由下列所組成之一群中的一個：產生一單一帶電粒子束的一單一帶電粒子柱(column)、一多帶電粒子柱結構其中每個帶電粒子柱產生一單一束、及產生複數個帶電粒子束的一單一帶電粒子柱。
7. 如請求項1所述之系統，其中該基板是一晶圓。
8. 如請求項1所述之系統，其中該基板是一光罩(reticle)。
9. 如請求項1所述之系統，其中該帶電粒子束是一電子束。
10. 如請求項1所述之系統，其中該帶電粒子束是一離子束。
11. 如請求項1所述之系統，其中該系統被配置以掃描在該基板的一整個表面上之該一個或多個帶電粒子束。
12. 如請求項1所述之系統，其中所有該關注區域的一整體區域是該晶圓的一區域的一小部分。
13. 如請求項1所述之系統，其中至少一些關注區域具有少於視野的百分之一的一區域。
14. 如請求項1所述之系統，其中該成像模組是用於回應於由該一個或多個帶電粒子束對一相同的關注區域的多個掃描而收集從該基板放射的電子；其中該多個掃描中之至少兩個掃描彼此在至少一個圖像取得條件上不同。
15. 如請求項1所述之系統，其中至少兩個關注區域彼此在形狀及尺寸中之至少一者不同。
16. 一種用於掃描一基板的複數個關注區域的方法，該方法包括以下步驟：在該基板與帶電粒子光學間引入一相對移動；在該相對移動的該引入期間，由一個或多個帶電粒子束掃描該等關注區域；其中該掃描包括在該等關注區域的該掃描期間，實行該帶電粒子束的反向移動，從而將該基板與該帶電粒子光學間所引入之相對移動反向；及 回應於由該一個或多個帶電粒子束之該等關注區域的該掃描，收集從該基板放射的電子。
17. 如請求項16所述之方法，進一步包括以下步驟：移動該帶電粒子束，在一關注區域的一掃描期間，以一掃描圖案沿著一第一方向及沿著向著相對於該第一方向的一第二方向，且其中該帶電粒子束的一反向移動的實行包括沿著該第一方向移動該帶電粒子束。
18. 如請求項16所述之方法，進一步包括以下步驟：以一等速移動該基板來引入該相對移動；且在具有一鋸齒牙形狀的一控制信號之一控制下，實行該帶電粒子束的該反向移動。
19. 如請求項16所述之方法，進一步包括以下步驟：對於帶電粒子束及一關注區域的一掃描之每個組合，產生用於回應於台位置資訊而調整該帶電粒子束之一位置的一控制信號。
20. 如請求項16所述之方法，其中該關注區域的一長度是介於0.25微米至2微米間，且在該關注區域的一掃描期間，台的一移動的一長度是介於0.25微米至200微米間。
21. 如請求項16所述之方法，其中該帶電粒子光學是由下列所組成之一群中的一個：產生一單一帶電粒子束的一單一帶電粒子柱(column)、一多帶電粒子柱結構其中每個帶電粒 子柱產生一單一束、及產生複數個帶電粒子束的一單一帶電粒子柱。
22. 如請求項16所述之方法，其中該基板是一晶圓。
23. 如請求項16所述之方法，其中該基板是一光罩(reticle)。
24. 如請求項16所述之方法，其中該帶電粒子束是一電子束。
25. 如請求項16所述之方法，其中該帶電粒子束是一離子束。
26. 如請求項16所述之方法，其中該系統掃描在該基板的一整個表面上之該一個或多個帶電粒子束。
27. 如請求項16所述之方法，其中所有該關注區域的一整體區域是該晶圓的一區域的一小部分。
28. 如請求項16所述之方法，其中至少一些關注區域具有少於視野的百分之一的一區域。
29. 如請求項16所述之方法，其中該成像模組是用於回應於由該一個或多個帶電粒子束對一相同的關注區域的多個掃描而收集從該基板放射的電子；其中該多個掃描中之至少兩個掃描彼此在至少一個圖像取得條件上不同。
30. 如請求項16所述之方法，其中至少兩個關注區域彼此在形狀及尺寸中之至少一者不同。