TW201520558A - 電波暗室及其電波測試裝置 - Google Patents

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Abstract

一種電波暗室,包括一暗室、設於該暗室底部一端的天線、設於該暗室底部相對的另一端的測試轉臺及一電波測試裝置,該電波測試裝置包括一水平設置於該暗室上部的支撐桿、一滑動地套設於該支撐桿的滑動件、一驅動該滑動件左右滑動的第一驅動組件、一沿上下方向滑動地設於該滑動件的齒條、一驅動該齒條滑動的第二驅動組件及一設於該齒條底端的場強探頭,該第一驅動組件及第二驅動組件分別驅動該滑動件及齒條使該場強探頭在支撐桿及滑條所在平面內移動至各個測試點。

Description

電波暗室及其電波測試裝置
本發明涉及電波暗室,尤其涉及一種設有電波測試裝置的電波暗室。
在進行電磁相容測試的射頻電磁場輻射抗擾度試驗之前需要對測試場地進行驗證,進行均勻域的量測以確保測試場地中電磁場強分佈充分均勻。一般來說,測試所使用的均勻域尺寸為1.5m×1.5m,其中包含十六個用於均勻域場強量測的測試點。在進行均勻域的量測時,將場強探頭放置在其中一個測試點上,使用訊號發生器、功率放大器及發射天線在每個預定的發射頻率段中分別以不同的天線極性(例如水平與垂直極性)發射不同頻率的測試訊號。場強探頭在所選的測試點分別接收具有不同極性及頻率點測試訊號,從而感測到對應各個測試訊號的場強讀值。在該測試點獲得對應每個預訂極性及頻率點測試訊號的場強讀值後,將該場強探頭藉由手動的方式移至其他測試點,一一重複上述測試操作,最後匯整所有測試點對應具有不同極性及頻率點測試訊號的場強讀值,以考察該均勻域中場強的均勻度。
在上述測試過程中,當場強探頭位於每個測試點時,都要分別調節天線極性及測試訊號的發射頻率,以在該測試點分別獲取對應具有不同極性及頻率點測試訊號的場強讀值,而且該操作需要重複多次,使用不方便,且多次移動場強探頭容易導致定位精度不夠而使測量的結果不準確。
鑒於以上,有必要提供一種使用方便、測量準確的電波測試裝置及電波暗室。
一種電波測試裝置,包括一支撐桿、一滑動地套設於該支撐桿的滑動件、一驅動該滑動件滑動的第一驅動組件、一沿垂直該支撐桿的方向滑動地組設於該滑動件的齒條、一驅動該齒條的第二驅動組件及一設於該齒條底端的場強探頭,該第一驅動組件及第二驅動組件分別驅動該滑動件及齒條使該場強探頭在支撐桿及滑條所在平面內移動,該第二驅動組件設有一嚙合於該齒條的驅動齒輪。
一種電波暗室,包括一暗室、設於該暗室底部一端的天線、設於該暗室底部相對的另一端的測試轉臺及一電波測試裝置,該電波測試裝置包括一水平設置於該暗室上部的支撐桿、一滑動地套設於該支撐桿的滑動件、一驅動該滑動件左右滑動的第一驅動組件、一沿上下方向滑動地設於該滑動件的齒條、一驅動該齒條滑動的第二驅動組件及一設於該齒條底端的場強探頭,該第一驅動組件及第二驅動組件分別驅動該滑動件及齒條使該場強探頭在支撐桿及滑條所在平面內移動至各個測試點。
相較習知技術,本發明電波測試裝置進行電磁場輻射抗擾度均勻域測試,該第一驅動組件及第二驅動組件驅動該場強探頭移動至各個測試點進行測試。從而在測試時無須藉由手動的方式移動場強探頭的位置,使用方便並提高了測量準確度。
100‧‧‧電波暗室
20‧‧‧暗室
22‧‧‧底壁
23‧‧‧周壁
25‧‧‧頂壁
26‧‧‧吸波材料
221‧‧‧測試轉臺
223‧‧‧天線
232‧‧‧定位槽
252‧‧‧導滑槽
30‧‧‧電波測試裝置
32‧‧‧支撐桿
321‧‧‧定位部
322、339‧‧‧通槽
323‧‧‧滑槽
33‧‧‧滑動件
332‧‧‧滑動框
333‧‧‧角鐵
335‧‧‧滑板
336‧‧‧連接軸
337、352‧‧‧滑輪
338‧‧‧通孔
35‧‧‧第一驅動組件
353‧‧‧傳動帶
356‧‧‧第一馬達
36‧‧‧齒條
362‧‧‧齒牙
37‧‧‧第二驅動組件
372‧‧‧安裝框
375‧‧‧第二馬達
376‧‧‧驅動齒輪
38‧‧‧場強探頭
圖1係本發明較佳實施例的電波暗室的立體分解圖,該電波暗室包括一電波測試裝置。
圖2係圖1的電波測試裝置的放大圖。
圖3係圖2中III部分的放大圖。
圖4係圖1的部分組裝圖。
圖5-6為本發明電波暗室的使用狀態示意圖。
請參閱圖1,本發明較佳實施例的電波暗室100包括一暗室20及一電波測試裝置30。該暗室20包括一底壁22、自該底壁22的四周垂直向上延伸的一周壁23及一設於該周壁23的頂部正對該底壁22的頂壁25。該底壁22、周壁23及頂壁25的內表面設有吸波材料26。該底壁22的一端設有一用於裝載待測物的測試轉臺221,該底壁22相對的另一端設有天線223。該周壁23的頂部於鄰近該測試轉臺221的一端開設兩相對的定位槽232。該頂壁25的一端開設一導滑槽252。
請一併參閱圖2及圖3,該電波測試裝置30包括一支撐桿32、一滑動地套設於該支撐桿32的滑動件33、一驅動該滑動件33滑動的第一驅動組件35、一齒條36、一第二驅動組件37及一設於該齒條36底端的場強探頭38。
該支撐桿32相對的兩端向外凸設兩定位部321,每一定位部321開設一穿透其前後兩側的通槽322。該支撐桿32開設一穿透其上下兩側的滑槽323,該滑槽323沿該支撐桿32的長度方向延伸。
該滑動件33包括一滑動地套設於該支撐桿32上的滑動框332。本實施方式中,該滑動框332藉由四根角鐵333將四個滑板335首尾相接而成,每兩相鄰的角鐵333之間於對應的滑板335相對的兩端分別設一連接軸336,每一連接軸336的兩端分別旋轉地套設一滑輪337。該滑動框332前側的滑板335沿該滑槽323的延長方向開設一通孔338。該滑動框332的上下兩側的滑板335開設兩正對該支撐桿32的滑槽323的通槽339。
該第一驅動組件35包括兩旋轉地設於該支撐桿32的兩通槽322內的滑輪352、一穿過該兩通槽322及該滑板335的通孔338並連接於兩滑輪352之間的傳動帶353及一安裝於其中一定位部321並驅動對應的滑輪352旋轉的第一馬達356。該傳動帶353卡固於該滑板335的通孔338內。
該齒條36可滑動地穿設於該支撐桿32的滑槽323及滑板335的通槽339內。該齒條36的前側沿該齒條36的長度方向設有複數齒牙362。
該第二驅動組件37包括一固定於該滑動框332底部的滑板335的安裝框372、一設於該安裝框372內的第二馬達375及一連接於該第二馬達375的驅動齒輪376。該齒條36穿過該安裝框372,該驅動齒輪376嚙合於該齒條36的齒牙362。
請參閱圖4,組裝該電波暗室100時,將電波測試裝置30的支撐桿32的兩定位部321卡固於該暗室20的周壁23的兩定位槽232內,使該場強探頭38朝向該天線223。將頂壁25蓋於該周壁23的頂部,使該齒條36的頂部收容於該頂壁25的導滑槽252內。
請一併參閱圖5及圖6,在進行電磁場輻射抗擾度測試的場地均勻域量測時,均勻域一般為長與寬均為1.5米的平面區域。按照均勻域量測的慣用手段,該均勻域中一般是以最小間距0.5米為標準設置多個測試點,因此均勻域最多可設置十六個測試點,排成4×4的矩陣,每行及每列相鄰的兩個測試點的間距均為0.5米。根據上述要求,開啟第一馬達356及第二馬達375,使該第一馬達356驅動兩滑輪352旋轉而帶動該傳動帶353轉動,使該滑動件33連同齒條36沿該支撐桿32左右滑動,該第二馬達375驅動驅動齒輪376旋轉而帶動該齒條36上下滑動,使該場強探頭38分別位於上述十六個測試點的位置進行測試。
使用所述電波測試裝置30進行電磁場輻射抗擾度均勻域測試,該第一驅動組件35及第二驅動組件37驅動該場強探頭38移動至各個測試點進行測試。從而在測試時無須藉由手動的方式移動場強探頭38的位置,使用方便並提高了測量準確度。
綜上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,自不能以此限制本案之申請專利範圍。凡熟悉本案技藝之人士爰依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
20‧‧‧暗室
32‧‧‧支撐桿
321‧‧‧定位部
33‧‧‧滑動件
35‧‧‧第一驅動組件
36‧‧‧齒條
37‧‧‧第二驅動組件
38‧‧‧場強探頭

Claims (10)

  1. 一種電波測試裝置,包括一支撐桿、一滑動地套設於該支撐桿的滑動件、一驅動該滑動件滑動的第一驅動組件、一沿垂直該支撐桿的方向滑動地組設於該滑動件的齒條、一驅動該齒條的第二驅動組件及一設於該齒條底端的場強探頭,該第一驅動組件及第二驅動組件分別驅動該滑動件及齒條使該場強探頭在支撐桿及滑條所在平面內移動,該第二驅動組件設有一嚙合於該齒條的驅動齒輪。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之電波測試裝置,其中該支撐桿沿其長度方向開設一穿透該支撐桿上下兩側的滑槽,該齒條穿設於該滑槽內。
  3. 如申請專利範圍第2項所述之電波測試裝置,其中該滑動件包括一滑動地套設於該支撐桿的滑動框,該滑動框的上下兩側開設供該齒條穿過的兩通槽。
  4. 如申請專利範圍第3項所述之電波測試裝置,其中該第一驅動組件包括旋轉地設於該支撐桿相對的兩端的兩滑輪、一連接於該兩滑輪之間並固定於該滑動框的傳動帶及一驅動其中一滑輪旋轉的第一馬達。
  5. 如申請專利範圍第3項所述之電波測試裝置,其中該第二驅動組件還包括一固定於該滑動框的安裝框及一設於該安裝框內的第二馬達,該驅動齒輪連接於該第二馬達,該齒條穿過該安裝框。
  6. 一種電波暗室,包括一暗室、設於該暗室底部一端的天線、設於該暗室底部相對的另一端的測試轉臺及一電波測試裝置,該電波測試裝置包括一水平設置於該暗室上部的支撐桿、一滑動地套設於該支撐桿的滑動件、一驅動該滑動件左右滑動的第一驅動組件、一沿上下方向滑動地設於該滑動件的齒條、一驅動該齒條滑動的第二驅動組件及一設於該齒條底端的場強探頭,該第一驅動組件及第二驅動組件分別驅動該滑動件及齒條使該場強探頭在支撐桿及滑條所在平面內移動至各個測試點。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之電波暗室,其中該暗室包括一底壁、自該底壁的四周垂直向上延伸的一周壁及設於周壁頂端的一頂壁,該測試轉臺設於該底壁的一端,該天線設於該底壁相對的另一端,該周壁的上部於鄰近該測試轉臺的一端開設兩相對的定位槽,該支撐桿的兩端卡固於該兩定位槽內。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之電波暗室,其中該支撐桿沿其長度方向開設一穿透該支撐桿上下兩側的滑槽,滑動件包括一滑動地套設於該支撐桿上的滑動框,該滑動框的上下兩側開設正對該支撐桿的滑槽的兩通槽,該齒條穿設於該滑槽及兩通槽內。
  9. 如申請專利範圍第8項所述之電波暗室,其中該第一驅動組件包括旋轉地設於該支撐桿相對的兩端的兩滑輪、一連接於該兩滑輪之間並固定於該滑動框一側的傳動帶及一驅動其中一滑輪旋轉的第一馬達,該第一馬達驅動該滑輪旋轉而帶動該傳動帶移動,從而帶動該滑動框沿該支撐桿的滑槽滑動。
  10. 如申請專利範圍第8項所述之電波暗室,其中該第二驅動組件包括一固定於該滑動框的安裝框、一設於該安裝框內的第二馬達及一連接於該第二馬達的驅動齒輪,該齒條穿過該安裝框與該驅動齒輪相嚙合。
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