TW201517823A - 三項全能賽用內底 - Google Patents

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TW201517823A
TW201517823A TW103131705A TW103131705A TW201517823A TW 201517823 A TW201517823 A TW 201517823A TW 103131705 A TW103131705 A TW 103131705A TW 103131705 A TW103131705 A TW 103131705A TW 201517823 A TW201517823 A TW 201517823A
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heel
pod
stability
insole
foot
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TW103131705A
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English (en)
Inventor
Jacob Martinez
David B Granger
Paul Lewis
William Sterling Wynn
Original Assignee
Spenco Medical Corp
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    • A43B13/40—Built-in insoles joined to uppers during the manufacturing process, e.g. structural insoles; Insoles glued to shoes during the manufacturing process with cushions
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    • A43B7/00—Footwear with health or hygienic arrangements
    • A43B7/14—Footwear with health or hygienic arrangements with foot-supporting parts
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    • A43B7/00—Footwear with health or hygienic arrangements
    • A43B7/14—Footwear with health or hygienic arrangements with foot-supporting parts
    • A43B7/1405—Footwear with health or hygienic arrangements with foot-supporting parts with pads or holes on one or more locations, or having an anatomical or curved form
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Abstract

本文中揭示一種內底，其將緩衝及支撐提供至經受地面力及/或在劇烈運動(例如，三項全能賽)期間所遇到之不同天氣條件的一使用者之足部。該內底包含具有一底側之一基底，該底側界定經調適以收納具有特定性質之墊及莢的凹陷區。該等各種墊及莢之位置及材料一起起作用以提供踝部及足部穩定性、增強之緩衝特徵，及在鞋操作期間對內底移動之阻力。

Description

三項全能賽用內底
本發明是關於鞋內底，其對參加交叉訓練及三項全能賽體育活動之穿戴者之足部具有改良之緩衝及支撐。
人足部是極複雜之生物機構。當人行走時，在腳後跟著地時足部上之負載通常約為人體重之1.5倍。當跑步或攜帶額外重量(諸如，背包)時，足部上之負載可超過體重的3倍。足部之許多骨骼、肌肉、韌帶及腱起吸收及耗散撞擊之力、承載體重及其他負載及提供用於推進之力的作用。恰當設計之鞋內底可幫助足部執行此等功能及保護足部免受傷害。
可定製內底以解決個體之特定需求。可基於最終使用者之足部的石膏模型來製造內底或內底可由符合最終使用者之足部輪廓的熱塑性材料製成。類似於大多數定製之物品，定製之內底由於低量及所需之用以製造內底且使其恰當地合穿的大量時間而趨向於是昂貴的。因而，針對一般大眾來製造此定製之內底是不切實際的。
為使銷售給一般大眾切實可行，內底必須能夠向使用者提供益處而不需要個人化調整及合穿。通常可場外獲得之第一類型之內底強調緩衝足部以便最大化減震。對於典型個體而言，緩衝內底在參加諸如行走或跑步之輕度至適度 活動期間適當地執行。亦即，緩衝內底為此等活動提供足夠緩衝及支撐。然而，對於較艱苦或技術上具有挑戰性之活動(諸如，攜帶重背包或橫越艱難地帶)而言，典型緩衝內底將非為適當的。在此等條件下，緩衝內底自身將不提供足夠支撐及控制，且趨向於在使用期間藉由完全壓縮緩衝內底而降至最低點。
另一類型之場外內底強調控制。通常，此等內底被製造成具有相對硬度及剛度以便藉由限制足部運動來控制足部之彎曲及扭曲。剛性結構善於控制運動，但並不非常寬容。結果，當足部之運動達到由剛性結構強加之限度時，足部上之負載趨向於突然地改變且增加足部之結構上的負載。由於生物組織(諸如，腱及韌帶)對其受負載之速率敏感，所以負載之突然改變引起對足部、踝部或腿部的傷害或損害。
鑒於以上內容，將需要提供一種場外內底，該場外內底既提供緩衝亦提供控制。將亦需要提供一種內底，該內底既提供緩衝亦提供控制且對在交叉訓練或三項全能賽相關活動期間供一般大眾使用是切實可行的。
申請人已收到針對內底之專利，該等內底具有穩定性支架及位於其上之多個莢。此等專利包括美國專利第7484319號、第7665169號、第7908768號及第8250784號。然而，此等專利並未解決在鞋操作期間內底之可能移動或提供更多增強之緩衝特性以解決(例如)三項全能賽之持續性跑步訓練。
當前需要實現以下目標之鞋內底：(1)提供增加之踝部及足部穩定性；(2)在起跑及著陸期間緩衝腳後跟及 前足；(3)定製至所有跑步及交叉訓練鞋之內部形狀的輪廓；(4)極輕；(5)提供增強之緩衝能力；及(6)在鞋操作及轉換期間具有基本上零移動或滑動。
本發明之目標亦是提供一種內底，該內底既提供緩衝亦提供控制且對供一般大眾使用是切實可行的。本發明之以上及其他目標及優勢是藉由既提供運動控制亦提供緩衝之內底來提供。該內底包括使若干組件互動之系統，該等組件合作以達成足部緩衝及運動控制之所要組合。該等組件包括泡沫芯、半剛性或剛性穩定性支架及諸多彈性體莢及墊。該等組件之特性、其大小及形狀以及其位置經選擇以提供緩衝及控制之所要摻合，且具體言之達成所要生物力學功能。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
在本發明之較佳實施例中，內底之組件被永久性地貼附至彼此以產生針對預期類型或類別之活動所設計之內底。可製造許多內底設計以解決廣泛範圍之不同活動。在本發明之一個實施例中，內底包含一套組，該套組包括具有不 同特性之諸多可互換莢。使用此套組，最終使用者可選擇性地改變該等莢以定製內底從而適應特定活動。
本發明是一種內底，該內底併有但不限於以下各者：(1)具有橫向穩定性肋狀物之刻面穩定性支架；(2)複數個莢；(3)前足墊；(4)莢及前足墊之底表面上的縱橫交錯式槽圖案；及(5)硬玉涼爽頂布。本發明實現以下目標：(1)改良踝部及足部穩定性；(2)在起跑及著陸期間緩衝腳後跟及前足；(3)在鞋操作及轉換期間有助於防止內底移動或滑動；及(4)將增強之緩衝特徵提供至腳後跟、中足、足弓及前足以用於跑步及交叉訓練鍛煉。
100‧‧‧內底
101‧‧‧頂部薄片
102‧‧‧基底
105‧‧‧穩定性支架凹陷區域
106‧‧‧穩定性支架
107‧‧‧前足墊凹陷區域
108‧‧‧前足墊
111‧‧‧外側中足莢開口
112‧‧‧外側中足莢
113‧‧‧外側腳後跟莢開口
114‧‧‧外側腳後跟莢
115‧‧‧內側腳後跟莢開口
116‧‧‧內側腳後跟莢
119‧‧‧縱向足弓支撐件
120‧‧‧前足縱橫交錯式槽圖案
121‧‧‧外側中足縱橫交錯式槽圖案
122‧‧‧外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
123‧‧‧內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
131‧‧‧肋狀開口
132‧‧‧肋狀物
150‧‧‧定尺寸導引件
157‧‧‧後頂點
202‧‧‧基底
205‧‧‧穩定性支架凹陷區域
207‧‧‧前足墊凹陷區域
219‧‧‧縱向足弓支撐件
232‧‧‧肋狀物
257‧‧‧後頂點
306‧‧‧穩定性支架
311‧‧‧外側中足莢開口
313‧‧‧外側腳後跟莢開口
315‧‧‧內側腳後跟莢開口
331‧‧‧肋狀開口
400‧‧‧內底
401‧‧‧頂部薄片
438‧‧‧橫向足弓支撐件
500‧‧‧內底
502‧‧‧基底
506‧‧‧穩定性支架
507‧‧‧前足墊凹陷區域
508‧‧‧前足墊
511‧‧‧外側中足莢開口
512‧‧‧外側中足莢
513‧‧‧外側腳後跟莢開口
514‧‧‧外側腳後跟莢
515‧‧‧內側腳後跟莢開口
516‧‧‧內側腳後跟莢
519‧‧‧縱向足弓支撐件
520‧‧‧前足縱橫交錯式槽圖案
521‧‧‧外側中足縱橫交錯式槽圖案
522‧‧‧外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
523‧‧‧內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
531‧‧‧肋狀開口
532‧‧‧肋狀物
550‧‧‧定尺寸導引件
557‧‧‧後頂點
601‧‧‧頂部薄片
602‧‧‧基底
606‧‧‧穩定性支架
619‧‧‧縱向足弓支撐件
638‧‧‧橫向足弓支撐件
701‧‧‧頂部薄片
702‧‧‧基底
706‧‧‧穩定性支架
719‧‧‧縱向足弓支撐件
731‧‧‧肋狀開口
732‧‧‧肋狀物
738‧‧‧橫向足弓支撐件
800‧‧‧內底
801‧‧‧頂部薄片
802‧‧‧基底
806‧‧‧穩定性支架
814‧‧‧外側腳後跟莢
816‧‧‧內側腳後跟莢
819‧‧‧縱向足弓支撐件
901‧‧‧頂部薄片
902‧‧‧基底
908‧‧‧前足墊
912‧‧‧外側中足莢
913‧‧‧外側腳後跟莢開口
914‧‧‧外側腳後跟莢
915‧‧‧內側腳後跟莢開口
916‧‧‧內側腳後跟莢
920‧‧‧前足縱橫交錯式槽圖案
923‧‧‧內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
938‧‧‧橫向足弓支撐件
1001‧‧‧頂部薄片
1002‧‧‧基底
1006‧‧‧穩定性支架
1038‧‧‧橫向足弓支撐件
1101‧‧‧頂部薄片
1102‧‧‧基底
1106‧‧‧穩定性支架
1111‧‧‧外側中足莢開口
1112‧‧‧外側中足莢
1201‧‧‧頂部薄片
1202‧‧‧基底
1206‧‧‧穩定性支架
1214‧‧‧外側腳後跟莢
1216‧‧‧內側腳後跟莢
1370‧‧‧跟骨
1372‧‧‧距骨
1374‧‧‧舟骨
1376‧‧‧骰骨
1378‧‧‧楔狀骨
1380A‧‧‧蹠骨
1380E‧‧‧蹠骨
1382‧‧‧近端趾骨
1384‧‧‧中趾骨
1386‧‧‧遠端趾骨
1402‧‧‧基底
1406‧‧‧穩定性支架
1407‧‧‧前足墊凹陷區域
1408‧‧‧前足墊
1412‧‧‧外側中足莢
1414‧‧‧外側腳後跟莢
1416‧‧‧內側腳後跟莢
1432‧‧‧肋狀物
1465‧‧‧遠端內側足弓區域
1466‧‧‧外側中足區域
1467‧‧‧近端內側足弓區域
1468‧‧‧內側腳後跟區域
1469‧‧‧外側腳後跟區域
1491‧‧‧腳趾區域
1492‧‧‧蹠骨頭區域
1493‧‧‧前足區域
1494‧‧‧中足區域
1495‧‧‧腳後跟區域
1500‧‧‧內底
1501‧‧‧頂部薄片
1502‧‧‧基底
1505‧‧‧穩定性支架凹陷區域
1506‧‧‧穩定性支架
1507‧‧‧前足墊凹陷區域
1508‧‧‧前足墊
1511‧‧‧外側中足莢開口
1512‧‧‧外側中足莢
1513‧‧‧外側腳後跟莢開口
1514‧‧‧外側腳後跟莢
1515‧‧‧內側腳後跟莢開口
1516‧‧‧內側腳後跟莢
1519‧‧‧縱向足弓支撐件
1520‧‧‧前足縱橫交錯式槽圖案
1521‧‧‧外側中足縱橫交錯式槽圖案
1522‧‧‧外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
1523‧‧‧內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
1531‧‧‧肋狀開口
1532‧‧‧肋狀物
1538‧‧‧橫向足弓支撐件
1550‧‧‧定尺寸導引件
1557‧‧‧後頂點
1600‧‧‧內底
1601‧‧‧頂部薄片
1602‧‧‧基底
1606‧‧‧穩定性支架
1607‧‧‧前足墊凹陷區域
1608‧‧‧前足墊
1611‧‧‧外側中足莢開口
1612‧‧‧外側中足莢
1613‧‧‧外側腳後跟莢開口
1614‧‧‧外側腳後跟莢
1615‧‧‧內側腳後跟莢開口
1616‧‧‧內側腳後跟莢
1619‧‧‧縱向足弓支撐件
1620‧‧‧前足縱橫交錯式槽圖案
1621‧‧‧外側中足縱橫交錯式槽圖案
1622‧‧‧外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
1623‧‧‧內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
1631‧‧‧肋狀開口
1632‧‧‧肋狀物
1638‧‧‧橫向足弓支撐件
1650‧‧‧定尺寸導引件
1657‧‧‧後頂點
圖1為根據本發明之原理的內底之說明性實施例之分解底部透視圖；圖2為展示內底之基底之底部透視圖；圖3A為穩定性支架之仰視圖；圖3B為穩定性支架之底部透視圖；圖4為內底之俯視(腳背)圖；圖5為內底之仰視(腳底)圖；圖6為內底之外側(外部側面)視圖；圖7為內底之內側(內部側面)視圖；圖8為內底之後(近側)視圖；圖9為內底沿9-9之縱向橫截面圖；圖10為在內底之蹠骨區域後面沿10-10的橫向橫截面圖；圖11為穿過內底之足弓區域沿11-11的橫向橫截面圖； 圖12為穿過內底之腳後跟區域沿12-12的橫向橫截面圖；圖13為迭加於內底之仰視(腳底)圖上的足部之骨骼視圖；圖14為說明內底之各個區域的仰視圖；圖15A至圖15E說明用於三項全能競賽之較佳實施例或內底；及圖16A至圖16D說明用於三項全能訓練之第二較佳實施例或內底。
具有鞋跟杯及某種程度之內側縱向足弓支撐的所有內底很可能提供少量(一些程度)內轉「控制」。內側縱向支撐之程度基於研究證據而僅為一些程度。就內轉「控制」而言，吾人意謂作用於後足關節周圍之外轉力矩的增加及內轉力矩之量值的減小。
本發明是一種內底，該內底併有但不限於以下各者：(1)具有複數個穩定性肋狀物之刻面穩定性支架；(2)複數個莢；(3)前足墊；(4)莢及前足墊之底表面上的縱橫交錯式槽圖案；及(5)硬玉涼爽頂布。根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上 具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。本發明實現以下目標：(1)改良踝部及足部穩定性；(2)在起跑及著陸期間緩衝腳後跟及前足；(3)在鞋操作及轉換期間有助於防止內底移動或滑動；及(4)在跑步及交叉訓練鍛煉期間將增強之緩衝特徵提供至腳後跟、中足、足弓及前足。
參看圖1至圖16，揭示根據本發明之原理所建構之內底。應理解，內底大體經調適成插入於使用者之鞋內部。使用者之右鞋及左鞋為彼此之鏡像，因為內底經調適成分別插入於右鞋及左鞋中。諸圖中僅說明左內底。熟習此項技術者應理解，右內底具有左內底之鏡像構造。
本發明之內底經成形而基本上類似於運動鞋之底內部(且因此經調適成收納在靜止時具有大體類似形狀之使用者足部)。內底自腳後跟端(近端)延伸至腳趾端(遠端)，且在足部之足弓側上具有內側邊界或側(沿內底之足弓側將該腳趾端連接至該腳後跟端)及在其另一側上具有外側邊界或側(在內底之另一側上將該腳趾端連接至該腳後跟端)。內底亦具有前足區域(與足部之蹠骨及趾骨相關的區域)、足弓區域(沿內側)、腳後跟區域(正好在腳後跟端的前方)及中足區域(在腳後跟區域與前足區域之間)。
如在圖1之分解圖中所示，內底100較佳包含：頂部薄片101；及基底102，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底102亦界定縱向足弓支撐件119，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區 域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件(最佳地展示於圖4及圖10中)。橫向足弓支撐件之向上延伸將頂部薄片101之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件之區域。
基底102之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域107及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域105。基底102之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物132或突起。肋狀物132在楔狀骨周圍是較長的且在楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。一替代性實施例具有由穩定性支架106所界定且在足弓區域中自穩定性支架106向外延伸的肋狀物或突起。
基底102具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖10至圖12中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域107是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域107在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域107具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點157。
前足墊108經成形而基本上與前足墊凹陷區域107相同且被緊固於其中。前足墊108具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊108之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近 端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點157、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域107及前足墊108位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊108提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域105位於基底102之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域105自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域107之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架106經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域105相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域105。
穩定性支架106具有包裹基底102之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架106之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細 至約0.5mm。穩定性支架106之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架106由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架106之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換及「轉換」至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練(sessions)期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架106較佳地界定一或多個肋狀開口131。在一較佳實施例中，肋狀開口131允許基底102之該等肋狀物132延伸穿過肋狀開口131。較佳地，基底102經模製使得肋狀物132突出至肋狀開口131中使得肋狀物132近似與穩定性支架106之外表面齊平且機械地將穩定性支架106與基底102鎖定在一起。有利地，肋狀物132亦能夠在基底102被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口131以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物132向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口131允許穩定性支架106在足弓區域中較穩定性支架106之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架106界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架106界定一外側中足莢開口111，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口111之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢112經成形而基本上與外側中足莢開口111相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域105內的基底102之底表面，該位置與外側中足莢開口111相關且允許外側中足莢112經由該外側中足莢開口111而延伸出來。
外側中足莢112較佳由具有約45-50 ASKER C之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底102之外側中足莢開口111中將織物依次緊固至基底102。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底102。
穩定性支架106亦界定一外側腳後跟莢開口113，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口111之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架106之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢114經成形而基本上與外側腳後跟莢開口113相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域105內的基底102之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口113相關且允許外側腳後跟莢114經由該外側腳後跟莢開口113而延伸出來。外側腳後跟莢114具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內 底100之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢114亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢114之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢115聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，其一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底102之外側腳後跟莢開口113中將織物依次緊固至基底102。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底102。
穩定性支架106界定一內側腳後跟莢開口115，該內側腳後跟莢開口沿位於基底102之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢116經成形而基本上與內側腳後跟莢開口115相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域105內的基底102之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口115相關且允許內側腳後跟莢116經由該內側腳後跟莢開口115而延伸出來。內側腳後跟莢116具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢116較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底102之內側腳後跟莢開口115中將織物依次緊固至基底102。織物組 件允許TPR恰當地黏附至基底102。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢114被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架106下方向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢114由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉可導致傷害。
穩定性支架106提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢116藉由用具有與外側腳後跟莢114不同之特性的材料形成內側腳後跟莢116來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢116是由比外側腳後跟莢114更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢116的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢114。結果，內側腳後跟莢116趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢114更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢116將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢114之穩固性及預期 活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢116中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢114及內側腳後跟莢116之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢116被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢112在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢112由具有與外側腳後跟莢114相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊108位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊108由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊108中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲， 前足墊108之內側部分向後延伸至穩定性支架106之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架106及前足墊108之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底102較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底102包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊108較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
前足墊108、外側中足莢112、外側腳後跟莢114及內側腳後跟莢116經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響每一莢及墊之撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案120是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案121及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案122是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案123是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案幫助將內底緊固於鞋腔中且將內底保持於適當位置使得其將不移動或滑動。縱橫交錯式 槽圖案亦允許空氣循環及/或提供不同緩衝及彈簧性質。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底102自內底之腳趾區域至腳後跟區域而覆蓋有頂部薄片101，該頂部薄片較佳為具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片101由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底102，該等組件在位於底表面上之由基底102界定的凹陷區域中被緊固至基底102。在模製過程期間亦使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦可襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面 而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同。一些鞋亦可沿鞋之內側、前部或後部提供額外墊料，其變更在鞋之內部分上為足部及/或內底所提供之實際空間。基底102可具有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件150，定尺寸導引件150提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
本發明是一種內底，該內底併有但不限於以下各者：(1)具有複數個穩定性肋狀物之刻面穩定性支架；(2)複數個莢；(3)前足墊；(4)莢及前足墊之底表面上的縱橫交錯式槽圖案；及(5)硬玉涼爽頂布。根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。本發明實現以下目標：(1)改良踝部及足部穩定性；(2)在起跑及著陸期間緩衝腳後跟及前足；(3)有助於防止在鞋操作及轉換期間內底移動或滑動；及(4)在跑步及交叉訓練鍛煉期間將增強之緩衝特徵提供至腳後跟、中足、足弓及前足。
圖2說明在無任何墊、莢或附著件的情況下基底 202之底部之透視圖。基底202具有頂表面及對立之底表面。基底202亦界定縱向足弓支撐件219，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底202之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域207及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域205。基底202之底表面界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物或突起232。肋狀物232較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。一替代性實施例具有由穩定性支架所界定且在足弓區域中自穩定性支架向外延伸的肋狀物或突起。
基底202具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖10至圖12中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域207是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域207在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域207具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點257。
穩定性支架凹陷區域205位於基底202之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域205自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊 緣且自稍近接於前足墊凹陷區域207之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。
基底202較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底202包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
圖3A及圖3B為穩定性支架306之仰視圖及透視圖。穩定性支架凹陷區域位於基底之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架306經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架306具有包裹基底之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架306之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架306之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架306由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架306之鞋對向表面具有「刻 面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架306較佳地界定一或多個肋狀開口331。在一較佳實施例中，肋狀開口331允許基底上之肋狀物延伸穿過肋狀開口331。有利地，肋狀物亦能夠在基底被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口331以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。肋狀開口331允許穩定性支架306在足弓區域中較穩定性支架306之剩餘部分而更具可撓性。
穩定性支架306界定一外側中足莢開口311，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口311之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢開口311經設計以允許外側中足莢延伸穿過外側中足莢開口311。
穩定性支架306亦界定一外側腳後跟莢開口313，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口311之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架306之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢開口313具有一外側邊緣，該外側邊緣沿 內底之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢開口311隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢開口313亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。外側腳後跟莢開口313經設計以允許外側腳後跟莢延伸穿過外側腳後跟莢開口313。
內側腳後跟莢開口315沿位於基底302之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢開口315具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢開口。內側腳後跟莢開口315經設計以允許內側腳後跟莢延伸穿過內側腳後跟莢開口315。
穩定性支架306提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。
圖4為內底之俯視圖，該內底說明頂部薄片401及橫向足弓支撐件438。內底400包含跨越基底之整個頂表面而自腳趾區域緊固至腳後跟區域的頂部薄片401。較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件438。橫向足弓支撐件438之向上延伸將頂部薄片401之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件438之區域。
橫向足弓支撐件438較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件438將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
在一較佳實施例中，頂部薄片401是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片401由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。一系列氣孔延伸穿過頂部薄片401及基底以准許在內底400上方及下方之氣體循環。
圖5說明內底之仰視圖。內底500較佳包含：頂部薄片501；及基底502，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底502亦界定縱向足弓支撐件519，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底502之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域507及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域505。基底502之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物532或突起。肋狀物532較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。
基底502具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖10至圖12中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域507是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷 區域507在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域507具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點557。
前足墊508經成形而基本上與前足墊凹陷區域507相同且被緊固於其中。前足墊508具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊508之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點557、在向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域507及前足墊508位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊508提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域505位於基底502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域507之遠端邊緣延伸至接近 基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域505。
穩定性支架506具有包裹基底502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架506之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架506之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架506由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架506較佳地界定一或多個肋狀開口531。在一較佳實施例中，肋狀開口531允許基底502之該等肋狀物532延伸穿過肋狀開口531。較佳地，基底502經模製 使得肋狀物532突出至肋狀開口531中使得肋狀物532近似與穩定性支架506之外表面齊平且機械地將穩定性支架506與基底502鎖定在一起。有利地，肋狀物532亦能夠在基底502被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口531以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物532向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口531允許穩定性支架506在足弓區域中較穩定性支架506之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架506界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架506界定一外側中足莢開口511，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口511之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢512經成形而基本上與外側中足莢開口511相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域505內的基底502之底表面，該位置與外側中足莢開口511相關且允許外側中足莢512經由該外側中足莢開口511而延伸出來。
外側中足莢512較佳由具有約45-50 ASKER C之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底502之外側中足莢開口511中將織物依次緊固至基底502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底502。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架506亦界定一外側腳後跟莢開口513，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口511之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口513相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域505內的基底502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口513相關且允許外側腳後跟莢514經由該外側腳後跟莢開口513而延伸出來。外側腳後跟莢514具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底500之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢514亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢514之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢516聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢 與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底502之外側腳後跟莢開口513中將織物依次緊固至基底502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底502。
穩定性支架506界定一內側腳後跟莢開口515，該內側腳後跟莢開口沿位於基底502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口515相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域505內的基底502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口515相關且允許內側腳後跟莢516經由該內側腳後跟莢開口515而延伸出來。內側腳後跟莢516具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢516較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底502之內側腳後跟莢開口515中將織物依次緊固至基底502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底502。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢514被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架506下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢514由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架506提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢516藉由用具有與外側腳後跟莢514不同之特性的材料形成內側腳後跟莢516來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢516可由比外側腳後跟莢514更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢516的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢514。結果，內側腳後跟莢516趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢514更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢516將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢514之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢516中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢514及內側腳後跟莢516之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢516可被製成顯 著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢512在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢512由具有與外側腳後跟莢514相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊508位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊508由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊508中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊508之內側部分向後延伸至穩定性支架506之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架506及前足墊508之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底502較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底502包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠 (「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊508較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
前足墊508、外側中足莢512、外側腳後跟莢514及內側腳後跟莢516經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案520是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案521及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案522是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案523是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案亦幫助將內底保持於適當位置且在鞋內不移動或滑動。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於 男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用開孔式設計將提供一較輕之內底。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底502，該等組件在位於底表面上之由基底502界定的凹陷區域中被緊固至基底502。在模製過程期間使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同。一些鞋亦可沿鞋之內側、前部或後部提供額外墊料，其變更在鞋之內部分上為足部及/或內底所提供之實際空間。基底502可具有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件550，定尺寸導引件550提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
圖6說明內底之外側視圖。內底600較佳包含：頂部薄片601；及基底602，其具有緊固至該頂部薄片601之頂表面及一對立之底表面。基底602亦界定縱向足弓支撐件619，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底602之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域605。
基底602具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後 跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域605位於基底602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域607之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域605相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域605。
穩定性支架606具有包裹基底602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架606之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架606之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架606之鞋對向表面具有「刻 面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架606界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢612經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域605內的基底602之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢612經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架606亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域605內的基底602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢614經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架606界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳 後跟莢經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域605內的基底602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底602覆蓋有頂部薄片601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件638。橫向足弓支撐件638之向上延伸將頂部薄片601之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件638之區域。
橫向足弓支撐件638較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件638將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
圖7說明內底之內側視圖。內底700較佳包含：頂部薄片701；及基底702，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底702亦界定縱向足弓支撐件719，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底702之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域705。基底702之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多 個肋狀物732或突起。肋狀物732較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。
基底702具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域705位於基底702之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域705自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架706經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域705相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域705。
穩定性支架706具有包裹基底702之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架706之厚度的 範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架706之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架706之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架706較佳地界定一或多個肋狀開口731。在一較佳實施例中，肋狀開口731允許基底702之該等肋狀物732延伸穿過肋狀開口731。較佳地，基底702經模製使得肋狀物732突出至肋狀開口731中使得肋狀物732近似與穩定性支架706之外表面齊平且機械地將穩定性支架706與基底702鎖定在一起。有利地，肋狀物732亦能夠在基底702被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口731以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物732向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口731允許穩定性支架706在足弓區域中較穩定性支架706之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架706界定一或 多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架706界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域705內的基底702之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架706亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架706之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域705內的基底702之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架706界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底702之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢716經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域705內的基底702之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢716經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底702覆蓋有頂部薄片 701，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片701由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件738。橫向足弓支撐件738之向上延伸將頂部薄片701之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件738之區域。
橫向足弓支撐件738較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件738將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
圖8說明內底之後視圖。內底800較佳包含：頂部薄片801；及基底802，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底802亦界定縱向足弓支撐件819，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底802之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域805。基底802之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物或突起832。肋狀物832較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。一替代性實施例具有由穩定性支架806所界定且在足弓區域中自穩定性支架806向外延伸的肋狀物或突起。
基底802具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後 跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域805位於基底802之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域805自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架806經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域805相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域805。
穩定性支架806具有包裹基底802之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架806之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架806之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架806之鞋對向表面具有「刻 面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架806較佳地界定一或多個肋狀開口831。在一較佳實施例中，肋狀開口831允許基底802之該等肋狀物832延伸穿過肋狀開口831。較佳地，基底802經模製使得肋狀物832突出至肋狀開口831中使得肋狀物832近似與穩定性支架806之外表面齊平且機械地將穩定性支架806與基底802鎖定在一起。有利地，肋狀物832亦能夠在基底802被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口831以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物832向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口831允許穩定性支架806在足弓區域中較穩定性支架806之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架806界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架806界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域805內的基底802之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架806亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架806之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢814經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域805內的基底802之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢814經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架806界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底802之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢816經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域805內的基底802之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢816經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底802覆蓋有頂部薄片801，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片801由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物， 該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
圖9為沿內底之中間的剖視圖9-9，如圖4及圖5中所識別。內底900較佳包含：頂部薄片901；及基底902，其具有緊固至該頂部薄片901之頂表面及一對立之底表面。基底902之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域907及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域905。
基底902具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖10至圖12中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
較佳地，基底902之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件938。橫向足弓支撐件938之向上延伸將頂部薄片901之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件938之區域。橫向足弓支撐件938較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件938將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
前足墊凹陷區域907是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域907在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域907具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。
前足墊908經成形而基本上與前足墊凹陷區域907相同且被緊固於其中。前足墊908具有內側邊緣、外側邊 緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊908之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點957、在向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著在向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域907及前足墊908位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊908提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域905位於基底902之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域905自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域907之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架906經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域905相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域905。
穩定性支架906具有包裹基底902之側及後部從 而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架906之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架906界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域905內的 基底902之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架906亦界定一外側腳後跟莢開口913，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口911之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架906之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢914經成形而基本上與外側腳後跟莢開口913相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域905內的基底902之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口913相關且允許外側腳後跟莢914經由該外側腳後跟莢開口913而延伸出來。外側腳後跟莢914具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底900之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢914亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢914之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢916聯合起作用以使踝部穩定。
穩定性支架906界定一內側腳後跟莢開口915，該內側腳後跟莢開口沿位於基底902之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢916經成形而基本上與內側腳後跟莢開口915相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域905內的基底902之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口915相關且允許內側腳後跟莢916經由該內側腳後跟莢開口915而延伸出來。內側腳後跟莢916具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端 頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢914被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架906下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢914由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架906提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢916藉由用具有與外側腳後跟莢914不同之特性的材料形成內側腳後跟莢916來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢916是由比外側腳後跟莢914更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢916的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢914。結果，內側腳後跟莢916趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢914更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢916將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢914之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢916中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢914及內側腳後跟莢916之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢916被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢912在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢由具有與外側腳後跟莢914相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊908位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊908由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊908中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過 度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊908之內側部分向後延伸至穩定性支架906之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架906及前足墊908之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
前足墊908、外側中足莢912、外側腳後跟莢914及內側腳後跟莢916經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案920是近似0.75mm深。較佳地，外側中足及腳後跟縱橫交錯式槽圖案是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案923是近似1.00至2.50mm深。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底902覆蓋有頂部薄片 901，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片901由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底902，該等組件在位於底表面上之由基底902界定的凹陷區域中被緊固至基底902。在模製過程期間亦使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
圖10說明橫截面10-10，如圖4及圖5中所識別。內底1000較佳包含：頂部薄片1001；及基底1002，其具有緊固至該頂部薄片1001之頂表面及一對立之底表面。基底1002之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1005位於基底1002之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1005自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架106經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1005相同且具有基底對向 表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1005。
較佳地，穩定性支架1006之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
在一較佳實施例中，基底1002覆蓋有頂部薄片1001，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1001由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1038。橫向足弓支撐件1038之向上延伸將頂部薄片1001之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1038之區域。
橫向足弓支撐件1038較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1038將額外穩定性提供至足部之前足及中間。
圖11說明橫截面11-11，如圖4及圖5中所識別。內底1100較佳包含：頂部薄片1101；及基底1102，其具有緊固至該頂部薄片1101之頂表面及一對立之底表面。基底1102之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1105位於基底1102之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1105自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1106經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1105相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1105。穩定性支架1106具有包裹基底102之側及後部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1106之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
穩定性支架1106較佳地界定一或多個肋狀開口1131。在一較佳實施例中，肋狀開口1131允許基底1102之該等肋狀物1132延伸穿過肋狀開口1131。較佳地，基底1102經模製使得肋狀物1132突出至肋狀開口1131中使得肋狀物1132近似與穩定性支架1106之外表面齊平且機械地將穩定性支架106與基底1102鎖定在一起。有利地，肋狀物1132亦能夠在基底1102被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1131以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1132向外延伸近似0.50mm至1.5mm且 具有近似4mm之寬度。肋狀開口1131允許穩定性支架1106在足弓區域中較穩定性支架1106之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1106界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架106界定一外側中足莢開口1111，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1111之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢1112經成形而基本上與外側中足莢開口1111相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底1102之底表面，該位置與外側中足莢開口1111相關且允許外側中足莢1112經由該外側中足莢開口1111而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1102覆蓋有頂部薄片1101，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1101由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
圖12說明橫截面12-12，如圖4及圖5中所識別。內底1200較佳包含：頂部薄片1201；及基底1202，其具有緊固至該頂部薄片1201之頂表面及一對立之底表面。基底1202之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1205位於基底1202之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1205自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1206經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1205相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1205。穩定性支架1206具有包裹基底102之側及後部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1206之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
穩定性支架1206亦界定一外側腳後跟莢開口1213，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1211之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1206之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1214經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1213相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1205內的基底1202之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1213相關且允許外側腳後跟莢1214經由該外側腳後跟莢開口1213而延伸出來。外側腳後跟莢1214具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1200之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外 側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1214亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架1206界定一內側腳後跟莢開口1215，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1202之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1216經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1215相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1205內的基底1202之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1215相關且允許內側腳後跟莢1216經由該內側腳後跟莢開口1215而延伸出來。內側腳後跟莢1216具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
在一較佳實施例中，基底1202覆蓋有頂部薄片 1201，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1201由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
圖13說明迭加於本發明之內底之仰視圖上的足部之骨骼。跟骨1370位於足部之腳後跟處且距骨1372位於跟骨1370之前方。在內側上舟骨1374位於距骨1372之前方且在外側上骰骨1376位於距骨1372之前方。楔狀骨1378位於骰骨1376及舟骨1374之前方。蹠骨1380A-1380E位於楔狀骨1378及骰骨1376之前方。第一蹠骨1380A位於足部之內側上且第五蹠骨1380E位於足部之外側上。近端趾骨1382位於蹠骨1380A-1380E之前方。中趾骨1384位於近端趾骨1382之前方，且遠端趾骨1386位於每一腳趾之末端處。
圖14展示內底之仰視圖(類似於圖5)且說明內底之各個區域：遠端內側足弓區域1465、外側中足區域1466、近端內側足弓區域1467、內側腳後跟區域1468、外側腳後跟區域1469、前足區域1493、腳趾區域1491、蹠骨頭區域1492、中足區域1494及腳後跟區域1495。
前足區域1493包含腳趾區域1491及蹠骨頭區域1492，其涵蓋自腳趾端至足部之蹠骨頭或「球部」的內底之整個長度。腳趾區域1491具有自腳趾端延伸至對角線邊緣的長度，該對角線邊緣大體延伸於第1遠端趾骨、第2中趾骨與第3中趾骨及第4遠端趾骨與第5遠端趾骨之後面及蹠骨頭之前方。腳趾區域1491具有自內側邊界延伸至外側邊界之 寬度。包含第一蹠骨頭區域1403及較小之蹠骨頭區域1404的蹠骨頭區域1492具有自前對角線邊緣(鄰近於腳趾區域1491之對角線邊緣)延伸至後對角線邊緣(其大體延伸於蹠骨頭後面)之長度。蹠骨頭區域1492具有自內側邊界延伸至外側邊界之寬度。
中足區域1494包含遠端內側足弓區域1465及外側中足區域1466。中足區域1494具有：前邊緣，其鄰近於前足區域1493或蹠骨頭區域1492；及後邊緣，其以對角線方式自內側上之距骨與舟骨之間延伸至正好在外側上之骰骨後面。中足區域1494具有自內側邊界延伸至外側邊界之寬度。
遠端內側足弓區域1465自前邊緣(其正好在第一蹠骨頭後面且鄰近於蹠骨頭區域1492之後對角線邊緣)延伸至位於距骨與舟骨之間的後邊緣。遠端內側足弓區域1465之寬度自內側邊界延伸至足部之中間附近。外側中足區域1466自蹠骨頭區域1492之後對角線邊緣延伸至正好在骰骨後面的後邊緣。外側中足區域之寬度自足部之中間附近延伸至外側邊界。
腳後跟區域1495包含近端內側足弓區域1467、內側腳後跟區域1468及外側腳後跟區域1469。腳後跟區域1495具有鄰近於中足區域1494之後邊緣的前邊緣且在近端延伸至腳後跟端。腳後跟區域1495具有自內側邊界延伸至外側邊界之寬度。
近端內側足弓區域1467自位於距骨與舟骨之間或鄰近於腳後跟區域1495之前邊緣的前邊緣延伸至沿內側邊界之關於腳後跟端與距骨之間的中途的後點。近端內側足弓 區域1467之寬度自內側邊界延伸至對角線外側邊緣，其中該對角線外側邊緣在外側自內底寬度之約三分之一(自沿腳後跟區域1495之前邊緣的內側邊界)延伸至近端內側足弓區域1467之後點。
外側腳後跟區域1469自正好在骰骨後面或鄰近於腳後跟區域1495之前邊緣的前邊緣延伸至腳後跟端。外側腳後跟區域之寬度自對角線內側邊緣延伸至外側邊界，其中對角線內側邊緣在內側自內底寬度之約三分之一(自沿腳後跟區域1495之前邊緣的外側邊界)延伸至正好在腳後跟端之內側的點。
內側腳後跟區域1468自腳後跟區域1495之前邊緣延伸至正好在腳後跟端之內側的內側邊界。內側腳後跟區域1468之寬度自近端內側足弓區域1467之外側對角線邊緣延伸至外側腳後跟區域1469之內側對角線邊緣。
前足墊凹陷區域1407較佳地在內側半部上延伸蹠骨頭區域1492之整個長度且在外側半部上自蹠骨頭區域1492之前對角線邊緣延伸至第3蹠骨頭至第5蹠骨頭。前足墊1408被緊固至前足墊凹陷區域1407。
穩定性支架1406位於整個中足區域1494及腳後跟區域1495中。穩定性支架1406之一部分在外側半部上向前延伸至蹠骨頭區域1492中以正好位於第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面。
在一較佳實施例中，基底1402之肋狀物1432延伸穿過肋狀開口1431且位於遠端內側足弓區域1465及近端內側足弓區域1467之大部分中。在一替代性實施例中，由穩 定性支架1406來界定該等肋狀物或突起，且該等肋狀物或突起自穩定性支架1406向外延伸且位於遠端內側足弓區域1465及近端內側足弓區域1467之大部分中。
外側中足莢開口近似位於外側中足區域1466之中間三分之一中。外側中足莢開口基本上延伸外側中足區域1466之整個長度。外側中足莢1412被緊固至外側中足莢開口。
內側腳後跟莢開口位於內側腳後跟區域1468之大部分中。內側腳後跟莢1416被緊固至內側腳後跟莢開口。外側腳後跟莢開口位於外側腳後跟區域1469之大部分中。外側腳後跟莢1414被緊固至外側腳後跟莢開口。
圖15A至圖15E說明用於三項全能競賽之較佳實施例或內底。圖15A-1及圖15A-2展示俯視透視圖及仰視透視圖。本發明是一種內底，該內底併有但不限於以下各者：(1)具有複數個穩定性肋狀物之刻面穩定性支架；(2)複數個莢；(3)前足墊；(4)莢及前足墊之底表面上的縱橫交錯式槽圖案；及(5)硬玉涼爽頂布。根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。本發明實現 以下目標：(1)改良踝部及足部穩定性；(2)在起跑及著陸期間緩衝腳後跟及前足；(3)有助於防止在鞋操作及轉換期間內底移動或滑動；及(4)在跑步及交叉訓練鍛煉期間將增強之緩衝特徵提供至腳後跟、中足、足弓及前足。
圖15A-1為內底1500之俯視圖，該內底說明頂部薄片1501及橫向足弓支撐件1538。內底1500包含跨越基底之整個頂表面而自腳趾區域緊固至腳後跟區域的頂部薄片1501。較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1538。橫向足弓支撐件1538之向上延伸將頂部薄片401之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1538之區域。
橫向足弓支撐件1538較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1538將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
在一較佳實施例中，頂部薄片1501是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。一系列氣孔延伸穿過頂部薄片1501及基底以准許在內底1500上方及下方之氣體循環。
圖15A-2說明內底之仰視圖。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1502亦界定縱向足弓支撐件1519，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額 外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1502之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域1507及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1505。基底1502之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1532或突起。肋狀物1532較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。
基底1502具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖15B-7至圖15B-10中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域1507是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域1507在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域1507具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點1557。
前足墊1508經成形而基本上與前足墊凹陷區域1507相同且被緊固於其中。前足墊1508具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊1508之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點1557、在向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊 緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域1507及前足墊1508位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖13展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊1508提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1507之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。
穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1506之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1506之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架1506由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩 定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1506較佳地界定一或多個肋狀開口1531。在一較佳實施例中，肋狀開口1531允許基底1502之該等肋狀物1532延伸穿過肋狀開口1531。較佳地，基底1502經模製使得肋狀物1532突出至肋狀開口1531中使得肋狀物1532近似與穩定性支架1506之外表面齊平且機械地將穩定性支架1506與基底1502鎖定在一起。有利地，肋狀物1532亦能夠在基底1502被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1531以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1532向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1531允許穩定性支架1506在足弓區域中較穩定性支架1506之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1506界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而 向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口1511，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1511之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢1512經成形而基本上與外側中足莢開口1511相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側中足莢開口1511相關且允許外側中足莢1512經由該外側中足莢開口1511而延伸出來。
外側中足莢1512較佳由具有約45-50 ASKER C之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之外側中足莢開口1511中將織物依次緊固至基底1502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口 1513，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1511之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1513相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1513相關且允許外側腳後跟莢1514經由該外側腳後跟莢開口1513而延伸出來。外側腳後跟莢1514具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1500之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1514亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1514之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢1516聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之外側腳後跟莢開口1513中將織物依次緊固至基底1502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口1515，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1515相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505 內的基底1502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1515相關且允許內側腳後跟莢1516經由該內側腳後跟莢開口1515而延伸出來。內側腳後跟莢1516具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢1516較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之內側腳後跟莢開口1515中將織物依次緊固至基底1502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1514被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1506下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1514由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架1506提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1516藉由用具有與外側腳後跟莢1514不同之特性的材料形成內側腳後跟莢 1516來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1516可由比外側腳後跟莢1514更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1516的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1514。結果，內側腳後跟莢1516趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢1514更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1516將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1514之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1516中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1514及內側腳後跟莢1516之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1516可被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1512在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢1512由具有與外側腳後跟莢1514相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟 莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊1508位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊1508由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊1508中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊1508之內側部分向後延伸至穩定性支架1506之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架1506及前足墊1508之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底1502較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底1502包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊1508較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
前足墊1508、外側中足莢1512、外側腳後跟莢1514及內側腳後跟莢1516經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊 表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1520是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案1521及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1522是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1523是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案亦幫助將內底保持於適當位置且在鞋內不移動或滑動。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用開孔式設計將提供一較輕之內底。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底1502，該等組件在位於底表面上之由基底1502界定的凹陷區域中被緊固至基底1502。在模製過程期間使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面 之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同。一些鞋亦可沿鞋之內側、前部或後部提供額外墊料，其變更在鞋之內部分上為足部及/或內底所提供之實際空間。基底1502可具有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件1550，定尺寸導引件1550提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
圖15B-1至圖15B-10展示內底之俯視圖、仰視圖、內側視圖、外側視圖、後視圖及五個橫截面圖。
圖15B-1說明內底之內側視圖。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1502亦界定縱向足弓支撐件1519，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1502之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1505。基底1502之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1532或突起。肋狀物1532較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。
基底1502具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高 及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。
穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1506之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1506之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。 將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1506較佳地界定一或多個肋狀開口1531。在一較佳實施例中，肋狀開口1531允許基底1502之該等肋狀物1532延伸穿過肋狀開口1531。較佳地，基底1502經模製使得肋狀物1532突出至肋狀開口1531中使得肋狀物1532近似與穩定性支架1506之外表面齊平且機械地將穩定性支架1506與基底1502鎖定在一起。有利地，肋狀物1532亦能夠在基底1502被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1531以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1532向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1531允許穩定性支架1506在足弓區域中較穩定性支架1506之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1506界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定 性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502 之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢1516經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1502覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1538。橫向足弓支撐件1538之向上延伸將頂部薄片1501之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1538之區域。
橫向足弓支撐件1538較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1538將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
圖15A-2說明內底之仰視圖。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1502亦界定縱向足弓支撐件1519，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1502之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域1507及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1505。基底1502之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1532或突起。肋狀物1532較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生 拋物線狀總形狀。
基底1502具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖15B-7至圖15B-10中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域1507是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域1507在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域1507具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點1557。
前足墊1508經成形而基本上與前足墊凹陷區域1507相同且被緊固於其中。前足墊1508具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊1508之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點1557、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域1507及前足墊1508位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊1508提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支 撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1507之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。
穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1506之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1506之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架1506由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事 件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1506較佳地界定一或多個肋狀開口1531。在一較佳實施例中，肋狀開口1531允許基底1502之該等肋狀物1532延伸穿過肋狀開口1531。較佳地，基底1502經模製使得肋狀物1532突出至肋狀開口1531中使得肋狀物1532近似與穩定性支架1506之外表面齊平且機械地將穩定性支架1506與基底1502鎖定在一起。有利地，肋狀物1532亦能夠在基底1502被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1531以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1532向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1531允許穩定性支架1506在足弓區域中較穩定性支架1506之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1506界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢， 包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口1511，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1511之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢1512經成形而基本上與外側中足莢開口1511相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側中足莢開口1511相關且允許外側中足莢1512經由該外側中足莢開口1511而延伸出來。
外側中足莢1512較佳由具有約45-50 ASKER C之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之外側中足莢開口1511中將織物依次緊固至基底1502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口1513，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1511之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1513相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1513相關且允許外側腳後跟莢1514經由該外側腳後跟莢開口 1513而延伸出來。外側腳後跟莢1514具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1500之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1514亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1514之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢1516聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之外側腳後跟莢開口1513中將織物依次緊固至基底1502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口1515，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1515相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1515相關且允許內側腳後跟莢1516經由該內側腳後跟莢開口1515而延伸出來。內側腳後跟莢1516具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢1516較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之內側腳後跟莢開口1515中將織物依次緊固至基底1502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1514被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1506下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1514由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架1506提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1516藉由用具有與外側腳後跟莢1514不同之特性的材料形成內側腳後跟莢1516來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1516可由比外側腳後跟莢1514更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1516的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1514。結果，內側腳後跟莢1516趨向於抵制住或削弱 內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢1514更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1516將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1514之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1516中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1514及內側腳後跟莢1516之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1516可被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1512在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢1512由具有與外側腳後跟莢1514相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊1508位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊1508由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊1508中之能量得以回歸以在腳趾離地時 有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊1508之內側部分向後延伸至穩定性支架1506之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架1506及前足墊1508之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底1502較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底1502包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊1508較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
前足墊1508、外側中足莢1512、外側腳後跟莢1514及內側腳後跟莢1516經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1520是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案1521及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1522是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1523是近似1.00 至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案亦幫助將內底保持於適當位置且在鞋內不移動或滑動。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用開孔式設計將提供一較輕之內底。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底1502，該等組件在位於底表面上之由基底1502界定的凹陷區域中被緊固至基底1502。在模製過程期間使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同。一些鞋亦可沿鞋之內側、前部或後部提供額外墊料，其變更在鞋之內部分上為足部及/或內底所提供之實際空間。基底1502可具 有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件1550，定尺寸導引件1550提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
圖15B-3說明內底之外側視圖。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片1501之頂表面及一對立之底表面。基底1502亦界定縱向足弓支撐件1519，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1502之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1505。
基底1502具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側 邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1507之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。
穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1506之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1506之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢1512經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內 的基底1502之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢1512經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢1514經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1502覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1538。橫向足弓支撐件1538之向上延伸將頂部薄片1501之一部分上推，該部 分對應於橫向足弓支撐件1538之區域。
橫向足弓支撐件1538較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1538將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
圖15A-1為內底之俯視圖，該內底說明頂部薄片1501及橫向足弓支撐件1538。內底1500包含跨越基底之整個頂表面而自腳趾區域緊固至腳後跟區域的頂部薄片1501。較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1538。橫向足弓支撐件1538之向上延伸將頂部薄片1501之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1538之區域。
橫向足弓支撐件1538較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1538將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
在一較佳實施例中，頂部薄片1501是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。一系列氣孔延伸穿過頂部薄片1501及基底以准許在內底1500上方及下方之氣體循環。
圖15B-5為沿內底之中間的剖視圖15B-5，如圖15B-2中所識別。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片1501之頂表面及一對立之底表面。基底1502之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區 域1507及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1505。
基底1502具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖15B-6至圖15B-10中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
較佳地，基底1502之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1538。橫向足弓支撐件1538之向上延伸將頂部薄片1501之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1538之區域。橫向足弓支撐件1538較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1538將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
前足墊凹陷區域1507是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域1507在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域1507具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。
前足墊1508經成形而基本上與前足墊凹陷區域1507相同且被緊固於其中。前足墊1508具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊1508之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點 1557、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域1507及前足墊1508位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊1508提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1507之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。
穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被 置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口1513，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1511之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1513相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1513相關且允許外側腳後跟莢1514經由該外側腳後跟莢開口1513而延伸出來。外側腳後跟莢1514具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1500之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域 中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1514亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1514之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢1516聯合起作用以使踝部穩定。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口1515，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1515相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1515相關且允許內側腳後跟莢1516經由該內側腳後跟莢開口1515而延伸出來。內側腳後跟莢1516具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1514被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1506下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1514由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生 內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架1506提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1516藉由用具有與外側腳後跟莢1514不同之特性的材料形成內側腳後跟莢1516來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1516是由比外側腳後跟莢1514更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1516的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1514。結果，內側腳後跟莢1516趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢1514更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1516將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1514之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1516中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1514及內側腳後跟莢1516之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1516被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1512在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢由具有與外側腳後跟莢1514相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊1508位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊1508由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊1508中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊1508之內側部分向後延伸至穩定性支架1506之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架1506及前足墊1508之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
前足墊108、外側中足莢112、外側腳後跟莢114及內側腳後跟莢116經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所 要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1520是近似0.75mm深。較佳地，外側中足及腳後跟縱橫交錯式槽圖案是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1523是近似1.00至2.50mm深。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底1502覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底1502，該等組件在位於底表面上之由基底1502界定的凹陷區域中被緊固至基底1502。在模製過程期間亦使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
圖15B-6說明內底之後視圖。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1502亦界定縱向足弓支撐件1519，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1502之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1505。基底1502之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1532或突起。肋狀物1532較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。一替代性實施例具有由穩定性支架1506所界定且在足弓區域中自穩定性支架1506向外延伸的肋狀物或突起。
基底1502具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長 度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。
穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1506之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1506之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部 功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1506較佳地界定一或多個肋狀開口1531。在一較佳實施例中，肋狀開口1531允許基底1502之該等肋狀物1532延伸穿過肋狀開口1531。較佳地，基底1502經模製使得肋狀物1532突出至肋狀開口1531中使得肋狀物1532近似與穩定性支架1506之外表面齊平且機械地將穩定性支架1506與基底1502鎖定在一起。有利地，肋狀物1532亦能夠在基底1502被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1531以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1532向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1531允許穩定性支架1506在足弓區域中較穩定性支架1506之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1506界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口， 該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢1514經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢1516經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1502覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。較佳地，前足墊凹陷區域1507具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。
圖15B-7說明橫截面15B-7，如圖15B-2中所識別。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片1501之頂表面及一對立之底表面。基底1502之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區 域。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1526經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口1513，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1511之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1513相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1513相關且允許外側腳後跟莢1514經由該外側腳後跟莢開口1513而延伸出來。外側腳後跟莢1514具有一外側邊緣，該外 側邊緣沿內底1500之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1514亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口1515，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1515相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1515相關且允許內側腳後跟莢1516經由該內側腳後跟莢開口1515而延伸出來。內側腳後跟莢1516具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
在一較佳實施例中，基底1502覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
圖15B-9及圖15B-8分別說明橫截面15B-9及15B-8，如圖15B-2中所識別。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片1501之頂表面及一對立之底表面。基底1502之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。穩定性支架1506具有包裹基底1502之側及後部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項 極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
穩定性支架1506較佳地界定一或多個肋狀開口1531。在一較佳實施例中，肋狀開口1531允許基底1502之該等肋狀物1532延伸穿過肋狀開口1531。較佳地，基底1502經模製使得肋狀物1532突出至肋狀開口1531中使得肋狀物1532近似與穩定性支架1506之外表面齊平且機械地將穩定性支架1506與基底1502鎖定在一起。有利地，肋狀物1532亦能夠在基底1502被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1531以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1532向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1531允許穩定性支架1506在足弓區域中較穩定性支架1506之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1506界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口1511，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1511之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢1512經成形而基本上與外側中足莢開口1511相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底1502之底表面，該位置與外側中足莢開口1511相關且允許外側中足莢1512經由該外側中足莢開口 1511而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1502覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
圖15B-10說明橫截面15B-10，如圖15B-2中所識別。內底1500較佳包含：頂部薄片1501；及基底1502，其具有緊固至該頂部薄片1501之頂表面及一對立之底表面。基底1502之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1505位於基底1502之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1505自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1505相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1505。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項 極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
在一較佳實施例中，基底1502覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1538。橫向足弓支撐件1538之向上延伸將頂部薄片1501之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1538之區域。
橫向足弓支撐件1538較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1538將額外穩定性提供至足部之前足及中間。
圖15C-1至圖15C-8展示穩定性支架之內側視圖、仰視圖、外側視圖、後視圖及四個橫截面圖。
圖15C-1至圖15C-8展示穩定性支架1506之內側視圖、仰視圖、外側視圖、後視圖及四個橫截面圖。穩定性支架凹陷區域位於基底之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1506經成形而基本上與穩定性支架凹陷區 域相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架1506具有包裹基底之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1506之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1506之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架1506由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架1506之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1506較佳地界定一或多個肋狀開口1531。在一較佳實施例中，肋狀開口1531允許基底上之肋狀物延伸穿過肋狀開口1531。有利地，肋狀物亦能夠在基底被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1531以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。肋狀開口1531允許穩定性支架1506在足弓區域中較穩定性支架1506之剩餘部分 而更具可撓性。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口1511，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1511之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢開口1511經設計以允許外側中足莢延伸穿過外側中足莢開口1511。
穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口1513，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1511之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢開口1513具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢開口1511隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢開口1513亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。外側腳後跟莢開口1513經設計以允許外側腳後跟莢延伸穿過外側腳後跟莢開口1513。
內側腳後跟莢開口1515沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢開口1515具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢開口。內側腳後跟莢開口1515經設計以允許內側腳後跟莢延伸穿過內側腳後跟莢開口1515。
穩定性支架1506提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。
圖15D-1至圖15D-5展示內底墊之內側、底部、外側、透視及橫截面。
圖15D-1至圖15D-5展示內底墊之內側視圖、仰視圖、外側視圖、透視圖及橫截面圖。穩定性支架1506亦界定一外側腳後跟莢開口1513，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1511之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1506之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1514經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1513相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1513相關且允許外側腳後跟莢1514經由該外側腳後跟莢開口1513而延伸出來。外側腳後跟莢1514具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1500之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1514亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1514之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢1516聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之外側腳後跟莢開口1513中將織物依次緊固至基底102。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
穩定性支架1506界定一內側腳後跟莢開口 1515，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1502之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1516經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1515相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1505內的基底1502之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1515相關且允許內側腳後跟莢1516經由該內側腳後跟莢開口1515而延伸出來。內側腳後跟莢1516具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢1516較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1502之內側腳後跟莢開口1515中將織物依次緊固至基底1502。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1502。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1514被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1506下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1514由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作 用。然而，過多量或速率之內轉可導致傷害。
穩定性支架1506提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1516藉由用具有與外側腳後跟莢1514不同之特性的材料形成內側腳後跟莢1516來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1516是由比外側腳後跟莢1514更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1516的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1514。結果，內側腳後跟莢1516趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢1514更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1516將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1514之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1516中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1514及內側腳後跟莢1516之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1516被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1512在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢1512由具有與 外側腳後跟莢1514相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
圖15E-1至圖15E-4展示前足墊之內側視圖、仰視圖、橫截面透視圖。
圖15E-1至圖15E-4展示前足墊1508之內側視圖、仰視圖、橫截面圖及透視圖。前足墊108較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。前足墊1508、外側中足莢1512、外側腳後跟莢1514及內側腳後跟莢1516經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響每一莢及墊之撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1520是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案1521及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1522是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1523是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案幫助將內底緊固於鞋腔中且將內底保持於適當位置使得其將不移動或滑動。縱橫交錯式槽圖案亦允許空氣循環及/或提供不同緩衝及彈簧性質。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底1502自內底之腳趾區域至腳後跟區域而覆蓋有頂部薄片1501，該頂部薄片較佳為具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1501由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
內底較佳包含：頂部薄片；及基底，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底亦界定縱向足弓支撐件，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件。橫向足弓支撐件之向上延伸將頂部薄片之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件之區域。
基底之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域。基底之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物或突 起。肋狀物較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。一替代性實施例具有由穩定性支架所界定且在足弓區域中自穩定性支架向外延伸的肋狀物或突起。
基底具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。
前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。前足墊具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域及前足墊位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊提供緩衝及 在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
穩定性支架凹陷區域位於基底之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架具有包裹基底之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換及「轉換」至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底 之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架較佳地界定一或多個肋狀開口。在一較佳實施例中，肋狀開口允許基底之該等肋狀物延伸穿過肋狀開口。較佳地，基底經模製使得肋狀物突出至肋狀開口中使得肋狀物近似與穩定性支架之外表面齊平且機械地將穩定性支架與基底鎖定在一起。有利地，肋狀物亦能夠在基底被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口允許穩定性支架在足弓區域中較穩定性支架之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架1506界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
外側中足莢較佳由具有約45-50 ASKER C之硬 度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底之外側中足莢開口中將織物依次緊固至基底。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底。
穩定性支架亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。外側腳後跟莢具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底之外側腳後跟莢開口中將織物依次緊固至基底。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底。
穩定性支架界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢經 成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底102之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。內側腳後跟莢具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底之內側腳後跟莢開口中將織物依次緊固至基底。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架下方向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉可導致傷害。
穩定性支架提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢藉由用具有與外側腳後跟莢不同之特性的材料形成內側腳後跟莢來有助於控制內 轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢是由比外側腳後跟莢更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢。結果，內側腳後跟莢趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢及內側腳後跟莢之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢由具有與外側腳後跟莢相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊之內側部分向後延伸至穩定性支架之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架及前足墊之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
前足墊、外側中足莢、外側腳後跟莢及內側腳後跟莢經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將摩擦配合及氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響每一莢及墊之撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案是近似 0.75mm深。較佳地，外側中足及腳後跟縱橫交錯式槽圖案是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案幫助將內底緊固於鞋腔中且將內底保持於適當位置使得其將不移動或滑動。縱橫交錯式槽圖案亦允許空氣循環及/或提供不同緩衝及彈簧性質。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底自內底之腳趾區域至腳後跟區域而覆蓋有頂部薄片，該頂部薄片較佳為具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底，該等組件在位於底表面上之由基底界定的凹陷區域中被緊固至基底。在模製過程期間亦使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦可襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同或沿內壁提供額外墊料，該等內壁變更在鞋之內部分上所提供之空間。基底可具有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件，定尺寸導引件提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
圖15A至圖15E中所示之尺寸及量測是被併入於本文中之較佳實施例的尺寸及量測。
圖16A至圖16D說明用於三項全能訓練之較佳實施例或內底。圖16A-1至圖16A-10展示內底之俯視圖、仰視圖、內側視圖、外側視圖、後視圖及五個橫截面圖。本發明是一種內底，該內底併有但不限於以下各者：(1)具有複數個穩定性肋狀物之刻面穩定性支架；(2)複數個莢；(3)前足墊；(4)莢及前足墊之底表面上的縱橫交錯式槽圖案；及(5)硬玉涼爽頂布。根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且 存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。本發明實現以下目標：(1)改良踝部及足部穩定性；(2)在起跑及著陸期間緩衝腳後跟及前足；(3)有助於防止在鞋操作及轉換期間內底移動或滑動；及(4)在跑步及交叉訓練鍛煉期間將增強之緩衝特徵提供至腳後跟、中足、足弓及前足。
圖16A-1為內底1600之俯視圖，該內底說明頂部薄片1601及橫向足弓支撐件1638。內底1600包含跨越基底之整個頂表面而自腳趾區域緊固至腳後跟區域的頂部薄片1601。較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1638。橫向足弓支撐件1638之向上延伸將頂部薄片401之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1638之區域。
橫向足弓支撐件1638較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1638將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
在一較佳實施例中，頂部薄片1601是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片401由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而 減少產生細菌及真菌之氣味。一系列氣孔延伸穿過頂部薄片1601及基底以准許在內底1600上方及下方之氣體循環。
圖16A-2說明內底之仰視圖。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1602亦界定縱向足弓支撐件1619，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1602之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域1607及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1605。基底1602之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1632或突起。肋狀物1632較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。
基底1602具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖16B-7至圖16B-10中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域1607是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域1607在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域1607具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點1657。
前足墊1608經成形而基本上與前足墊凹陷區域 1607相同且被緊固於其中。前足墊1608具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊1608之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點1657、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域1607及前足墊1608位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊1608提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1607之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。
穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1606之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1606之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架1606由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1606較佳地界定一或多個肋狀開口1631。在一較佳實施例中，肋狀開口1631允許基底1602之該等肋狀物1632延伸穿過肋狀開口1631。較佳地，基底1602經模製使得肋狀物1632突出至肋狀開口1631中使得肋狀物1632近似與穩定性支架1606之外表面齊平且機械地將穩定性支架1606與基底1602鎖定在一起。有利地，肋狀物1632亦能夠在基底1602被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出 穿過肋狀開口1631以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1632向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1631允許穩定性支架1606在足弓區域中較穩定性支架1606之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1606界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口1611，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1611之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢1612經成形而基本上與外側中足莢開口1611相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側中足莢開口1611相關且允許外側中足莢1612經由該外側中足 莢開口1611而延伸出來。
外側中足莢1612較佳由具有約45-50 ASKER C之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之外側中足莢開口1611中將織物依次緊固至基底1602。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1602。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口1613，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1611之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1613相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1613相關且允許外側腳後跟莢1614經由該外側腳後跟莢開口1613而延伸出來。外側腳後跟莢1614具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1600之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1614亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1614之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢1616聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之外側腳後跟莢開口1613中將織物依次緊固至基底1602。織物組件允許TPR恰當地黏 附至基底1602。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口1615，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1616經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1615相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1615相關且允許內側腳後跟莢1616經由該內側腳後跟莢開口1615而延伸出來。內側腳後跟莢1616具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢1616較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之內側腳後跟莢開口1615中將織物依次緊固至基底1602。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底502。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1614被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1606下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1614由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生 內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架1606提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1616藉由用具有與外側腳後跟莢1614不同之特性的材料形成內側腳後跟莢1616來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1616可由比外側腳後跟莢1614更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1616的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1614。結果，內側腳後跟莢1616趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢1614更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1616將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1614之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1616中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1616可被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1612在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢1612由具有與外側腳後跟莢1614相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊1608位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊1608由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊1608中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊1608之內側部分向後延伸至穩定性支架1606之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架1606及前足墊1608之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底1602較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底1602包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊1608較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
前足墊1608、外側中足莢1612、外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1620是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案1621及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1622是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1623是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案亦幫助將內底保持於適當位置且在鞋內不移動或滑動。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用開孔式設計將提供一較輕之內底。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底1602，該等組件在位於底表面上之由基底1602界定的凹陷區域中被緊固至基底1602。在模製過程期間使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同。一些鞋亦可沿鞋之內側、前部或後部提供額外墊料，其變更在鞋之內部分上為足部及/或內底所提供之實際空間。基底1602可具有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件1650，定尺寸導引件1650提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
圖16B-1至圖16B-8展示穩定性支架之仰視圖、 內側視圖、外側視圖、後視圖及四個橫截面圖。
圖16B-1說明內底之內側視圖。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1602亦界定縱向足弓支撐件1619，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1602之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1605。基底1602之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1632或突起。肋狀物1632較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。
基底1602具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自 接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。
穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1606之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1606之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1606較佳地界定一或多個肋狀開口1631。在一較佳實施例中，肋狀開口1631允許基底1602之該等肋狀物1632延伸穿過肋狀開口1631。較佳地，基底1602 經模製使得肋狀物1632突出至肋狀開口1631中使得肋狀物1632近似與穩定性支架1606之外表面齊平且機械地將穩定性支架1606與基底1602鎖定在一起。有利地，肋狀物1632亦能夠在基底1602被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1631以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1632向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1631允許穩定性支架1606在足弓區域中較穩定性支架1606之剩餘部分而更具可撓性。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
在一替代性實施例中，穩定性支架1606界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口 相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1616經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢1616經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1602覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1638。橫向足弓支 撐件1638之向上延伸將頂部薄片1601之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1638之區域。
橫向足弓支撐件1638較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1638將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
圖16A-2說明內底之仰視圖。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1602亦界定縱向足弓支撐件1619，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1602之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域1607及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1605。基底1602之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1632或突起。肋狀物1632較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。
基底1602具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖16B-7至圖16B-10中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域1607是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域1607在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一 半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域1607具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點1657。
前足墊1608經成形而基本上與前足墊凹陷區域1607相同且被緊固於其中。前足墊1608具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊1608之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點1657、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域1607及前足墊1608位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊1608提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1607之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架 1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。
穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1606之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1606之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架1606由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1606較佳地界定一或多個肋狀開口1631。在一較佳實施例中，肋狀開口1631允許基底1602之該等肋狀物1632延伸穿過肋狀開口1631。較佳地，基底1602經模製使得肋狀物1632突出至肋狀開口1631中使得肋狀物 1632近似與穩定性支架1606之外表面齊平且機械地將穩定性支架1606與基底1602鎖定在一起。有利地，肋狀物1632亦能夠在基底1602被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1631以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1632向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1631允許穩定性支架1606在足弓區域中較穩定性支架1606之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1606界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口1611，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1611之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢1612經成形而基本上與外側中足莢開口1611相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側中足莢開口1611相關且允許外側中足莢1612經由該外側中足莢開口1611而延伸出來。
外側中足莢1612較佳由具有約45-50 ASKER C之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之外側中足莢開口1611中將織物依次緊固至基底1602。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1602。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口 1613，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1611之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1613相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1613相關且允許外側腳後跟莢1614經由該外側腳後跟莢開口1613而延伸出來。外側腳後跟莢1614具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1600之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1614亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1614之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢516聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之外側腳後跟莢開口1613中將織物依次緊固至基底1602。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1602。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口1615，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1616經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1615相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605 內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1615相關且允許內側腳後跟莢1616經由該內側腳後跟莢開口1615而延伸出來。內側腳後跟莢1616具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢1616較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之內側腳後跟莢開口1615中將織物依次緊固至基底1602。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1602。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1614被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1606下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1614由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架1606提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1616藉由用具有與外側腳後跟莢1614不同之特性的材料形成內側腳後跟莢 1616來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1616可由比外側腳後跟莢1614更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1616的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1614。結果，內側腳後跟莢1616趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢1614更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1616將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1614之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1616中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1616可被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1612在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢1612由具有與外側腳後跟莢1614相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟 莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊1608位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊1608由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊1608中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊1608之內側部分向後延伸至穩定性支架1606之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架1606及前足墊1608之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底1602較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底1602包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊1608較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
前足墊1608、外側中足莢1612、外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊 表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1620是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案1621及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1622是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1623是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案亦幫助將內底保持於適當位置且在鞋內不移動或滑動。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用開孔式設計將提供一較輕之內底。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底1602，該等組件在位於底表面上之由基底1602界定的凹陷區域中被緊固至基底1602。在模製過程期間使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面 之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同。一些鞋亦可沿鞋之內側、前部或後部提供額外墊料，其變更在鞋之內部分上為足部及/或內底所提供之實際空間。基底1602可具有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件1650，定尺寸導引件1650提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
圖16B-3說明內底之外側視圖。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片1601之頂表面及一對立之底表面。基底1602亦界定縱向足弓支撐件1619，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1602之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1605。
基底1602具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長 度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1607之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。
穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1606之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1606之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部 功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢1612經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢1612經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢1614經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1602覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織 物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1638。橫向足弓支撐件1638之向上延伸將頂部薄片1601之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1638之區域。
橫向足弓支撐件1638較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1638將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
圖16B-4為內底之俯視圖，該內底說明頂部薄片1601及橫向足弓支撐件1638。內底1600包含跨越基底之整個頂表面而自腳趾區域緊固至腳後跟區域的頂部薄片1601。較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1638。橫向足弓支撐件1638之向上延伸將頂部薄片1601之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1638之區域。
橫向足弓支撐件1638較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1638將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
在一較佳實施例中，頂部薄片1601是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而 減少產生細菌及真菌之氣味。一系列氣孔延伸穿過頂部薄片1601及基底以准許在內底1600上方及下方之氣體循環。
圖16B-5為沿內底之中間的剖視圖線16B-5，如圖16B-2中所識別。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片1601之頂表面及一對立之底表面。基底1602之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域1607及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1605。
基底1602具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。如最佳在圖16B-6至圖16B-10中所見，凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
較佳地，基底1602之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1638。橫向足弓支撐件1638之向上延伸將頂部薄片1601之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1638之區域。橫向足弓支撐件1638較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1638將額外穩定性及緩衝提供至足部之前足及中間。
前足墊凹陷區域1607是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域1607在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域1607具有位於第1蹠骨 與第2蹠骨之間的後頂點。
前足墊1608經成形而基本上與前足墊凹陷區域1607相同且被緊固於其中。前足墊1608具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊1608之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點1657、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域1607及前足墊1608位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。圖11展示足部骨骼在內底上之置放情況。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊1608提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
據估計，使用較堅韌之材料使內底之耐用性增加35%至65%從而勝於將較柔軟之材料用於足內底之此部分的內底。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足墊凹陷區域1607之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具 有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。
穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口1613，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1611之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口 1613相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1613相關且允許外側腳後跟莢1614經由該外側腳後跟莢開口1613而延伸出來。外側腳後跟莢1614具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1600之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1614亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1614之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢1615聯合起作用以使踝部穩定。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口1615，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1616經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1615相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1615相關且允許內側腳後跟莢1616經由該內側腳後跟莢開口1615而延伸出來。內側腳後跟莢1616具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1614 被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1606下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1614由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉導致傷害。
穩定性支架1606提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1616藉由用具有與外側腳後跟莢1614不同之特性的材料形成內側腳後跟莢1616來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1616是由比外側腳後跟莢1614更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1616的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1614。結果，內側腳後跟莢1616趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢1614更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1616將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1614之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1616中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616之穩固性相差 約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1616被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1612在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢由具有與外側腳後跟莢1614相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊1608位於足部之此部分下面。較佳地，前足墊1608由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊1608中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊1608之內側部分向後延伸至穩定性支架1606之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架1606及前足墊1608之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓 勵大腳趾之負載。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
前足墊1608、外側中足莢1612、外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1620是近似0.75mm深。較佳地，外側中足及腳後跟縱橫交錯式槽圖案是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1623是近似1.00至2.50mm深。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之 總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底1602覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底1602，該等組件在位於底表面上之由基底1602界定的凹陷區域中被緊固至基底1602。在模製過程期間亦使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
圖16B-6說明內底之後視圖。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底1602亦界定縱向足弓支撐件1619，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
基底1602之底表面界定前足區域中之前足墊凹 陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域1605。基底1602之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物1632或突起。肋狀物1632較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。一替代性實施例具有由穩定性支架1606所界定且在足弓區域中自穩定性支架1606向外延伸的肋狀物或突起。
基底1602具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向 表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。
穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1606之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1606之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備與其他鞋類調換或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1606較佳地界定一或多個肋狀開口1631。在一較佳實施例中，肋狀開口1631允許基底1602之該等肋狀物1632延伸穿過肋狀開口1631。較佳地，基底1602經模製使得肋狀物1632突出至肋狀開口1631中使得肋狀物1632近似與穩定性支架1606之外表面齊平且機械地將穩定性支架1606與基底1602鎖定在一起。有利地，肋狀物1632亦能夠在基底1602被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1631以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。 較佳地，該等肋狀物1632向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1631允許穩定性支架1606在足弓區域中較穩定性支架1606之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1606界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢1614經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1616經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在 一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢1616經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1602覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。較佳地，前足墊凹陷區域1607具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。
圖16B-7說明橫截面16B-7，如圖16B-2中所識別。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片1601之頂表面及一對立之底表面。基底1602之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1626經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後 部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口1613，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1611之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1613相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1613相關且允許外側腳後跟莢1614經由該外側腳後跟莢開口1613而延伸出來。外側腳後跟莢1614具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1600之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1614亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口1615，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1616經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1615相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605 內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1615相關且允許內側腳後跟莢1616經由該內側腳後跟莢開口1615而延伸出來。內側腳後跟莢1616具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
在一較佳實施例中，基底1602覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
圖16B-9及圖16B-8分別說明橫截面16B-9及16B-8，如圖16B-2中所識別。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片1601之頂表面及一對立之底表面。基底1602之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹 陷區域1605。穩定性支架1606具有包裹基底1602之側及後部從而為足部提供支撐的壁。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
穩定性支架1606較佳地界定一或多個肋狀開口1631。在一較佳實施例中，肋狀開口1631允許基底1602之該等肋狀物1632延伸穿過肋狀開口1631。較佳地，基底1602經模製使得肋狀物1632突出至肋狀開口1631中使得肋狀物1632近似與穩定性支架1606之外表面齊平且機械地將穩定性支架1606與基底1602鎖定在一起。有利地，肋狀物1632亦能夠在基底1602被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1631以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物1632向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口1631允許穩定性支架1606在足弓區域中較穩定性支架1606之剩餘部分而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架1606界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口1611， 該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1611之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢1612經成形而基本上與外側中足莢開口1611相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底1602之底表面，該位置與外側中足莢開口1611相關且允許外側中足莢1612經由該外側中足莢開口1611而延伸出來。
在一較佳實施例中，基底1602覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
圖16B-10說明橫截面16B-10，如圖16B-2中所識別。內底1600較佳包含：頂部薄片1601；及基底1602，其具有緊固至該頂部薄片1601之頂表面及一對立之底表面。基底1602之底表面界定前足墊凹陷區域及穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架凹陷區域1605位於基底1602之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域1605自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域1605相同且具有基底對向 表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域1605。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。調換鞋及跑步裝備在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。
在一較佳實施例中，基底1602覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳是具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件1638。橫向足弓支撐件1638之向上延伸將頂部薄片1601之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件1638之區域。
橫向足弓支撐件1638較佳地位於第二蹠骨頭至第四蹠骨頭下面。橫向足弓支撐件1638將額外穩定性提供至足部之前足及中間。
圖16C-1至圖16C-8展示穩定性支架1606之內側視圖、仰視圖、外側視圖、後視圖及四個橫截面圖。穩定性支架凹陷區域位於基底之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域自接近內側邊界之內側邊緣延伸至 接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架1606經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架1606具有包裹基底之側及後部從而為足部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架1606之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架1606之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架1606由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架1606之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架1606較佳地界定一或多個肋狀開口1631。在一較佳實施例中，肋狀開口1631允許基底上之肋狀 物延伸穿過肋狀開口1631。有利地，肋狀物亦能夠在基底被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口1631以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。肋狀開口1631允許穩定性支架1606在足弓區域中較穩定性支架1606之剩餘部分而更具可撓性。
穩定性支架1606界定一外側中足莢開口1611，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口1611之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢開口1611經設計以允許外側中足莢延伸穿過外側中足莢開口1611。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口1613，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1611之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢開口1613具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢開口1611隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎 曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢開口1613亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。外側腳後跟莢開口1613經設計以允許外側腳後跟莢延伸穿過外側腳後跟莢開口1613。
內側腳後跟莢開口1615沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢開口1615具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢開口。內側腳後跟莢開口1615經設計以允許內側腳後跟莢延伸穿過內側腳後跟莢開口1615。
穩定性支架1606提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。
圖16C-1至圖16C-5展示外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢之仰視圖及側視圖，以及內側腳後跟莢及外側腳後跟莢之剖視圖。
圖16D-1至圖16D-5展示內底墊之內側視圖、仰視圖、外側視圖、透視圖及一個橫截面圖。穩定性支架1606亦界定一外側腳後跟莢開口1613，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口1611之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架1606之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢1614經成形而基本上與外側腳後跟莢開口1613相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口1613相關且允許外側腳後跟莢1614經由該外側腳後跟莢開口1613而延伸出來。外側腳後跟莢 1614具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底1600之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢1614亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢1614之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢1615聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之外側腳後跟莢開口1613中將織物依次緊固至基底102。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1602。
穩定性支架1606界定一內側腳後跟莢開口1615，該內側腳後跟莢開口沿位於基底1602之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢1616經成形而基本上與內側腳後跟莢開口1615相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域1605內的基底1602之底表面，該位置與內側腳後跟莢開口1615相關且允許內側腳後跟莢1616經由該內側腳後跟莢開口1615而延伸出來。內側腳後跟莢1616具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢1616較佳由具有約60 ASKER C±3 之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底1602之內側腳後跟莢開口1615中將織物依次緊固至基底102。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底1602。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢1614被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架1606下面向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢1614由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉可導致傷害。
穩定性支架1606提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢1616藉由用具有與外側腳後跟莢1614不同之特性的材料形成內側腳後跟莢1616來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢1616是由比外側腳後跟莢1614更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢1616的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢1614。結果，內側腳後跟莢1616趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外 側腳後跟莢1614更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢1616將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢1614之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢1616中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢1616被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢1612在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢1612由具有與外側腳後跟莢1614相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
圖16D-1至圖16D-4展示前足墊之仰視圖、側視圖、橫截面圖及透視圖。
圖16E-1至圖16E-4展示前足墊1608之內側視圖、仰視圖、橫截面圖及透視圖。前足墊108較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。前足墊1608、外側中足莢1612、外側腳後跟莢1614及內側腳後跟莢1616經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱 橫交錯式槽圖案積極地影響每一莢及墊之撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案1620是近似0.75mm深。較佳地，外側中足縱橫交錯式槽圖案1621及外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1622是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案1623是近似1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案幫助將內底緊固於鞋腔中且將內底保持於適當位置使得其將不移動或滑動。縱橫交錯式槽圖案亦允許空氣循環及/或提供不同緩衝及彈簧性質。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底1602自內底之腳趾區域至腳後跟區域而覆蓋有頂部薄片1601，該頂部薄片較佳為具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片1601由涼爽織物製成，該涼爽織物含 有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
內底較佳包含：頂部薄片；及基底，其具有緊固至該頂部薄片之頂表面及一對立之底表面。基底亦界定縱向足弓支撐件，該縱向足弓支撐件沿內底之內側而向上延伸以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓區域。
較佳地，基底之頂表面界定位於足部之蹠骨頭區域下面的向上延伸部分或橫向足弓支撐件。橫向足弓支撐件之向上延伸將頂部薄片之一部分上推，該部分對應於橫向足弓支撐件之區域。
基底之底表面界定前足區域中之前足墊凹陷區域及沿中足區域及腳後跟區域之穩定性支架凹陷區域。基底之底表面亦界定沿足弓區域向外延伸之一或多個肋狀物或突起。肋狀物較佳在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。一替代性實施例具有由穩定性支架所界定且在足弓區域中自穩定性支架向外延伸的肋狀物或突起。
基底具有一凸起邊緣，該凸起邊緣環繞腳後跟且沿足部之側而部分地延伸使得內底具有符合足部之自然形狀的鞋跟杯。凸起邊緣之高度大體在內底之內側上較高及較厚且在內底之外側上較低及較薄。
前足墊凹陷區域是部分地在近端自內底之腳趾端(位於足部之近端趾骨的遠端附近)開始。前足墊凹陷區域在外側部分上向後延伸至約第3蹠骨頭至第5蹠骨頭且在 內側部分上延伸至沿第1蹠骨及第2蹠骨之近似一半的長度。較佳地，前足墊凹陷區域具有位於第1蹠骨與第2蹠骨之間的後頂點。
前足墊經成形而基本上與前足墊凹陷區域相同且被緊固於其中。前足墊具有內側邊緣、外側邊緣、近端(後)邊緣及遠端(前)邊緣。前足墊之內側邊緣沿在外側被間隔之線而自該內底之該內側邊界延伸。近端邊緣向外側及向近端自該內側邊緣延伸至該後頂點、向外側及向遠端朝第3蹠骨頭延伸，接著向外側及向近端近似地沿第3蹠骨頭至第5蹠骨頭而延伸至外側邊緣。外側邊緣將該近端邊緣連接至該前足墊之該頂邊緣。在使用中，前足墊凹陷區域及前足墊位於使用者足部之大腳趾及足部之「球部」(排除使用者足部之第一蹠骨頭或內側球部)下面。
使用黏附劑來緊固該等組件。前足墊提供緩衝及在著陸時自垂直跳躍之能量回歸。其充當推進墊且支撐使用者足部之蹠骨頭(尤其是第1蹠骨頭及第2蹠骨頭)。
穩定性支架凹陷區域位於基底之底表面的中足區域及腳後跟區域中。穩定性支架凹陷區域自接近內側邊界之內側邊緣延伸至接近基底之外側邊界的外側邊緣且自稍近接於前足凹陷區域之遠端邊緣延伸至接近基底之腳後跟端的近端邊緣。遠端邊緣之內側部分經成形以適應在腳趾離地期間第1蹠骨之向下運動。穩定性支架經成形而基本上與穩定性支架凹陷區域相同且具有基底對向表面及鞋對向表面。基底對向表面被緊固至該穩定性支架凹陷區域。
穩定性支架具有包裹基底之側及後部從而為足 部提供支撐的壁。較佳地，穩定性支架之厚度的範圍是近似0.5mm至3mm且該等壁自近似3mm逐漸變細至約0.5mm。穩定性支架之側較佳地在足部之內側上由於較高之負載而較高。較佳地，穩定性支架由具有近似肖氏A 95之硬度的耐綸材料製成。在一較佳實施例中，穩定性支架為半剛性。在一替代性實施例中，穩定性支架為剛性。
較佳地，穩定性支架之鞋對向表面具有「刻面」表面紋理。此有紋理之刻面表面提高了在使用者足部被置放至鞋中或從鞋中出來時使內底「呆在適當位置」的能力。將鞋及跑步裝備調換及「轉換」至其他鞋類或反之亦然在三項全能賽事件及實際訓練期間是一項極普通之實踐。因而，此等刻面紋理藉由允許內底在此等轉換或調換活動期間抵制住從鞋中移出來而顯著地改良針對此特定使用之此等內底的使用及效能。當內底位於鞋腔中時，刻面設計顯著地提高內底之內部功能份額(與非刻面或平滑穩定性支架相比提高多達50%)，藉此防止內底自鞋腔移動或退出。
穩定性支架較佳地界定一或多個肋狀開口。在一較佳實施例中，肋狀開口允許基底之該等肋狀物延伸穿過肋狀開口。較佳地，基底經模製使得肋狀物突出至肋狀開口中使得肋狀物近似與穩定性支架之外表面齊平且機械地將穩定性支架與基底鎖定在一起。有利地，肋狀物亦能夠在基底被壓縮時(例如，當行走或跑步時)凸出穿過肋狀開口以將額外緩衝及支撐提供至足部之足弓。較佳地，該等肋狀物向外延伸近似0.50mm至1.5mm且具有近似4mm之寬度。肋狀開口允許穩定性支架在足弓區域中較穩定性支架之剩餘部分 而更具可撓性。
在一替代性實施例中，穩定性支架界定一或多個突起肋狀物而非開口。該等突起肋狀物沿足弓區域而向外延伸。該等突起肋狀物在楔狀骨周圍是較長的且在該等楔狀骨之遠端及近端逐漸較短，從而產生拋物線狀總形狀。該等突起肋狀物向外延伸近似0.50mm。
穩定性支架106界定一外側中足莢開口，該外側中足莢開口在近端自第3蹠骨頭至第5蹠骨頭後面延伸至骰骨之後部。外側中足莢開口之長度較佳足以將緩衝提供至中足之外側態樣。外側中足莢經成形而基本上與外側中足莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底之底表面，該位置與外側中足莢開口相關且允許外側中足莢經由該外側中足莢開口而延伸出來。
外側中足莢較佳由具有約45-50 ASKER C之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底之外側中足莢開口中將織物依次緊固至基底。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底。
穩定性支架亦界定一外側腳後跟莢開口，該外側腳後跟莢開口自外側中足莢開口之近似後方朝腳後跟端而延伸穿過穩定性支架之腳後跟區域的外側。外側腳後跟莢經成形而基本上與外側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底之底表面，該位置與外側腳後跟莢開口相關且允許外側腳後跟莢經由該外側腳後跟莢開口而延伸出來。外側腳後跟莢具有一外側邊緣，該外側邊緣沿內底之外側邊界而自該腳後跟端延伸至與該外側中足莢隔開 的外側腳後跟邊緣。外側邊緣在腳後跟之區域中彎曲以遵循內底腳後跟端之輪廓。外側腳後跟莢亦具有內側曲線邊緣。總組態約略為具有如所描述之彎曲邊緣而非直線的多邊幾何形狀。
外側腳後跟莢之組態、材料及位置提供緩衝且與內側腳後跟莢聯合起作用以使踝部穩定。外側腳後跟莢之硬度較佳基本上與外側中足莢相同，該外側腳後跟莢與該外側中足莢一致地起作用以有助於減少外側踝部翻轉之發生。其較佳由具有約肖氏C 45-50之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底之外側腳後跟莢開口中將織物依次緊固至基底。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底。
根據本發明之原理，緩衝芯或基底與具有相對硬度之穩定性支架及諸多彈性體莢組合以形成提供緩衝、穩定性及控制之內底。每一莢可具有不同穩固性，且存在三個莢，包括外側中足莢、內側腳後跟莢及外側腳後跟莢。該等莢可經調整以藉由變更該等莢之大小、形狀及材料性質來解決過度內轉/內轉不足、過度外轉/外轉不足及與足部運動相關之其他難題的問題。該等莢在腳後跟墊區域中是分開的，且中足墊及腳後跟墊在其底表面上具有有槽圖案以用於達成鞋中之較好緩衝及牽引夾持。
穩定性支架界定一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢開口沿位於基底之底表面上的正好離腳後跟端不遠的腳後跟區域之內側而延伸穿過腳後跟區域。內側腳後跟莢經成形而基本上與內側腳後跟莢開口相同且在一位置中被緊固至穩定性支架凹陷區域內的基底102之底表面，該位置與內 側腳後跟莢開口相關且允許內側腳後跟莢經由該內側腳後跟莢開口而延伸出來。內側腳後跟莢具有基本上豆莢形狀；其具有在第一遠端頂點及第二近端頂點處彼此連接的內側邊緣及外側邊緣。該等邊緣以彼此對立之方式加寬以界定該內側腳後跟莢。
內側腳後跟莢較佳由具有約60 ASKER C±3之硬度的TPR或PU製成。若使用TPR，則在該基底之內側腳後跟莢開口中將織物依次緊固至基底。織物組件允許TPR恰當地黏附至基底。
與地面之足部接觸大體被劃分成三個階段：腳後跟著地、中足支撐及腳趾離地。在腳後跟著地期間，足部之腳後跟以顯著力撞擊地面。為緩衝該撞擊，外側腳後跟莢被定位成沿著跟骨(腳後跟骨骼)之後面及外側且在穩定性支架下方向外延伸。較佳地，外側腳後跟莢由具有合適之緩衝性質且是基於預期活動類型來選擇的材料製成。
在腳後跟與地面之初始撞擊之後，足部扭曲或內轉，從而使腳後跟之內側接觸地面。足部對內轉量以及發生內轉之速率敏感。內轉是自然的，且某種程度之內轉是需要的，因為在行走或跑步期間其起吸收足部上之應力及力的作用。然而，過多量或速率之內轉可導致傷害。
穩定性支架提供沿足部之內側部分的穩固支撐以有助於控制內轉之量。內側腳後跟莢藉由用具有與外側腳後跟莢不同之特性的材料形成內側腳後跟莢來有助於控制內轉速率。舉例而言，為減小內轉速率，內側腳後跟莢是由比外側腳後跟莢更穩固之材料製成。在相同負載下，較穩固或 較硬之材料的壓縮量或壓縮速率不如較柔軟之材料。因此，由較穩固之材料製成的內側腳後跟莢的壓縮量將小於由較柔軟之材料製成的外側腳後跟莢。結果，內側腳後跟莢趨向於抵制住或削弱內轉且藉此有助於減小內轉之程度及速率。相反地，由比外側腳後跟莢更柔軟之材料來製造內側腳後跟莢將趨向於增加內轉之量及速率。
較佳地，基於外側腳後跟莢之穩固性及預期活動之類型來選擇用於內側腳後跟莢中之材料的穩固性。舉例而言，對於在輕度至適度活動期間待使用之內底而言，外側腳後跟莢及內側腳後跟莢之穩固性相差約20-30%。
攜帶重背包或其他物品在腳後跟著地期間及之後顯著地增加足部上之負載及內轉速率。因此，在經設計成供在攜帶背包時使用的內底中內側腳後跟莢被製成顯著較穩固。作為一實例，對於此等活動而言約20-40%之穩固性差異是較適當的。
外側中足莢在步伐之中期部分期間將緩衝及控制提供至足部之外側。通常，外側中足莢由具有與外側腳後跟莢相同之性質(例如，穩固性)的材料形成。然而，亦可使用具有不同特性之材料。
使用雙密度腳後跟莢之用途以使足部功能之動力學改變促進踝部穩定性。本發明之範疇亦是使內側腳後跟莢比外側腳後跟莢及/或外側中足莢或其任何組合更柔軟以解決不同關節力距或踝部翻轉。
在步伐之推進或腳趾離地階段開始時，腳後跟開始抬離地面且重量移位至足部之球部。前足墊位於足部之此 部分下面。較佳地，前足墊由相對彈性材料形成使得投入於壓縮前足墊中之能量得以回歸以在腳趾離地時有助於推進足部。
在腳趾離地期間，第一蹠骨自然地向下撓曲。防止第一蹠骨之此自然向下撓曲使足部之足弓變平且使足部過度內轉，從而增加踝部及膝蓋上之應力。為適應向下撓曲，前足墊之內側部分向後延伸至穩定性支架之遠端邊緣的對應凹邊緣部分中。穩定性支架及前足墊之形狀准許第一蹠骨更自然地撓曲且藉此在腳趾離地期間鼓勵大腳趾之負載。
基底較佳由具有合適之緩衝性質的泡沫或其他材料製成。較佳地，基底包含乙烯醋酸乙烯酯(「EVA」)泡沫(其為乙烯與乙酸乙烯酯之共聚物)或熱塑性橡膠(「TPR」)/EVA混合物。較佳之EVA或TPR/EVA混合物具有約Asker C 45-50之硬度計(硬度)。
前足墊較佳由熱塑性橡膠(「TPR」)或聚胺基甲酸酯(「PU」)製成。在前足墊中所使用之TPR或PU的硬度較佳為約30 Asker C±3。
前足墊、外側中足莢、外側腳後跟莢及內側腳後跟莢經建構成在莢或墊之底表面上具有縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案將氣隙引入至莢/墊表面中。此等氣隙及縱橫交錯式槽圖案積極地影響每一莢及墊之撞擊吸收性質。其亦允許使用較少材料及因此較輕之內底同時仍提供所要之緩衝功能。較佳地，前足縱橫交錯式槽圖案是近似0.75mm深。較佳地，外側中足及腳後跟縱橫交錯式槽圖案是近似1.00至3.00mm深。較佳地，內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案是近似 1.00至2.50mm深。較佳地，歸因於材料之壓縮特性，TPR莢具有較深之縱橫交錯式槽圖案且PU莢具有較淺之縱橫交錯式槽圖案。縱橫交錯式槽圖案幫助將內底緊固於鞋腔中且將內底保持於適當位置使得其將不移動或滑動。縱橫交錯式槽圖案亦允許空氣循環及/或提供不同緩衝及彈簧性質。
對於男人之大小11-12內底而言，自內側至外側之前足墊寬度是約85至95mm。高度是約100至110mm。深度是約0.95至1.50mm。
需要藉由選擇對內底之結構特徵起作用之材料來最小化內底之總重量。需要內底(男人之大小10/11)之較佳實施例之總重量為約4.0盎司。需要內底之替代性實施例之總重量對於男人之大小10/11而言為約5.0至6.0盎司且對於男人之大小12/13而言為約6.5至7.5盎司。其他大小將是成比例的。使用縱橫交錯式槽圖案設計將有助於提供較輕之內底。
在一較佳實施例中，基底自內底之腳趾區域至腳後跟區域而覆蓋有頂部薄片，該頂部薄片較佳為具有低摩擦係數之非編織織物層以便最小化生成水泡之機率。較佳地，頂部薄片由涼爽織物製成，該涼爽織物含有自天然源獲得之特殊低溫玉。織物中之玉的形式是硬玉。在一較佳實施例中，用抗菌劑處理織物，該抗菌劑與濕氣障壁組合而減少產生細菌及真菌之氣味。
在本發明之第一較佳實施例中，使用諸如黏附劑之適當構件將內底之各個組件永久性地貼附至基底，該等組件在位於底表面上之由基底界定的凹陷區域中被緊固至基 底。在模製過程期間亦使用此項技術中已知之模製內底的技術來緊固該等組件。
該等凹陷區域亦可襯有具有基底表面及墊/莢表面之布，其沿該基底表面而被緊固至該基底及沿該墊/莢表面而被緊固至該墊/莢。替代地，將布緊固至墊/莢且接著將複合結構緊固至凹陷區域。
一些鞋在鞋之內部分上可大小稍微不同或沿內壁提供額外墊料，該等內壁變更在鞋之內部分上所提供之空間。基底可具有允許使用者縮短內底之長度以用於恰當地合穿於鞋內的定尺寸導引件，定尺寸導引件提供使用者將進行切割(較佳用剪刀)所沿著的各種切割導引線。
圖16A至圖16D中所示之尺寸及量測是被併入於本文中之第二較佳實施例的尺寸及量測。
雖然已展示及描述本發明之較佳實施例，但在不背離本發明之精神及教示的情況下可由熟習此項技術者作出對其之修改。本文中所描述之實施例僅為例示性的，且並不意欲為限制性的。本文中所揭示的本發明之許多變化及修改是可能的且是在本發明之範疇內。
100‧‧‧內底
101‧‧‧頂部薄片
102‧‧‧基底
105‧‧‧穩定性支架凹陷區域
106‧‧‧穩定性支架
107‧‧‧前足墊凹陷區域
108‧‧‧前足墊
111‧‧‧外側中足莢開口
112‧‧‧外側中足莢
113‧‧‧外側腳後跟莢開口
114‧‧‧外側腳後跟莢
115‧‧‧內側腳後跟莢開口
116‧‧‧內側腳後跟莢
119‧‧‧縱向足弓支撐件
120‧‧‧前足縱橫交錯式槽圖案
121‧‧‧外側中足縱橫交錯式槽圖案
122‧‧‧外側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
123‧‧‧內側腳後跟縱橫交錯式槽圖案
131‧‧‧肋狀開口
132‧‧‧肋狀物
150‧‧‧定尺寸導引件
157‧‧‧後頂點

Claims (31)

  1. 一種供用於一鞋中之內底，該鞋具有用於接觸一使用者之足部的一頂側及用於接觸一使用者之鞋之內部的一底側，該內底包含：a.一基底，該基底具有一基底頂表面及一基底底表面，該基底具有一腳後跟端、一腳趾端、一內側邊界及一外側邊界，該內側邊界及該外側邊界分別沿著該內底之該內側及該外側而自該腳後跟端延伸至該腳趾端，該基底底側界定：(i)一前足區域，其自該腳趾端延伸至位於該等足部之一蹠骨頭區域後面的一位置，(ii)一中足區域，其自該蹠骨頭區域延伸至位於該足部之跟骨前方的一邊緣，(iii)一腳後跟區域，其自該中足區域延伸至該腳後跟端，(iv)一前足墊凹陷區域，其位於該前足區域中，且在該足部之大拇趾下面在自該基底之遠端附近向近端延伸至該第一蹠骨頭之前部，及(v)一穩定性支架凹陷區域，其被定位成基本上沿著該足部之該中足區域及該腳後跟區域，b.一足弓支撐件，其位於該中足區域中，該足弓支撐件沿著該內側邊界且在該足部之該足弓下面橫向向上地延伸；c.一穩定性支架，其是由半剛性材料製成且被緊固至該基底底側之該穩定性支架凹陷區域，該穩定性支架具有複數個莢開口，該等莢開口允許莢組件延伸穿過該等莢開口，且該穩定性支架具有一刻面底表面； d.一前足墊，其被緊固至該前足墊凹陷區域，該前足墊在該足部之較小蹠骨頭下面向外側及向近端延伸至較大蹠骨之下方；以及e.一外側腳後跟莢，其延伸穿過該穩定性支架中之一外側腳後跟莢開口且位於該腳後跟區域之外側上，該外側腳後跟莢在其底表面上具有一縱橫交錯式槽圖案，以及f.一內側腳後跟莢，其位於該腳後跟區域之內側上且延伸穿過一內側腳後跟莢開口，該內側腳後跟莢藉由一槽間隙而與該外側腳後跟莢組件分開且該內側腳後跟莢在其底表面上具有一縱橫交錯式槽圖案。
  2. 如請求項1之內底，其中安置於該腳後跟之該內側下面的該莢是由比該外側腳後跟莢之材料更穩固之一材料所製成。
  3. 如請求項2之內底，其中該外側腳後跟莢之該穩固性是在肖氏C 45-50之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是近似肖氏C 60。
  4. 如請求項2之內底，其中該外側腳後跟莢之該穩固性是在肖氏C 50-55之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是在約肖氏C 65-70之範圍中。
  5. 如請求項2之內底，其中該等莢之該穩固性經選擇以控制一內轉速率。
  6. 如請求項2之內底，其中該等莢之該穩固性是基於設計該內底所針對之一活動類型來選擇。
  7. 如請求項1之內底，其中該穩定性支架經成形以使得該第一蹠骨能夠在腳趾離地期間撓曲。
  8. 如請求項1之內底，其更包含：一外側中足莢，其沿著該內底之該外側而位於該中足區域中且延伸穿過一外側中足莢開口，該外側中足莢在其底表面上具有一縱橫交錯式槽圖案。
  9. 如請求項8之內底，其中該等莢之該穩固性經選擇以控制該內轉速率。
  10. 如請求項8之內底，其中該等莢之該穩固性是基於設計該內底所針對之該活動類型來選擇。
  11. 一種供用於一鞋中之內底，該鞋具有用於接觸一使用者之足部的一頂側及用於接觸一使用者之鞋之內部的一底側，該內底包含：a.一基底，該基底具有一基底頂表面及一基底底表面，該基底具有一腳後跟端、一腳趾端、一內側邊界及一外側邊界，該內側邊界及該外側邊界分別沿著該內底之該內側及該外側而自該腳後跟端延伸至該腳趾端，b.一足弓支撐件，其沿著該內側邊界且在該足部之足弓下面橫向向上地延伸；c.一穩定性支架，其是由半剛性材料製成且具有穩定性肋狀物，該穩定性支架具有莢開口，該等莢開口允許莢組件延伸穿過該等莢開口，且該穩定性支架具有一刻面底表面；d.一外側腳後跟莢，其延伸穿過該穩定性支架中之一外側腳後跟莢開口且位於腳後跟區域之外側上，該等外側腳後跟莢組件在其底表面上具有一縱橫交錯式槽圖案，e.一內側腳後跟莢，其延伸穿過一內側腳後跟莢開口且位 於該腳後跟區域之內側上，該內側腳後跟莢藉由一槽而與該外側腳後跟莢組件分開且該內側腳後跟莢在其底表面上具有一縱橫交錯式槽圖案，以及f.一外側中足莢，其沿著該內底之該外側而位於該中足區域中且延伸穿過一外側中足莢開口，該外側中足莢在其底表面上具有一縱橫交錯式槽圖案。
  12. 如請求項11之內底，其中安置於該腳後跟之該內側下面的該莢是由比該外側腳後跟莢之材料更穩固之一材料所製成。
  13. 如請求項12之內底，其中該外側腳後跟莢之該穩固性是在肖氏C 45-50之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是近似肖氏C 60。
  14. 如請求項12之內底，其中該外側腳後跟莢之該穩固性是在肖氏C 50-55之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是在約肖氏C 65-70之範圍中。
  15. 如請求項12之內底，其中該等莢之該穩固性經選擇以控制該內轉速率。
  16. 如請求項12之內底，其中該等莢之該穩固性是基於設計該內底所針對之該活動類型來選擇。
  17. 如請求項11之內底，其中該穩定性支架經成形以使得該第一蹠骨能夠在腳趾離地期間撓曲。
  18. 如請求項11之內底，其中該外側中足莢是由比用於內側腳後跟莢中之材料更柔軟之材料所製成。
  19. 如請求項18之內底，其中該外側中足莢之該穩固性是在肖氏C 45-50之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是近 似肖氏C 60。
  20. 如請求項18之內底，其中該外側中足莢之該穩固性是在肖氏C 50-55之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是在約肖氏C 65-70之範圍中。
  21. 一種產生一緩衝以控制一足部在一鞋中之運動的方法，該方法包含：提供具有一基底頂表面及一基底底表面之一基底，該基底具有一腳後跟端、一腳趾端、一內側邊界及一外側邊界，該等邊界自該腳後跟端延伸至該腳趾端，該基底底側界定：(a)一前足區域，其自該腳趾端延伸至位於該等足部之一蹠骨頭區域後面的一位置，(b)一中足區域，其自該蹠骨頭區域延伸至位於該足部之跟骨前方的一邊緣，以及(c)一腳後跟區域，其自該中足區域延伸至該腳後跟端；將一穩定性支架耦接至該基底，該穩定性支架是由半剛性材料製成且該穩定性支架被緊固至該基底底側之一穩定性支架凹陷區域，該穩定性支架凹陷區域被定位成基本上沿著該足部之該中足區域及該腳後跟區域，該穩定性支架具有莢開口，該等莢開口允許莢組件延伸穿過該等莢開口，且該穩定性支架具有一刻面表面；將一足弓支撐件耦接至該基底，該足弓支撐件沿著該內側邊界且在該足部之足弓下面橫向向上地延伸；將一前足墊耦接至該基底，該前足墊在該足部之較小蹠骨頭下面向外側及向近端延伸至較大蹠骨之下方；以及 使互動之合作式莢組件延伸穿過該穩定性支架中之莢開口，該等莢組件包括：一外側腳後跟莢，其位於該腳後跟區域之外側上；一內側腳後跟莢，其與該外側腳後跟莢分開且位於該腳後跟區域之內側上；以及一外側中足莢，其位於該內底之該中足區域的外側上，該等莢組件在其底表面上具有一縱橫交錯式槽圖案。
  22. 如請求項21之方法，其中該內側腳後跟莢是由比該外側腳後跟莢之材料更穩固之一材料製成。
  23. 如請求項22之方法，其中該外側腳後跟莢之該穩固性是在肖氏C 45-50之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是近似肖氏C 60。
  24. 如請求項22之方法，其中該外側腳後跟莢之該穩固性是在肖氏C 50-55之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是在約肖氏C 65-70之範圍中。
  25. 如請求項21之方法，其中該內側腳後跟莢是由比該外側中足莢之材料更穩固之一材料製成。
  26. 如請求項25之方法，其中該外側中足莢之該穩固性是在肖氏C 45-50之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是近似肖氏C 60。
  27. 如請求項25之方法，其中該外側中足莢之該穩固性是在肖氏C 50-55之範圍中且該內側腳後跟莢之該穩固性是在約肖氏C 65-70之範圍中。
  28. 如請求項22或第25項之方法，其中該等莢之該穩固性經選擇以控制該內轉速率。
  29. 如請求項22或第25項之方法，其中該等莢之該穩固性是基於設計該內底所針對之該活動類型來選擇。
  30. 如請求項21之方法，其中該穩定性支架經成形以使得該第一蹠骨能夠在腳趾離地期間撓曲。
  31. 如請求項21之方法，其中該基底包含一EVA泡沫材料。
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