TW201447284A - 多點缺陷檢查系統 - Google Patents

Abstract

本發明係關於一種用於藉由利用複數個照射束實質上同時地掃描一自旋樣本之一表面上之多個點來檢查該樣本之系統及方法。由至少一個偵測器陣列收集自該樣本之該表面上之各別點反射、散射或輻射之照射之部分。由與該偵測器陣列通信之至少一個運算系統判定與該樣本之至少一個缺陷相關聯之資訊。根據各項實施例，可控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者以補償歸因於切向點分離之間距誤差。

Description

多點缺陷檢查系統

本發明大體而言係關於樣本檢查之領域，且更特定而言係關於對一自旋樣本執行多點檢查。

數種缺陷檢查系統在此項技術中係已知，其通常依賴於對一樣本表面之一單點掃描。用一單個照射束掃描樣本在諸多應用中係適用的。然而，新興技術不斷要求能夠提供比單點檢查系統高之取樣率及缺陷靈敏度。因此，已提出多點檢查系統以藉由用複數個照射束實質上同時地掃描樣本且並行處理所得之掃描資訊來改良輸送率及靈敏度。

此項技術中當前已知之多點檢查系統苦於各種複雜性。舉例而言，在對一自旋晶圓之多點掃描中，間距誤差係一普遍問題。徑向間隔之點圖案較不易於發生間距誤差，此乃因避免了點路徑與掃描方向之間的一傾角。然而，所述之徑向點圖案難以產生且通常將需要比產生切向點圖案所需之光學設計複雜得多的一光學設計。

在一項態樣中，本發明係關於用於判定與一樣本之至少一個缺陷相關聯之資訊(舉例而言，位置、大小、分類)之多點檢查系統。該系統可包含一載物台總成，該載物台總成經組態以支撐一樣本且進一步經組態以利用至少一個旋轉致動器使該樣本自旋。至少一個照射源 經組態以沿著一照射路徑提供照射至該自旋樣本之一表面。沿著該照射路徑安置之一點陣列產生器經組態以根據一選定圖案(舉例而言，徑向或切向間隔)引導照射之部分以用複數個點照射該樣本之該表面上。至少一個偵測器陣列經組態以接收自該樣本之該表面上之該複數個點反射、散射或輻射之照射。至少一個運算系統經組態以基於由偵測器陣列接收之該照射判定與該樣本之至少一個缺陷相關聯之資訊。

根據各項實施例，可控制掃描間距、點大小、點分離及/或自旋速率以補償歸因於切向點分離之間距誤差。在某些實施例中，舉例而言，該載物台總成進一步包含組態以沿著至少一個軸致動該樣本，以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之該掃描間距的至少一個橫向致動器。該橫向致動器可經組態以變化跨該樣本之多個區域之該掃描間距以補償間距誤差。在以下之詳細說明中進一步論述用於補償間距誤差之額外組態及方法。

在另一態樣中，本發明係關於一種根據本文闡述之系統檢查一樣本之方法。然而應注意，可利用除了關於該系統之實施例闡述之彼等構件之外的構件執行該方法之一或多個步驟。該方法應視為廣泛地涵蓋用於執行下文闡述之該等步驟之一或多者之任何構件。根據各項實施例，該方法至少包含以下各項步驟：根據一選定圖案引導照射之部分以用複數個點照射一自旋樣本之一表面上；接收自該樣本之該表面上之該複數個點反射、散射或輻射之照射；基於自該樣本之該表面接收之該照射判定與該樣本之至少一個缺陷相關聯之資訊；及控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者以補償歸因於切向點分離之間距誤差。

應理解，前述一般說明及以下詳細說明兩者皆僅係例示性及闡釋性的且未必限制本發明。併入說明書中且構成說明書之一部分之隨附圖式圖解說明本發明之標的物。說明與圖式一起用於闡釋本發明之 原理。

100‧‧‧系統/MS系統

102‧‧‧樣本/自旋樣本

104‧‧‧旋轉致動器

106‧‧‧橫向致動器/線性致動器

108‧‧‧照射源

110‧‧‧點陣列產生器

112‧‧‧照射光學器件

114‧‧‧分束器

116‧‧‧光圈或傅裏葉濾波器

118‧‧‧成像透鏡

120‧‧‧偵測器陣列/偵測器

122‧‧‧運算系統

124‧‧‧載體媒體

126‧‧‧程式指令

128‧‧‧變焦盒

130‧‧‧聚焦元件

△‧‧‧點分離

θ‧‧‧傾角

P₁‧‧‧4x標稱間距

P₂‧‧‧2x標稱間距

P₃‧‧‧標稱掃描間距

熟習此項技術者可藉由參考附圖而較佳理解本發明之眾多優點，在附圖中：圖1A係根據本發明之一實施例之圖解說明一多點檢查系統之一方塊圖；圖1B圖解說明根據本發明之一實施例之一樣本相對於射到樣本之一表面上之複數個照射束之動作；圖2圖解說明根據本發明之一實施例之一樣本之一表面上之複數個區，每一區與一各別掃描間距相關聯；圖3圖解說明根據本發明之一實施例之沿著一樣本之一表面之掃描間距之實質上連續變化；圖4係根據本發明之一實施例之圖解說明多點檢查系統之一部分之一方塊圖，其中該系統包含用於控制點大小及/或點分離之一變焦盒；圖5係根據本發明之一實施例之圖解說明多點檢查系統之一部分之一方塊圖，其中該系統包含用於控制點大小之一聚焦元件；圖6A係根據本發明之一實施例之圖解說明檢查一樣本之一方法之一流程圖；及圖6B係根據本發明之一實施例之圖解說明包含用於控制掃描間距、點大小、點分離及/或自旋速率以補償由切向點分離致使之間距誤差之一或多個步驟之方法之一部分的一流程圖。

現在將詳細參考圖解說明於隨附圖式中之所揭示之標的物。

圖1A至圖6B大體圖解說明一種用於對一自旋樣本執行多點檢查之系統及方法。用複數個雷射點掃描一樣本可在固定輸送率下顯著地 改良靈敏度。舉例而言，信雜比(SNR)可展示為以一階形式與1/成比例，其中n係雷射點之數目。

增加用於掃描樣本之雷射點之數目可導致各種複雜性。舉例而言，偵測器感測器(舉例而言，光電倍增器管)之數目通常與雷射點之數目成比例，因此硬體佈局可隨著點之數目增加而變得更加複雜。必須維持各個點之間的非常穩定之強度振幅比。由於S/N以n之平方根按比例調整，因此當n係足夠大時，增加雷射點將最終達到一遞減回歸點(point of diminishing of returns)。在某些實施例中，基於上述考量選擇點(n)之數目。

圖1A圖解說明用於對一樣本102執行多點檢查之一系統100之一實施例。如本發明整篇所使用，術語「樣本」泛指由一半導體或非半導體材料形成之一基板，該基板可包含形成在其上之一或多個「層」或「膜」。舉例而言，半導體或非半導體材料包含(但不限於)單晶矽、砷化鎵及磷化銦。形成在基板上之層可包含(但不限於)一抗蝕劑、一介電材料、一導電材料或一半導電材料。此項技術中已知諸多不同類型之樣本層，且如本文中所使用之術語樣本意欲涵蓋一基板及可形成在其上之任何類型之層。

系統100可包含經組態以支撐一樣本102之一載物台總成。該載物台總成可包含經組態以使樣本102根據一選定自旋速率自旋之至少一個旋轉致動器104(舉例而言，馬達或伺服機)。該載物台總成可進一步包含經組態以沿著至少一個軸(舉例而言，X軸)線性地致動樣本102之至少一個橫向致動器106。旋轉致動器104及線性致動器106可經組態以協同操作使得樣本102在沿一選定方向線性地致動時以一選定自旋速率自旋。因此，使射到樣本102之一表面上之照射能夠根據自樣本102之中心向外移動(或向內移動至該中心)之一螺旋形軌道掃描樣本102。

至少一個照射源108經組態以沿著由一或多個照射光學器件112(諸如，一物鏡)界定之一照射路徑提供照射。該照射路徑可包含一點陣列產生器110，點陣列產生器110經組態以接收自照射源108發出之照射且進一步經組態以根據一選定一維或二維點圖案(舉例而言，徑向或切向間隔之點陣列)沿著照射路徑之其餘部分引導照射之單獨部分(亦即，束)。可根據至少一臨限點至點分離來間隔該等點以避免掃描樣本102之照射點之間串擾。在某些實施例中，點陣列產生器110包含經組態以繞射自照射源108接收之一照射束以產生用於照射樣本102之表面之點圖案之一繞射光學元件(DOE)。第8,194,301號美國專利、第2009/0225399號美國公開案及第2012/0026489號美國公開案更詳細地論述產生及/或使用多點陣列之方法，且該等案件全文以引用之方式併入本文中。

橫向致動器106經組態以致動樣本102使得沿著樣本表面掃描點圖案。同時，至少一個偵測器陣列120經組態以接收自樣本表面沿著由一或多個收集光學器件(諸如(但不限於)，一分束器114、一光圈或傅裏葉濾波器116及一成像透鏡118)界定之一收集路徑反射、散射或輻射之照射之部分。偵測器陣列120可包含複數個光倍增器管(PMT)、相機或此項技術中已知之任何其他光感測器陣列。

系統100進一步包含可通信耦合至偵測器陣列120之至少一個運算系統122。在某些實施例中，運算系統122經組態以獨立地或至少部分獨立地處理針對各別照射束中之每一者之所接收照射(亦即，自每一點反射、散射或輻射之照射)之一部分。舉例而言，運算系統122可經組態以獨立地數位化樣本表面之每一所照射點之資料且然後組合經數位化資料用於缺陷偵測。運算系統122經組態以基於自複數個所照射點反射、散射或輻射之照射判定與樣本102之一或多個缺陷相關聯之資訊(舉例而言，位置、大小、分類)。因此，缺陷靈敏度及輸送率 可與照射樣本102之表面之點之數目(n)相關地實質上增加。

應認識到，本發明通篇中所闡述之各個步驟及功能可由一單個運算系統或由多個運算系統執行。一或多個運算系統122可包含(但不限於)一個人運算系統、主機運算系統、工作站、影像電腦、並行處理器或此項技術中已知之任何其他裝置。一般而言，術語「運算系統」可廣義地定義為涵蓋具有經組態以執行來自至少一個載體媒體124之程式指令126之至少一個單核心或多核心處理器之任何裝置。

圖1B圖解說明具有提供用於參考之一XYZ座標之樣本102之一表面上之複數個束點，其中橫向致動器106經組態以使樣本102沿著X軸平移。在某些實施例中，以沿著X軸安置之複數個點照射樣本係有利的。然而，組態照射光學器件以產生此一MS圖案由於小得多的焦點深度(DOF)而對一斜入射角形成實施性挑戰。歸因於快速自旋速率之小DOF與高頻寬之此組合對於自動聚焦系統(AFS)設計極具挑戰性。

若束在XZ平面內以斜角行進，則束腰部大小可維持在一合理範圍內，但相對於束腰部平面產生一傾斜焦平面技術上係困難的。因此，沿著相對於X軸之一傾角θ提供束係有利的，其中束在由Z軸及束路徑界定之平面中行進，如在圖1B中圖解說明。在某些實施例中，傾角θ通常在與X軸成自0度至50度之範圍內使得沿著束路徑之點大小不過於延展，從而維持徑向點大小與間距大小之間的匹配。

在某些實施例中，可容許掃描間距取決於點至點分離△及傾角θ，且可根據以下公式來判定：

其中p係取樣間距，p_m係機械間距，n係點之數目，m係不與n共 用公約數之一整數，△係點分離，且θ係傾角。因此，只要θ不係90度，可容許之間距大小集便可用於檢查。可針對給定輸送率或靈敏度目標來調整自旋速率。

然而，間距誤差可由沿著切線方向之點分離引起。由於點並非沿著X軸定位，因此安置在不同Y位置處之點自一個繞轉至下一個繞轉之行進距離沿著徑向方向稍有不同。因此，當自樣本102之中心至邊緣掃描時，間距大小無法維持為一常數。而是，點可遵循一非常複雜之圖案，且當更接近於樣本102之中心時，間距誤差可增加。最大間距誤差取決於點分離△、傾角θ及徑向位置r。在某些實施例中，可根據以下公式約略估計一給定位置之間距誤差：

其中δ係徑向位置r_o處之間距誤差。精確間距誤差遵循一複雜得多但可預測之形式。

取決於樣本102之一掃描軌跡之位置，間距誤差可係過取樣或欠取樣的。間距誤差可加劇大小誤差且若不恰當處置則導致較高假計數。可以算法方式處置大小誤差。然而，假計數可對一給定靈敏度目標之輸送率造成不可恢復的損失。歸因於點放置之間距誤差可係非常大的。若經校正間距大小用於重新構造缺陷信號，則一欠取樣區域可存在一高得多的加權因子，導致假缺陷計數增加且靈敏度降級。一種減小間距誤差之方法係奇數點分離。對具有大欠取樣之區域之過取樣可進一步減小歸因於過大間距誤差之假計數。舉例而言，系統100可經組態以在一較小掃描間距下掃描與高間距誤差相關聯之區域。如在圖2至圖5中所圖解說明，系統100可經組態用於控制掃描間距、點大小、點分離及/或自旋速率以補償由切向點分離引起之間距誤差。

如在圖2中所圖解說明，系統100可經組態以根據多個間距大小區來掃描樣本102。舉例而言，橫向致動器106可經組態以在具有大間距誤差之區域(諸如，樣本102之中心部分)中根據至少一第一(較小)掃描間距使樣本102沿著X軸平移且在具有較低誤差率之區域(諸如，樣本102之外部部分)中根據一第二(較大)掃描間距使樣本102沿著X軸平移。在於圖2中圖解說明之示範性實施例中，三個間距區可覆蓋樣本102。可在最外側區域處根據標稱掃描間距(P₃)、在中間區域中根據2x標稱間距(P₂)且在樣本102之中心附近之最內側區域中根據4x標稱間距(P₁)來掃描樣本102。上述實例對多區掃描係說明性的；然而，區之數目及各別掃描間距係任意的且可根據一特定實施方案之要求而變化。舉例而言，朝樣本102之中心提供額外區可係有利的。

需要予以適當關注使得在包含區之間的重疊之區邊界處維持恰當取樣。在某些實施例中，在圖2中圖解說明，跨具有多個間距大小之樣本102順序地掃描提供良好時序效能且易於實施。在其他實施例中，掃描每一區兩次(亦即，左側至中心及中心至右側)用於增加準確度可係有利的。在某些實施例中，可自掃描中排除樣本102之一中心部分(舉例而言，中心處之2mm)以進一步避免誤差。

在某些實施例中，運算系統122進一步經組態以判定利用樣本102之中心附近之所有點之一子集來判定缺陷資訊。忽略產生大間距誤差之點可係有利的。舉例而言，在一9點系統中，當掃描樣本102之一外部部分時，運算系統122可經組態以使用來自所有9個點之資料。但是，當掃描樣本102之一中心部分時，運算系統122可經組態以僅使用最接近於圖案中心之3個點的資料。由於3個點之間的切向分離比整個9個點小得多，因此可進一步減小間距誤差。

在另一實施例中，在圖3中圖解說明，系統100可經組態以用一實質上連續可變掃描間距掃描樣本102之至少一部分。為維持恰當取 樣，可根據點分離△及傾角θ連續地或離散地判定掃描間距。在某些實施例中，根據可容許間距大小利用以下公式判定掃描間距：

如上文所闡述。對於在掃描期間調整△或θ之一照射佈局，橫向致動器106可經組態以使樣本102以經調整速度平移以在掃描期間匹配可容許間距大小。在某些實施例中，系統100經組態以使用較小標稱間距使得總誤差(標稱間距誤差+最大間距誤差)維持在一選定誤差臨限值內。因此，整個樣本102上之信雜比(SNR)可保持高於一指定最小SNR。代替或除了藉由改變樣本102之致動速度來控制掃描間距外，點陣列產生器110可進一步經組態以控制掃描間距。在某些實施例中，點陣列產生器110可包含耦合至一旋轉致動器之一繞射光學元件。可藉由與藉由橫向致動器106之樣本平移同步地旋轉繞射光學元件來調整傾角θ，因此調整可容許掃描間距。

在某些實施例中，在圖4中圖解說明，系統100可進一步包含沿著照射路徑安置之一變焦盒128。變焦盒128(舉例而言，變焦透鏡總成)可經組態以控制點分離與點大小之比。舉例而言，變焦盒128可經組態以維持該比低於一選定臨限值。當切換輸送率模式時，變焦盒128可經組態以使點大小及點分離變焦同時該比保持小的以保持間距誤差與間距大小之一低比。

在某些實施例中，在圖5中圖解說明，系統100可進一步包含沿著照射路徑安置之一聚焦元件130(舉例而言，聚焦透鏡)。聚焦元件130可經組態以調整流向樣本102之表面之照射束之焦點，以控制點大小。除聚焦元件130之外或另一選擇係，可藉由沿著Z軸向上或向下致 動樣本102來控制點大小(及焦點)。在某些實施例中，載物台總成可進一步包含經組態以向上或向下移動樣本102至一選定Z位置之一致動器。可在一掃描期間調整點大小使得在樣本102之中心附近使用至少一第一(較大)點大小且一第二(較小)點大小用於掃描樣本102之外部部分，從而維持對整個樣本102之恰當覆蓋。此方法可單獨使用或與減慢樣本102之中心附近之自旋速率組合使用。在某些實施例中，旋轉致動器104經組態以當掃描樣本102之一中心部分時依據標稱自旋量變曲線減慢自旋速率以彌補歸因於間距誤差之SNR損失。

數種方法可用於匹配來自不同點之信號。在某些實施例中，運算系統122經組態以補償不同點之間的不同信號頻寬。信號頻寬之差異由於自旋軌道與點軌道之間的角度之一細微差異而上升。當接近於樣本102之中心時，此效應係較大的。因此，由運算系統122收集之具有一特定頻寬之信號可具有不同振幅，取決於信號來自哪個點。運算系統122可經組態以在處理中藉助一恰當放大因子或藉由利用不同頻寬濾波器處理來自不同點之信號來補償上述效應。

為恰當地偵測一缺陷，可需要依據圍繞缺陷之多個軌跡上之信號來重新構造峰值信號。鄰近軌跡通常與不同點相關聯。由於自旋軌道與點之間的角度稍有不同，因此在大多數情形中，在來自一給定缺陷之鄰近軌跡的信號之間存在一角度偏移。在某些實施例中，運算系統122進一步經組態以計及此角度偏移以恰當地重新構造峰值信號。

運算系統122可進一步經組態以根據以下技術中之一或多者匹配來自不同點之信號。在某些實施例中，運算系統122可經組態以量測每一點之峰值功率強度，並相應地規格化自各個點接收之信號。在某些實施例中，運算系統122可經組態以表徵每一點之束形狀。點之束形狀可稍有不同。因此，當來自每一點之一信號通過藉助一特定頻寬之資料擷取時，可由於信號頻寬與資料收集頻寬之間的失配而由一不 同比例因子調變該信號。運算系統122可經組態以藉由針對每一通道使用一各別匹配濾波器來解決該失配。因此，對信號振幅之調變對所有信號係相同的。在某些實施例中，運算系統122可經組態以量測離開一散射標準樣本之強度，並針對每一點調整偵測器之增益直至量測信號匹配。

依據多個取樣軌跡上之資料判定峰值信號可需要判定真實間距大小。可在運行時間期間計算間距大小。因此，可藉助藉由運算系統122執行之一恰當算法來計算歸因於點放置之判定性間距誤差。除了間距誤差外，可需要在算法中計及數個其他因素以實現大小準確性。可根據頻寬差異規格化樣本軌道上之信號。由於點放置在不同切向位置處，因此不同樣本軌跡上之照射點相對於線性速度之方向以不同角度粒子交叉。此差異取決於樣本102之表面上之照射的徑向位置。由運算系統122執行之信號匹配算法可減小缺陷檢查中之大小誤差。

樣本表面與照射點之間的束位置雜訊(BPN)亦可產生一定位誤差。對於一MS系統，此誤差需要被控制至一較嚴格位準(按比例調整1/n，其中n係雷射點之數目)。對於一給定自旋量變曲線及給定輸送率，機械間距p_m可係固定的。由於對於MS系統100，樣本間距係p=p_m/n，因此針對一給定輸送率，該取樣間距通常小於一單點系統中之取樣間距。因此，相同BPN導致樣本間距大小中之大得多的相對誤差。BPN之主要影響係增加經量測大小分佈之寬度。因此可丟失具有低於檢查臨限值之一所量測大小之某些缺陷。

影響檢查之BPN可由照射束與樣本位置之間的相對位移引起。在某些實施例中，運算系統122經組態以基於自缺陷之散射表徵BPN。舉例而言，運算系統122可經組態以偵測由於BPN而與束量變曲線之偏差。因此，在某些實施例中，運算系統122可經組態以判定並計及BPN。

圖6A及圖6B係圖解說明根據系統100檢查一樣本之一方法200之流程圖。然而應注意，可藉由除了關於系統100之上述實施例闡述之彼等構件之外的額外或替代性構件來完成方法200之一或多個步驟。因此，方法200應被視為涵蓋用於執行以下各項步驟之任何構件。此外，方法200可包含用於執行關於系統100闡述之各個功能之一或多個步驟。以下各項步驟對一實施例係說明性的且不意欲以任何方式係限制性的。

在步驟202處，用複數個點照射自旋樣本102之表面上。在某些實施例中，一照射束被分裂成複數個束以產生一選定點圖案(諸如(但不限於)，一切向或徑向間隔)。在步驟204處，在由複數個束正掃描樣本102時，一偵測器陣列120接收自所照射點反射、散射或輻射之照射。在步驟206處，處理由偵測器陣列120收集之掃描資料以基於由偵測器120自樣本102上之每一點接收之照射之部分判定樣本102之至少一個缺陷之資訊(諸如，位置、大小及/或分類)。在步驟208處，在掃描樣本102的同時(亦即，在步驟202至步驟206期間)可控制掃描間距、點大小、點分離及/或自旋速率以補償歸因於切向點分離之間距誤差。

在某些實施例中，步驟208包含沿著X軸以一或多個載物台速度致動樣本102以根據多個間距區控制掃描間距或基於照射束之點分離及傾角控制實質上連續可變掃描間距之子步驟210。在某些實施例中，步驟208包含藉由變焦來控制點分離及點大小以維持點分離與點大小之比低於一選定臨限值之子步驟212。在某些實施例中，步驟208包含當掃描樣本102之一中心部分時使樣本根據至少一第一(較低)自旋速率自旋且當掃描樣本102之一外部部分時使樣本根據第二(較高)自旋速率自旋之子步驟214。在某些實施例中，步驟208包含當掃描樣本102之一中心部分時以至少一第一(較大)點大小照射樣本102且當掃 描樣本102之一外部部分時以一第二(較小)點大小照射樣本102之步驟216。

熟習此項技術者將瞭解，存在本文中所闡述之程序及/或系統及/或其他技術可受其影響之各種載具(例如，硬體、軟體及/或韌體)，且較佳載具將隨其中部署程序及/或系統及/或其他技術之上下文而變化。實施諸如本文中所闡述之彼等方法之方法之程式指令可經由載體媒體傳輸或儲存於載體媒體上。一載體媒體可包含一傳輸媒體，諸如一電線、電纜或無線傳輸鏈路。該載體媒體亦可包含諸如一唯讀記憶體、一隨機存取記憶體、一磁碟或光碟或一磁帶之一儲存媒體。

本文中所闡述之所有方法可包含將方法實施例之一或多個步驟之結果儲存於一儲存媒體中。結果可包含本文中所闡述之結果中之任何者且可以此項技術中已知之任何方式儲存。儲存媒體可包含本文中所闡述之任何儲存媒體或此項技術中已知之任何其他適合儲存媒體。在已儲存了結果之後，該等結果可在該儲存媒體中存取且由本文中所闡述之方法或系統實施例中之任何者使用，經格式化以用於向一使用者顯示，由另一軟體模組、方法或系統等使用。此外，可「永久性地」、「半永久性地」、臨時性地或在某一時段內儲存結果。舉例而言，儲存媒體可係隨機存取記憶體(RAM)，且結果可不必無限期地存留於該儲存媒體中。

儘管已圖解說明本發明之特定實施例，但應明瞭，熟習此項技術者可在不背離上述揭示內容之範疇及精神之情況下作出對本發明之各種修改及實施例。因此，本發明之範疇應僅受隨附申請專利範圍限制。

100‧‧‧系統/MS系統

102‧‧‧樣本/自旋樣本

104‧‧‧旋轉致動器

106‧‧‧橫向致動器/線性致動器

108‧‧‧照射源

110‧‧‧點陣列產生器

112‧‧‧照射光學器件

114‧‧‧分束器

116‧‧‧光圈或傅裏葉濾波器

118‧‧‧成像透鏡

120‧‧‧偵測器陣列/偵測器

122‧‧‧運算系統

124‧‧‧載體媒體

126‧‧‧程式指令

Claims (28)

1. 一種用於檢查一樣本之系統，其包括：一載物台總成，其經組態以支撐一樣本，該載物台總成包含經組態以使該樣本自旋之至少一個旋轉致動器；至少一個照射源，其經組態以沿著一照射路徑提供照射至該樣本之一表面；一點陣列產生器，其沿著該照射路徑安置，該點陣列產生器經組態以根據一選定圖案引導照射之部分以用複數個點照射該樣本之該表面上；至少一個偵測器陣列，其經組態以接收自該樣本之該表面上之該複數個點反射、散射或輻射之照射；一運算系統，其與該至少一個偵測器陣列通信，該運算系統經組態以基於由該至少一個偵測器陣列接收之該照射判定與該樣本之至少一個缺陷相關聯之資訊，其中掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者係可控制的以補償歸因於切向點分離之間距誤差。
2. 如請求項1之系統，其中該載物台總成進一步包含組態以沿著至少一個軸致動該樣本，以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之該掃描間距的至少一個橫向致動器。
3. 如請求項2之系統，其中該至少一個橫向致動器經組態以：當照射該樣本之一第一部分時根據一第一掃描間距來致動該樣本；且當照射該樣本之一第二部分時根據一第二掃描間距來致動該樣本。
4. 如請求項2之系統，其中該至少一個橫向致動器經組態以基於被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之點分離及傾角根 據一實質上連續可變掃描間距來致動該樣本。
5. 如請求項4之系統，其中該實質上連續可變掃描間距係根據以下等式判定： 其中n係點之數目，m係一整數值，△係該點分離，且θ係該傾角。
6. 如請求項1之系統，其進一步包括：一變焦盒，其經組態以維持該點分離與該點大小之一比低於一選定臨限值。
7. 如請求項1之系統，其中該至少一個旋轉致動器經組態以控制該樣本之該自旋速率，其中該至少一個旋轉致動器經組態以當照射該樣本之一中心部分時使該樣本以一第一自旋速率自旋且當照射該樣本之一外部部分時使該樣本以一第二自旋速率自旋，其中該第一自旋速率低於該第二自旋速率。
8. 如請求項1之系統，其進一步包括：至少一個聚焦元件，其經組態以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之該點大小，其中該至少一個聚焦元件經組態以當照射該樣本之一中心部分時提供一第一點大小且當照射該樣本之一外部部分時提供一第二點大小，其中該第一點大小大於該第二點大小。
9. 如請求項1之系統，其中該點陣列產生器包含一繞射光學元件。
10. 如請求項9之系統，其進一步包括： 至少一個旋轉致動器，其耦合至該繞射光學元件，其中該至少一個旋轉致動器經組態以使該繞射光學元件旋轉，以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之掃面間距。
11. 一種用於檢查一樣本之系統，其包括：一載物台總成，其經組態以支撐一樣本，該載物台總成包含經組態以使該樣本自旋之至少一個旋轉致動器；至少一個照射源，其經組態以沿著一照射路徑提供照射至該樣本之一表面；一點陣列產生器，其沿著該照射路徑安置，該點陣列產生器經組態以根據一選定圖案引導照射之部分以用複數個點照射該樣本之該表面上；至少一個偵測器陣列，其經組態以接收自該樣本之該表面上之該複數個點反射、散射或輻射之照射；一運算系統，其與該至少一個偵測器陣列通信，該運算系統經組態以基於由該至少一個偵測器陣列接收之該照射判定與該樣本之至少一個缺陷相關聯之資訊，該載物台總成進一步包含經組態以沿著至少一個軸致動該樣本，以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之掃描間距之至少一個橫向致動器，該至少一個橫向致動器經組態以使跨該樣本之多個區域之該掃描間距變化以補償歸因於切向點分離之間距誤差。
12. 如請求項11之系統，其中該至少一個橫向致動器經組態以：當照射該樣本之一第一部分時根據一第一掃描間距來致動該樣本；且當照射該樣本之一第二部分時根據一第二掃描間距來致動該樣本。
13. 如請求項11之系統，其中該至少一個橫向致動器經組態以基於被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之點分離及傾角根 據一實質上連續可變掃描間距來致動該樣本。
14. 如請求項13之系統，其中該實質上連續可變掃描間距係根據以下等式判定： 其中n係點之數目，m係一整數值，△係該點分離，且θ係該傾角。
15. 如請求項11之系統，其進一步包括：一變焦盒，其經組態以維持點分離與點大小之一比低於一選定臨限值。
16. 如請求項11之系統，其中該至少一個旋轉致動器經組態以：當照射該樣本之一中心部分時使該樣本以一第一自旋速率自旋；且當照射該樣本之一外部部分時使該樣本以一第二自旋速率自旋，其中該第一自旋速率低於該第二自旋速率。
17. 如請求項11之系統，其進一步包括：至少一個聚焦元件，其經組態以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之點大小，該至少一個聚焦元件經組態以當照射該樣本之一中心部分時提供一第一點大小且當照射該樣本之一外部部分時提供一第二點大小，其中該第一點大小大於該第二點大小。
18. 如請求項11之系統，其中該點陣列產生器包含一繞射光學元件。
19. 如請求項18之系統，其進一步包括：至少一個旋轉致動器，其耦合至該繞射光學元件，其中該至 少一個旋轉致動器經組態以使該繞射光學元件旋轉，以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之掃面間距。
20. 一種檢查一樣本之方法，其包括：根據一選定圖案引導照射之部分以用複數個點照射一自旋樣本之一表面上；接收自該樣本之該表面上之該複數個點反射、散射或輻射之照射；基於自該樣本之該表面接收之該照射判定與該樣本之至少一個缺陷相關聯之資訊；及控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者以補償歸因於切向點分離之間距誤差。
21. 如請求項20之方法，其中控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者包含：沿著至少一個軸致動該樣本，以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之該掃描間距。
22. 如請求項21之方法，其包括：當照射該樣本之一第一部分時根據一第一掃描間距致動該樣本；及當照射該樣本之一第二部分時根據一第二掃描間距致動該樣本。
23. 如請求項21之方法，其包括：基於被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之點分離及傾角根據一實質上連續可變掃描間距來致動該樣本。
24. 如請求項23之方法，其中根據以下等式判定該實質上連續可變掃描間距： 其中n係點之數目，m係一整數值，△係該點分離，且θ係該傾角。
25. 如請求項20之方法，其中控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者包含：利用一變焦盒維持該點分離與該點大小之一比低於一選定臨限值。
26. 如請求項20之方法，其中控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者包含：當照射該樣本之一中心部分時使該樣本根據一第一自旋速率自旋；及當照射該樣本之一外部部分時使該樣本根據一第二自旋速率自旋，其中該第一自旋速率低於該第二自旋速率。
27. 如請求項20之方法，其中控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者包含：當照射該樣本之一中心部分時根據一第一點大小控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之該點大小；及當照射該樣本之一外部部分時根據一第二點大小控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之該點大小，其中該第一點大小大於該第二點大小。
28. 如請求項20之方法，其中控制掃描間距、點大小、點分離及自旋速率中之至少一者包含： 使一繞射光學元件旋轉，以控制被引導於該樣本之該表面處之照射之該等部分之掃描間距。