TW201428580A - 具有位置獨特光致發光指標之光學數位化器系統 - Google Patents

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Abstract

一種數位化器系統包括具有具有獨特地界定基板之局部區域的光致發光特徵之指標的一基板。諸如一觸控筆之一感測器器件可感測自該等特徵發射之輻射，且一控制器可自其判定該觸控筆相對於該基板之位置。

Description

具有位置獨特光致發光指標之光學數位化器系統
使用者日益要求超過僅辨識對觸敏器件之表面的觸碰的功能性。此等其他功能性包括手寫體辨識及直接記筆記(例如，使用觸控筆)。此等功能性通常提供於所謂之數位化系統中。
具有由觸控筆中之影像感測器偵測之位置相關指標的數位化系統在市場上可購得。Anoto AB集團出售偵測在獨特頁或卡片基板上印刷之指標的觸控筆。參考美國專利公開案第2010/0001962號(Doray)，該案描述包括具有上面包括位置圖案之觸碰面板的多觸碰顯示系統。
3‧‧‧刺激光
3a‧‧‧刺激光
5‧‧‧指標發射之光
5a‧‧‧指標產生之IR光
6‧‧‧指標發射之光
6a‧‧‧指標產生之IR光
7‧‧‧可見(白色)顯示光
8‧‧‧可見(白色)顯示光
9‧‧‧環境光
32‧‧‧鏡
33‧‧‧孔徑
34‧‧‧光源
35‧‧‧光源
36‧‧‧鏈路
41‧‧‧觸控筆本體
43‧‧‧濾光片
44‧‧‧觸控筆處理器
45‧‧‧影像感測器
46‧‧‧印刷電路板(PCB)
48‧‧‧透鏡
51‧‧‧探針
100‧‧‧觸控筆數位化器系統
101‧‧‧觸控筆數位化器系統
102‧‧‧觸控筆數位化器系統
103‧‧‧觸控筆數位化器系統
105‧‧‧顯示器
105A‧‧‧顯示器
107‧‧‧LCD/顯示器
108‧‧‧背光
109‧‧‧氣隙
112‧‧‧IR單元
113‧‧‧IR單元
114‧‧‧濾光片/可見光單元
115‧‧‧數位化器面板/濾光片/可見光單元
116‧‧‧覆層
117‧‧‧光學透明黏接層
118‧‧‧透射可見光之基板
119‧‧‧光致發光指標
119A‧‧‧指標
120‧‧‧觸控筆
120A‧‧‧觸控筆
121‧‧‧觸控筆
124‧‧‧鏈路
130‧‧‧電子控制器
135‧‧‧鏈路
145‧‧‧鏈路
146‧‧‧鏈路
156‧‧‧基板
158‧‧‧基板
159‧‧‧表面
167‧‧‧層
168‧‧‧指標印刷之基板
169‧‧‧表面
178‧‧‧基板
179‧‧‧指標
190‧‧‧指標
191‧‧‧第一指標波長範圍之點
192‧‧‧第二指標波長範圍之點
193‧‧‧具有來自第一及第二範圍之指標波長的點
195‧‧‧指標
196‧‧‧彩色濾光片
200‧‧‧基板/保護層/可見光透明基板
201‧‧‧光學透明黏接劑
202‧‧‧指標
203‧‧‧多層光學膜(MOF)
204‧‧‧面對器件黏接劑
205‧‧‧觸敏螢幕/器件
206‧‧‧層
結合隨附圖式考慮以下詳細描述可更完整地理解本文中描述之實施例，其中：
圖1a展示一數位化器及顯示系統。
圖1b展示一數位化器及顯示系統之另一實施例。
圖1c展示一數位化器及顯示系統之另一實施例。
圖1d展示缺少顯示系統之數位化器的一實施例。
圖2a展示先前技術位置獨特指標圖案之放大圖。
圖2b展示具有複數個波長組合之6×6位置獨特指標圖案之放大圖。
圖2c展示具有複數個波長組合之5×5位置獨特指標圖案之放大 圖。
圖2d展示可與具有複數個波長組合之位置獨特指標圖案結合使用的濾光片。
圖3a展示觸控筆之末端部分之橫截面。
圖3b展示雙源觸控筆之末端部分之橫截面。
圖4a展示數位化器及顯示系統之一部分的放大橫截面圖。
圖4b展示具有二向色反射器之數位化器及顯示系統之一部分的放大橫截面圖。
圖4c展示數位化器及顯示系統之一部分的放大橫截面圖。
圖4d展示數位化器及顯示系統之一部分的放大橫截面圖。
圖4e展示具有最小覆層之數位化器及顯示系統之一部分的放大橫截面圖。
圖4f展示具有操作於反射模式中之觸控筆的數位化器及顯示系統之一部分的放大橫截面圖。
圖5a展示一例示性產品結構。
圖5b展示一例示性產品結構。
圖5c展示一例示性產品結構。
圖5d展示一例示性產品結構。
圖5e展示一例示性產品結構。
圖5f展示一例示性產品結構。
在諸圖中，除非另有描述，否則相同參考數字指示相同元件。
本文中描述一種數位化器系統，其包括具有獨特地界定基板之X-Y區域之光致發光指標的基板，及具有感測指標且基於所感測指標判定筆相對於基板之位置的光學感測器的筆或觸控筆。特別適於本文中描述之實施例的指標之一圖案已藉由瑞典Anoto AB公司開發且可自 瑞典Anoto AB公司購得。Anoto公司提供以獨特地界定紙之圖案在紙上印刷小的不透明點的能力。一觸控筆(該等公司亦提供)接著用以感測在觸控筆視場內通過的圖案之部分。接著分析所感測之圖案並計算觸控筆相對於紙的位置。其他公司亦提供競爭性圖案，但所採用之概念係類似的。
在一些實施例中，光致發光指標之使用允許基板及指標對於人可見光係高度透光的，甚至達到幾乎透明之程度，使得其非常適於用作待置放於顯示器上的透明覆層。光致發光指標亦可用於非透光基板(包括不透明基板(諸如白板或紙))上。
在一些實施例中，光致發光指標亦可提供對來自基板之鏡面反射的改良處置。在本文中描述之一些實施例中，來自基板之鏡面反射(實際上，雜訊)可歸因於指標之光致發光品質而更易於被濾除。詳言之，在一些實施例中，因為光致發光指標在接收在第一波長範圍中之刺激電磁輻射(通常，呈紫外光(UV)、可見光或紅外光(IR)輻射形式)後，指標即刻發光，從而提供在不同於刺激範圍之一或多個波長範圍內之電磁輻射。與鏡面反射相關聯之信號將主要在與刺激輻射相關聯之波長範圍內，且因此可經濾除，藉此增加由感測器自發光指標接收之光的信雜比。
可基於基板之性質來選擇包含光致發光指標之材料，如稍後將更完整地描述。在一些實施例中，材料可包含可在市場購得之光致發光墨水，或量子點(QD)。光致發光材料經組態以展現光致發光，在一實施例中，由指標提供的此光致發光主要在紅外(IR)光波長中，且刺激輻射主要在短於與IR相關聯之波長的波長內。與由材料之發光提供的波長範圍相比，可在用以刺激指標的光波長範圍內存在某一重疊，但在一些實施例中，需要較少重疊。光致發光材料可透射可見光或對於可見光係透明的，且可安置於自身透射可見光或對於可見光係透明 的基板上。
圖1a展示觸控筆數位化器系統100，其包含觸控筆120、顯示器105、圖案化有光致發光指標之數位化器面板115，及經由鏈路135控制所顯示影像之電子控制器130。由各種微處理器及電路組成之控制器130經由鏈路135控制所顯示影像，或其可通信地耦接至控制所顯示影像之另一顯示特定控制器。顯示控制器130接收來自觸控筆120之與觸控筆120相對於數位化器面板115之位置相關聯的信號。控制器130亦可充當電腦系統(例如，攜帶型計算系統)之系統處理器。儘管控制器130在圖1中展示為一方框，但其可作為離散電子子系統(例如，用以與觸控筆120互動之第一子系統，及用以與顯示器105互動之第二子系統)而存在。觸控筆120藉由鏈路124與控制器130通信地耦接。鏈路124可為一束細導線，但更佳地，鏈路124為一無線射頻(RF)鏈路，且在此結構中，觸控筆120及控制器130包括用於來回通信或(視實施而定)單向通信之無線電。一實施例中之此等無線電實施BluetoothTM通信協定或由IEEE 802.11界定之協定。
觸控筆120具有可偵測在其視場(FOV)內的IR光之圖案的光學影像感測器。觸控筆120偵測自安置於數位化器面板115之上或之內的光致發光指標發射之光5。觸控筆120可提供呈刺激光3形式之刺激輻射以照射數位化器面板115上之指標。在其他實施例中，刺激輻射可來自並非位於觸控筆內之源的源(例如，LCD背光及環境光)。刺激光3具有一第一波長範圍；指標發射之光5(螢光)具有一第二波長範圍。在一實施例中，第一波長範圍與第二波長範圍不重疊。在另一實施例中，第一波長範圍與第二波長範圍最低限度地重疊，使得大多數刺激輻射能量在與大多數指標發射能量不同之波長處。在另一實施例中，第一波長範圍與第二波長範圍重疊，但對照在範圍內之波長的密度(能量)之分佈在第一波長範圍與第二波長範圍之間不同。在一些實施 例中，光5之第二波長範圍將包含可藉由觸控筆120中之光學影像感測器區別彼此的複數個波長組合。在大多數狀況下，指標為螢光性或磷光性，使得第一波長範圍將在短於第二波長範圍之波長處。第一波長範圍及第二波長範圍之寬度將基於光致發光指標之性質。第一波長範圍及/或第二波長範圍可超過與人視覺感測相關聯之波長範圍。
顯示器105可為任何類型之顯示器，包括(但不限於)電子可定址之顯示器，諸如液晶顯示器(LCD)、主動矩陣LCD(AMLCD)、有機發光二極體顯示器(OLED)、主動矩陣有機發光二極體顯示器(AMOLED)、電泳顯示器、投影顯示器、電漿顯示器，或印刷之靜態影像。在一些實施例中，顯示器105為可選的，此係因為可在其中數位化器面板115為不透明之應用中使用數位化器面板115。
在一實施例中，數位化器面板115為一透明基板，諸如玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)三乙酸纖維素(TAC)，或任何合適材料。其可為完全透光的、部分透光的，或不透明的。較佳地，其為高度透光的，以便允許人看見顯示器105之輸出。數位化器面板115可為一層，或可由各種材料之多層組成。數位化器面板115包括安置於其上或其內的在兩個維度上獨特地界定基板或基板之部分的光致發光指標。數位化器面板115可包含一個以上層。舉例而言，耐久層可用於頂面上。可包括抗反射(AR)層、抗眩光(AG)層、偏光層、濾色層、反光層或二向色光學層。可包括觸控螢幕電極或電阻表面，以及用以層壓面板115之各種層的黏接層。面板115可為剛性或可撓性的。
瑞典Anoto AB公司許可允許公司以墨水形式將不透明指標印刷於(例如)紙上的軟體。Anoto亦出售辨識指標且藉此判定筆相對於所印刷紙之X-Y座標的筆。
圖2a展示在實線矩形內之Anoto型指標，其包含在由虛線指示之 虛6×6矩陣上配置的在基板上之不透明點的圖案。矩陣之每一交叉點具有一點，且每一點經位置編碼成在交叉點之上方、下方、左邊或右邊之四個位置中之一者。此提供基於底為四之三十六位的編碼系統，所以指標之每4個某一組合可表示多至436個獨特碼。減少碼之排列以允許獨立編碼每一指標中之X及Y座標。排列亦由於允許判定部分表面之位置的冗餘性及偵測來自任一定向之碼序列的需要而減少。甚至在此等減少之情況下，Anoto指標亦可藉由大小小於2mm之位置獨特指標編碼極大區域，其中指標中之每一者獨特地界定基板之局部區域。
本文中描述之光致發光指標可使用與由Anoto使用之圖案相同的單色點圖案，或其他選項可係較佳的。舉例而言，透射可見光之光致發光材料可用以製造較大大小之仍具有最小光學可見度的特徵。較大點或其他特徵形狀可較易於印刷，且可使用具有較大光致發光粒子的材料，同時指標大小維持在小於2平方毫米。
發射不同波長之光的指標特徵提供額外編碼替代例。上文描述之底為四的編碼系統可以四個波長組合而非四象限點置放或四符號形狀而達成。圖2b中展示一實例，其中包含具有不同發射波長範圍之光致發光奈米粒子的點用以獨特地界定一指標190，其與其他指標一起可用以獨特地界定基板之局部區域。第一指標波長範圍可以850nM為中心，且第二指標波長範圍可以950nM為中心。指標可包含位於三十六個位置中之任一者中的點或其他形狀。每一可能點位置具有四個特徵中之一者：第一指標波長範圍之點191；第二指標波長範圍之點192；具有來自第一範圍及第二範圍之指標波長的點193；或沒有點。可使用其他波長組合，及其他特徵形狀或特徵形狀之組合。舉例而言，點之四位置編碼圖案亦可具有兩個波長範圍之點，使得在5×5指標中之每一位置具有八個可能碼，導致在5×5矩陣中之436個以上獨 特碼。
圖2c展示包含包含在複數個波長組合中發螢光之點的5×5陣列之指標195，該等波長組合獨特地界定基板之局部區域。陣列中之25個可能位置具有具有四個特徵中之一者的點：第一指標波長範圍之點191；第二指標波長範圍之點192；具有來自第一及第二範圍之指標波長的點193；或沒有點。如所示，該圖案經限制為在三個拐角處沒有點；除頂部、右邊及底部邊緣外之所有其他位置具有在至少一波長中發射之點。此圖案提供指標邊界及角定向之簡單辨識。給定0.3mm之特徵與特徵間隔，獨特指標之重複圖案可提供獨特地界定幾乎500,000平方米之基板面積之局部區域的圖案及波長組合。
圖2d展示將可見光之兩個波長範圍及IR光之兩個波長範圍傳遞至一影像偵測器(如可位於觸控筆內)的彩色濾光片196之細節，該影像偵測器具有基於來自該影像偵測器之信號解析位置的所耦接電子設備。此濾光片(或其類似者)可結合解析指標(諸如指標190及195)一起有利地使用。在其他實施例中，可需要不同濾光片，或不需要濾光片。濾光片196中之四個例示性彩色濾光片單元包含分別傳遞以850nM及950nM為中心之IR光的單元112及113。且可見光單元114及115分別傳遞以波長500nM及600nM為中心之光。IR單元112及113較佳地傳遞具有+/- 50nM之頻寬的光。可見光單元114及115較佳地傳遞具有+/- 100nM之頻寬的光。可使用其他彩色濾光片佈局。在一些實施例中，偵測單色可見影像，使得濾光片114及115兩者皆可偵測來自(例如)450nM至700nM之可見光可為足夠的。在一些實施例中，可無需可見影像偵測。
在美國專利第5,051,763號、第5,442,147號、第5,477,01號2、第5,852,434號、；第6,502,756號、第6,548,768號、第6,570,104號、第6,586,688號、第6,663,008號、第6,666,376號、第6,667,695號、第 6,689,966號、第6,722,574號及第7,622,182號中進一步描述基於各種圖案的指標及感測技術，該等案中之每一者以引用之方式全文併入本文中。Anoto僅為已開發基於位置獨特指標數位化器系統的一公司；熟習此項技術的技術人員將瞭解其他系統，且本文中描述之發明可應用於其中之許多者。
對於上覆於顯示器上操作的數位化器，產生在可見範圍外的指標發射光的指標可係較佳的。用於此等應用之指標較佳由提供在700nm與1000nm之間的波長處的發射之光致發光的任一合適材料形成。此等材料可易於得到，如IR濾光片及在此範圍內操作之光學感測器。舉例而言，日本濱松市(Hamamatsu City)之Hamamatsu Pthotonics出售對IR波長範圍敏感之若干電荷耦合器件(CCD)光學感測器。對於一些應用，其他波長範圍(諸如較長IR波長範圍)可係較佳的。
任何合適光致發光材料可用於指標。在一些實施例中，合適指標材料包含光致發光墨水。一些實例光致發光墨水及染料可自佛羅里達聖露西港之QCR解決方案公司(QCR Solutions Corp)購得(參見包括IRF820A及IRF940A之染料)。在另一實施例中，光致發光量子點可嵌入於載劑材料(諸如樹脂或液體)中以製成染料。在一些實施例中，量子點在曝露於在自UV至IR之較寬波長範圍上提供的刺激光時發螢光，對於許多其他螢光材料並非如此。因此，量子點可特別適於(例如)系統102(圖1c及圖4d)，在系統102中，量子點螢光材料可吸收來自白LCD背光的能量。其他螢光材料可能需要發射在其特定吸收範圍內之光的特定背光用於系統102。
存在廣泛多種在市場上可購得之量子點選項。可根據提供具有自紫外光(例如，由ZnSe組成之量子點)至可見光(例如，由CdSe組成之量子點)及至中IR(>2500nm)(例如，由PbSe組成)的多種波長之指標發射光來選擇量子點。提供在IR範圍內之指標發射光的量子點亦可由 PbS、PbSe或InAs製成。由PbS製成之具有自約2.7nm至4nm之直徑的量子點將提供在波長之近IR範圍內的指標發射光。具有InAs之核心及較高帶隙材料(例如，具有CdSe之無機鈍化殼的ZnSe或PbSe)之殼的量子點可具有改良之光致發光量子效率。具有ZnS殼之具有CdTeSe之核心的量子點可自加利福尼亞托蘭斯之奈米光學材料公司(Nano Optical Materials)購得。以硫甘油及二硫代甘油之組合穩定的量子點亦已經展示以改良發光波長隨時間之穩定性。量子點可自公司(包括奈米光學材料公司(Nano Optical Materials)、(亦係加利福尼亞托蘭斯的)NOM之母公司智能光學系統公司(Intelligent Optical Systems)，及紐約Troy之Evident Technologies)購得。Evident Technology銷售具有名稱「Snake Eye Red 900」的可調製成用於印刷之墨水的基於PbS之染料。紐約大島之生命技術公司(Life Technologies)及加利福尼亞帕羅奧多之Nanosys公司提供可印刷量子點溶液，例如含有量子點之防偽墨水。
如上文所提及，指標可印刷於任何合適基板上。可使用許多已知印刷製程，包括柔版印刷、凹版印刷、噴墨印刷或微接觸印刷。光致發光材料可均勻地分散於光學透明樹脂中，並使用諸如柔版印刷或凹版印刷之方法而沈積於一基板上。凹版印刷可較佳用於印刷較大光致發光粒子(諸如，IRF820A)。柔版印刷可在大量應用時具有成本優勢。當需要指標之定製圖案之較小量時，噴墨印刷可係較佳的。量子點之噴墨印刷在以下論文中加以描述：2010年，歐洲無機化學雜誌(European Journal of Inorganic Chemistry)，第242頁至247頁，Small,A.C.、Johnston,J.H.及Clark,N.之「Inkjet Printing of Water “Soluble”Doped ZnS Quantum Dots」。
在其中指標經印刷於上覆於顯示器上之基板上的實施例中，指標在薄層中之印刷通常係較佳的，此係因為光經由指標之折射可經最 小化。亦可藉由薄層而最大化透明度，且在一些狀況下螢光熄滅可減少。可使用微接觸印刷將光致發光QD印刷於單層中。QD之單層最大化對於可見光及IR波長之透明度。在如此做的情況下，可見光透射連同指標產生之IR光(圖4b、圖4d中之5a、6a)的反射一起被最大化。
可使用論文Direct Patterning of CdSe Quantum Dots into Sub-100nm Structures(Small,A.C.等人，歐洲無機化學雜誌(2010)：第242頁至247頁)及論文Fabrication and Luminescence of Designer Surface Patterns with β-Cyclodextrin Functionalized Quantum Dots via Multivalent Supramolecular Coupling(Dorokhin等人，材料研究與工程研究所(Institute of Materials Research and Engineering)，科技研究局(Agency for Science,Technology and Research)，ACS Nano(2010)，4(1)，第137頁至第142頁)中描述之微接觸印刷方法來印刷量子點之單層。此等論文中之後一者描述微接觸印刷發光CdSe/ZnS核-殼量子點之兩種方法。在兩種方法中，量子點皆係藉由以β-環糊精之表面配位體塗佈來功能化，該等表面配位體促進結合並穩定基於水的膠體懸浮液中之量子點。在兩種方法中，聚二甲基矽氧烷(PDMS)戳記用於微接觸印刷於玻璃基板上。在一方法中，基板係首先以金剛烷基封端樹狀體(adamantyl terminated dendrimeric)材料之圖案來微接觸印刷，接著經功能化量子點之膠體懸浮液暴露於經印刷基板，且量子點結合至印刷於基板上之材料。在第二方法中，經功能化量子點直接微接觸印刷於玻璃基板上之樹狀體層上。
視所需之光致發光圖案而定，微複製可用以製造具有所要圖案之負圖案(negative)的工具。該工具接著抵靠經均勻塗佈之聚合物層而按壓並固化以在聚合物固化基質中形成圖案之一致壓痕。此等壓痕可接著直接以與載劑摻合的或使用諸如凹版印刷之精確滾塗方法製成墨水的合適光致發光材料來填充，或藉由使用滾塗結合刮刀來自非凹 痕中之區域移除過多溶液而間接地填充。
圖案化基板之另一方式為使用利用光致發光墨水之直接熱印刷製程，使得墨水駐留於藉由熱印刷機構在(通常聚合)基板中形成的井中。此可具有可在(在一些實施例中)無需昂貴工具開發情況下提供定製圖案的迅速單步數位處理之添加的優點。
可視應用之性質而使用有機或無機染料或顏料來建立光致發光指標。有機染料(諸如，可自福羅里達哈倫代爾之Lumiprobe公司購得的CY7)提供若干益處，諸如高發光。然而，此等類型染料之斯托克斯頻移(Stokes shift)通常<50nm，且耐久性及耐光性常常低，從而使得其不適於一些應用。具有共軛鍵或芳香環之碳鏈通常存在於有機染料中，且有時與氮原子或硫原子相關聯。舉例而言，CY7由環己烷橋接之聚次甲基鏈組成。
無機染料、顏料、磷光體或其他發光材料(諸如早先提及之Snake Eye Red)提供另一解決方案。與有機染料相比，此等材料之斯托克斯頻移可歸因於吸收曲線之大頻寬而相對高。此等材料由陣列中之金屬陽離子與非金屬離子組成，諸如，於Snake Eye Red中之硫化鉛(PbS)。
現轉至圖1b，展示觸控筆數位化器系統101，其包含觸控筆120、圖案化有光致發光指標之數位化器面板115、顯示器105a，及接收來自觸控筆120之位置相關資訊且經由鏈路135控制所顯示影像的電子控制器130。顯示器105a發射或反射可見光，且顯示器105a至少部分地透射觸控筆發射之刺激光3及指標發射之光5。顯示器105A可為一透明OLED顯示器，或靜態印刷影像，或其他顯示器類型。
現轉至圖1c，展示觸控筆數位化器系統102，其包含觸控筆120、具有光致發光指標之數位化器面板115、LCD 107、背光108，及接收來自觸控筆120之位置相關資訊且經由鏈路145控制所顯示影像的電子 控制器130。觸控筆120偵測自數位化器面板115上之指標發射的光5之圖案。指標發射之光5較佳具有不同於自背光108發射的可見光之波長範圍。指標發射之光5較佳地具有包括充分長以使得其無關於LCD 107中之像素的接通/斷開狀態而穿透LCD 107的波長的波長範圍。舉例而言，950nm光無關於像素狀態而穿透多數LCD。數位化器面板115上之指標藉由來自背光108之刺激光而激發，使得觸控筆120上之指標刺激光源係可選的且不需要。
圖1d展示觸控筆數位化器系統103，其包含觸控筆120、具有光致發光指標之數位化器面板115，及電子控制器130。觸控筆120以刺激光3照射數位化器面板115上之指標並偵測指標發射光5。數位化器面板115可印刷有各種圖形，或其可呈現空白(例如，就空白紙片而言)，且可為不透明的。觸控筆120可與筆功能性(圖1d中未展示)組合。數位化器面板115可為一白板(例如，如用於教室中)，且標誌可併入觸控筆中，或數位化器面板可包含顯示投影於其上之螢幕。
圖3a展示觸控筆120之一部分的橫截面圖。觸控筆本體41含有可發射具有一第一波長範圍之刺激光3的可選光源34。具有第二波長範圍之指標發射之光5進入觸控筆120之尖端且通過濾光片43。濾光片43選擇性地通過指標發射光5的第二波長範圍之至少某一部分同時阻止第一波長範圍之光(由光源34發射)。舉例而言，指標可發射800nm至1200nm光且濾光片43可通過波長介於750nm至1200nm的光且阻止波長低於750nm的光。透鏡48聚焦指標發射之光5以通過孔徑33，接著自鏡32反射至影像感測器45上。透鏡48可由IR透明可見光阻止材料製成，使得透鏡48亦可執行濾光片43之濾光功能。
影像感測器45可為任何合適感測器。基於電荷耦合器件(CCD)及互補金氧半導體(CMOS)技術的感測器在成像之多個區域中可互換地使用，且可適於此應用。在一些實施例中，光5可具有獨特地界定基 板之局部區域的複數個波長組合。在此等實施例中，影像感測器45可進一步包括將光5之所選波長傳遞至一些像素及將不同波長傳遞至感測器45之其他像素的彩色濾光片。
影像感測器45藉由印刷電路板(PCB)46上之導體連接至觸控筆處理器44。光源34藉由鏈路36連接至PCB 46。觸控筆處理器44分別經由PCB 46上之導體且藉由鏈路36控制影像感測器45及光源34。另外，觸控筆處理器控制來自影像感測器45之影像資訊的收集並經由鏈路124(圖1a中所示)將此資訊傳達至處理器130。觸控筆120亦可包含諸如切換器及蓄電池(未圖示)之額外組件。觸控筆120亦可包含自觸控筆延伸的探針51，探針51為光學組件提供空間，且可在與數位化器之表面接觸後縮回，從而使某些觸控筆電子設備啟動。探針51可由固體塑膠或金屬製成，且其可含有用於藉由觸控筆120在表面上書寫的墨水。
光源34之波長範圍必須在刺激指標產生在一所要波長及亮度下之發光的範圍內。在一實例中，指標發射之光(發光)歸因於由在另一較短波長範圍中之光刺激而發螢光。在一些實施例中，刺激光及指標發射之光最低程度地為使用者可見可係較佳的。若光源34發射UV-A光(例如，在350nm與420nm之間)或若光源34發射近IR光(例如，在700nm與850nm之間)，則滿足此等準則。刺激光可改為(或另外)由其他組件(諸如，LCD面板中之背光或其他輻射源)產生。
除觸控筆120A(圖3b)具有一額外光源35外，觸控筆120A類似於觸控筆120。此光源可有利地用於需要感測光致發光指標及傳統反射指標兩者(傳統反射指標可自Anoto購得)的觸控筆實施例。舉例而言，在螢光模式中，處理器44可選擇光源34照射當曝露於給定波長範圍之輻射時發螢光的指標，且在反射模式中，處理器44可選擇源35來照射並照明未發螢光之指標。
現參看圖4a，光致發光指標119沈積於透射可見光之基板118之表面上。指標可藉由印刷光致發光材料之一薄層而沈積。舉例而言，螢光量子點可與可印刷媒體混合，並使用已知方法來印刷。印刷有指標之基板118接著經層壓至耐久覆層116，耐久覆層116可為將保護指標之玻璃、丙烯酸或任何合適透明工作表面。或者，指標可印刷於覆層116之底面上。
將基板118與覆層116結合的黏接劑117可為光學透明黏接劑(OCA)，諸如美國St Paul,MN之3M公司出售的彼等黏接劑。黏接劑117可由氣隙替代(假定指標119具有一環境保護塗層)，且氣隙109亦可以OCA來替代。
由觸控筆120發射之刺激光3及3a具有一第一波長範圍(例如，近UV-A或近IR)。未由指標119吸收之光3a通過基板118，且由下方之層吸收或反射。光3中之一些由指標119吸收，其使指標119在各種方向上(包括至包括光學感測電子設備(如較早描述的)之觸控筆外殼中)發射指標發射之光5。在此實施例中，指標發射之光5主要在第二波長範圍內，在此狀況下，指標發射之光5在IR範圍內。可見顯示光7及8係自顯示器105發射。照射指標119之某一顯示光8將通過指標。顯示光2中之一些亦可由指標119吸收且將引起螢光，從而產生光6。環境光9亦可使指標119中光致發光，從而產生指標發射之光6。
顯示器105展示為一平坦橫截面，但顯示器5可包括其他形狀。舉例而言，顯示器可包含一後投影器及一後投影面板。
除基板118由通過第一波長範圍之某一光同時反射第二波長範圍之光的二向色基板148替代外，圖4b展示與圖4a中之數位化器系統相同之數位化器系統，其中第一範圍之波長通常短於第二範圍之波長。舉例而言，基板148可為可見透明IR反射材料，諸如3M公司之多層光學膜(MOF)，其以結晶汽車膜及威望系列(Prestige Series)住宅窗膜為 名在市場上可購得。二向色反射基板148藉由重新導引原本將不會到達觸控筆120的第二波長範圍之指標產生光而增加系統之效率。3M之PR90EX膜可用於反射基板148。
圖4c展示數位化器及顯示系統102(參見圖1c)之一部分的放大橫截面圖。在此實施例中，指標刺激光藉由背光108提供。然而，在其他實施例中，觸控筆可額外地包括此另外輻射源。
若顯示器107為諸如(透明)OLED之發光顯示器，則可能不需要背光108。在(例如，結合LCD顯示器)使用可選背光108情況下，可見(白色)顯示光7及8可自可選顯示背光108發射。光7之未由指標119A吸收的一部分通過基板118、光學上透明之黏接層117並通過顯示器107之像素，以形成所顯示之影像。來自背光108之光可包含在可見光譜外的波長。舉例而言，近紅外(IR)光(700nm至1000nm)或近UV光(例如，350nm至400nm)可自背光發射以激勵基板118上之指標。此等波長中之一些可藉由在指標上方之層(例如，顯示器107之彩色濾光片，若107為LCD則其將為典型的)而濾除，使得光之此等波長之最小量可到達使用者。在名為「Infrared Display with Luminescent Quantum Dots」的美國專利申請案第2008/0246388號中描述包含由背光激勵的量子點之LCD顯示器。
圖4d展示數位化器及顯示系統103(參見圖1d)之一部分的放大橫截面圖。在此實施例中，觸控筆類似於參看圖4b描述之觸控筆，原因在於其包括一激勵指標之輻射源。此實施例展示白板型環境中之光致發光位置獨特指標的使用。透明覆層包括光致發光指標119及光學透明黏接層117以及基板156(此處，實質上透光，使得基板158之表面上的圖形經由包含基板156及OCA 117之堆疊可見)。基板156之表面159可以材料(諸如Tedlar®(可自DuPont購得)、聚丙烯，或與白板應用相容之其他表面)分層，或其可為抗刮擦、抗反射、抗眩光、偏光或彩 色濾光片層。基板156可包含複數個層。在此等實施例中，觸控筆120可包括與白板應用相容之墨水，使得使用者可在白板上書寫，同時觸控筆中之電子設備計算寫入之座標並將此等座標提供至電腦。
圖4e展示紙型環境中之光致發光指標的使用。光致發光指標119沈積於基板168之頂面上，基板168可為紙、卡片、PET、PEN、玻璃、丙烯酸，或支撐指標119之任何材料。指標119藉由印刷光致發光材料之薄層而沈積。舉例而言，螢光量子點(QD)可與可印刷媒體混合，且使用已知方法來印刷。指標印刷之基板168接著可以對於觸控筆發射刺激光3及指標發射光5而言為透明的可選層167來覆蓋。可視情況添加層167以保護指標。層167可為抗刮擦層、包含聚合物硬塗層之耐久層，或以矽石粒子填充之聚合物硬塗層，或諸如PET之材料薄片可經層壓至基板168。表面169可具有抗反射(AR)，及/或抗眩光(AG)性質。另外，基板168可印刷有可見靜態影像。雖然圖4e中所示之筆包括用以激勵觸控筆FOV內之指標的輻射源，但視應用而定，觸控筆可感測由其他構件(諸如環境光9)激勵之指標。在此狀況下，觸控筆將不必需要輻射源。
圖4f展示一些微不同之實施例，其中觸控筆121以反射模式感測指標。在此實施例中，觸控筆121提供由基板178反射但不由指標179反射或由指標179最小地反射之輻射源(類似於圖3a中之光源34)。指標179較佳包含IR吸收光致發光材料之一薄層；基板178較佳為IR反射材料；且觸控筆121中之感測器組件感測所反射之IR，但不感測指標發射之光。因此，此實施例提供指標之「負」影像，其在一些實施例中可係需要的。
圖4f中所示之實施例可經修改以使用觸控筆121A，其提供由基板178反射但不由指標179反射的輻射源(圖3a中所示之光源35)，在此實施例中，指標179將較佳包含IR吸收材料之薄層；光源35將提供在 IR頻寬中之光；基板178將較佳為IR反射材料；且觸控筆121中之感測器組件感測所反射之IR。此實施例可允許觸控筆取決於指標及兩個輻射源而實際上具有兩個操作模式：感測指標之發光的第一模式；及感測來自基板而非來自指標(或來自指標而非來自基板)之反射光的第二模式。
數位化器面板可以多種方式使用多種剛性或可撓性材料整合至一顯示器層疊中。圖5a中所示之一實施例包含一覆層，其中數位化器面板在售後應用中使用自濕潤黏接劑201附接至一器件205。此面板係藉由在基板200(在此狀況下PET)之一側形成光致發光指標202及以該黏接劑201覆蓋此等指標而建構。為附接面板，使用者將面板之黏接劑側置放於器件205上。為改良覆層之耐久性，硬塗層可添加至面板之面對使用者之側。
圖5b中所示之用於售後應用中之覆層的另一實施例將藉由首先將指標202印刷於多層光學膜(MOF)203上而建構，多層光學膜(MOF)203反射IR。在此結構中，面對器件之黏接劑204將置放於與指標相對的側上，此係因為來自光致發光染料之發射信號將不通過MOF 203。為進一步防止指標與使用者互動，保護層200(諸如PET)可使用黏接劑201黏接至MOF之頂部以覆蓋指標。
另一實施例為一墊層，其中數位化器面板附接至包括(但不限於)由3M Touch Systems提供之彼等產品(如表面電容技術(SCT)螢幕或投影電容技術(PCT)螢幕)的觸敏螢幕。圖5c展示此實施例，其中形成於透明基板200(諸如，PET或MOF)上之光致發光指標202以光學透明黏接劑201來覆蓋。接著將使用此項技術中已知的多種方法將此黏接劑附接至觸敏螢幕205之背面。如圖5d中所示之另一實施例係在已經建立之製程的開頭、中間或結尾處將光致發光指標202直接印刷至觸敏螢幕205上。
作為墊層解決方案，圖5e中所示之另一實施例專用於一分層觸碰感測器(諸如PCT螢幕)。在此實施例中，光致發光指標202安置於與該或該等組件相同之包括電極之矩陣的層206上，且接著螢幕可正常地整合至其他器件中。
圖5f中藉由在可見光透明基板200(其可包含諸如PET或MOF之材料)上形成光致發光指標202及使用此項技術中已知的多種方法將此黏接至覆蓋玻璃來展示又一選項，圖5f將數位化器面板展示為在觸敏螢幕205(在此狀況下，透射可見光之PCT螢幕)之覆蓋透鏡與包括電極之矩陣的層206之間的墊層。接著可使用此項技術中已知的方法(例如，藉由以光學透明黏接劑201來層壓)將所得堆疊黏接至數位化器面板。
實例
此實例描述可用以論證可在各種觸控筆角度下觀看之螢光指標的裝置。其由輻射源、螢光媒體及置放在合適濾光片之後的影像感測器組成。輻射源包含以20mA電流供電並以距基板約3cm距離置放之發光二極體(由加利福尼亞Irving之BIVAR公司供應的UVXTZ-400-15)，螢光染料經印刷於該基板上以形成位置獨特光致發光指標。二極體具有以約400nm為中心之頻譜發射。來自二極體之光入射於印刷螢光染料IRF820A上並引起光致發光發射。光致發光材料包含IRF820A，其自福羅里達聖露西港之QCR Solutions公司購得。光致發光材料以對於在700nm與1000nm之間的螢光具有以0.2例示之量子效率的粉末形式出現。
作為初始實驗，螢光粒子在室溫下分散於0.5%濃度下之OP2001亞光清漆樹脂中並使用牙籤手動地沈積於MOF之小樣本上。OP2001亞光清漆係自堪薩斯肖尼之Nazdar公司之UV Flexo Varnishes之系列購得。MOF基板包含由明尼蘇達聖保羅之3M公司製造的PR90EX。此特定MOF在可見光範圍內高透射，且超過850nm高度反射。光學濾光片 置放於進入用作觸控筆中之成像工具的CCD影像感測器的光之路徑中。光學濾光片為一長通濾光片，其包含由紐約Baldwin之Astra Products供應的Clarex NIR-75N。此濾光片抑制在750nm之下的光波長之透射。結果，使某一指標變暗的來自二極體之鏡面反射被大大抑制到達影像感測器，而由螢光染料發射之IR光藉由影像感測器偵測，從而導致基板上之位置獨特光致發光指標的清晰影像。
在另一實驗中，輻射源包含以20mA電流供電並以距基板約3cm距離置放之發光二極體(由加利福尼亞聖克拉拉之Marubeni America Corporation供應的L750-04AU)，螢光染料經印刷於該基板上以形成位置獨特光致發光指標。二極體具有以約750nm為中心之頻譜發射。來自二極體之光入射於印刷螢光染料EviDot Snake Eye上並引起光致發光發射。光致發光材料包含EviDot Snake Eye，其自紐約Troy之Evident Technologies公司購得。光致發光材料以對於在400nm與1000nm之間的螢光具有以0.3例示之量子效率的量子點之液體形式出現於甲苯中。作為一初始試驗，螢光粒子在室溫下分散於整體性1100D中並使用絲網印刷技術手動地沈積於PET之小樣本上。整體性1100D係藉由Evident Technologies自俄亥俄哥倫布之翰森特種化學品公司(Hexion Specialty Chemicals)購得。PET基板包含由佛吉尼亞切斯特之杜邦帝人薄膜公司(Dupont Teijin Films)製造的ST505。此特定PET為一透明熱穩定聚酯膜，其在兩側上經預先處理以用於改良之黏接。光學濾光片置放於進入用作觸控筆中之成像工具的CCD影像感測器之光之路徑中。光學濾光片為一長通濾光片，其包含由紐約Baldwin之Astra產品公司供應的Clarex NIR-85N。此濾光片抑制在850nm之下的光波長之透射。結果，使某一指標變暗的來自二極體之鏡面反射被大大抑制到達影像感測器，而由螢光染料發射之IR光藉由影像感測器偵測，從而導致基板上之位置獨特光致發光指標的清晰影像。此等結果 係在各種觸控筆角度下達成。
除非另外指示，否則表示用於說明書及申請專利範圍中之量、 性質之量測等的所有數目應理解為由術語「約」修飾。因此，除非相反地指示，否則說明書及申請專利範圍中闡述之數值參數為可視由熟習此項技術者利用本申請案之教示設法獲得的所要性質而改變的近似值。並非作為將等同原則之申請案限於申請專利範圍之範疇的嘗試，每一數值參數應至少依據所報告有效位之數目並藉由應用一般捨入技術來解釋。儘管闡述本發明之廣泛範疇的數值範圍及參數係近似值，但就在本文中描述之特定實例中闡述任何數值而言，任何數值儘可能相當精確地報告。然而，任何數值可適當地含有與測試或量測限制相關聯之誤差。
以下為本發明之項目：
項目1為一種數位化器系統，其包含：具有位置獨特光致發光指標之一基板，該位置獨特光致發光指標包含發射複數個波長組合之特徵之一圖案，該等波長組合獨特地界定該基板之局部區域；一觸控筆，其包含經組態以感測該光致發光指標之一光學影像感測器；一處理器，其經組態以接收來自該光學影像感測器之信號且基於該等所接收之信號而提供位置特定位置信號。
項目2為項目1之數位化器系統，其中該等波長組合獨特地界定該基板之局部區域。
項目3為項目1之數位化器系統，其中圖案特徵與該等波長組合之組合獨特地界定該基板之局部區域。
項目4為項目1之數位化器系統，其中特徵之該圖案為一重複圖案。
項目5為項目1之數位化器系統，其中該等特徵包含點。
項目6為項目1之數位化器系統，其中該等光致發光指標可透射可見光。
項目7為項目4之數位化器系統，其中該基板可透射可見光。
項目8為項目之數位化器系統，其進一步包含：一顯示器，其具有電子可定址像素。
項目9為項目5之數位化器系統，其中該電子可定址顯示器為一液晶顯示器、一電漿顯示器、一OLED顯示器，或一投影顯示器。
項目10為項目5之數位化器系統，其中該電子可定址顯示器對齊至該基板。
項目11為項目之數位化器系統，其中該基板安置於該電子可定址顯示器上，使得來自該顯示器之光透過該基板。
項目12為項目之數位化器系統，其中該基板安置於該顯示器之該等電子可定址像素之後。
項目13為項目1之數位化器系統，其中該光學影像感測器具有一視場，且該光學影像感測器感測在該視場內通過之光致發光指標。
項目14為項目1之數位化器系統，其中該光致發光指標在曝露至在一第一波長範圍內之輻射後即刻光致發光，且該數位化器系統進一步包含：一輻射源，其提供包括在該第一波長範圍內之至少一波長的輻射。
項目15為項目6之數位化器系統，其中該輻射源安置於該觸控筆內以提供輻射至對應於該光學影像感測器之視場之至少一部分的一區域。
項目16為項目6之數位化器系統，其中該輻射源係在具有電子可 定址像素之一顯示器內。
項目17為項目之數位化器系統，其中該電子可定址顯示器包括一背光，且其中該輻射源為該背光。
項目18為項目1之數位化器系統，其中該光致發光指標之至少一些特徵光致發光，從而提供在一第一指標波長範圍內之輻射。
項目19為項目之數位化器系統，其中該光致發光指標之至少一些特徵光致發光，從而提供在一第二指標波長範圍內之輻射。
項目20為項目之數位化器系統，其中該第一指標波長範圍與該第二指標波長範圍重疊。
項目21為項目之數位化器系統，其中該第一指標波長範圍不與該第二指標波長範圍重疊。
項目22為項目之數位化器系統，其中該第一波長範圍不與該第二波長範圍重疊。
項目23為項目之數位化器系統，其中該第二指標波長範圍包括長於該第一波長範圍中包括之波長的波長。
項目24為項目之數位化器系統，其中該第二波長範圍包括短於該第一波長範圍中包括之波長的波長。
項目25為項目1之數位化器系統，其中該光致發光指標發螢光。
項目26為項目之數位化器系統，其中該第一指標波長範圍由在約700nm與約2000nm之間的波長組成。
項目27為項目之數位化器系統，其中該光學影像感測器對該第一指標波長範圍及該第二指標波長範圍內之輻射敏感。
項目28為項目1之數位化器系統，其中該基板包含以下各物中之一者：聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酸纖維素 或玻璃。
項目29為項目1之數位化器系統，其中該光致發光指標之特徵由光致發光材料組成。
項目30為項目之數位化器系統，其中該光致發光材料包含量子點。
項目31為項目之數位化器系統，其中該光致發光材料包含無機奈米粒子。
項目32為項目之數位化器系統，其中該光致發光材料為無機的。
項目33為項目5之數位化器系統，其進一步包含通信地耦接至該處理器及該顯示器之該等電子可定址像素的一電腦，且其中該電腦接收位置特定位置信號且接著將信號提供至該顯示器之該等電子可定址像素，該等信號使該等電子可定址像素基於該等位置特定位置信號修改其狀態。
項目34為項目之數位化器系統，其中該觸控筆額外包含一或多個濾光片以將該第一指標波長範圍中之輻射的至少某一部分與該第二指標波長範圍內之輻射分開。
項目35為項目之數位化器系統，其中該濾光片將該第一指標波長範圍之輻射傳遞至該觸控筆光學影像感測器之像素，且將該第二指標波長範圍之輻射傳遞至該光學影像感測器之不同像素。
項目36為項目1之數位化器系統，其中該觸控筆額外包含一濾光片以選擇性地防止輻射之某些波長刺激該光學影像感測器之某些像素。
項目37為項目之數位化器系統，其中該濾光片可透射在與該指標之光致發光性質相關聯的波長之一範圍內的輻射。
項目38為項目之數位化器系統，其中該濾光片包含一信號處理演算法。
項目39為一種具有位置獨特光致發光指標之基板，該指標包含在複數個波長組合中發螢光的特徵之一圖案，該等波長組合獨特地界定該基板之局部區域。
項目40為項目8之數位化器系統，其中圖案特徵與該等波長組合之該組合獨特地界定該基板之局部區域。
項目41為項目8之數位化器系統，其中該圖案包含隔開之特徵，且其中該等特徵之間隔形成在該基板之局部區域上重複的一圖案。
項目42為項目8之數位化器系統，其中該等特徵包含點。
項目43為項目8之數位化器系統，其中該等光致發光指標可透射可見光。
項目44為項目9之數位化器系統，其中該基板可透射可見光。
項目45為項目8之數位化器系統，其中該光致發光之特徵在曝露至在一第一波長範圍內之輻射後即刻光致發光。
項目46為項目8之數位化器系統，其中該光致發光指標之至少一些特徵光致發光，從而提供在一第一指標波長範圍內之輻射。
項目47為項目之數位化器系統，其中該光致發光指標之至少一些特徵光致發光，從而提供在一第二指標波長範圍內之輻射。
項目48為項目之數位化器系統，其中該第一指標波長範圍與該第二指標波長範圍重疊。
項目49為項目之數位化器系統，其中該第一指標波長範圍不與該第二指標波長範圍重疊。
項目50為項目之數位化器系統，其中該第一波長範圍不與該第 二波長範圍重疊。
項目51為項目之數位化器系統，其中該第二指標波長範圍包括長於該第一波長範圍內包括之波長的波長。
項目52為項目之數位化器系統，其中該第二波長範圍包括短於該第一波長範圍內包括之波長的波長。
項目53為項目8之數位化器系統，其中該光致發光指標之該等特徵發螢光。
項目54為項目之數位化器系統，其中該第一指標波長範圍由在約700nm與約2000nm之間的波長組成。
項目55為項目8之數位化器系統，其中該基板包含以下各物中之一者：聚對苯二甲酸乙二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯、三乙酸纖維素或玻璃。
項目56為項目8之數位化器系統，其中該光致發光指標之特徵由光致發光材料組成。
項目57為項目之數位化器系統，其中該光致發光材料包含量子點。
項目58為項目之數位化器系統，其中該光致發光材料包含無機奈米粒子。
項目59為項目之數位化器系統，其中該光致發光材料為無機的。
在不偏離本發明之精神及範疇情況下，熟習此項技術者將顯而易見本發明之各種修改及替代，且應理解，本發明不限於本文中闡述之說明性實施例。舉例而言，讀者應假定除非另有指示，否則一項所揭示之實施例的特徵亦可應用於所有其他所揭示之實施例。亦應理解，本文中引用的所有美國專利、專利申請公開案及其他專利及非專利文件以引用之方式併入，而不與前述揭示內容矛盾。
3‧‧‧刺激光
5‧‧‧指標發射之光
100‧‧‧觸控筆數位化器系統
105‧‧‧顯示器
115‧‧‧數位化器面板
120‧‧‧觸控筆
124‧‧‧鏈路
130‧‧‧電子控制器
135‧‧‧鏈路

Claims (10)

  1. 一種數位化器系統，其包含：具有位置獨特光致發光指標之一基板，該位置獨特光致發光指標包含發射複數個波長組合之特徵之一圖案，該等波長組合獨特地界定該基板之局部區域；一觸控筆，其包含經組態以感測該光致發光指標之一光學影像感測器；一處理器，其組態以接收來自該光學影像感測器之信號且基於該等所接收之信號而提供位置特定位置信號。
  2. 如請求項1之數位化器系統，其中該等波長組合獨特地界定該基板之局部區域。
  3. 如請求項1之數位化器系統，其中圖案特徵與該等波長組合之組合獨特地界定該基板之局部區域。
  4. 如請求項1之數位化器系統，其中該等光致發光指標可透射可見光。
  5. 如請求項1之數位化器系統，其進一步包含：一顯示器，其具有電子可定址像素。
  6. 如請求項1之數位化器系統，其中該光致發光指標之特徵在曝露至在一第一波長範圍內之輻射後即刻光致發光，且該數位化器系統進一步包含：一輻射源，其提供包括在該第一波長範圍內之至少一波長的輻射。
  7. 如請求項5之數位化器系統，其進一步包含通信地耦接至該處理器及該顯示器之該等電子可定址像素的一電腦，且其中該電腦接收位置特定位置信號且接著將信號提供至該顯示器之該等電 子可定址像素，該等信號使該等電子可定址像素基於該等位置特定位置信號修改其狀態。
  8. 一種具有位置獨特光致發光指標之基板，該指標包含在複數個波長組合中發螢光的特徵之一圖案，該等波長組合獨特地界定該基板之局部區域。
  9. 如請求項8之數位化器系統，其中該等光致發光指標可透射可見光。
  10. 如請求項8之數位化器系統，其中該等光致發光指標之該等特徵發螢光。
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