TW201406325A - 高勁度、防滑洗滌刷組件,高勁度心軸,子組件及組合方法 - Google Patents

高勁度、防滑洗滌刷組件,高勁度心軸,子組件及組合方法 Download PDF

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Abstract

在一個態樣中,本發明提供一種洗滌刷組件。洗滌刷組件包括:洗滌刷,該洗滌刷具有開孔泡沫之主體,該主體包括內表面;套筒,該套筒經收納與洗滌刷接觸,套筒包括周邊間隔的縱向壁及加強段,該等加強段將縱向壁中之相鄰壁互連且沿著長度形成細長凹穴,套筒具有沿著該長度延伸之凸起肋件;及心軸,該心軸具有形成於外表面上之凹處,心軸藉由在凹處內部收納凸起肋件來耦接至套筒。如眾多其他態樣,本發明提供多種洗滌刷子組件、高勁度心軸及組合方法。

Description

高勁度、防滑洗滌刷組件,高勁度心軸,子組件及組合方法 【相關申請案】
本申請案主張於2012年4月26日提出申請之標題為「HIGH STIFFNESS,ANTI-SLIP SCRUBBER BRUSH ASSEMBLY,HIGH-STIFFNESS MANDREL,SUBASSEMBLIES,AND ASSEMBLY METHODS」之美國專利申請案第13/456,796號(代理人案號:16709)之優先權,該申請案為了所有目的在此以引用之方式全部併入本文中。
本發明大體上係關於半導體元件製造,且更特定言之,本發明係關於適用於清洗基板之洗滌刷及洗滌刷組件。
洗滌刷組件可用於清洗基板,該洗滌刷組件包括安裝於心軸上之洗滌刷子組件。例如,洗滌刷組件可在諸如基板化學及機械清洗系統中之基板處理系統中使用,以在基板處理期間清洗及/或洗滌基板之主表面。此外,洗滌刷組件 可用於其他基板處理系統。
為了組合習知洗滌刷組件以用於基板處理系統,將包括洗滌刷及套筒之洗滌刷子組件安裝(例如,滑動)於心軸上。洗滌刷子組件可包括具有凸起肋件之套筒,該等凸起肋件收納於在心軸上形成之凹槽內。提供洗滌刷組件之此凸起肋件/凹槽佈置之目的在於最小化介於洗滌刷與心軸之間的滑移。儘管該等洗滌刷組件在一些清洗及/或洗滌情況中可能為有效的,但已發現該等洗滌刷組件在其他情況下存在功能性缺陷。因此,需要改良之洗滌刷子組件及洗滌刷組件。
在本發明之第一態樣中,提供一種組合洗滌刷組件之方法。該方法包括以下步驟:提供洗滌刷子組件,該洗滌刷子組件具有模製泡沫之洗滌刷主體及套筒,該洗滌刷主體具有內表面,該套筒具有經收納與內表面接觸之外表面,套筒包括沿著套筒的長度延伸之複數個周邊間隔的縱向壁,及沿著該長度提供的加強段,該等加強段將周邊間隔的縱向壁中之相鄰壁互連,套筒具有帶有凸起肋件之安裝通道;提供具有心軸主體之心軸,該心軸具有形成於外表面上之凹處;及將心軸插入安裝通道內,且在凹處內部收納凸起肋件以形成洗滌刷組件。
在本發明之另一態樣中,提供一種洗滌刷組件。該洗滌刷組件包括:洗滌刷,洗滌刷具有開孔泡沫之洗滌刷主體,該洗滌刷主體包括內表面;套筒,該套筒具有經收納與內表面接觸之外表面,套筒包括沿著套筒的長度延伸之周 邊間隔的縱向壁,及沿著套筒長度提供的加強段,該等加強段將周邊間隔的縱向壁之相鄰者互連且形成細長凹穴,套筒具有沿著該長度延伸之凸起肋件;及心軸,該心軸具有形成於心軸外表面上之凹處,該心軸藉由在凹處內部收納凸起肋件來耦接至凸起肋件。
在另一態樣中,本發明提供一種洗滌刷子組件。洗滌刷子組件包括:模製開孔泡沫之洗滌刷主體,該洗滌刷主體具有內表面;及套筒,該套筒具有經收納與內表面接觸之外表面,套筒包括沿著套筒的長度延伸之複數個周邊間隔的縱向壁,及沿著該長度提供的加強段,且該等加強段將周邊間隔的縱向壁中之相鄰壁互連以形成細長凹穴,套筒包括具有凸起肋件之安裝通道,該等凸起肋件沿著長度延伸。
在另一態樣中,本發明提供一種洗滌刷心軸。洗滌刷心軸包括:心軸主體,該心軸主體具有中心軸及形成於心軸外表面上之凹處,凹處縱向地延伸,且經設置及調適以收納洗滌刷子組件之凸起肋件;及至少一個加強構件,該至少一個加強構件收納於心軸主體內且自中心軸偏移。
本發明之其他特徵及態樣將自以下示範性實施例之詳細描述、附加申請專利範圍及隨附圖式而變得更加顯而易見。
100‧‧‧洗滌刷組件
100SA‧‧‧洗滌刷子組件
101‧‧‧洗滌刷
102‧‧‧套筒
103‧‧‧洗滌刷主體
104‧‧‧外表面
105‧‧‧模製外表面特徵
106‧‧‧圓柱面
107A‧‧‧第一端部
107B‧‧‧第二端部
108‧‧‧內表面
110‧‧‧安裝通道
112‧‧‧凸起肋件
214‧‧‧外表面
215‧‧‧縱向軸/中心軸
216‧‧‧縱向壁
217‧‧‧端部段
218‧‧‧加強段
220‧‧‧細長凹穴
221‧‧‧摩擦增強孔
222‧‧‧孔
324‧‧‧心軸
325‧‧‧心軸主體
325A‧‧‧中心軸
326‧‧‧凹處
328‧‧‧外表面
330‧‧‧加強構件
332‧‧‧凹穴
333‧‧‧間隔物
334‧‧‧中央液體通道
336‧‧‧液體供給口
338‧‧‧耦接-收納特徵
400‧‧‧組件
540‧‧‧聯結件
545‧‧‧支撐構件/支撐聯結件
700‧‧‧方法
702‧‧‧步驟
704‧‧‧步驟
706‧‧‧步驟
第1A圖圖示根據實施例之洗滌刷組件之等角視圖。
第1B圖圖示根據實施例之洗滌刷子組件之端部 平視圖。
第2A圖圖示根據實施例之加強洗滌刷套筒之等角視圖。
第2B圖圖示根據實施例之洗滌刷套筒之等角端視圖,圖示出沿著套筒長度延伸之凸起肋件。
第2C圖圖示根據實施例之洗滌刷套筒之端視圖,圖示出凸起肋件。
第2D圖圖示根據實施例之洗滌刷套筒之局部放大側視圖,圖示出細長凹穴及摩擦增強孔。
第3A圖圖示根據實施例之心軸之等角視圖。
第3B圖圖示根據實施例之沿第3A圖之剖面線3B-3B獲取之心軸之放大橫截面剖視圖。
第3C圖圖示根據實施例之沿第3B圖之剖面線3C-3C獲取之心軸的橫截面側視圖。
第3D圖圖示根據實施例之沿第3B圖之剖面線3D-3D獲取之心軸的橫截面側視圖。
第4圖圖示根據實施例之具有收納於心軸上的套筒之心軸組件的等角視圖。
第5A圖圖示根據實施例之洗滌刷組件之端部平視圖。
第5B圖圖示根據實施例之沿第5A圖之剖面線5B-5B獲取之洗滌刷組件的橫截面側視圖。
第5C圖圖示根據實施例之沿第5B圖之剖面線5C-5C獲取之洗滌刷組件的橫截面端視圖。
第5D圖圖示根據實施例之沿第5C圖之剖面線5D-5D之洗滌刷組件的橫截面側視圖。
第6A圖圖示根據實施例之耦接至驅動聯結器的洗滌刷組件端部之局部橫截面側視圖。
第6B圖圖示根據實施例之耦接至間隔物的洗滌刷組件端部之局部橫截面側視圖。
第7圖圖示根據實施例組合洗滌刷組件之方法的流程圖。
本發明提供一種洗滌刷組件,該洗滌刷組件包括收納套筒之內表面,該套筒具有凸起肋件,該等凸起肋件經調適以耦接(例如,鎖定)於心軸之凹處(例如,凹槽)。心軸收納於套筒內且與凸起肋件介面連接,以便形成洗滌刷組件,該洗滌刷組件可用於清洗基板且最小化套筒與心軸之間的相對旋轉(例如,旋轉滑移)。例如,洗滌刷組件可在諸如基板清洗系統之基板處理系統中使用,以便在基板處理期間洗滌及/或清洗基板之主表面。進一步地,洗滌刷組件可用於其他基板處理系統。
某些先前技術之洗滌刷已包括光滑的圓柱形內表面,該圓柱形內表面具有收納在該內表面中之套筒。大體而言,由於不可允許使用黏合劑,因為黏合劑中的該等化學品可能污染用於洗滌/清洗操作之液體,已使用在洗滌刷與套筒之間的機械鎖定,以限制洗滌刷與套筒之間的相對旋轉。然而,發明者已發現,當習知系統用於相對較大基板上之清 洗操作時,此光滑表面可具有繞心軸旋轉之傾向,此傾向係因為在刷子與藉由洗滌刷洗滌之相對較大的基板表面之間的摩擦力增加。當正在處理大於300mm之基板(諸如450mm或以上之彼等基板)時尤其如此。此外,增加以容納更長的洗滌刷之心軸長度亦引起彎曲問題,該彎曲問題加重套筒相對於洗滌刷之滑移。
為了克服先前技術組件之一或更多個問題,本發明之設備及組件實施例提供心軸與洗滌刷之間增加的機械嚙合。詳言之,在一個態樣中,洗滌刷子組件包括經改良之套筒抗彎勁度及套筒與洗滌刷之間的機械嚙合,此改良係藉由提供具有經收納與洗滌刷之內表面接觸的外表面之套筒而實現,其中套筒包括沿套筒長度延伸之複數個周邊間隔的縱向壁,及沿著該長度提供且將縱向壁之相鄰者互連以形成細長凹穴的加強段。加強段可以環箍之形式沿著套筒長度佈置,且加強段可增加套筒之抗彎勁度大約30%或更多。洗滌刷之內部泡沫表面與套筒之間的摩擦嚙合藉由提供細長凹穴,以及藉由增加摩擦增強孔改良,該等孔沿著複數個周邊間隔的縱向壁之長度形成。
在另一態樣中,顯著地加強經調適以收納於洗滌刷子組件內之洗滌刷心軸的勁度。因此,使用中之心軸彎曲可最小化,尤其當正在洗滌及/或清洗450mm或更大的大基板時。心軸勁度藉由提供心軸主體來增加,心軸主體具有至少一個加強構件,該加強構件自收納於心軸主體內之中心軸偏移。在一或更多個實施例中,心軸包含複數個加強構件, 諸如收納於形成在心軸主體中之凹穴內之圓棒,該複數個加強構件自中心軸偏移及圍繞中心軸佈置。為了進一步改良抗彎勁度,心軸主體可包含聚醚醚酮(Polyetheretherketone;PEEK)材料。
因此,即使當洗滌及/或清洗大基板時,洗滌刷亦可相對於套筒機械地鎖定到位(例如,以便防止洗滌刷相對於套筒旋轉)。進一步地,可最小化心軸、洗滌刷子組件及洗滌刷組件之彎曲。因此,較長之洗滌刷可用以處理較大之基板。以下將參看第1圖至第7圖描述本發明之實施例之該等及其他態樣。
第1A圖及第1B圖圖示洗滌刷組件100之等角視圖(第1A圖)及洗滌刷子組件100SA之端視圖(第1B圖)。洗滌刷組件100包含洗滌刷子組件100SA,該洗滌刷子組件100SA安裝至心軸324(第3A圖)。洗滌刷子組件100SA包括洗滌刷101及套筒102(第1B圖)。根據本發明之一或更多個實施例,套筒102經收納於洗滌刷101內且心軸324(第3A圖至第3B圖)經收納於套筒102內。洗滌刷101在形狀上可大體上為圓柱形且洗滌刷101具有洗滌刷主體103,洗滌刷主體103具有可造型化之外表面104。造型化外表面104可包括很多模製外表面特徵105,諸如自洗滌刷主體103之圓柱面106呈徑向凸出之圓柱形節結(nodule)。實質上可沿著洗滌刷101之整個長度L自該洗滌刷之第一端部107A至第二端部107B提供模製外表面特徵105。模製外表面特徵105可以諸如交錯列之任何適宜圖案提供,其中相鄰列之節結可在相 鄰列中彼此縱向偏移。可使用其他外表面形狀、節結形狀及/或節結圖案。或者,在其他實施例中,洗滌刷101之外表面104可包括光滑幾何形狀且洗滌刷101之外表面104可無該等節結。
洗滌刷101之整個洗滌刷主體103可例如由彈性且多孔泡沫材料製成,該材料可具有海綿狀性質。例如,泡沫材料可包含開孔泡沫,諸如開孔聚氨酯泡沫材料。可使用其他及/或不同的開孔泡沫材料,諸如聚乙酸乙烯酯(polyvinyl acetate;PVA)或聚丙烯。
洗滌刷101可包括諸如圓柱形內表面之內表面108,套筒102收納入該內表面中。在本發明之一或更多個實施例中,套筒102可包含一或更多個凸起肋件112,該一或更多個凸起肋件112經設置及調適以直接耦接至且收納於凹處326中,凹處326形成於心軸324之外表面中(第3A圖至第3B圖)。在圖示之實施例中,顯示出複數個凸起肋件112。然而,可使用兩個或兩個以上、三個或三個以上、四個或四個以上,乃至五個或五個以上之凸起肋件112。亦可使用其他數目之凸起肋件。
如第1B圖所示,凸起肋件112可具有高度H,該高度H如自套筒102之外表面至凸起肋件112之最內部表面量測且大於約1mm,且在一些實施例中,該高度H介於約1mm與約2mm之間。凸起肋件112之寬度W可大於約4mm,且在一些實施例中,凸起肋件112之寬度W可介於約4mm與約5.5mm之間。可使用其他高度H及寬度W尺寸。凸 起肋件112可包括諸如第1B圖所示之三個側面。三個側面之至少某個部分可收納入心軸324之凹處326內(第3A圖至第3B圖)。可使用凸起肋件112的其他適宜形狀。例如,側面可為錐形或傾斜。
套筒102及凸起肋件112可由適宜的剛性材料製成。例如,套管102及該套管102之凸起肋件112可包含聚醚醚酮(PEEK)材料。可使用其他適宜的剛性材料。套筒102形成安裝通道110,心軸324(第3A圖至第3B圖)可收納於安裝通道110中。
詳言之,包括內表面108之洗滌刷101可藉由滑動及/或使用漏斗工具收納套筒102於該內表面108中。套筒102可視情況利用模具提供,且洗滌刷101可形成(預模製)至套筒102上。在模製泡沫之洗滌刷主體103經收納在套筒102內之後,該洗滌刷主體103變得機械鎖定於套筒102之外表面214(第2A圖至第2D圖),以避免旋轉或將旋轉最小化,如將自下文顯而易見。在兩個實例中,心軸324藉由將凸起肋件112直接耦接(例如,收納)於形成在心軸324內之凹處326中而耦接至洗滌刷子組件100SA。
根據本發明實施例之態樣,套筒102之設置已經改良以提供彎曲時相對較高之勁度。詳言之,如第2A圖至第2D圖所示,套筒102包括外表面214,該外表面214可為圓柱形且經收納與包含泡沫(例如,開孔泡沫)之洗滌刷101之內表面108接觸。套筒102包括周邊間隔的縱向壁216,該等周邊間隔的縱向壁216圍繞沿著套筒102之實體中心延伸 之縱向軸215佈置。周邊間隔的縱向壁216沿著縱向軸215延伸,且周邊間隔的縱向壁216可包含三個或三個以上、四個或四個以上,或者五個或五個以上之數目。可使用其他數目之縱向壁216。
在一或更多個實施例中,縱向壁216可圍繞套筒102之徑向圓周均勻地間隔。互連周邊間隔的縱向壁216中之相鄰壁為端部段217,端部段217位於套筒102之端部處或接近該端部。互連周邊間隔的縱向壁216中之相鄰壁亦為一或更多個加強段218,一或更多個加強段218位於端部段217之間。在圖示之實施例中,複數個加強段218沿著套筒102之縱向長度提供,且以同一種方式提供,以便形成環箍(亦即,沿著套筒102在相同的縱向位置處佈置)。例如,可提供一或更多個、兩個或兩個以上、三個或三個以上、四個或四個以上,或者五個或五個以上之加強段218。在圖示之實施例中,提供了六個加強段218,該六個加強段218將周邊間隔的縱向壁216中之相鄰壁互連且沿著套筒102之長度形成六個加強環箍。可使用其他數目及佈置之加強段218。加強段218實質上增加了套筒102之抗彎勁度。因此,諸如當洗滌大基板(例如,直徑為450mm或以上之基板)時,可在洗滌刷之中心無明顯偏轉之情況下容納相對較長之洗滌刷101。
加強段218將周邊間隔的縱向壁216之相鄰者互連,且加強段218亦於套筒102內形成細長凹穴220。細長凹穴220在形狀上可通常為矩形。在一或更多個實施例中,細長凹穴220可具有沿著中心軸215之大於凹穴220之寬度的 長度。細長凹穴220之功能為嚙合洗滌刷101之內表面108。因此,細長凹穴220之功能為限制洗滌刷101與套筒102之間的相對旋轉及軸向運動。如上所述,套筒102亦包括安裝通道110,該安裝通道110具有沿著縱向長度延伸之凸起肋件112。
在第2A圖至第2D圖圖示之實施例中,凸起肋件112沿著實質上套筒102之整個長度縱向地延伸。在圖示之實施例中,凸起肋件112經定向使得該等凸起肋件112沿著周邊間隔的縱向壁216之內部延伸,且可大略集中在縱向壁216上。然而,可使用在套筒102上之其他位置的凸起肋件112。套筒102可為與洗滌刷101近似相同之長度。為了進一步固持套筒102與洗滌刷101之間的相對旋轉,可在套筒102之外表面214上提供進一步的摩擦增強特徵。例如,摩擦增強孔221可形成於周邊間隔的縱向壁216內。摩擦增強孔221可經佈置成一列,且大體上沿著套筒102之長度均勻地間隔。細長凹穴220及摩擦增強孔221操作以與洗滌刷101之內表面108嚙合。
現將參看第3A圖至第3D圖,該等圖式描述了洗滌刷組件100(第1圖及第5A圖至第5D圖)之心軸324。如本文所述之心軸324顯示出增加的抗彎勁度,且因此心軸324可容納相對較長之洗滌刷101。心軸324可直接插入套筒102之安裝通道110,且套筒102之凸起肋件112可收納於且直接耦接至形成於心軸324內之複數個凹處326內部,以便在基板處理期間形成具有實用性之洗滌刷組件100。
更詳細而言,心軸324包括心軸主體325,該心軸主體325可具有大體上圓柱形形狀。中心軸325A沿著心軸324之中心延伸。複數個凹處326可包含正方形底部凹槽且複數個凹處326形成於心軸324之外表面328上。凹處326較佳地沿著心軸324之整個長度縱向地延伸,。凹處326之數目可等於套筒102上凸起肋件112之數目。凹處326可具有一種形狀,該形狀與套筒102上之凸起肋件112之形狀接近匹配,但是凹處326之形狀可比凸起肋件112略大,以便允許洗滌刷子組件100SA至心軸324上之簡易組合。
在描述之實施例中,為了提供增強的抗彎勁度,在心軸主體325內提供至少一個加強構件330。加強構件330可自中心軸325A偏移及收納於形成在心軸主體325內的凹穴332(第3D圖)中。加強構件330之數目可包括兩個、三個、四個或更多個。較佳地,加強構件330可以等間隔之定向提供,且加強構件330可自中心軸325A徑向等距離提供。如第3D圖所示,加強構件330可包含棒或中空棒,該等棒或中空棒可沿著心軸長度延伸且可近似平行於中心軸325A。加強構件330可包含具有比心軸主體325相對較高之彈性模數(例如,勁度)的材料。例如,心軸主體325可包含聚醚醚酮(Polyetheretherketone;PEEK)材料,而加強構件330可包含金屬,諸如鋼或鋁。其他剛性材料可用於心軸主體325及加強構件330。如第3D圖中所示,加強構件330可沿著實質上心軸主體325之整個長度延伸,且加強構件330可具有實質上相等長度。加強構件330可藉由與凹穴332之輕微干擾配合 來固持於心軸主體325內,且加強構件330亦可藉由端部間隔物333固定。
如第3B圖、第3C圖及第3D圖所示,心軸324可包括中央液體通道334,該中央液體通道334沿著心軸主體325之長度延伸且在接近端部間隔物333之端部處終止於心軸主體325內。液體供給口336(僅標記了少數)沿著心軸324之長度佈置,該液體供給口流動地互連連接至中央液體通道334及作為分配通道操作,以分配用於清洗及/或洗滌製程之液體進入洗滌刷101之開孔泡沫主體之孔中。液體供給口336自中央液體通道334內部延伸至在如第3B圖及第3D圖所示的加強構件330之間的心軸324,且延伸至心軸324之外表面328。如第3C圖、第3D圖及第4圖所示,液體供給口336(例如,孔)可佈置成一列且液體供給口336大體上可沿著心軸324之長度均勻地間隔。兩個或兩個以上、三個或三個以上,乃至四個或四個以上之液體供給口336可引入套筒102之各個細長凹穴220。可使用液體供給口336之其他數目及定向。液體供給口336允許化學品自心軸324直接噴射進入洗滌刷101之泡沫結構(例如,開孔泡沫)中,該心軸插入套筒102之安裝通道110內。耦接-收納特徵338位於與端部間隔物333相對之端部。耦接-收納特徵338經調適以收納聯結件540(第5A圖),如將於下文所述。
第4圖圖示具有套筒102的心軸324之組件400,其中套筒102收納於心軸324之外表面328之上。在圖示之實施例中,凸起肋件112(第1B圖)收納於凹處326(第 3A圖)內,此舉之功能在於將套筒102之細長凹穴220與液體供給口336定向。因此,分配之液體可從液體供給口336排出及通過細長凹穴220直接地引入洗滌刷101之開孔泡沫(第1B圖)。同時,包括加強段218之套筒102及具有加強構件330之心軸324的組合提供實質上勁度更強之組件400,同時仍允許進入洗滌刷101中之適當的液體流動及通常均勻的液體分配。此外,細長凹穴220及孔222提供極好的機械鎖定,該機械鎖定操作以防止或最小化洗滌刷101相對於套筒102之扭曲及/或旋轉(例如,滑動)。
現將參看第5A圖至第5D圖,顯示出洗滌刷組件100及洗滌刷組件100之元件之各種視圖。洗滌刷組件100包括如上所述之洗滌刷101及套筒102,套筒102具有收納於心軸324之上的安裝通道110(第1B圖)。在操作中,心軸324可經諸如藉由刷盒之馬達或其他工具驅動及旋轉,引起洗滌刷101在洗滌操作期間相對於基板表面旋轉。當需要替換洗滌刷101時,可容易地自洗滌刷子組件100SA(第1B圖)移除心軸324,且新的洗滌刷子組件100SA可插入心軸324上以形成新的洗滌刷組件100。如先前所述,新的洗滌刷組件100隨後可用於基板處理。
更詳細言之,心軸324可在一個末端上耦接至聯結件540且在另一末端上耦接至支撐構件545。如第5B圖所示,支撐聯結件545與間隔物333介面連接且支撐洗滌刷組件100之右端,如圖所示,同時允許洗滌刷組件100之旋轉。如圖所示,在左端,聯結件540嚙合耦接-收納特徵338及密 封耦接-收納特徵338之密封面(例如,圓柱面),以允許液體進入中央液體通道334。聯結件540亦可包括諸如方形端部之驅動特徵,該驅動特徵收納於耦接-收納特徵338(第5A圖)之形似方形表面特徵內,以使得洗滌刷可藉由附接於聯結件540之驅動構件(未圖示)旋轉。
為了防止洗滌刷100在使用中沿著心軸324之長度滑動,聯結件540及間隔物333上可形成止塊(例如,平面環形唇部),當洗滌刷組件100安裝於聯結件540與支撐構件545之間時,止塊333接觸套筒102之端部。因此,聯結件540之旋轉轉動洗滌刷組件100。軸承及軸承支座(未圖示)可穩固聯結件540、支撐構件545及洗滌刷組件100之整個組件。液體化學品可通過聯結件540提供至中央液體通道334中,在中央液體通道334中,液體化學品通過眾多液體供給口336且進入洗滌刷101中。
第5C圖及第5D圖圖示洗滌刷組件100之各種其他截面。該等圖式清楚地圖示出一或更多個加強構件330及該等加強構件之相對定向。詳言之,如圖所示,加強構件330實質上與心軸324內之凹處326呈徑向對準。如圖所示,加強構件330以圓形圖案自中心軸325A等距離安置,且加強構件330彼此呈近似90度角。
第6A圖及第6B圖圖示洗滌刷組件100至聯結件540及間隔物333之連接。詳言之,聯結件540可為收納於耦接-收納特徵338中之彈簧負載聯結件。聯結件540可同時密封特徵338及鎖定於特徵338內(例如,鎖定於方形表 面內以防止聯結件540與心軸324之間的旋轉),以使得液體可傳送及洗滌刷組件100可因此旋轉。
第7圖圖示一種用於組合洗滌刷組件(例如,100)之方法。方法700包括以下步驟:在702中,提供洗滌刷子組件(例如,100SA),該洗滌刷子組件具有模製泡沫之洗滌刷主體(例如,103)及套筒(例如,102),該洗滌刷主體具有內表面(例如,108),該套筒具有外表面(例如,214),該外表面經收納與內表面(例如,108)接觸,套筒(例如,102)包括沿著套筒(例如,102)長度延伸之複數個周邊間隔的縱向壁(例如,216)及沿著套筒長度提供的加強段(例如,218),該加強段將周邊間隔的縱向壁(例如,216)之相鄰者互連,套筒(例如,102)具有帶有凸起肋件(例如,112)之安裝通道(例如,110)。方法700亦包括以下步驟:在704中,為具有心軸主體(例如,325)之心軸(例如,324)提供形成於外表面(例如,328)上之凹處;及在706中,將心軸(例如,324)插入安裝通道(例如,110)內,且在凹處(例如,326)內部收納凸起肋件(例如,112)。
因此,儘管本發明已結合本發明之示例性實施例加以揭示,但應理解,其他實施例可屬於如由以下申請專利範圍所界定之本發明之範疇。
100‧‧‧洗滌刷組件
101‧‧‧洗滌刷
324‧‧‧心軸
326‧‧‧凹處
330‧‧‧加強構件

Claims (20)

  1. 一種組合一洗滌刷組件之方法,該方法包含以下步驟:提供一洗滌刷子組件,該洗滌刷子組件具有一模製泡沫之洗滌刷主體及一套筒,該洗滌刷主體具有一內表面,該套筒具有一外表面,該外表面經收納與該內表面接觸,該套筒包括沿著該套筒一長度延伸之複數個周邊間隔的縱向壁,及沿著該長度提供的加強段,該等加強段將該等周邊間隔的縱向壁中之相鄰壁互連,該套筒具有帶有凸起肋件之一安裝通道;提供具有一心軸主體之一心軸,該心軸具有形成於一外表面上之凹處;及將該心軸插入該安裝通道內,且在該等凹處內部收納該等凸起肋件以形成該洗滌刷組件。
  2. 如請求項1所述之方法,該方法包含以下步驟:藉由在該心軸主體內收納一或更多個加強構件來加強該心軸。
  3. 如請求項2所述之方法,該方法進一步包含以下步驟:藉由在凹穴內收納複數個加強構件來加強該心軸,該等凹穴形成於該心軸主體內。
  4. 如請求項1所述之方法,該方法進一步包含以下步驟:沿著該套筒之該複數個周邊間隔的縱向壁提供摩擦增強孔。
  5. 如請求項1所述之方法,該方法進一步包含以下步驟:在該心軸內提供液體供給口,該等液體供給口經定向以引入細長凹穴中,該等細長凹穴由該套筒之該複數個周邊間隔的縱向壁及該等加強段形成。
  6. 一種洗滌刷組件,該洗滌刷組件包含:一洗滌刷,該洗滌刷具有一開孔泡沫之洗滌刷主體,該洗滌刷主體包括一內表面;一套筒,該套筒具有經收納與該內表面接觸之一外表面,該套筒包括沿著該套筒一長度延伸之周邊間隔的縱向壁,及沿著該套筒長度提供的加強段,該等加強段將該等周邊間隔的縱向壁中之相鄰壁互連且形成細長凹穴,該套筒具有沿著該長度延伸之凸起肋件;及一心軸,該心軸具有形成於該心軸一外表面上之凹處,該心軸藉由在該等凹處內部收納該等凸起肋件來耦接至該等凸起肋件。
  7. 如請求項6所述之洗滌刷組件,其中該等凸起肋件沿著該等周邊間隔的縱向壁之一內表面形成。
  8. 如請求項6所述之洗滌刷組件,該洗滌刷組件包含摩擦增強孔,該等摩擦增強孔沿著該等周邊間隔的縱向壁佈置。
  9. 如請求項6所述之洗滌刷組件,其中該等加強段包含環箍結構。
  10. 如請求項6所述之洗滌刷組件,該洗滌刷組件包含該等細長凹穴中之至少三者,該等細長凹穴由沿著介於該等周邊間隔的縱向壁中之相鄰壁之間的該長度的該等加強段形成。
  11. 如請求項10所述之洗滌刷組件,其中在該心軸上之液體供給口經定向以引入該細長凹穴中。
  12. 如請求項6所述之洗滌刷組件,其中該洗滌刷主體包含一開孔泡沫。
  13. 如請求項6所述之洗滌刷組件,其中該心軸包含至少一個加強構件,該加強構件自該心軸之一中心軸偏移。
  14. 如請求項13所述之洗滌刷組件,其中該心軸包含複數個加強構件,該複數個加強構件自一中心軸偏移且圍繞該中心軸佈置。
  15. 一種洗滌刷子組件,該洗滌刷子組件包含: 一模製開孔泡沫之洗滌刷主體,該洗滌刷主體具有一內表面;及一套筒,該套筒具有經收納與該內表面接觸之一外表面,該套筒包括沿著該套筒之一長度延伸之複數個周邊間隔的縱向壁,及沿著該長度提供的加強段,且該等加強段將該等周邊間隔的縱向壁中之相鄰壁互連以形成細長凹穴,該套筒包括具有凸起肋件之一安裝通道,該等凸起肋件沿著該長度延伸。
  16. 一種洗滌刷心軸,該洗滌刷心軸包含:一心軸主體,該心軸主體具有一中心軸及形成於該心軸之一外表面上之凹處,該等凹處縱向地延伸,且經設置及調適以收納一洗滌刷子組件之凸起肋件;及至少一個加強構件,該至少一個加強構件收納於該心軸主體內且自該中心軸偏移。
  17. 如請求項16所述之洗滌刷心軸,其中該心軸包含複數個加強構件,該複數個加強構件自該中心軸偏移且圍繞該中心軸佈置。
  18. 如請求項16所述之洗滌刷心軸,其中該至少一個加強構件包含一圓棒,該圓棒收納於形成在該心軸主體中之一凹穴內。
  19. 如請求項16所述之洗滌刷心軸,其中該心軸包含複數個加強構件,該複數個加強構件係圓棒,該等圓棒自該中心軸偏移且圍繞該中心軸佈置。
  20. 如請求項16所述之洗滌刷心軸,其中該心軸主體包含一聚醚醚酮(PEEK)材料。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110216088A (zh) * 2019-04-30 2019-09-10 广东隽诺环保科技股份有限公司 一种清洗刀辊以及具有清洗刀辊的清洗机
CN110335837A (zh) * 2019-07-05 2019-10-15 北京理工大学 一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料和组件的制备方法

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9202723B2 (en) 2011-11-29 2015-12-01 Illinois Tool Works, Inc. Brush with cantilevered nodules
US20140059913A1 (en) * 2012-03-14 2014-03-06 Advanced Innovation and Manufacturing, Inc. Suppressor sleeves and heat resistant weapon accessories
US9140511B2 (en) * 2012-03-14 2015-09-22 Frank J. Michal Barrel and suppressor sleeves and heat resistant weapon accessories
US8778087B2 (en) * 2012-04-03 2014-07-15 Illinois Tool Works Inc. Conical sponge brush for cleaning semiconductor wafers
KR102366741B1 (ko) * 2019-10-15 2022-02-22 윤정혜 기판세정장치
CN114438552B (zh) * 2022-02-08 2022-09-16 广东嘉元科技股份有限公司 一种电解铜箔生产表面处理装置
KR102664024B1 (ko) * 2022-06-17 2024-05-13 주식회사 브러쉬텍 내경이 확장된 웨이퍼 세정용 브러쉬

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6299698B1 (en) 1998-07-10 2001-10-09 Applied Materials, Inc. Wafer edge scrubber and method
SG99307A1 (en) * 1999-06-01 2003-10-27 Applied Materials Inc Brush core for disk scrubbing apparatus and method for use thereof
US6728989B2 (en) 2001-01-27 2004-05-04 Applied Materials Inc. Labyrinth seal for bearing in brush mounting assembly for semiconductor wafer scrubber
US7955693B2 (en) 2001-04-20 2011-06-07 Tolland Development Company, Llc Foam composition roller brush with embedded mandrel
US6904637B2 (en) 2001-10-03 2005-06-14 Applied Materials, Inc. Scrubber with sonic nozzle
JP4965253B2 (ja) * 2003-08-08 2012-07-04 インテグリス・インコーポレーテッド 回転可能ベース上に鋳造されるモノリシック多孔性パッドを作製する方法および材料
US20050109371A1 (en) 2003-10-27 2005-05-26 Applied Materials, Inc. Post CMP scrubbing of substrates
KR101122792B1 (ko) * 2004-01-29 2012-03-21 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 스크러버 브러쉬를 맨드릴 상에 설치하는 장치 및 방법
JP2007289878A (ja) 2006-04-26 2007-11-08 Hitachi High-Technologies Corp ディスク洗浄ブラシ、ディスク洗浄機構およびディスク洗浄装置
US8407846B2 (en) 2006-03-07 2013-04-02 Applied Materials, Inc. Scrubber brush with sleeve and brush mandrel for use with the scrubber brush
US20080011325A1 (en) 2006-06-05 2008-01-17 Olgado Donald J Methods and apparatus for supporting a substrate in a horizontal orientation during cleaning
JP2008004618A (ja) * 2006-06-20 2008-01-10 Renesas Technology Corp 半導体装置の製造方法
KR101119951B1 (ko) 2009-09-29 2012-03-16 방선정 반도체 웨이퍼용 브러쉬 롤
TWI594811B (zh) 2010-05-19 2017-08-11 湯瑪士衛斯特公司 用於擦洗基材的裝置與方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110216088A (zh) * 2019-04-30 2019-09-10 广东隽诺环保科技股份有限公司 一种清洗刀辊以及具有清洗刀辊的清洗机
CN110335837A (zh) * 2019-07-05 2019-10-15 北京理工大学 一种半导体晶圆清洗用多孔亲水材料和组件的制备方法

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Publication number Publication date
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