TW201343374A - 微結構光學元件製造方法 - Google Patents
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Abstract
一種微結構光學元件製造方法,其包括以下步驟:(a)提供一模仁,該模仁上凹設有複數複製結構;(b)提供一透明基板,將該透明基板朝向該模仁具有複製結構之面設置;(c)提供一分配工具及液態之複製材料,藉由該分配工具將該複製材料對應該複製結構分佈於該透明基板上;(d)使用該模仁模壓該複製材料;(e)固化該複製材料;(f)移除該模仁;及(g)裁切該透明基板以形成具有該複製結構之微結構光學元件。
Description
本發明涉及一種光學元件製造方法,尤其涉及一種應用於繞射光學元件或折射光學元件領域之表面具有微結構之光學元件製造方法。
微結構光學元件一般由複製之方法製造而成。習知之用於製造微結構光學元件之方法主要包括以下步驟:提供一表面具有複製結構之模仁,提供一透明基板,將複製材料塗覆於透明基板上,移動模仁以模壓複製材料,固化複製材料,從而形成具有複製結構之反結構之微結構光學元件。當需批量生產微結構光學元件時,一般於模仁表面設置複數複製結構,然而,由於複製材料之體積較大,模壓過程中,複製材料流動性較差,易導致微結構光學元件上產生氣泡或凹陷等缺陷,從而影響微結構光學元件之光學性能。
有鑒於此,有必要提供一種複製材料流動性好、可避免於微結構光學元件上產生氣泡、凹陷等缺陷之微結構光學元件製造方法。
一種微結構光學元件製造方法,其包括以下步驟:(a) 提供一模仁,該模仁上凹設有複數複製結構;(b) 提供一透明基板,將該透明基板朝向該模仁具有複製結構之面設置;(c) 提供一分配工具及液態之複製材料,藉由該分配工具將該複製材料對應該複製結構分佈於該透明基板上;(d) 使用該模仁模壓該複製材料;(e) 固化該複製材料;(f) 移除該模仁;及(g) 裁切該透明基板以形成具有該複製結構之微結構光學元件。
本發明之微結構光學元件製造方法藉由分配工具分配複製材料,使得複製材料分散分佈於透明基板上,模壓過程中,由於複製材料體積小,複製材料流動性好,從而避免因複製材料流動性差而造成微結構光學元件上之凹陷、氣泡等缺陷,從而提高微結構光學元件之光學性能。
下面將結合附圖及具體實施方式對本發明之微結構光學元件製造方法作進一步之詳細說明。
請參閱圖1至圖3,本發明實施方式之微結構光學元件製造方法用於製造微結構光學元件80。微結構光學元件80之表面具有微結構,該微結構主要由尺寸在0.5微米-200微米之連續之弧形凸起形成。微結構光學元件80能夠折射或繞射光以改變具有預定方向之光束之傳播路徑。
本發明實施方式之微結構光學元件製造方法包括以下步驟:
步驟S201,提供一模仁10,模仁10具有複數複製結構102。本發明實施方式中,模仁10包括相對設置之第一表面104及第二表面106。複製結構102均勻凹設於第二表面106上。複製結構102由複數弧形凹槽及連接該弧形凹槽之凸起組成以形成表面具有連續之弧形凸起之微結構光學元件80。
步驟S202,提供一定位治具30,定位治具30上開設有複數通孔302。定位治具30大致呈平板狀,其設置於模仁10下方。通孔302與複製結構102之位置相對應。本發明實施方式中,定位治具30由非透明有機材料製成。可理解,定位治具30亦可由不透光之金屬材料、陶瓷材料等製成。
步驟S203,提供一透明基板50,透明基板50設置於定位治具30上,從而使得透明基板50位於定位治具30與模仁10之間。透明基板50大致呈平板狀,本發明實施方式中,透明基板50由聚對苯二甲酸乙二醇酯(Polyethylene terephthalate,PET)製成。可理解,透明基板50亦可由聚對苯二甲酸乙二酯、聚對苯二甲酸丁二酯等其他透明有機材料製成。
步驟S204,提供一分配工具60及複製材料70,藉由分配工具60將複製材料70對應分佈於透明基板50上與複製結構102相對應之位置處。本發明實施方式中,複製材料70為液態之環氧樹脂,其可在UV光照射下迅速固化,分配工具60為自動點膠機。可可理解,複製材料70亦可為液態之聚氨酯丙烯酸酯、聚二甲基矽氧烷等可UV固化之有機材料。可可理解,分配工具60亦可為由機械手控制之分料治具,分料治具上對應複製結構102設置有與複製結構102數量相等之分料出口,分料治具可一次性完成複製材料70之分配。
步驟S205,使用模仁10模壓複製材料70。本發明實施方式中,朝向透明基板50移動模仁10,直至模仁10之第二表面106貼合透明基板50,複製材料70填充於透明基板50與複製結構102之間。可理解,移動模仁10模壓複製材料70之過程中,可藉由控制模仁10之第二表面106與透明基板50之間之距離以控制微結構光學元件80之高度。
步驟S206,用UV光固化複製材料70。UV光從定位治具30背離透明基板50之一側照射複製材料70,以固化複製材料70。
步驟S207,移除模仁10。
步驟S208,裁切透明基板50,從而形成具有如圖3所示之微結構光學元件80。
可理解,步驟S202可省略,UV光直接照射透明基板50以固化複製材料70。可理解,複製材料70亦可採用熱固化方式固化。
可理解,定位治具30之上表面之面積亦可數倍於模仁10之第二表面106之面積。相應地,於定位治具30之上表面開設數量數倍於複製結構102之數量之通孔302,於定位治具30上放置大小與定位治具30之第一表面相等之透明基板50,並將複製材料70分佈於透明基板50上與通孔302相對應之位置處。藉由步驟S205及S206先模壓、固化部分複製材料70,然後重複步驟S205、S206及S207依次模壓、固化其他複製材料70,直至分佈於透明基板50上之複製材料70完全模壓、固化完成,然後再進行步驟S208,如此,可進一步提高複製效率。
本發明實施方式之微結構光學元件製造方法藉由分配工具60均勻分配複製材料70,使得複製材料70分散分佈於透明基板50上,模壓過程中,由於複製材料70體積小,複製材料70流動性好,從而避免因複製材料70流動性差而造成微結構光學元件80上之凹陷、氣泡之缺陷;分配工具60可定量分配複製材料70,從而提高微結構光學元件80之製造精度。
綜上所述,本發明確已符合發明專利之要件,遂依法提出專利申請。惟,以上所述者僅為本發明之較佳實施方式,本發明之範圍並不以上述實施方式為限,舉凡熟悉本案技藝之人士援依本發明之精神所作之等效修飾或變化,皆應涵蓋於以下申請專利範圍內。
10...模仁
102...複製結構
104...第一表面
106...第二表面
30...定位治具
302...通孔
50...透明基板
60...分配工具
70...複製材料
80...微結構光學元件
圖1係本發明實施方式之微結構光學元件製造示意圖。
圖2係本發明實施方式之微結構光學元件製造方法流程圖。
圖3係本發明實施方式之微結構光學元件之示意圖。
Claims (10)
- 一種微結構光學元件製造方法,其包括以下步驟:
(a) 提供一模仁,該模仁上凹設有複數複製結構;
(b) 提供一透明基板,將該透明基板朝向該模仁具有複製結構之面設置;
(c) 提供一分配工具及液態之複製材料,藉由該分配工具將該複製材料對應該複製結構分佈於該透明基板上;
(d) 使用該模仁模壓該複製材料;
(e) 固化該複製材料;
(f) 移除該模仁;及
(g) 裁切該透明基板以形成具有該複製結構之微結構光學元件。 - 如申請專利範圍第1項所述之微結構光學元件製造方法,其中該模仁包括相對設置之第一表面及第二表面,該複數複製結構凹設於該模仁之第二表面上。
- 如申請專利範圍第1項所述之微結構光學元件製造方法,其中在步驟 (b)之前提供一定位治具,該定位治具上對應該複製結構設置有複數通孔,該透明基板放置於該定位治具上,且該複製材料分佈於該透明基板上與該通孔對應之位置處。
- 如申請專利範圍第1項所述之微結構光學元件製造方法,其中該複製材料為液態之環氧樹脂、聚氨酯丙烯酸酯或聚二甲基矽氧烷。
- 如申請專利範圍第1項所述之微結構光學元件製造方法,其中該分配工具為自動點膠機。
- 如申請專利範圍第1項所述之微結構光學元件製造方法,其中該透明基板由苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚對苯二甲酸丁二酯製成。
- 一種微結構光學元件製造方法,其包括以下步驟:
(a) 提供一模仁,該模仁包括相對設置之第一表面及第二表面,該第二表面上凹設有複數複製結構;
(b) 提供一透明基板,將該透明基板朝向該模仁之第二表面設置,且該透明基板朝向該模仁之面積數倍於該第二表面;
(c) 提供一分配工具及液態之複製材料,藉由該分配工具將該複製材料分佈於該透明基板上,並使得部分複製材料對應該複製結構設置,且剩餘之複製材料可藉由移動該模仁使得複製材料能夠與該複製結構對應;
(d) 使用該模仁模壓部分該複製材料;
(e) 固化該複製材料;
(f) 移除該模仁;
(g) 重複步驟(d)、(e) 以模壓、固化剩餘之複製材料;及
(h) 裁切該透明基板以形成具有該複製結構之微結構光學元件。 - 如申請專利範圍第7項所述之微結構光學元件製造方法,其中在步驟 (b) 之前提供一定位治具,該透明基板放置於該定位治具上,該定位治具與該透明基板接觸之面積與該透明基板相等,該定位治具上設置有數量數倍於該複製結構之通孔,且分佈於該透明基板上之每一複製材料對應一該通孔。
- 如申請專利範圍第7項所述之微結構光學元件製造方法,其中該複製材料為液態之環氧樹脂、聚氨酯丙烯酸酯或聚二甲基矽氧烷。
- 如申請專利範圍第7項所述之微結構光學元件製造方法,其中該透明基板由苯二甲酸乙二醇酯、聚對苯二甲酸乙二酯或聚對苯二甲酸丁二酯製成。
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