TW201331653A - 光學連接器 - Google Patents

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Abstract

一種光學連接器，包括一第一光纖與一第二光纖。將一第一平面透鏡定位以操作出自該第一光纖之光線，在該光線之波前中產生預定變化。將一第二平面透鏡定位，以接收來自該第一平面透鏡之該光線，該第二平面透鏡將該光線聚焦至該第二光纖上。該第一平面透鏡與該第二平面透鏡各包括具有週期變化直徑之規律間隔陣列柱。

Description

光學連接器
本發明係有關於一種光學連接器。
通常，經常使用光線以傳輸光學能量或資料。例如，可以使用光線在長距離、在相鄰電路板上電子組件之間、在光學纖維之間、或在單一電路板上電子組件之間傳輸資料。
在一實施例中揭示一種光學連接器，包括：一第一光纖；一第二光纖；一第一平面透鏡，其被定位以操作出自該第一光纖之光線，在該光線之波前中產生預定變化；一第二平面透鏡，其被定位以接收來自該第一平面透鏡之該光線，該第二平面透鏡將該光線聚焦至該第二光纖上；其中，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡各包括具有週期變化直徑之陣列柱。
在另一實施例中揭示一種用於製造光學連接器之方法，其包括以下步驟：製造一第一平面透鏡與一第二平面透鏡，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡包括具有變化直徑之規律陣列柱；將該第一平面透鏡與該第二平面透鏡設置介於一第一光纖與一第二光纖之間；並且將光線由該第一光纖傳送出且經由該第一平面透鏡與該第二平面透鏡，將光線聚焦於該 第二光纖中。
在又另一實施例中揭示一種光學連接器，包括：一第一光纖；一第二光纖；一第一平面透鏡，其被定位以操作出自該第一光纖之光線，在該光線之波前中產生預定變化；一第一基質，該第一平面透鏡設置在該第一基質中，且該第一光纖接合至該第一基質；一第二平面透鏡，其被定位以接收來自該第一平面透鏡之該光線，該第二平面透鏡將該光線聚焦至該第二光纖上；以及一第二基質，該第二平面透鏡設置在該第二基質中，且該第二光纖接合至該第二基質；其中，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡各包括具有週期變化直徑之規律間隔之陣列介電柱，其中，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡為對偏極化不敏感之軸向對稱聚光透鏡。
100‧‧‧光纖連接器
102-1、2‧‧‧埋設式平面透鏡
104-1‧‧‧第一光纖
104-2‧‧‧第二光纖
106-1、2‧‧‧基質材料
108‧‧‧光線
110-1‧‧‧擴張區段
110-2‧‧‧中間區段
110-3‧‧‧右側部份
112‧‧‧界面
214‧‧‧平面透鏡
216‧‧‧矽柱
218‧‧‧矽氧化物基板
302-1、2‧‧‧平面透鏡
304-1、2、3‧‧‧第一組光線
306-1‧‧‧第一基質
306-2‧‧‧第二基質
308-1、2、3‧‧‧光線
312‧‧‧界面
314-1、2、3‧‧‧第二組光線
400‧‧‧多光纖連接器
402-1、2‧‧‧平面透鏡
404-1‧‧‧上側光纖
404-2‧‧‧中間光纖
404-3‧‧‧下側光纖
406-1‧‧‧第一基質
406-2‧‧‧第二基質
408-1‧‧‧第一光線
408-2‧‧‧中間光線
408-3‧‧‧第三光線
412‧‧‧界面
414-1‧‧‧上側光纖
414-2‧‧‧中間光纖
414-3‧‧‧下側光纖
此等所附圖式描述在此所說明本發明原理之各種範例，而作為本發明之一部份。此等所說明範例僅為舉例，並不作為申請專利範圍之限制。在此等圖式中，相同元件號碼代表類似但無須相同元件。
第1圖為根據在此所說明原理之一例之光纖連接之橫截面圖，其使用CMOS相容平面透鏡將光線對準且聚焦。
第2A圖為根據在此所說明原理之一例之平面透鏡之頂視圖，其顯示矽柱之規律間隔與柱直徑之變化。
第2B圖為根據在此所說明原理之一例之平面透鏡之橫截面圖
第3圖為根據在此所說明原理一例之多光纖連接器之橫截面圖，其中平面透鏡模擬多個小透鏡，將光線由第一組光纖導引至第二組光纖。
第4圖為根據在此所說明原理一例之多光纖連接器之橫截面圖。
第5A與5B圖為根據在此所說明原理之一例之用於製造與使用一包含平面透鏡之連接器之方法。
通常，三維光學組件體積相當龐大且昂貴。例如，可以使用光學元件像是三維透鏡，在長距離、在相鄰電路板上電子組件之間、或在光學纖維之間傳輸光線。不幸的是，此等三維元件仍為有關龐大體積之技術，且僅有非常小之可能性將其密集整合。
本說明書以下說明由陣列矽柱所製與互補式金屬氧化物半導體(CMOS)相容之平面透鏡之應用，其具有所設計矽柱直徑分佈，以產生所想要傳輸之任意波前。此透鏡對於偏極化不敏感，且可被設計應用於任何給定可見或紅外線波長。
在以下說明中，為了說明目的描述各種特定細節，以提供本發明系統與方法之徹底瞭解。然而，對於熟習此技術人士為明顯，可以無需此等特定細節，以實施此等裝置、系統、以及方法。在本說明書中提及“一例”或類似名詞，其意味著在至少一例中包括與此例有關之特定特性、結構、或特徵，但在其他例中並無須如此。
可以使用擴張式連接器在兩個光纖間導引光線。此等光纖包括由覆蓋材料所圍繞之透明核心，其藉由內部全反射沿著核心導引光線。此核心直徑典型地非常地小，而單模式光纖具有小於10微米(micron)之直徑。將此等光纖連接在一起是一項挑戰性工作。將光纖之終端小心地切開，且然後以機械方式接合在一起、或使用熱熔合在一起。此等光纖間之對準不良會造成光線大量損失。例如，當將10微米直徑之光纖接合在一起時， 5微米之對準不良會造成無法接受之光線損失。
一種將光纖連接方式涉及，將光線擴張地射出第一光纖成較大直徑，且然後將此光線聚焦回至第二光纖中。使用巨觀三維透鏡例如球形透鏡將光線擴張與對準。為了將光線聚焦回至第二光纖中，使用另一個三維透鏡，將光線聚焦至第二光纖之終端上。
由於在界面光線較大直徑，使得在界面對於對準不良之敏感度大幅降低。如此允許放寬機械公差，且可以較低成本製造連接。此外，此連接對於缺陷例如刮傷或灰塵較不敏感。
然而，使用巨觀三維光學組件以製造光纖之間連接會具有數個缺點。例如，球形透鏡之製造與安裝昂貴。使用球形透鏡會增加連接器之整體尺寸，且限制此對準光線之直徑。此外，此球形透鏡之表面輪廓與材料可能無法產生所想要之光線對準，或其不適合用於所想要之光線波長。例如，大部份紅外線材料不適合用於製造球形透鏡。
第1圖為光纖連接(100)之橫截面圖，其使用與CMOS相容之平面透鏡將光線對準且聚焦。此光纖連接(100)包括：兩個光學纖維(104-1，104-2)、一透明基質材料(106-1，106-2)、以及設置在該基質材料中之平面透鏡(102-1，102-2)。將此具有埋設式平面透鏡(102-1)之第一區塊之基質材料(106-1)接合至第一光纖(104-1)。將此具有埋設式平面透鏡(102-2)之第二區塊之基質材料(106-2)接合至第二光纖(104-2)。基質材料(106-1，106-2)之兩個區塊在此界面(112)接合。在此情形中，此界面是在第一基質之平坦面固定於第二基質之平坦面之處。此在第一光纖(104-1)中之光線(108)射出進入基質材料(106-1)且擴張。此在擴張區段(110-1)中光線(108)之角度與分佈是 由數個因素決定，其包括：光纖之射出直徑、存在基質材料(106-1)之光學缺陷、以及基質材料(106-1)之折射率。然後，此光線(108)接觸第一埋設式平面透鏡(102-1)。將此第一平面透鏡定位，在此射出第一光纖之光線上操作，在光線波前中產生預定變化。在此例中，此第一平面透鏡(102-1)將光線對準。此光線(108)經過此包括其餘基質材料(106-1)之中間區段(110-2)，通過界面(112)且進入第二區塊之基質材料(106-2)。然後，光線(108)接觸第二平面透鏡(102-2)，且在當其經由右側部份(110-3)進入第二光纖(104-2)時被聚焦。
此在第1圖中所示方式具有優於使用三維光學組件例如球形透鏡之數個優點。此優點為平面透鏡(102-1，102-2)被囊封(encapsulated)於基質材料(106-1，106-2)中以形成單體式區塊，此增加其強固性且維持在連接器(100)中之對準。可以較便宜地製造平面透鏡(102-1，102-2)，且在光線波前中產生任意變化。此等平面透鏡(102-1，102-2)較球形透鏡薄許多，以導致更精簡之連接。在一例中，此平面透鏡之光軸可以實質上垂直於透鏡之平面。此光軸為一虛線，沿著此軸在光學系統中可以有某種程度之旋轉對稱。在其他實施例中，此光軸可以對透鏡平面傾斜一角度。
在一實施例中，此平面透鏡為矽透鏡，其包括矽柱之規律二維陣列。在第2A與2B圖中顯示此平面透鏡之一例。此等柱直徑之空間變化允許將所傳送波前作任意轉換。此平面透鏡具有高的整體效率且不會改變光線之偏極化狀態。此外，此平面透鏡對偏極化不敏感本質允許其在具有任何偏極化之光線上均勻地操作。此平面透鏡可以用可見光與近-紅外線波長範圍中所感興趣之任何波長設計。
第2A圖為平面透鏡(214)之頂視圖，其顯示矽柱(216)之規律 間隔與柱之直徑變化。此等較大較黑之點代表此等具有較大直徑之柱，而此等較小之點代表此等具有較小直徑之柱。此等柱之直徑在此規律間隔陣列中週期地改變。在此例中，此陣列是由規律形狀與間隔之六角形單元構成，但亦可以使用其他陣列圖案例如矩形圖案。
在此例中，不同直徑之柱在透鏡之面上形成同心圓圖案。各圓圈由具有類似直徑之柱所形成，此以大直徑柱所形成圓圈在其兩側具有以較小直徑柱所形成較大與較小圓圈，以產生一“靶心”(bull’s eye)式圖案。可以形成各種其他圖案，包括螺旋形、橢圓形、以及其他合適幾何形狀。在此例中，對於650奈米波長之光線而言，此平面透鏡(214)具有20微米直徑與5微米焦距。然而，此平面透鏡(214)可以廣泛種類尺寸、焦距、以及波長形成。在第2A與2B中說明之平面透鏡(214)可以將光線聚焦至繞射極限點。可以設計平面透鏡(214)，以執行任何波前轉換，同時一直保存輸入光線之偏極化。
第2B圖為平面透鏡(214)之橫截面圖。在此例中之平面透鏡(214)包括陣列矽柱(216)，其以微影方式形成於矽氧化物基板(218)上。通常，平面透鏡可以各種介電材料形成。在一例中，此規律陣列柱可以由設置在介電基板上以微影方式以介電質所形成柱製成，此介電基板之折射率實質上小於此等柱之折射率。在此說明書之上下文中，此“實質上”是指折射率之差異足以在入射波前曲率中提供所想要之改變。例如，取決於所感興趣之波長，二氧化矽具有大約1.45之折射率，且矽具有大約5.5至3.5之折射率。
以上討論說明，可以使用此形成平面透鏡之幾何形狀之特定 例，。額外地或替代地，此平面透鏡可以不同材料與幾何形狀形成。例如，此等柱亦可以由兩種或更多不同介電材料之組合形成。在一些實施例中，此等柱間之區域可以填以較柱為低光學指數(index)之介電質。此等柱之橫截面形狀可以為圓柱形、正方形、矩形、橢圓形、或其他合適形狀。此具有橫截面之柱之一因次(dimension)可以較其他因次大許多，以導入偏極化依賴性。在此偏極化依賴性為想要之情形中，此柱可以形成具有大高寬比橫截面形狀，其在陣列中排列以產生所想要之偏極化依賴性。在一些例中，相同之基板可以具有形成於基板表面上之多個離散平面透鏡。
此陣列矽柱(216)可以各種方式形成，其包括微影、奈米印刷、以及其他技術。例如，可以在單一微影操作中形成陣列矽柱(216)。可以設計柱(216)之直徑與高度，而與所選擇波長與所選擇製造技術相容。
為了以特定波長設計平面透鏡，可以考慮各種參數。例如，此矽層厚度與陣列間隔常數可以下列原則導引：
(i)可以選擇相位變化(可以一直至且包括2 π相位變化)，這是由於此工作循環在一些實際範圍中之變化是由製程限制所決定。
(ii)可以避免跨小範圍之突然相位變化，因為其允許在製造誤差中較少公差。
(iii)選擇此柱之高寬比與製程限制相容。
(iv)當符合其他限制時，可以將平均傳輸效率最大化。
亦可以考慮各種其他限制。可以在光譜之從藍至紅外線端之任何波長符合首先三個考慮(i至iii)。此外，參數之選擇並非獨特唯一，可以選擇各種組合。例如，此週期性2D光柵之模擬顯示：從光學波長大約一 半之最小值開始，當矽柱高度增加時，此在高透射率之2 π相位差異幾乎週期性地發生。可以選擇六角形晶格(lattice)以具有類似但稍為較小值。通常當使用較短柱時，可以將吸收損失最小化。例如，此平面透鏡可以包括垂直於基板之柱，且其高度設計為通過此連接器光線波長之大約一半。
如同以上討論，此平面透鏡可以對於入射光線之波前作廣大範圍之改變。在第1圖所顯示之例中，此第一平面透鏡與第二平面透鏡為軸對稱聚光透鏡，其光軸垂直於基板。可以將平面透鏡使用在各種介質(medium)中，其具有相對於柱材料足夠大之指數(index)。例如，可以將平面透鏡使用於空氣、液體中，或埋設於固體材料例如玻璃或聚合物中。
第3圖為多光纖連接器之橫截面圖，其中平面透鏡(302)模擬多個小透鏡，其將光線由第一組光纖(304)導引至第二組光纖(314)。使用一對平面透鏡(302)將多個光纖間之光線對準且重新聚焦，可以降低整體成本與製造複雜度。在此例中，三個光纖(304)將三束光線(308)導引進入第一基質(306-1)中。當光線由光纖(304)射出時，其在基質(306-1)中擴張，且接觸第一平面透鏡(302-1)。此第一平面透鏡(302-1)將光線(308)對準於三個平行光束中，以通過界面(312)且進入第二基質(306-2)中。在此處其接觸第二平面透鏡(302-2)，且被聚焦至第二3個光纖(314)中。
第4圖為多光纖連接器(400)之橫截面圖。在此例中，此等柱之平面陣列作為單一大透鏡(402-1)，其將第一光線(408-1)從上側光纖(404-1)經由第一基質(406-1)，通過界面(412)且經由第二基質(406-2)導引至第二平面透鏡(402-2)。此第二平面透鏡(402-2)將光線聚焦至連接器(400)相對側上之下側光纖(414-3)上。此中間光線(408-2)從中間光纖(404-2)射出，且被導引至相 對中間光纖(414-2)。此第三光線(408-3)從在連接器(400)左側上之下側光纖(404-3)射出，經由基質(406-1)與界面(412)傳送。在此處其被類似地聚焦至連接器(400)右側上之上側光纖(414-1)上。
可以將平面透鏡設計為數種透鏡形式之任一種，此包括透射式光學透鏡。此透射式光學透鏡典型地操控此實質上垂直於透鏡平面之波前，此波前相對於平行此透鏡平面之波前。在一例中，此平面透鏡為軸向對稱聚光透鏡。此平面透鏡接收實質上平行於對稱軸之對準光線。當此光線通過透鏡時，其被聚焦至在對稱軸上點之透鏡之相對側上。
第5A圖說明一種製造與使用此包含平面透鏡之連接器之方法(500)。製造第一平面透鏡與第二平面透鏡。各此等第一平面透鏡包括之規律陣列柱，此等柱具有變化直徑(方塊505)。可以各種材料製造平面透鏡，其包括玻璃、塑膠、半導體、或其他材料，其在所想要之波長或波長範圍實質上光學透明。第一平面透鏡與第二平面透鏡設置介於第一光纖與第二光纖之間(方塊510)。光線由第一光纖傳送出且經由第一平面透鏡與第二平面透鏡，然後此光線被聚焦於第二光纖中(方塊515)。
第5B圖說明一種製造與使用此包含平面透鏡之連接器之方法，以製造此平面透鏡(方塊525)。根據一實施例，此平面透鏡包含此等陣列柱，其均勻地配置且以重覆間隔設置。例如，此平面透鏡可以使用微影在矽氧化物基板上產生矽柱之規律六角形陣列而形成。此平面透鏡可以設計為抗反射，亦可以添加一額外抗反射塗層。
可以將此平面透鏡囊封於基質材料之區塊中(方塊530)。基質材料之折射率與平面透鏡之折射率典型地不同。以替代方式，可以將平 面透鏡黏附於基質材料之自由表面，或可以沒有基質材料而使用。
將第一光纖接合至第一區塊之基質材料，以形成連接器之第一半(方塊535)。可以各種方式將光纖接合至基質材料，此包括將光纖推入至第一區塊之基質材料中所製造之孔中。以替代方式，可以將光纖與平面透鏡置入於模子中，且將基質材料模製在光纖與透鏡周圍。可以將第二光纖類似地接合至第二區塊之基質材料，以形成連接器之第二半(方塊540)。此等區塊可以具有適當形狀，包括正方形、矩形、或圓柱形。將光纖接合至基質材料可以確保光纖對於平面透鏡正確地定位。
將連接器之第一半與第二半之相對面固定在一起(方塊545)，此等相對面典型地為平坦表面。亦可將基質及/或平面透鏡之平坦表面與其他表面以抗反射層覆蓋。可以使用各種技術將連接器之兩半固定在一起。例如，其在一組態中設計成可稍後解除之連接，而使用彈力將連接器之相對面壓在一起。以替代方式，可以設計成永久式連接器，可以使用黏著劑像是指數匹配黏膠，將平坦表面黏著在一起。然後，光線經由此連接器由第一光纖傳送至第二光纖(方塊550)。
以上說明之方法僅為範例。在第5A與5B圖中顯示各種方塊，且可以將以上說明方塊重新排序、刪除、組合、或可以添加新方塊。例如，可以同時實施將平面透鏡囊封於基質材料中、及以基質材料將光纖接合。
總之，將平面透鏡使用於光纖連接器中可以提供平坦拓樸佈局，且允許新的組裝與封裝方法。平面透鏡更為精簡、容易安裝、且可以將其非常密集地封裝在一起。平面透鏡亦藉由改變陣列柱之直徑，以提供 客製化相前(phase front)轉換之設計自由度。此允許修正異常與降低插入損失。當在氧化物基板上形成柱時，此平面透鏡較塑膠透鏡更強固，且可耐溫度改變，此塑膠透鏡被加熱時會變形。
以上描述僅提供用於說明本發明原理之例，此說明之用意並非在於窮盡，或將此等原理限制於所揭示之任何確定形式。由於以上教示，可以作許多修正與變化。
100‧‧‧光纖連接器
102-1、2‧‧‧平面透鏡
104-1‧‧‧第一光纖
104-2‧‧‧第二光纖
106-1、2‧‧‧基質材料
108‧‧‧光線
110-1‧‧‧擴張區段
110-2‧‧‧中間區段
110-3‧‧‧右側部份
112‧‧‧界面

Claims (15)

  1. 一種光學連接器，包括：一第一光纖；一第二光纖；一第一平面透鏡，其被定位以操作出自該第一光纖之光線，在該光線之波前中產生預定變化；一第二平面透鏡，其被定位以接收來自該第一平面透鏡之該光線，該第二平面透鏡將該光線聚焦至該第二光纖上；其中，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡各包括具有週期變化直徑之陣列柱。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學連接器，更包括：一第一基質，該第一平面透鏡設置在該第一基質中，且該第一光纖接合至該第一基質。
  3. 如申請專利範圍第2項之光學連接器，更包括：一第二基質，該第二平面透鏡設置在該第二基質中，且該第二光纖接合至該第二基質。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學連接器，其中該陣列柱包括設置在介電基板上以微影方式所形成之介電柱，該介電基板之折射率實質上小於該等柱之折射率。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學連接器，其中該等柱之高度為設計通過該連接器之光線之波長之大約一半。
  6. 如申請專利範圍第1項之光學連接器，其中 該第一平面透鏡與該第二平面透鏡為軸向對稱聚光透鏡。
  7. 如申請專利範圍第1項之光學連接器，其中該等柱從該基板垂直延伸，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡各具有垂直於該基板之光軸。
  8. 如申請專利範圍第1項之光學連接器，其中該第一平面透鏡與該第二平面透鏡對偏極化不敏感。
  9. 如申請專利範圍第1項之光學連接器，其中該等陣列柱以週期性變化直徑規律地間隔，以形成同心環圖案。
  10. 一種用於製造光學連接器之方法，其包括以下步驟：製造一第一平面透鏡與一第二平面透鏡，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡包括具有變化直徑之規律陣列柱；將該第一平面透鏡與該第二平面透鏡設置介於一第一光纖與一第二光纖之間；並且將光線由該第一光纖傳送出且經由該第一平面透鏡與該第二平面透鏡，將光線聚焦於該第二光纖中。
  11. 如申請專利範圍第10項之方法，其中製造該第一平面透鏡包括單一二元微影/蝕刻操作。
  12. 如申請專利範圍第10項之方法，更包括：將該第一平面透鏡囊封於第一區塊之透明基質材料之中。
  13. 如申請專利範圍第10項之方法，更包括：將該第一光纖接合至該第一區塊之透明基質材料，以形成連接器之第一半。
  14. 如申請專利範圍第10項之方法，更包括：將該第二平面透鏡囊封於第二區塊之基質材料中，將該第二光纖接合至該第二區塊之基質材料，以形成該連接器之第二半，並且藉由將該連接器之該第一半上之平坦面固定至該連接器之該第二半上之平坦面，將該連接器之該第一半與該第二半接合。
  15. 一種光學連接器，包括：一第一光纖；一第二光纖；一第一平面透鏡，其被定位以操作出自該第一光纖之光線，在該光線之波前中產生預定變化；一第一基質，該第一平面透鏡設置在該第一基質中，且該第一光纖接合至該第一基質；一第二平面透鏡，其被定位以接收來自該第一平面透鏡之該光線，該第二平面透鏡將該光線聚焦至該第二光纖上；以及一第二基質，該第二平面透鏡設置在該第二基質中，且該第二光纖接合至該第二基質；其中，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡各包括具有週期變化直徑之規律間隔之陣列介電柱，其中，該第一平面透鏡與該第二平面透鏡為對偏極化不敏感之軸向對稱聚光透鏡。
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