TW201331645A - 具有多刻面光輸入邊緣之導光膜 - Google Patents

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Abstract

本發明係提供一種用以均勻散佈來自點光源之光線的導光膜，包括用以接收來自該點光源之光線的多刻面邊緣，該多刻面邊緣係包括至少第一及第二組傾斜刻面並於其間具有平坦刻面。各組傾斜刻面分別復包括第一及第二斜率，其中該第一斜率不超過85度且該第二斜率至少為5度，該第一斜率至少比該第二斜率大5度。

Description

具有多刻面光輸入邊緣之導光膜
本發明係關於發光二極體(LED)背光單元之導光膜，且尤關於一種發光二極體背光單元之導光膜，其具有刻於導光膜之入射面之複數個多刻面特徵以藉由增加使光線可傳遞通過此導光膜之入射角而均勻散佈來自點光源之光線。
典型之平坦背光技術可見於薄膜電晶體液晶顯示器(TFT-LCD)，如第1圖所示，其主要包含導光板11、反射板12、數個擴散膜13及菱鏡片14和光源15。作為此平坦光源1最重要之元件之一，此導光板11接收、傳遞、重定向由光源15所射出之光線。
如第2圖所示，此導光板11通常為矩形，其具有光射出面111、與此光射出面111相對之反射面112以及至少於側邊之光入射面113。此由點光源15所射出之光線經由光入射面113進入此導光板11，其中部分光線直接經由光射出面111離開此導光板11，而其他部分的光線則落在反射面112。因此，該反射面112係在表面上組構 有許多光反射結構1121且此反射結構1121隨著其位於越遠離光源15之位置具有漸增之更高分佈密度或較大之表面積，以便儘可能地反射光線至光射出面111。
通常，冷陰極螢光燈管(CCFL)或發光二極體(LED)被用於作為此平坦背光1之光源11。冷陰極螢光燈管之應用較簡單，因其為線性光源。反觀，發光二極體之應用較為複雜因其為點光源。
如第3A圖所示，當光線經由不具有邊緣鋸齒特徵的光輸入面22進入此導光膜23時，光傳輸角被限制於具有半圓錐角為sin-1(1/n)的錐形內，其中n為折射率。若此點光源21彼此不夠接近，則會造成發光二極體21前之亮區214及靠近導光膜輸入邊緣之發光二極體之間的暗區215，此現象亦被理解為熱點。儘管增加更多發光二極體21可消除暗區215，但其並非理想之方法，係因額外之發光二極體21亦增加材料成本、耗電量、組裝複雜度、及未來故障之可能性。
第3B圖呈現射線追蹤模型，其中來自於點光源21之光射線入射於不具有邊緣鋸齒特徵導光膜23之光輸入面22。在此，點光源21距離此導光膜23之輸入邊緣22為20微米。此射線之擴展角(spread angle)為160度，此導光膜13之折射率為1.59。此射線追蹤明確顯示出來自點光源21之光射線於進入導光膜23後被限制於圓錐角內。
第3C圖呈現得自導光膜(其於光輸入邊緣上不具有邊緣鋸齒特徵)之模型化結果的照度輸出分佈圖。在 此，該點光源為具有藍氏反射體(Lambertian)輸出之發光二極體且以6.3毫米(mm)腳距間隔。如輸出分佈圖所示，自距離輸入邊0.5毫米處開始以1毫米之間距(Y軸位置)所記錄的每個分佈，此亮與暗區於距離光輸入邊5.5毫米處仍清晰可見。
第4A圖呈現導光膜23之輸入邊緣，其具有由單斜率菱鏡所構成之鋸齒特徵29。當光射線14a擊中此光輸入邊之平坦面16或此鋸齒特徵29之圓弧低谷17，折射之光射線會於與光輸入邊之平坦面16相垂直線呈圓錐角15a之角度內傳播。一些具有大入射角14b之光射線將擊中此鋸齒特徵29之傾斜刻面18，而此後續折射光射線會以與傾斜刻面18之相垂直線呈大圓錐角15b之角度向前傳播。一些具有甚至更大入射角14c之光射線也將擊中傾斜刻面18，其中折射光射線會以甚至更大之圓錐角15c傳播。然後，這些較大角度之光射線則將於其擊中鄰近之傾斜刻面18時被再次折射。由於全內反射現象，這些較大角度之射線被傾斜刻面18偏離方向而進入圓錐15d。此二次偏離改變了光傳播方向並顯著地減低邊緣鋸齒特徵之功效。為克服熱點問題，經折射光應以一大角度均勻擴展，而使得當來自兩個鄰近發光二極體之光線交錯時不會有顯著的亮區或暗區。
於邊緣鋸齒特徵為單斜率菱鏡之情況中，為使此光線以較大角度擴展，傾斜刻面18應具有大傾斜角度。然而，當此傾斜角度過大時，此光線將被再次偏離如 第4A圖之偏離射線15d所示。對於使用單斜率菱鏡之鋸齒特徵而言，平坦刻面16必須夠寬以避免此二次光偏離現象。然而，較寬之平坦刻面將減低邊緣鋸齒特徵之效力，因為此平坦刻面無法以足夠大之角度擴展入射光射線，如第3A圖所示。
第4B圖呈現射線追蹤模型，其中來自點光源21之光射線入射於導光膜23之光輸入邊緣22上之單斜率鋸齒特徵之低谷上。第4C圖呈現射線追蹤模型，其中來自點光源21之光射線入射於導光膜23之光輸入邊緣22上之單斜率鋸齒特徵之平坦刻面高峰。於此兩組模型中，該點光源21距離此導光膜23之光輸入邊緣22係為20微米，來自點光源21之射線其擴展角係為160度。此導光膜23之材質折射率係為1.59。此射線追蹤明確展示出此光射線由於全內反射現象被此傾斜刻面所偏離。
第4D圖呈現得自導光膜(其於光輸入邊緣上具有單斜率邊緣鋸齒特徵)之模型化結果之照度輸出分佈圖。在此該點光源為具有藍氏反射體輸出之發光二極體且以6.3毫米腳距間隔。如輸出分佈圖所示，各分佈自距離輸入邊緣0.5毫米處開始以1毫米之間距(Y軸位置)被記錄，此亮與暗區於距離光輸入邊緣5.5毫米處仍清晰可見。亦如輸出分佈圖所示，該熱點問題最早於自距此輸入邊緣1.5毫米處開始逐步減少，於Y=2.5毫米處左右，產生反向(inverted)熱點，其中亮區變暗而暗區則變亮。於Y=4.5毫米處左右，此熱點又再次出現，其係為全內反射現象導 致之二次光偏離所引起。
因此，為了在不犧牲背光系統之效力下提供導光膜更均勻之照度，需要一種改善之輸入邊緣設計。本發明係旨在克服上述先前技術所造成之暗及亮區(熱點)問題，並因此達成於不犧牲背光系統之效力下提供導光膜更均勻之照度。
本發明提供一種均勻散佈來自點光源之光線的導光膜，包括：用以接收來自該點光源之光線的多刻面邊緣，該多刻面邊緣包括至少第一及第二組傾斜刻面並於其間具有平坦刻面，各組傾斜刻面分別復包括第一及第二斜率，其中該第一斜率不超過85度且該第二斜率至少為5度，該第一斜率至少比該第二斜率大5度。
本發明復提供一種用以均勻散佈來自點光源之光線的導光膜，包括：用以接收來自該點光源之光線的多刻面邊緣，該多刻面邊緣包括至少第一及第二組傾斜刻面並於其間具有平坦刻面。各組傾斜刻面復包括位於該多刻面邊緣之一側上的第一刻面面積及與該第一刻面面積位於相反側上的第二刻面面積，其中該第一及第二組傾斜刻面之該第一刻面面積之傾斜刻面比A1/A2與該第一及第二組傾斜刻面之該第二刻面面積之傾斜刻面比A3/A4係介於0.1及9之間，而其中該平坦刻面具有面積A5及小於0.3之總特徵表面積比。
本發明提供一種用以均勻散佈來自點光源之 光線的導光膜，包括：用以接收來自該點光源之光線的多刻面邊緣，該多刻面邊緣包括至少第一及第二組傾斜刻面並於其間具有平坦刻面。各組傾斜刻面分別包括第一及第二斜率，而且，各組傾斜刻面復包括位於該多刻面邊緣之一側上的第一刻面面積及與該第一刻面面積位於相反側上的第二刻面面積，其中該第一及第二組傾斜刻面之該第一刻面面積之傾斜刻面比A1/A2與該第一及第二組傾斜刻面之該第二刻面面積之傾斜刻面比A3/A4係介於0.1及9之間。
1‧‧‧平坦光源
11‧‧‧導光板(第1圖)
11‧‧‧光源(第2圖)
12‧‧‧反射板
13‧‧‧擴散膜
14‧‧‧菱鏡片
14a‧‧‧光射線
14b‧‧‧入射角
14c‧‧‧入射角
15‧‧‧光源
15a‧‧‧圓錐角
15b‧‧‧圓錐角
15c‧‧‧圓錐角
15d‧‧‧偏離射線
16‧‧‧平坦面/平坦刻面
17‧‧‧圓弧低谷
18‧‧‧傾斜刻面
21‧‧‧點光源/LED
22‧‧‧輸入邊緣
23‧‧‧導光膜
29‧‧‧鋸齒特徵
31‧‧‧點光源
32‧‧‧多刻面特徵
33、43‧‧‧導光膜
42‧‧‧雙斜率特徵
44‧‧‧低谷
72‧‧‧三斜率多刻面特徵
82‧‧‧四斜率特徵
111‧‧‧射出面
112‧‧‧反射面
113‧‧‧入射面
214‧‧‧亮區
215‧‧‧暗區
421a、421b‧‧‧第一組傾斜刻面
422a、422b‧‧‧第二組傾斜刻面
423、724、825‧‧‧平坦刻面
431a、431b、432a、432b、433‧‧‧圓錐
451‧‧‧工具組
452‧‧‧翼形切割器
453‧‧‧工具架
455‧‧‧第一切割器
456‧‧‧第二切割器
460‧‧‧導光膜堆疊體
526‧‧‧光散射元件
721a、721b‧‧‧第一組傾斜刻面
722a、722b‧‧‧第二組傾斜刻面
723a、723b‧‧‧第三組傾斜刻面
731a、731b、732a、732b、733a、733b、734‧‧‧圓錐
751‧‧‧第一切割器
752‧‧‧第二切割器
753‧‧‧第三切割器
754‧‧‧工具架
821a、821b‧‧‧第一組傾斜刻面
822a、822b‧‧‧第二組傾斜刻面
823a、823b‧‧‧第三組傾斜刻面
824a、824b‧‧‧第四組傾斜刻面
831a、831b、832a、832b、833a、833b、834a、834b、835‧‧‧圓錐
1121‧‧‧反射結構
A1、A2、A3、A4、A5‧‧‧刻面面積
H‧‧‧高度
P‧‧‧腳距
W1、W2、W3、W4、F‧‧‧刻面寬度
α、β、γ、ω‧‧‧斜率角
第1圖係傳統平坦光源之透視圖；第2圖係顯示光射線之軌跡的傳統導光板之示意性側視圖；第3A圖係於光輸入邊緣上不具有邊緣鋸齒特徵之導光膜的俯視圖；第3B圖係於光輸入邊緣上不具有邊緣鋸齒特徵之導光膜的點光源之射線追蹤模型；第3C圖係於光輸入邊緣上不具有邊緣鋸齒特徵之導光膜於不同Y軸位置之照度分佈圖之射線追蹤模型；第4A圖係於光輸入邊緣上具有單斜率邊緣鋸齒特徵之導光膜的俯視圖；第4B圖係當點光源靠近低谷時於光輸入邊緣上具有單斜率邊緣鋸齒特徵之導光膜之射線追蹤模型； 第4C圖係當點光源靠近平坦刻面高峰時於光輸入邊緣上具有單斜率邊緣鋸齒特徵之導光膜之射線追蹤模型；第4D圖係於光輸入邊緣上具有單斜率邊緣鋸齒特徵之導光膜於不同Y軸位置之照度分佈圖的射線追蹤模型；第5A圖係於光輸入邊緣處具有複數個多斜率特徵之導光膜的俯視圖；第5B圖係於光輸入邊緣處具有複數個多斜率特徵之導光膜的放大俯視圖；第6A圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜的放大俯視圖；第6B圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜的放大俯視圖，顯示尺寸和角度；第6C圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜的放大斜視圖；第6D圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜的側視圖，其中各刻面皆為矩形；第6E圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜的側視圖，其中各刻面形狀可變化；第6F圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜的放大俯視圖，顯示光傳播方向於不同刻面之改變；第6G圖係當點光源靠近平坦刻面高峰時於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜之射線追蹤模型；第6H圖係當點光源靠近特徵低谷時於光輸入邊緣處具有雙斜率特徵之導光膜之射線追蹤模型； 第6J圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜之照度輸出的射線追蹤模型；第6K圖係用於產生多刻面邊緣鋸齒特徵之研磨機器之工具組的斜視圖；第6L圖係用於產生雙斜率邊緣鋸齒特徵之二切割器的斜視圖；第6M圖係用於產生雙斜率邊緣鋸齒特徵之二切割器的側視圖；第7圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜(其中該特徵低谷為圓弧狀)之側視圖；第8A圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜之放大俯視圖，該光輸入邊緣在刻面上具有微散射元件；第8B圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜之放大斜視圖，該光輸入邊緣在刻面上具有微散射元件；第8C圖係於光輸入邊緣處具有複數個雙斜率特徵之導光膜之放大斜視圖，該光輸入邊緣在刻面上具有微散射粒子；第9A圖係於光輸入邊緣處具有複數個三斜率特徵之導光膜之放大俯視圖，顯示尺寸和角度及光傳播方向於不同刻面之改變；第9B圖係用於產生三斜率邊緣鋸齒特徵之三切割器的斜視圖； 第9C圖係用於產生三斜率邊緣鋸齒特徵之三切割器的側視圖；及第10圖係於光輸入邊緣處具有複數個四斜率特徵之導光膜之放大俯視圖，顯示尺寸和角度及光傳播方向於不同刻面之改變。
請參考附圖，第5A圖呈現本發明之導光膜33其具有帶有複數個多刻面特徵32之光輸入邊緣。第5B圖呈現本發明之放大俯視圖。來自點光源31之光線係入射於多刻面特徵32上。各光源31覆蓋至少一個多刻面特徵。
各多刻面特徵包括特徵高峰(feature apex)及特徵低谷(feature valley)。特徵高峰包括一個平坦刻面。此外，各多刻面特徵進一步包括於特徵高峰和鄰近特徵低谷間之至少兩組傾斜刻面。各組傾斜刻面包括位於特徵高峰之相反兩側上的兩個傾斜刻面。各平坦或傾斜刻面皆有平坦表面面積。自特徵低谷往特徵高峰前進各傾斜刻面之斜率角度減少。最接近特徵低谷之傾斜刻面組具有比最接近特徵高峰之傾斜刻面組要大之斜率角度。在各組傾斜刻面中，相對應之傾斜刻面之斜率角度可以相同或相異。各組傾斜刻面中相對應之傾斜刻面之斜率角度較佳為相同，使得光傳播方向不會在特定角度偏離。各組傾斜刻面中，相對應之傾斜刻面之表面積可以相同或相異。各組傾斜刻面中相對應之傾斜刻面之表面積較佳為相同，使得光傳播方向不會以特定角度偏離。然而，於製造期間，各 組傾斜刻面中相對應之傾斜刻面之表面積可能由於製造誤差而相異。多刻面特徵之總刻面數為2*m+1，其中m為整數，其值為2、3、4、5…。由於多個刻面具有不同之定向角，其可將此光重定向成不同角度。當各刻面之斜率角度及刻面表面積經適當設計時，光線可被均勻重定向成寬廣角度跨距，使得此導光膜不具可見之亮區及暗區。
第6A圖呈現本發明之第一實施例，其中該導光膜係包括在光輸入邊緣之複數個多刻面特徵。此多刻面特徵係由兩組相異之傾斜刻面(雙斜率)所組成。發光二極體光源31之光射線入射於導光膜43之雙斜率特徵42上。此雙斜率特徵係包括第一組傾斜刻面421a及421b、第二組傾斜面422a及422b和平坦刻面423。各雙傾斜特徵之總刻面個數為5(2*2+1=5)。
現在參考第6B及6C圖，包含尺寸及斜率角度之雙斜率邊緣特徵之俯視圖係示於第6B圖。在第6C圖中，顯示此雙斜率邊緣特徵之正交視圖及各傾斜刻面分別之刻面面積。參考第6B及6C圖，該傾斜刻面421a具有刻面寬度W1及刻面面積A1，該傾斜刻面422a具有刻面寬度W2及刻面面積A2，該傾斜刻面421b具有刻面寬度W3及刻面面積A3，該傾斜刻面422b具有刻面寬度W4及刻面面積A4，該平坦刻面具有刻面寬度F及刻面面積A5。此雙斜率特徵具有腳距P及高度H。第一組傾斜刻面421a及421b具有第一斜率角α，第二組傾斜刻面422a及422b具有第二斜率角ω。此α角不超過85度(α≦85度)，此ω 角係至少5度(ω≧5度)，此α角至少比ω角大5度(α-ω≧5度)。於雙斜率邊緣特徵之各側上，傾斜刻面面積比A1/A2及A3/A4係於範圍0.1至9之間(0.1≦A1/A2≦9，0.1≦A3/A4≦9)，平坦刻面面積A5和總特徵表面積之比值小於0.3(A5/(A1+A2+A3+A4+A5)≦0.3)。
各刻面之形狀可為矩形如第6D圖所示。於製造期間，由於導光膜之柔軟使得此形狀可改變為梯形或三角形。如第6E圖所示，此面之形狀可為梯形、三角形或矩形。多刻面特徵設計之關鍵層面係用以控制各刻面之斜率角度及各刻面之表面積使得入射光可被以大角度跨距散佈於此導光膜之中。
如第6F圖所示，α角大於ω角。因此，最靠近特徵低谷之第一組傾斜刻面421a及421b將把此光重定向成較大角度，如第4F圖之圓錐431a及431b所示。最靠近特徵高峰之第二組傾斜刻面422a及422b將把此光重定向成較小角度，如第6F圖之圓錐432a及432b所示。平坦刻面通常將光向前定向，如第6F圖之圓錐433所示。當全部五個刻面之斜率角度和刻面表面積均被適當地設計時，此雙斜率特徵之全部五個刻面之組合可均勻地將此光重定向成寬廣角度跨距使得此導光膜中看不見熱點。
第6G圖呈現射線追蹤模型，其中來自點光源21之光射線入射於導光膜43之光輸入邊緣上之雙斜率邊緣特徵之平坦刻面高峰42上。第6H圖呈現射線追蹤模型，其中來自點光源21之光射線入射於導光膜43之光輸 入邊緣上之雙斜率邊緣特徵之低谷44。在此兩個模型中，點光源21係距導光膜43之光輸入邊緣20微米，來自點光源21之射線之擴展角度係為160度，此導光膜43之材質折射率係為1.59。此模型化顯示出光射線係以非常大角度擴展且不被鄰近傾斜刻面所偏離。
第6J圖呈現得自於光輸入邊緣上具有雙斜率邊緣特徵之導光膜的模型化結果之照度輸出分佈圖。在此，點光源為具有藍氏反射體輸出之發光二極體且以6.3毫米腳距間隔。如輸出分佈圖所示，各分佈自距離輸入邊緣0.5毫米處開始以1毫米之間距(Y軸位置)被記錄，此亮與暗區或熱點皆於Y=2.5毫米處左右消散。
為產生雙斜率邊緣鋸齒特徵，一方法為使用兩個相異之切割器以產生兩組傾斜刻面並使用翼形切割器(fly cutter)以產生此平坦刻面。第6K圖顯示該工具組451，其包括用以產生平坦刻面之翼形切割器452，及用以切割兩組傾斜刻面之二切割器工具架453。為切割出多斜率邊緣鋸齒特徵，此工具組451以特定速度旋轉，於此同時，導光膜堆疊體460以一速度於此工具組451下面行進。第6L圖顯示此工具架453，其具有第一切割器455及第二切割器456，此第一切割器455具有相異於第二切割器456之夾角。第6M圖為此二切割器之側視圖。
本發明之另一實施例包括具有雙斜率之複數個多刻面邊緣特徵且其中此特徵之低谷包括弧徑。第7圖表示此特徵，其中此低谷包括弧徑。此弧徑以小為佳。因 為此弧徑低谷減低光之折射力而光無法以大角度傳播。
第8A、8B、8C圖顯示雙斜率鋸齒特徵進一步包括光散射元件526。這些光散射元件可以是微槽、刮槽、粒子、微凸塊、或粗糙表面。
第9A圖呈現本發明之另一實施例，其中導光膜包括於光輸入邊緣處之複數個三斜率多刻面特徵72。各三斜率邊緣鋸齒特徵72包括具有第一斜率角α之第一組傾斜刻面721a及721b、具有第二斜率角β之第二組傾斜刻面722a及722b、具有第三斜率角ω之第三組傾斜刻面723a及723b以及平坦刻面724。總刻面個數為7(2*3+1=7)。最接近特徵低谷之傾斜刻面組具有較最接近特徵高峰之傾斜刻面組要大之斜率角度，亦即為α>β>ω。此α角不超過85度(α≦85度)，此ω角至少5度(ω≧5度)。
如第9A圖所示，第一組傾斜刻面將此入射光射線重定向至圓錐731a及731b內，第二組傾斜刻面將此入射光射線重定向至圓錐732a及732b內，第三組傾斜刻面將此入射光射線重定向至圓錐733a及733b內，而此平坦刻面將此入射光射線重定向至圓錐734內。當所有這些刻面之斜率角度和刻面表面積均被適當地設計時，此入射光可被均勻地重定向成大角度跨距，使得此熱點問題得以被解決。
第9B圖顯示可被用於產生這三組傾斜刻面的切割器。第一切割器751、第二切割器752、第三切割器753皆被固定於工具架754之上。於此，此第一切割器751、 第二切割器752、第三切割器753皆具有相異之夾角。第9C圖顯示此三切割器之側視圖。
第10圖呈現本發明之另一實施例，其中導光膜包括於光輸入邊緣處之複數個四斜率多刻面特徵。各四斜率特徵82包括具有第一斜率角α之第一組傾斜刻面821a及821b、具有第二斜率角β之第二組傾斜刻面822a及822b、具有第三斜率角γ之第三組傾斜刻面823a及823b、具有第四斜率角ω之第三組傾斜刻面824a及824b以及平坦刻面825。總刻面個數為9(2*4+1=9)。最接近特徵低谷之傾斜刻面具有較最接近特徵高峰之傾斜刻面要大之斜率角度，亦即為α>β>γ>ω。此α角不超過85度(α≦85度)，此ω角至少5度(ω≧5度)。
如第10圖所示，第一組傾斜刻面將此入射光射線重定向至圓錐831a及831b內，第二組傾斜刻面將此入射光射線重定向至圓錐832a及832b內，第三組傾斜刻面將此入射光射線重定向至圓錐833a及833b內，第四組傾斜刻面將此入射光射線重定向至圓錐834a及834b內，而此平坦刻面將此入射光射線重定向至圓錐835內。當所有這些刻面之斜率角度和刻面表面積均被適當地設計時，此入射光可被均勻地重定向成大角度跨距，使得此熱點問題得以被解決。
31‧‧‧點光源
42‧‧‧雙斜率特徵
43‧‧‧導光膜
421a、421b‧‧‧第一組傾斜刻面
422a、422b‧‧‧第二組傾斜刻面
423‧‧‧平坦刻面

Claims (11)

  1. 一種用以均勻散佈來自點光源之光線的導光膜，包括用以接收來自該點光源之該光線的多刻面邊緣，該多刻面邊緣係包括至少第一及第二組傾斜刻面並於其間具有平坦刻面，各組傾斜刻面分別復包括第一及第二斜率，其中該第一斜率不超過85度且該第二斜率至少為5度，該第一斜率至少比該第二斜率大5度。
  2. 如申請專利範圍第1項所述之導光膜，其中，該多刻面邊緣之低谷係包括弧徑。
  3. 如申請專利範圍第1項所述之導光膜，其中，該多刻面邊緣之表面係包括光散射元件。
  4. 如申請專利範圍第1項所述之導光膜，復包括第三組傾斜刻面並於其間具有該平坦刻面。
  5. 如申請專利範圍第4項所述之導光膜，復包括第四組傾斜刻面並於其間具有該平坦刻面。
  6. 一種用以均勻散佈來自點光源之光線的導光膜，包括：用以接收來自該點光源之光線的多刻面邊緣，該多刻面邊緣係包括至少第一及第二組傾斜刻面並於其間具有平坦刻面，各組傾斜刻面進一步包含位於該多刻面邊緣之一側上的第一刻面面積及與該第一刻面面積位於相反側上的第二刻面面積，其中該第一及第二組傾斜刻面之該第一刻面面積之傾斜刻面比A1/A2與該第一及第二組傾斜刻面之該第二刻面面積之傾斜刻面比A3/A4係介於0.1及9之間，而其中該平坦刻面具 有面積A5及小於0.3之總特徵表面積比。
  7. 如申請專利範圍第6項所述之導光膜，其中，該多刻面邊緣之低谷係包括弧徑。
  8. 如申請專利範圍第6項所述之導光膜，其中，該多刻面邊緣之表面係包括光散射元件。
  9. 如申請專利範圍第6項所述之導光膜，復包括第三組傾斜刻面並於其間具有該平坦刻面。
  10. 如申請專利範圍第9項所述之導光膜，復包括第四組傾斜刻面並於其間具有該平坦刻面。
  11. 一種用以均勻散佈來自點光源之光線的導光膜，包括：用以接收來自該點光源之光線的多刻面邊緣，該多刻面邊緣包括至少第一及第二組傾斜刻面並於其間具有平坦刻面，各組傾斜刻面分別包括第一及第二斜率，而且，各組傾斜刻面復包括位於該多刻面邊緣之一側上的第一刻面面積及與該第一刻面面積位於相反側上的第二刻面面積，其中該第一及第二組傾斜刻面之該第一刻面面積之傾斜刻面比A1/A2與該第一及第二組傾斜刻面之該第二刻面面積之傾斜刻面比A3/A4係介於0.1及9之間。
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